JPS6245041A - 円形板状物体の位置決め装置 - Google Patents
円形板状物体の位置決め装置Info
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- JPS6245041A JPS6245041A JP18397185A JP18397185A JPS6245041A JP S6245041 A JPS6245041 A JP S6245041A JP 18397185 A JP18397185 A JP 18397185A JP 18397185 A JP18397185 A JP 18397185A JP S6245041 A JPS6245041 A JP S6245041A
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- Japan
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- wafer
- notch
- linear image
- image sensor
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/7075—Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の分野］
本発明は一部に位置決め指標としての切欠き（オリエン
テーションフラット）を有する半導体ウェハ等の円形板
状物体を測定装置、検査装置または露光装置に配置する
とき該物体を常に所定の方向に位置室めする円形板状物
体の位置決め装置に係るものである。
テーションフラット）を有する半導体ウェハ等の円形板
状物体を測定装置、検査装置または露光装置に配置する
とき該物体を常に所定の方向に位置室めする円形板状物
体の位置決め装置に係るものである。
［発明の背景］
従来の半導体ウェハの位置決め装置の一例（特開昭５８
−１８９３７）を第７図に示す。従来の位置決め装置は
、同図に示すように半導体ウェハ６（以下単に「ウェハ
」という）をのせて回転する回転台３、この回転台３の
回転中心から等距離を保ちつつ回転中心に向って収斂す
るように動き、また回転中心から拡散するように動く往
復部材２ａ、 ２ｂ。
−１８９３７）を第７図に示す。従来の位置決め装置は
、同図に示すように半導体ウェハ６（以下単に「ウェハ
」という）をのせて回転する回転台３、この回転台３の
回転中心から等距離を保ちつつ回転中心に向って収斂す
るように動き、また回転中心から拡散するように動く往
復部材２ａ、 ２ｂ。
２ｃ、 ２ｄ、 ２ｅ、光電素子Ｃ１およびこの光電素
子Ｃに対しウェハを挾んで対向する位置に配置した光源
りを備えている。
子Ｃに対しウェハを挾んで対向する位置に配置した光源
りを備えている。
このウェハの位置決め装置は、回転台３の上に自由に動
ける状態でのせられているウェハ６の周辺から往復部材
２８〜２ｅが回転台３の中心に向ってウェハ６を押しつ
つむようにして進み、ウェハ６を動かしてウェハ６の中
心と回転台３の中心とを一致させる。その後、往復部材
２８〜２ｅは回転中心から離れる方向に外方へ後退する
。このセンターリングが終了すると、ウェハ６を回転台
３に吸着固定し、回転台３を回転して光電素子Ｃへの光
源からの入射光量の変化の形でウェハ６の周辺を読みと
り、ウェハ６の切欠き６ａを検出する。さらに第８図に
示すように、この切欠きの微小な傾きを修正するためレ
バー５により基準部材としての固定ローラ４ａ、 ４ｂ
、 ４ｃにウェハ６を押しつけて最終的にウェハを位置
決めする。
ける状態でのせられているウェハ６の周辺から往復部材
２８〜２ｅが回転台３の中心に向ってウェハ６を押しつ
つむようにして進み、ウェハ６を動かしてウェハ６の中
心と回転台３の中心とを一致させる。その後、往復部材
２８〜２ｅは回転中心から離れる方向に外方へ後退する
。このセンターリングが終了すると、ウェハ６を回転台
３に吸着固定し、回転台３を回転して光電素子Ｃへの光
源からの入射光量の変化の形でウェハ６の周辺を読みと
り、ウェハ６の切欠き６ａを検出する。さらに第８図に
示すように、この切欠きの微小な傾きを修正するためレ
バー５により基準部材としての固定ローラ４ａ、 ４ｂ
、 ４ｃにウェハ６を押しつけて最終的にウェハを位置
決めする。
ところで、この従来のウェハ位置決め装置では往復部材
をウェハに強制的に押しつけねばならず、それによりウ
ェハを損傷することがある。また、このような方法では
位置精度があまりよくなく、そのため最終位置決め操作
を必要とし、そのときもウェハ強制押しっけを行なわな
ければならないという不都合がある。
をウェハに強制的に押しつけねばならず、それによりウ
ェハを損傷することがある。また、このような方法では
位置精度があまりよくなく、そのため最終位置決め操作
を必要とし、そのときもウェハ強制押しっけを行なわな
ければならないという不都合がある。
一方、従来の位置決め装置として非接触型式のものも知
られている（特開昭５７−１９８６４２ ）。これはウ
ェハを固定保持した回転台をパルスモータ−により間欠
的に回転させ、ウェハの周辺にウェハを挾んで配置した
光源と光電変換素子とによりウェハの周辺を読取り、光
電変換素子からの電気信号の極値点からウェハの切欠部
を検出する。この場合、非接触型式であるのでウェハを
損傷するおそれはないが、ウェハの半径方向に複数個並
設した光電変換素子によりウェハ回転中心のウェハの輪
郭の変化を比較する方法であるため、回転により輪郭の
変化は見られるが静止したウェハで高精億の検出をする
ことは困難であった。
られている（特開昭５７−１９８６４２ ）。これはウ
ェハを固定保持した回転台をパルスモータ−により間欠
的に回転させ、ウェハの周辺にウェハを挾んで配置した
光源と光電変換素子とによりウェハの周辺を読取り、光
電変換素子からの電気信号の極値点からウェハの切欠部
を検出する。この場合、非接触型式であるのでウェハを
損傷するおそれはないが、ウェハの半径方向に複数個並
設した光電変換素子によりウェハ回転中心のウェハの輪
郭の変化を比較する方法であるため、回転により輪郭の
変化は見られるが静止したウェハで高精億の検出をする
ことは困難であった。
［発明の目的］
本発明は、上述の従来装置の問題点を解消し、更に近年
ウェハの大口径化に伴ない切欠き量の多いオリエンテー
ションフラットでなく微小な切欠きを有するウェハが出
現していることに鑑みこのような微小切欠ぎを有するウ
ェハのような円形板状物体の場合にも精度良く非接触で
切欠きを検出し円形板状物体を位置決めできる装置を提
供することを目的としている。
ウェハの大口径化に伴ない切欠き量の多いオリエンテー
ションフラットでなく微小な切欠きを有するウェハが出
現していることに鑑みこのような微小切欠ぎを有するウ
ェハのような円形板状物体の場合にも精度良く非接触で
切欠きを検出し円形板状物体を位置決めできる装置を提
供することを目的としている。
この目的は本発明に従って、回転台にのせた円形板状物
体の複数の位置で光電変換素子に該物体の周縁部を結像
させ、該光電変換素子の出力より該物体の基準位置から
のずれ量を検知し、その検知したずれ同に基づき位置制
御し、また該物体の切欠きを検出するように該物体の周
縁の接線方向に平行に光位置検出素子を配置し、この光
位置検出素子に該物体の切欠ぎを結像させ、光位置検出
素子の所定の画素に対して切欠きの中心が一致するよう
に制御することにより達成される。
体の複数の位置で光電変換素子に該物体の周縁部を結像
させ、該光電変換素子の出力より該物体の基準位置から
のずれ量を検知し、その検知したずれ同に基づき位置制
御し、また該物体の切欠きを検出するように該物体の周
縁の接線方向に平行に光位置検出素子を配置し、この光
位置検出素子に該物体の切欠ぎを結像させ、光位置検出
素子の所定の画素に対して切欠きの中心が一致するよう
に制御することにより達成される。
すなわら本発明の円形板状物体の位置決め装置は、回転
台と、この回転台に解放できるように固定され、そして
解放されるとＸ方向とＹ方向とに動くことができる載置
台と、この載置台にのせられる該物体の周辺の少なくと
も一点で該物体を挾んで配置されているＸＹ偏位検出用
光電変換素子および光源と、該物体の周辺付近で該物体
の接線方向に平行に該物体を挾んで配置した切欠き検出
用光位置検出素子および光源と、この光位置検出素子の
所定画素に該物体の切欠ぎの中心が一致するよう前記の
回転台の回転を制御する手段とを備えている。
台と、この回転台に解放できるように固定され、そして
解放されるとＸ方向とＹ方向とに動くことができる載置
台と、この載置台にのせられる該物体の周辺の少なくと
も一点で該物体を挾んで配置されているＸＹ偏位検出用
光電変換素子および光源と、該物体の周辺付近で該物体
の接線方向に平行に該物体を挾んで配置した切欠き検出
用光位置検出素子および光源と、この光位置検出素子の
所定画素に該物体の切欠ぎの中心が一致するよう前記の
回転台の回転を制御する手段とを備えている。
更に本発明の円形板状物体の位置決め装置は前記の光電
変換素子および光位置検出素子がリニアイメージセンサ
である場合、該物体の位置決めの迅速を図るため該物体
の周辺の一点で該物体を挾んで配置されているアナログ
光電変換素子と光源、およびこの光電変換素子からの信
号に応答して該物体の切欠きが前記のリニアイメージセ
ンサの検出区域に入ると前記の回転台の回転を停止させ
る手段を備えている。
変換素子および光位置検出素子がリニアイメージセンサ
である場合、該物体の位置決めの迅速を図るため該物体
の周辺の一点で該物体を挾んで配置されているアナログ
光電変換素子と光源、およびこの光電変換素子からの信
号に応答して該物体の切欠きが前記のリニアイメージセ
ンサの検出区域に入ると前記の回転台の回転を停止させ
る手段を備えている。
［実施例〕
本発明の実施例を以下に添付図を参照して説明する。
第１図は本発明の一実施例に係るウェハの位置決め装置
の斜視図である。図に示すようにこのウェハの位置決め
装置は、回転台８、この回転台８に解放できるよう固定
され、そして解放されるとＸ方向とＹ方向とに動くこと
ができる載置台７、この載置台７にのせられるウェハ６
の周辺でウェハを挾んで配置されているＸＹ偏位検出用
リニアイメージセンサＣａ 、Ｃｂ 、Ｃｃ 、Ｃｄと
光源Ｌａ、Ｌｂ、Ｌｃ、Ｌｄおよびウェハ６の接線方向
に平行にウェハの周辺付近にウェハを挾んで配置した切
欠き検出用リニアイメージセンサＣθと光源Ｌθとを備
えている。
の斜視図である。図に示すようにこのウェハの位置決め
装置は、回転台８、この回転台８に解放できるよう固定
され、そして解放されるとＸ方向とＹ方向とに動くこと
ができる載置台７、この載置台７にのせられるウェハ６
の周辺でウェハを挾んで配置されているＸＹ偏位検出用
リニアイメージセンサＣａ 、Ｃｂ 、Ｃｃ 、Ｃｄと
光源Ｌａ、Ｌｂ、Ｌｃ、Ｌｄおよびウェハ６の接線方向
に平行にウェハの周辺付近にウェハを挾んで配置した切
欠き検出用リニアイメージセンサＣθと光源Ｌθとを備
えている。
更に第２．３．５図も参照して詳しく説明すれば、■字
形の微小切欠き６ａを有するウェハ６は第３図に示すよ
うに吸着１７ａを有する載置台７に吸着支持されるよう
になっており、更にこの載置台７は回転台８に吸着？７
３８ ａによって吸着支持されるようになっている。ま
た回転台８はＸＹ方向に動き得るステージ９，１０上に
載置されている。
形の微小切欠き６ａを有するウェハ６は第３図に示すよ
うに吸着１７ａを有する載置台７に吸着支持されるよう
になっており、更にこの載置台７は回転台８に吸着？７
３８ ａによって吸着支持されるようになっている。ま
た回転台８はＸＹ方向に動き得るステージ９，１０上に
載置されている。
回転台８の回転中心に対するウェハ６の偏心を検出する
リニアイメージセンサＣａ−Ｃｄを、第２図に示すよう
にウェハ６の直径方向で対向するように配置し、そして
これらのリニアイメージセンサを照射する光源１−ａ−
１−ｄをウェハ６の下側に配置する。また切欠き検出を
行なうリニアイメージセンサＣθをウェハ６の接線方向
と平行な方向に配置し、これを光源Ｌθにより照射する
ように構成する。
リニアイメージセンサＣａ−Ｃｄを、第２図に示すよう
にウェハ６の直径方向で対向するように配置し、そして
これらのリニアイメージセンサを照射する光源１−ａ−
１−ｄをウェハ６の下側に配置する。また切欠き検出を
行なうリニアイメージセンサＣθをウェハ６の接線方向
と平行な方向に配置し、これを光源Ｌθにより照射する
ように構成する。
この実施例の動作を説明する。まず、回転台８の上に吸
着支持された！！載置台の上面にウェハ６を吸着固定し
、これを回転させる。微少切欠ぎ６ａをリニアイメージ
センサＣθが検出した位置で回転台８の回転を停止する
。この状態ではまだウェハ６は回転台８の回転中心に対
して偏心している。この偏心間を第５ａ図に示すように
ウェハ６の半径方向に９０°ずつずらして４個配置した
リニアイメージセン（）Ｃａ−ｃｄによって読込む。
着支持された！！載置台の上面にウェハ６を吸着固定し
、これを回転させる。微少切欠ぎ６ａをリニアイメージ
センサＣθが検出した位置で回転台８の回転を停止する
。この状態ではまだウェハ６は回転台８の回転中心に対
して偏心している。この偏心間を第５ａ図に示すように
ウェハ６の半径方向に９０°ずつずらして４個配置した
リニアイメージセン（）Ｃａ−ｃｄによって読込む。
例えば、Ｘ方向の偏心量をリニアイメージセンサＣａ
、 Ｃｃのデジタル出力差に応じてΔｘ、Ｙ方向はリニ
アイメージセンサＣ１）、ＣｄによりΔｙであると測定
する。次に回転台８の吸着を解除し、それにより移動可
能となった載置台７を偏心量の測定値に塁づいてＸ方向
にΔＸ、Ｙ方向にΔｙ移動させ、第５ｂ図に示すように
回転中心０に対するウェハの偏心を修正する。載置台７
を移動させるのでウェハ６を直接に圧接することはなく
この偏心調整は非接触で行なえる。修正終了後、載置台
７は再び回転台８に吸着固定される。
、 Ｃｃのデジタル出力差に応じてΔｘ、Ｙ方向はリニ
アイメージセンサＣ１）、ＣｄによりΔｙであると測定
する。次に回転台８の吸着を解除し、それにより移動可
能となった載置台７を偏心量の測定値に塁づいてＸ方向
にΔＸ、Ｙ方向にΔｙ移動させ、第５ｂ図に示すように
回転中心０に対するウェハの偏心を修正する。載置台７
を移動させるのでウェハ６を直接に圧接することはなく
この偏心調整は非接触で行なえる。修正終了後、載置台
７は再び回転台８に吸着固定される。
微少切欠き６ａの回転方向のずれはリニアイメージセン
サＣθにより検出する。第４ａ、４ｂ図に示すようにリ
ニアイメージセンサＣθの所定の中心画素ＣＭに対して
微少切欠き６ａからの透過光の中心ＭがΔθずれている
ことをウェハ６の静止状態で検出しく第４ａ図）、回転
台８をΔθだけ回転させて、透過光の中心Ｍと所定の中
心画素ＣＭを一致させ回転方向のずれを精確に修正する
（第４ｂ図）。第６図に実施例の動作を７０−チヤード
で示す。なお、第９図に従来のウェハ位置決め装置の検
出信号を本発明の場合（第４８゜４ｂ図）と対比して示
す。
サＣθにより検出する。第４ａ、４ｂ図に示すようにリ
ニアイメージセンサＣθの所定の中心画素ＣＭに対して
微少切欠き６ａからの透過光の中心ＭがΔθずれている
ことをウェハ６の静止状態で検出しく第４ａ図）、回転
台８をΔθだけ回転させて、透過光の中心Ｍと所定の中
心画素ＣＭを一致させ回転方向のずれを精確に修正する
（第４ｂ図）。第６図に実施例の動作を７０−チヤード
で示す。なお、第９図に従来のウェハ位置決め装置の検
出信号を本発明の場合（第４８゜４ｂ図）と対比して示
す。
最初の状態で回転中心のウェハ６の切欠ぎ６ａをリニア
イメージセンサＣθが検出し回転を停止させるが、その
際のリニアイメージセンサＣθの応答、処理時間を短縮
してスループットを向上させるためアナログ光電変換素
子Ｐを使用してウェハ６を高速回転させリニアイメージ
センサＣθの位置で停止させるようにしてもよい。
イメージセンサＣθが検出し回転を停止させるが、その
際のリニアイメージセンサＣθの応答、処理時間を短縮
してスループットを向上させるためアナログ光電変換素
子Ｐを使用してウェハ６を高速回転させリニアイメージ
センサＣθの位置で停止させるようにしてもよい。
また偏心を修正した債のウェハ６をリニアイメージセン
サＣａ−ｃｄにより針側してウェハ６の半径を測定する
こともできる。この半径測定は次のように利用すること
ができる。例えば本装置を使用しないで他のウェハ位置
決め装置により位置決めされ露光工程を経たウェハは異
なる位置決め基準により焼付けされているが、このウェ
ハを本装置で位置決めする場合に、計測された半径情報
に基づいて位置決め基準の隔りを演算し、回転台８の下
に設置したＸステージ９およびＹステージ１０を必要量
だけ位置修正することにより、位置決め基準の異なる装
置との混合使用を可能とさせるのである。また偏心を検
出するリニアイメージセンサＣａ−Ｃｄはデジタル出力
でなくアナログ出力の光電変換素子でもよく、実施例で
は４個のリニアイメージセンサを使用したが１個のリニ
アイメージセンサでＸ方向の偏位を検出しその後、ウェ
ハを９０”回転させてＹ方向の偏位を検出するようにし
てもよい。またリニアイメージセンサに二次元イメージ
センサを使用して偏心量の検出と切欠きの検出とに併用
することもできる。
サＣａ−ｃｄにより針側してウェハ６の半径を測定する
こともできる。この半径測定は次のように利用すること
ができる。例えば本装置を使用しないで他のウェハ位置
決め装置により位置決めされ露光工程を経たウェハは異
なる位置決め基準により焼付けされているが、このウェ
ハを本装置で位置決めする場合に、計測された半径情報
に基づいて位置決め基準の隔りを演算し、回転台８の下
に設置したＸステージ９およびＹステージ１０を必要量
だけ位置修正することにより、位置決め基準の異なる装
置との混合使用を可能とさせるのである。また偏心を検
出するリニアイメージセンサＣａ−Ｃｄはデジタル出力
でなくアナログ出力の光電変換素子でもよく、実施例で
は４個のリニアイメージセンサを使用したが１個のリニ
アイメージセンサでＸ方向の偏位を検出しその後、ウェ
ハを９０”回転させてＹ方向の偏位を検出するようにし
てもよい。またリニアイメージセンサに二次元イメージ
センサを使用して偏心量の検出と切欠きの検出とに併用
することもできる。
以上のように、本実施例ではリニアイメージセンサのデ
ジタル出力に基づいて検出するので、光源の光量の経時
変化による影響を受けず、またウェハとリニアイメージ
センサの間にレンズを挿入してウェハの像を拡大すれば
検出精度を更に向上させることもできる。
ジタル出力に基づいて検出するので、光源の光量の経時
変化による影響を受けず、またウェハとリニアイメージ
センサの間にレンズを挿入してウェハの像を拡大すれば
検出精度を更に向上させることもできる。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば所定の回転中心に
非接触で精度良く円形板状物体例えばウェハを位置決め
することができる。
非接触で精度良く円形板状物体例えばウェハを位置決め
することができる。
さらに、従来の位置決め装置のように切欠きの検出をウ
ェハの回転中に行なってその信号に基づいて１クエハの
回転を所定量目して停止するのでなく、ウェハの静止し
た状態で切欠きの位置を検出するため高精度の位置決め
が可能となる。また位置修正後も常にウェハの位置にず
れがないかを確認する機能も有している。また、本発明
の円形板状物体の位置決め装置は、オリエンテーション
フラットでなくても、あるいは微少切欠きが異形な場合
でも正確に位置決めすることができる。
ェハの回転中に行なってその信号に基づいて１クエハの
回転を所定量目して停止するのでなく、ウェハの静止し
た状態で切欠きの位置を検出するため高精度の位置決め
が可能となる。また位置修正後も常にウェハの位置にず
れがないかを確認する機能も有している。また、本発明
の円形板状物体の位置決め装置は、オリエンテーション
フラットでなくても、あるいは微少切欠きが異形な場合
でも正確に位置決めすることができる。
第１〜３図は、本発明のウェハ位置決め装置の実施例を
示す、それぞれ斜視図、平面図および側面図、 第４図は、本発明の実施例にお１ノる、微小切欠きの位
置と切欠き検出信号との関係を示す模式図、第５図り、
本発明の実施例においてウェハの偏心を検出する様子を
示す図、 第６図は、本発明の実施例の動作を説明するフローヂャ
ート、 第７および８図は、従来のウェハ位置決め装置の斜視図
および平面図、そして 第９図は、従来のウェハ位置決め装置にお【ノるオリエ
ンテーションフラットの検出信号を示す模式図である。 図中、 ６・・・ウェハ、６ａ・・・微少切欠、ｃａ −ｃｂ
−ｃｃ−Ｃｄ−Ｃｄ・・・リニアイメージセンサ、７・
・・載置台、８・・・回転台、Ｌａ −Ｌｂ −Ｌｃ
−Ｌｄ −Ｌａ・Ｌｐ・・・光１１ｉ、９．１０・・・
Ｘステージ、Ｙステージ、Ｐ・・・アナログ光電変換素
子。
示す、それぞれ斜視図、平面図および側面図、 第４図は、本発明の実施例にお１ノる、微小切欠きの位
置と切欠き検出信号との関係を示す模式図、第５図り、
本発明の実施例においてウェハの偏心を検出する様子を
示す図、 第６図は、本発明の実施例の動作を説明するフローヂャ
ート、 第７および８図は、従来のウェハ位置決め装置の斜視図
および平面図、そして 第９図は、従来のウェハ位置決め装置にお【ノるオリエ
ンテーションフラットの検出信号を示す模式図である。 図中、 ６・・・ウェハ、６ａ・・・微少切欠、ｃａ −ｃｂ
−ｃｃ−Ｃｄ−Ｃｄ・・・リニアイメージセンサ、７・
・・載置台、８・・・回転台、Ｌａ −Ｌｂ −Ｌｃ
−Ｌｄ −Ｌａ・Ｌｐ・・・光１１ｉ、９．１０・・・
Ｘステージ、Ｙステージ、Ｐ・・・アナログ光電変換素
子。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、回転台と、 該回転台に解放できるよう固定され、そして解放される
とＸ方向とＹ方向とに動くことができる載置台と、 該載置台にのせられる円形板状物体の周辺の少なくとも
一点で該物体を挾んで配置されているＸＹ偏位検出用光
電変換素子および光源と、 該物体の周辺付近で該物体の接線方向に平行に該物体を
挾んで配置した切欠き検出用光位置検出素子および光源
と、 前記の光位置検出素子の所定画素に該物体の切欠きの中
心が一致するよう前記の回転台の回転を制御する手段と を備えたことを特徴とする円形板状物体の位置決め装置
。 ２、前記光電変換素子がリニアイメージセンサである特
許請求の範囲第１項記載の円形板状物体の位置決め装置
。 ３、前記光位置検出素子がリニアイメージセンサである
特許請求の範囲第１または２項記載の円形板状物体の位
置決め装置。 ４、回転台と、 該回転台に解放できるよう固定され、そして解放される
とＸ方向とＹ方向とに動くことができる載置台と、 該載置台にのせられる円形板状物体の周辺の少なくとも
一点で該物体を挾んで配置されているＸＹ偏位検出用リ
ニアイメージセンサおよび光源と、該物体の周辺付近で
該物体の接線方向に平行に該物体を挾んで配置した切欠
き検出用リニアイメージセンサおよび光源と、 前記のリニアイメージセンサの所定画素に該物体の切欠
きの中心が一致するよう前記の回転台の回転を制御する
手段と、 該物体の周辺の一点で該物体を挾んで配置されているア
ナログ光電変換素子および光源と、この光電変換素子か
らの信号に応答して、該物体の切欠きが前記の切欠き検
出用リニアイメージセンサの検出区域に入ると前記の回
転台の回転を停止させる手段と を備えたことを特徴とする円形板状物体の位置決め装置
。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18397185A JPS6245041A (ja) | 1985-08-23 | 1985-08-23 | 円形板状物体の位置決め装置 |
| US07/222,297 US4887904A (en) | 1985-08-23 | 1988-07-22 | Device for positioning a semi-conductor wafer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18397185A JPS6245041A (ja) | 1985-08-23 | 1985-08-23 | 円形板状物体の位置決め装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6245041A true JPS6245041A (ja) | 1987-02-27 |
Family
ID=16145028
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18397185A Pending JPS6245041A (ja) | 1985-08-23 | 1985-08-23 | 円形板状物体の位置決め装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6245041A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013231726A (ja) * | 2006-03-05 | 2013-11-14 | Brooks Automation Inc | ウェハ中心検出 |
-
1985
- 1985-08-23 JP JP18397185A patent/JPS6245041A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013231726A (ja) * | 2006-03-05 | 2013-11-14 | Brooks Automation Inc | ウェハ中心検出 |
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