JPS6245039A - 円形板状物体の角度位置決め装置 - Google Patents
円形板状物体の角度位置決め装置Info
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- JPS6245039A JPS6245039A JP18396985A JP18396985A JPS6245039A JP S6245039 A JPS6245039 A JP S6245039A JP 18396985 A JP18396985 A JP 18396985A JP 18396985 A JP18396985 A JP 18396985A JP S6245039 A JPS6245039 A JP S6245039A
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- Japan
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- image sensor
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/7075—Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の分野］
本発明は一部に位置決め指標としての切欠き（オリエン
テーションフラット）を有する半導体ウェハ等の円形板
状物体を測定装置、検査装置または露光装置に配置する
とぎ該物体を常に所定の方向に位置窓めする円形板状物
体の角度位置決め装置に係るものである。
テーションフラット）を有する半導体ウェハ等の円形板
状物体を測定装置、検査装置または露光装置に配置する
とぎ該物体を常に所定の方向に位置窓めする円形板状物
体の角度位置決め装置に係るものである。
［発明の前出］
従来の半導体ウェハの位置決め装置の一例（特開昭５８
−１８９３７）を第７図に示す。従来の位置決め装置は
、同図に示すように半導体ウェハ６（以下単に「ウェハ
」という）をのせて回転する回転台３、この回転台３の
回転中心から等距離を保ちつつ回転中心に向って収斂す
るように動き、また回転中心から拡散するように動く往
復部材２ａ、 ２ｂ。
−１８９３７）を第７図に示す。従来の位置決め装置は
、同図に示すように半導体ウェハ６（以下単に「ウェハ
」という）をのせて回転する回転台３、この回転台３の
回転中心から等距離を保ちつつ回転中心に向って収斂す
るように動き、また回転中心から拡散するように動く往
復部材２ａ、 ２ｂ。
２ｃ、 ２ｄ、 ２ｅ、光電素子Ｃ１およびこの光電素
子Ｃに対しウェハを挾んで対向する位置に配置した光源
りを備えている。
子Ｃに対しウェハを挾んで対向する位置に配置した光源
りを備えている。
このウェハの位置決め装置は、回転台３の上に自由に動
ける状態でのせられているウェハ６の周辺から往復部材
２ａ〜２ｅが回転台３の中心に向って１クエ八６を押し
つつむようにして進み、ウェハ６を動かしてウェハ６の
中心と回転台３の中心とを一致させる。その後、往復部
材２ａ〜２ｅは回転中心から殖れる方向に外方へ後退す
る。このセンターリングが終了すると、ウェハ６を回転
台３に吸着固定し、回転台３を回転して光電素子Ｃへの
光源からの入射光量の変化の形でウェハ６の周辺を読み
とり、ウェハ６の切欠き６ａを検出する。さらに第８図
に示すように、この切欠きの微小な傾きを修正するため
レバー５により基準部材としての固定ローラ４ａ、 ４
ｂ、 ４ｃにウェハ６を押しつけて最終的にウェハを位
置決めする。
ける状態でのせられているウェハ６の周辺から往復部材
２ａ〜２ｅが回転台３の中心に向って１クエ八６を押し
つつむようにして進み、ウェハ６を動かしてウェハ６の
中心と回転台３の中心とを一致させる。その後、往復部
材２ａ〜２ｅは回転中心から殖れる方向に外方へ後退す
る。このセンターリングが終了すると、ウェハ６を回転
台３に吸着固定し、回転台３を回転して光電素子Ｃへの
光源からの入射光量の変化の形でウェハ６の周辺を読み
とり、ウェハ６の切欠き６ａを検出する。さらに第８図
に示すように、この切欠きの微小な傾きを修正するため
レバー５により基準部材としての固定ローラ４ａ、 ４
ｂ、 ４ｃにウェハ６を押しつけて最終的にウェハを位
置決めする。
ところで、この従来のウェハ位置決め装置では往復部材
をウェハに強制的に押しつけねばならず、それによりウ
ェハを損傷することがある。また、このような方法では
位置精度があまりよくなく、そのため最終位置決め操作
を必要とし、そのときもウェハ強制押しっけを行なわな
ければならないという不都合がある。
をウェハに強制的に押しつけねばならず、それによりウ
ェハを損傷することがある。また、このような方法では
位置精度があまりよくなく、そのため最終位置決め操作
を必要とし、そのときもウェハ強制押しっけを行なわな
ければならないという不都合がある。
一方、従来の位置決め装置として非接触型式のものも知
られている（特開昭５７−１９８６４２ ）。これはウ
ェハを固定保持した回転台をパルスモータ−により間欠
的に回転させ、ウェハの周辺にウェハを挾んで配置した
光源と光電変換素子とによりウェハの周辺を読取り、光
電変換素子からの電気信号の極値点からウェハのり穴部
を検出する。この場合、非接触型式であるのでウェハを
損傷するおそれはないが、ウェハの半径方向に複数個並
設した光電変換素子によりウェハ回転中心のウェハの輪
郭の゛変化を比較する方法であるため、回転により輪郭
の変化は見られるが静止した１クエ八で高精度の検出を
することは困難であった。
られている（特開昭５７−１９８６４２ ）。これはウ
ェハを固定保持した回転台をパルスモータ−により間欠
的に回転させ、ウェハの周辺にウェハを挾んで配置した
光源と光電変換素子とによりウェハの周辺を読取り、光
電変換素子からの電気信号の極値点からウェハのり穴部
を検出する。この場合、非接触型式であるのでウェハを
損傷するおそれはないが、ウェハの半径方向に複数個並
設した光電変換素子によりウェハ回転中心のウェハの輪
郭の゛変化を比較する方法であるため、回転により輪郭
の変化は見られるが静止した１クエ八で高精度の検出を
することは困難であった。
［発明の目的］
本発明は、上述の従来装置の問題点を解消し、更に近年
ウェハの大口径化に伴ない切欠き量の多いオリエンテー
ションフラットでなく微小な切欠ぎを有するウェハが出
現していることに鑑みこのような微小切欠きを有するウ
ェハのような円形板状物体の場合にも精度良く非接触で
切欠きを検出しその円形板状物体の角度位置決めできる
装置を提供することを目的としている。
ウェハの大口径化に伴ない切欠き量の多いオリエンテー
ションフラットでなく微小な切欠ぎを有するウェハが出
現していることに鑑みこのような微小切欠きを有するウ
ェハのような円形板状物体の場合にも精度良く非接触で
切欠きを検出しその円形板状物体の角度位置決めできる
装置を提供することを目的としている。
この目的は本発明に従って、回転台にのせた円形板状物
体の切欠きを検出するように該物体の周縁の接線方向に
平行にリニアイメージセンサを配置し、このリニアイメ
ージセンサに該物体の切欠ぎを結像させ、リニアイメー
ジセンサの所定の画素に対して切欠ぎの中心が一致する
ように制御することにより達成される。
体の切欠きを検出するように該物体の周縁の接線方向に
平行にリニアイメージセンサを配置し、このリニアイメ
ージセンサに該物体の切欠ぎを結像させ、リニアイメー
ジセンサの所定の画素に対して切欠ぎの中心が一致する
ように制御することにより達成される。
すなわち本発明の円形板状物体の角度位置決め装置は、
回転台と、この回転台にのせられる円形板状物体の周辺
付近で該物体の接線方向に平行に該物体を挾んで配置し
た切欠き検出用光位置検出素子および光源と、この光位
置検出素子の所定画素に該物体の切欠きの中心が一致す
るよう前記の回転台の回転を制御する手段とを備えてい
る。
回転台と、この回転台にのせられる円形板状物体の周辺
付近で該物体の接線方向に平行に該物体を挾んで配置し
た切欠き検出用光位置検出素子および光源と、この光位
置検出素子の所定画素に該物体の切欠きの中心が一致す
るよう前記の回転台の回転を制御する手段とを備えてい
る。
更に本発明の円形板状物体の位置決め装置は前記の光位
置検出素子がリニアイメージセンサである場合、該物体
の角度位置決めの迅速を図るため該物体の周辺の一点で
ウェハを挾／υで配置されているアナログ光電変換素子
と光源、およびこの光電変換素子からの信号に応答して
該物体の切欠きが前記のリニアイメージセンサの検出区
域に入ると前記の回転台の回転を停止させる手段を備え
ている。
置検出素子がリニアイメージセンサである場合、該物体
の角度位置決めの迅速を図るため該物体の周辺の一点で
ウェハを挾／υで配置されているアナログ光電変換素子
と光源、およびこの光電変換素子からの信号に応答して
該物体の切欠きが前記のリニアイメージセンサの検出区
域に入ると前記の回転台の回転を停止させる手段を備え
ている。
［実施例］
本発明の実施例を以下に添付図を参照して説明する。
第１図は本発明の一実施例に係るウェハの位°置決め装
置の斜視図である。図に示すようにこのウェハの位置決
め装置は、回転台８、この回転台８に解放できるよう固
定され、そして解放されるとＸ方向とＹ方向とに動くこ
とができる載置台７、この載置台７にのせられるウェハ
６の周辺付近でウェハ６の接線方向に平行にウェハを挾
んで配置した切欠き検出用リニアイメージセンサＣθと
光［Ｌａとを備えティる。Ｃａ 、 Ｃｂ 、 Ｃｃ
、 ＣｄとＬａ、Ｌｂ、Ｌｃ、ＬｄはＸＹ偏位検出用リ
ニアイメージセンサと光源である。
置の斜視図である。図に示すようにこのウェハの位置決
め装置は、回転台８、この回転台８に解放できるよう固
定され、そして解放されるとＸ方向とＹ方向とに動くこ
とができる載置台７、この載置台７にのせられるウェハ
６の周辺付近でウェハ６の接線方向に平行にウェハを挾
んで配置した切欠き検出用リニアイメージセンサＣθと
光［Ｌａとを備えティる。Ｃａ 、 Ｃｂ 、 Ｃｃ
、 ＣｄとＬａ、Ｌｂ、Ｌｃ、ＬｄはＸＹ偏位検出用リ
ニアイメージセンサと光源である。
更に第２．３．５図も参照して詳しく説明すれば、■字
形の微小切欠き６ａを有するウェハ６は第３図に示すよ
うに吸着溝７ａを有する載置台７に吸着支持されるよう
になっており、更にこの載置台７は回転台８に吸着溝８
８によって吸着支持されるようになっている。また回転
台８はＸＹｈ向に動き得るステージ９．１０上にｔＩｊ
、置されている。
形の微小切欠き６ａを有するウェハ６は第３図に示すよ
うに吸着溝７ａを有する載置台７に吸着支持されるよう
になっており、更にこの載置台７は回転台８に吸着溝８
８によって吸着支持されるようになっている。また回転
台８はＸＹｈ向に動き得るステージ９．１０上にｔＩｊ
、置されている。
また、回転台８の回転中心に対するウエノ＼６の偏心を
検出するリニアイメージセンサＣａ〜Ｃｄは、第２図に
示すようにウェハ６の直径方向で対向するように配置し
、そしてこれらのリニアイメージセンサを照射する光源
１ａ−１ｄをウェハ６の下側に配置する。また切欠き検
出を行なうリニアイメージセンサＣθをウェハ６の接線
方向と平行な方向に配置し、これを光源しθにより照射
するように構成する。
検出するリニアイメージセンサＣａ〜Ｃｄは、第２図に
示すようにウェハ６の直径方向で対向するように配置し
、そしてこれらのリニアイメージセンサを照射する光源
１ａ−１ｄをウェハ６の下側に配置する。また切欠き検
出を行なうリニアイメージセンサＣθをウェハ６の接線
方向と平行な方向に配置し、これを光源しθにより照射
するように構成する。
この実施例の動作を説明する。まず、回転台８の上に吸
着支持された載置台７の上面にウェハ６を吸着固定し、
これを回転させる。微少切欠き６ａをリニアイメージセ
ンサＣθが検出した位置で回転台８の回転を停止する。
着支持された載置台７の上面にウェハ６を吸着固定し、
これを回転させる。微少切欠き６ａをリニアイメージセ
ンサＣθが検出した位置で回転台８の回転を停止する。
この状態ではまだウェハ６は回転台８の回転中心に対し
て偏心している。この偏心量を第５ａ図に示すようにウ
ェハ６の半径方向に９０°ずつずらして４個配置したリ
ニアイメージセンサＣａ−ｃｄによって読込む。
て偏心している。この偏心量を第５ａ図に示すようにウ
ェハ６の半径方向に９０°ずつずらして４個配置したリ
ニアイメージセンサＣａ−ｃｄによって読込む。
例えば、Ｘ方向の偏心量をリニアイメージセンサＣａ、
ＣＣのデジタル出力差に応じてΔｘ、Ｙ方向はリニアイ
メージセンサＣｂ 、ＣｄによりΔｙであると測定する
。次に回転台８の吸着を解除し、それにより移動可能と
なった載置台７を偏心量の測定値に基づいてＸ方向にΔ
ｘ、Ｙ方向にΔｙ移動させ、第５ｂ図に示すように回転
中心Ｏに対するウェハの偏心を修正する。ａ置台７を移
動させるのでウェハ６を直接に圧接することはなくこの
偏心調整は非接触で行なえる。修正終了後、載置台７は
再び回転台８に吸着固定される。
ＣＣのデジタル出力差に応じてΔｘ、Ｙ方向はリニアイ
メージセンサＣｂ 、ＣｄによりΔｙであると測定する
。次に回転台８の吸着を解除し、それにより移動可能と
なった載置台７を偏心量の測定値に基づいてＸ方向にΔ
ｘ、Ｙ方向にΔｙ移動させ、第５ｂ図に示すように回転
中心Ｏに対するウェハの偏心を修正する。ａ置台７を移
動させるのでウェハ６を直接に圧接することはなくこの
偏心調整は非接触で行なえる。修正終了後、載置台７は
再び回転台８に吸着固定される。
微少切欠ぎ６ａの回転方向のずれはリニアイメージセン
サＣθにより検出する。第４ａ、４ｂ図に示すようにリ
ニアイメージセンサＣθの所定の中心画素ＣＭに対して
微少切欠き６ａからの透過光の中心ＭがΔθずれている
ことをウェハ６の静止状態で検出しく第４ａ図）、回転
台８をΔθだけ回転させて、透過光の中心Ｍと所定の中
心画素ＣＭを一致させ回転方向のずれをＩＩに修正する
（第４ｂ図）。第６図に実施例の動作をフローチャート
で示す。なお、第９図に従来のウェハ位置決め装置の検
出信号を本発明の場合（第４ａ。
サＣθにより検出する。第４ａ、４ｂ図に示すようにリ
ニアイメージセンサＣθの所定の中心画素ＣＭに対して
微少切欠き６ａからの透過光の中心ＭがΔθずれている
ことをウェハ６の静止状態で検出しく第４ａ図）、回転
台８をΔθだけ回転させて、透過光の中心Ｍと所定の中
心画素ＣＭを一致させ回転方向のずれをＩＩに修正する
（第４ｂ図）。第６図に実施例の動作をフローチャート
で示す。なお、第９図に従来のウェハ位置決め装置の検
出信号を本発明の場合（第４ａ。
４ｂ図）と対比して示す。
最初の状態で回転中心のウェハ６の切欠き６ａをリニア
イメージセンサＣθが検出し回転を停止させるが、その
際のリニアイメージセンサＣθの応答、処理時間を短縮
してスルーブツトを向上させるためアナログ光電変換素
子Ｐを使用してウェハ６を高速回転させリニアイメージ
センサＣθの位置で停止させるようにしてもよい。
イメージセンサＣθが検出し回転を停止させるが、その
際のリニアイメージセンサＣθの応答、処理時間を短縮
してスルーブツトを向上させるためアナログ光電変換素
子Ｐを使用してウェハ６を高速回転させリニアイメージ
センサＣθの位置で停止させるようにしてもよい。
また偏心を修正した後のウェハ６をリニアイメージセン
サＣａ−Ｃｄにより計測してウェハ６０半径を測定する
こともできる。この半径測定は次のように利用すること
ができる。例えば本装置を使用しないで他のウェハ位置
決め装置により位置決めされ露光工程を経たウェハは異
なる位置決め基準により焼付けされているが、このウェ
ハを本装置で位置決めする場合に、計測された半径情報
に基づいて位置決め基準の隔りを演算し、回転台８の下
に設置したＸステージ９およびＹステージ１０を必要量
だけ位置修正することにより、位置決め基準の異なる装
置との混合使用を可能とさせるのである。また偏心を検
出するリニアイメージセンサＣａ−Ｃｄはデジタル出力
でなくアナログ出力の光電変換素子でもよく、実施例で
は４個のリニアイメージセンサを使用したが１個のリニ
アイメージセンサでＸ方向の偏位を検出しその後、ウェ
ハを９０°回転させてＹ方向の偏位を検出するようにし
てもよい。またリニアイメージセンサに二次元イメージ
センサを使用して偏心量の検出と切欠きの検出とに併用
することもできる。
サＣａ−Ｃｄにより計測してウェハ６０半径を測定する
こともできる。この半径測定は次のように利用すること
ができる。例えば本装置を使用しないで他のウェハ位置
決め装置により位置決めされ露光工程を経たウェハは異
なる位置決め基準により焼付けされているが、このウェ
ハを本装置で位置決めする場合に、計測された半径情報
に基づいて位置決め基準の隔りを演算し、回転台８の下
に設置したＸステージ９およびＹステージ１０を必要量
だけ位置修正することにより、位置決め基準の異なる装
置との混合使用を可能とさせるのである。また偏心を検
出するリニアイメージセンサＣａ−Ｃｄはデジタル出力
でなくアナログ出力の光電変換素子でもよく、実施例で
は４個のリニアイメージセンサを使用したが１個のリニ
アイメージセンサでＸ方向の偏位を検出しその後、ウェ
ハを９０°回転させてＹ方向の偏位を検出するようにし
てもよい。またリニアイメージセンサに二次元イメージ
センサを使用して偏心量の検出と切欠きの検出とに併用
することもできる。
以上のように、本実施例ではリニアイメージセンサのデ
ジタル出力に基づいて検出するので、光源の光量の経時
変化による影響を受けず、またウェハとリニアイメージ
センサの間にレンズを挿入してウェハの像を拡大すれば
検出精度を更に向上させることもできる。
ジタル出力に基づいて検出するので、光源の光量の経時
変化による影響を受けず、またウェハとリニアイメージ
センサの間にレンズを挿入してウェハの像を拡大すれば
検出精度を更に向上させることもできる。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば所定の回転中心に
非接触で精度良く円形板状物体例えばウェハの角度位置
決めすることができる。
非接触で精度良く円形板状物体例えばウェハの角度位置
決めすることができる。
さらに、従来の位置決め装置のように切欠きの検出をウ
ェハの回転中に行なってその信号に基づいてウェハの回
転を所定屋回して停止するのでなく、ウェハの静止した
状態で切欠きの位置を検出するため高精度の位置決めが
可能となる。また角度修正後も常にウェハの位置にずれ
がないかを確認する機能も有している。また、本発明の
円形板状物体の角度位置決め装置は、オリエンテーショ
ンフラットでなくても、あるいは微少切欠きが異形な場
合でも正確に角度位置決めすることができる。
ェハの回転中に行なってその信号に基づいてウェハの回
転を所定屋回して停止するのでなく、ウェハの静止した
状態で切欠きの位置を検出するため高精度の位置決めが
可能となる。また角度修正後も常にウェハの位置にずれ
がないかを確認する機能も有している。また、本発明の
円形板状物体の角度位置決め装置は、オリエンテーショ
ンフラットでなくても、あるいは微少切欠きが異形な場
合でも正確に角度位置決めすることができる。
第１〜３図は、本発明の円形板状物体の角度位置決め装
置の実施例を示す、それぞれ斜視図、平面図および側面
図、 第４図は、本発明の実施例における、微小切欠きの位置
と切欠き検出信号との関係を示ず模式図、第５図は、本
発明の実施例においてウェハの偏心を検出する様子を示
す図、 第６図は、本発明の実施例の動作を説明するフローチャ
ート、 第７および８図は、従来のウェハ位置決め装置の斜視図
および平面図、そして 第９図は、従来のウェハ位置決め装置におけるオリエン
テーションフラットの検出信号を示す模式図である。 図中、 ６・・・ウェハ、６ａ・・・微少切欠、Ｃａ−Ｃｂ−Ｃ
ｃ−ｃｄ−Ｃａ・・・リニアイメージセンサ、７・・・
載置台、８・・・回転台、Ｌａ −Ｌｂ −Ｌｃ −Ｌ
ｄ −Ｌａ・Ｌｌ）・・・光源、９，１０・・・Ｘステ
ージ、Ｙステージ、Ｐ・・・アナログ光電変換素子。
置の実施例を示す、それぞれ斜視図、平面図および側面
図、 第４図は、本発明の実施例における、微小切欠きの位置
と切欠き検出信号との関係を示ず模式図、第５図は、本
発明の実施例においてウェハの偏心を検出する様子を示
す図、 第６図は、本発明の実施例の動作を説明するフローチャ
ート、 第７および８図は、従来のウェハ位置決め装置の斜視図
および平面図、そして 第９図は、従来のウェハ位置決め装置におけるオリエン
テーションフラットの検出信号を示す模式図である。 図中、 ６・・・ウェハ、６ａ・・・微少切欠、Ｃａ−Ｃｂ−Ｃ
ｃ−ｃｄ−Ｃａ・・・リニアイメージセンサ、７・・・
載置台、８・・・回転台、Ｌａ −Ｌｂ −Ｌｃ −Ｌ
ｄ −Ｌａ・Ｌｌ）・・・光源、９，１０・・・Ｘステ
ージ、Ｙステージ、Ｐ・・・アナログ光電変換素子。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、回転台と、 該回転台にのせられる円形板状物体の周辺付近で該物体
の接線方向に平行に該物体を挾んで配置した切欠き検出
用光位置検出素子および光源と、該光位置検出素子の所
定画素に該物体の切欠きの中心が一致するよう前記の回
転台の回転を制御する手段と を備えたことを特徴とする円形板状物体の角度位置決め
装置。 ２、前記光位置検出素子がリニアイメージセンサである
特許請求の範囲第１項記載の円形板状物体の位置決め装
置。 ３、回転台と、 該回転台にのせられる円形板状物体の周辺付近で該物体
の接線方向に平行に該物体を挾んで配置した切欠き検出
用リニアイメージセンサおよび光源と、 該リニアイメージセンサの所定画素に該物体の切欠きの
中心が一致するよう前記の回転台の回転を制御する手段
と、 該物体の周辺の一点で該物体を挾んで配置されているア
ナログ光電変換素子と光源と、 この光電変換素子からの信号に応答して、該物体の切欠
きが前記の切欠き検出用リニアイメージセンサの検出区
域に入ると前記の回転台の回転を停止させる手段と を備えたことを特徴とする円形板状物体の角度位置決め
装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18396985A JPS6245039A (ja) | 1985-08-23 | 1985-08-23 | 円形板状物体の角度位置決め装置 |
| US07/222,297 US4887904A (en) | 1985-08-23 | 1988-07-22 | Device for positioning a semi-conductor wafer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18396985A JPS6245039A (ja) | 1985-08-23 | 1985-08-23 | 円形板状物体の角度位置決め装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6245039A true JPS6245039A (ja) | 1987-02-27 |
| JPH0530304B2 JPH0530304B2 (ja) | 1993-05-07 |
Family
ID=16144990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18396985A Granted JPS6245039A (ja) | 1985-08-23 | 1985-08-23 | 円形板状物体の角度位置決め装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6245039A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01169939A (ja) * | 1987-12-24 | 1989-07-05 | Daihen Corp | 半導体ウエハのセンタ合せ装置 |
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| JPS57198642A (en) * | 1981-05-30 | 1982-12-06 | Toshiba Corp | Wafer position detection device |
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1985
- 1985-08-23 JP JP18396985A patent/JPS6245039A/ja active Granted
Patent Citations (4)
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Cited By (2)
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| JPH04320043A (ja) * | 1991-04-18 | 1992-11-10 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | Ｖノッチウエハの位置決め機構 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0530304B2 (ja) | 1993-05-07 |
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