JPS5946029A - ウエハのプリアライメント装置 - Google Patents
ウエハのプリアライメント装置Info
- Publication number
- JPS5946029A JPS5946029A JP57155809A JP15580982A JPS5946029A JP S5946029 A JPS5946029 A JP S5946029A JP 57155809 A JP57155809 A JP 57155809A JP 15580982 A JP15580982 A JP 15580982A JP S5946029 A JPS5946029 A JP S5946029A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- moving
- orientation flat
- outer periphery
- positioning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/7075—Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、半導体ウェハ上に回路ieターンヶ焼き伺け
る際に、上記ウエノXケマスクパターン像と整合させる
べく、上記ウエノ1ケ所定位置にセットするに好適のウ
ェハのプリアライメント方法と装jtVC関する。
る際に、上記ウエノXケマスクパターン像と整合させる
べく、上記ウエノ1ケ所定位置にセットするに好適のウ
ェハのプリアライメント方法と装jtVC関する。
半導体ウェハにマスクの回路〕やターンヶ焼き付ける工
程では、前工程で、理に焼き付けされた・モターンと、
次工程で焼き付ける・タターンとの位置決めが必要であ
る。この場合、最終的の位1i′1決めは、パターン認
識により精度良く行なわれるか、それを行うためには、
概略のウニ/%の位置決めが必要である。この概略のウ
ニノー位儀゛決め、才なわちプリアライメント装置うた
めの装置とし、て各穆のものが従来より採用されている
が、奔1相互間に互換性なく、ある】っの装置によって
焼き付けられた/Fターンは、次工程においても同一の
装置で位11イ決めしないとウェハの中心位置が狂って
焼きイマ]けができず、装置全体の稼動率が向上し借な
い欠点があった。
程では、前工程で、理に焼き付けされた・モターンと、
次工程で焼き付ける・タターンとの位置決めが必要であ
る。この場合、最終的の位1i′1決めは、パターン認
識により精度良く行なわれるか、それを行うためには、
概略のウニ/%の位置決めが必要である。この概略のウ
ニノー位儀゛決め、才なわちプリアライメント装置うた
めの装置とし、て各穆のものが従来より採用されている
が、奔1相互間に互換性なく、ある】っの装置によって
焼き付けられた/Fターンは、次工程においても同一の
装置で位11イ決めしないとウェハの中心位置が狂って
焼きイマ]けができず、装置全体の稼動率が向上し借な
い欠点があった。
すなわち、従来採用された装置の1つは、第1図(al
に示す7JD <、円弧状の半導ウェハ2(J、−1、
下ウェハと称呼する)の外周の一部ケ欠損せしめて形成
したオリフラ2a’、(、ウェハ2ケ示矢AのグII
<回転し、木矢Bの如く、ウェハ2の平坦支持点を求め
てオリフラ2a、((見出し、ウェハ2の回転方向の位
置ケ沈める。次に、第1図(blに示す9口く、ウェハ
2の外周部ケ木矢Cの如く同時に4個所の対象位置から
押し、ウェハ2の中心位置決め、メインアライメント用
ターケ8ットマーク1(以下、ターゲットマークと呼称
する)ケ位置決めして、アライメントに行う方式である
8又、他の装置としては、第2図(alおよび第2図(
blに示す如くオリフラ2aに係合すべく、並設位置決
めさハ、たピンA16aと、ウェハ2の外周部に係合す
べく位置決めされたピンB i6bとに、ウェハ2ケ示
矢DK示す如く押圧し、ターゲットマーク1の位置決め
な行うものである。
に示す7JD <、円弧状の半導ウェハ2(J、−1、
下ウェハと称呼する)の外周の一部ケ欠損せしめて形成
したオリフラ2a’、(、ウェハ2ケ示矢AのグII
<回転し、木矢Bの如く、ウェハ2の平坦支持点を求め
てオリフラ2a、((見出し、ウェハ2の回転方向の位
置ケ沈める。次に、第1図(blに示す9口く、ウェハ
2の外周部ケ木矢Cの如く同時に4個所の対象位置から
押し、ウェハ2の中心位置決め、メインアライメント用
ターケ8ットマーク1(以下、ターゲットマークと呼称
する)ケ位置決めして、アライメントに行う方式である
8又、他の装置としては、第2図(alおよび第2図(
blに示す如くオリフラ2aに係合すべく、並設位置決
めさハ、たピンA16aと、ウェハ2の外周部に係合す
べく位置決めされたピンB i6bとに、ウェハ2ケ示
矢DK示す如く押圧し、ターゲットマーク1の位置決め
な行うものである。
以上の2つの製箔″ケ比較すると、いずれも、ウェハ2
の外径寸法と、オリフラ2aの大きさVCよってターゲ
ットマーク1の位置が決めら〕1.るものであるため、
ウニ″2の外径寸法と、オリフラ2aの大きさのバラツ
キによって、ターゲットマーク】の位置がズしてくる。
の外径寸法と、オリフラ2aの大きさVCよってターゲ
ットマーク1の位置が決めら〕1.るものであるため、
ウニ″2の外径寸法と、オリフラ2aの大きさのバラツ
キによって、ターゲットマーク】の位置がズしてくる。
従って、1il−のプリアライメント装置を用いなけれ
ば、合せ基塾が異るため、ターゲットマーク1が同一の
位置に位を値yJ4めされず回路・母ターンを順次に焼
きイτjけることができない。従って、フ0リアライメ
ント装置が1つのものに固定されるので、装置全体の株
+1+j、l率ケ回1゛せしめることが、できない。更
に位置決めの際、ウェハ2の外周部が押圧されるため、
ウニ/S 2の外周が損傷される欠点も生じる。
ば、合せ基塾が異るため、ターゲットマーク1が同一の
位置に位を値yJ4めされず回路・母ターンを順次に焼
きイτjけることができない。従って、フ0リアライメ
ント装置が1つのものに固定されるので、装置全体の株
+1+j、l率ケ回1゛せしめることが、できない。更
に位置決めの際、ウェハ2の外周部が押圧されるため、
ウニ/S 2の外周が損傷される欠点も生じる。
本発明は、以上の欠点を解消すべく創案さ1したもので
あり、その目的は、従来のプリアライメント装置に対し
互換性を有し、従って、装置の稼動率ケ向」二しうると
共に、ウェハの損傷が少なく、製品の歩留り全向上しつ
るウェハのプリアラ・rメント方法と装置を提供するこ
とにある。
あり、その目的は、従来のプリアライメント装置に対し
互換性を有し、従って、装置の稼動率ケ向」二しうると
共に、ウェハの損傷が少なく、製品の歩留り全向上しつ
るウェハのプリアラ・rメント方法と装置を提供するこ
とにある。
本発明し[、以」二の目的ケ達成するために、移送さi
l−てきたウェハk 、11!’I田電位置決めしたの
ち、ウェハ全1i−il転し、上記オリフラの位置全検
出して、ウェハの同転位置決めをすると共に、ウェハの
外周の水平面方向の位if f検出し、許容範囲との差
異ケ求めウェハ全水平面方向に移動せしめその中心位置
を−決めてウェハの位置決めをするウェハの70リアラ
イメント方法ケ特徴とすると共に、上記移送されたウェ
ハの41;′Il略位置決する位1す゛決、y)手段と
、」二組ウェハ孕水平面上に着脱自在Vこ取着すると共
に、水平面方向に移動可能に形成された移動手段と、上
記ウェハの外周部に係合し、該外周部の水平面方向の位
@ケ検出する第1の検出手段と」二組移動手段による取
着が解除された上記ウェハを、水平面上に回転手段と、
上記ウェハのオリフラに係合し、該オリフラの位#ケ検
出する第2の検出手段と、」二組第1.1=−よび第2
の検出手段の検出値と許容範囲等との差異により、」−
記移動手段および回転手段を、水平面方向および回転方
向に移動位置決めする制御手段とから構成されるつfハ
のプリアライメント装置行により、ウェハのりL1古j
部を押出して位置決めすることなく、上記第1および第
2の検出手段により、r“ノエハの外周ケ+1傷するこ
となく、ウェハ全移動位置決めするウェハのプリアライ
メント装置全特徴とし、たものてホ)る。
l−てきたウェハk 、11!’I田電位置決めしたの
ち、ウェハ全1i−il転し、上記オリフラの位置全検
出して、ウェハの同転位置決めをすると共に、ウェハの
外周の水平面方向の位if f検出し、許容範囲との差
異ケ求めウェハ全水平面方向に移動せしめその中心位置
を−決めてウェハの位置決めをするウェハの70リアラ
イメント方法ケ特徴とすると共に、上記移送されたウェ
ハの41;′Il略位置決する位1す゛決、y)手段と
、」二組ウェハ孕水平面上に着脱自在Vこ取着すると共
に、水平面方向に移動可能に形成された移動手段と、上
記ウェハの外周部に係合し、該外周部の水平面方向の位
@ケ検出する第1の検出手段と」二組移動手段による取
着が解除された上記ウェハを、水平面上に回転手段と、
上記ウェハのオリフラに係合し、該オリフラの位#ケ検
出する第2の検出手段と、」二組第1.1=−よび第2
の検出手段の検出値と許容範囲等との差異により、」−
記移動手段および回転手段を、水平面方向および回転方
向に移動位置決めする制御手段とから構成されるつfハ
のプリアライメント装置行により、ウェハのりL1古j
部を押出して位置決めすることなく、上記第1および第
2の検出手段により、r“ノエハの外周ケ+1傷するこ
となく、ウェハ全移動位置決めするウェハのプリアライ
メント装置全特徴とし、たものてホ)る。
以下、本発明の実施に好適な一実/ffi例を図にノ、
(ついて説明する。
(ついて説明する。
まず、本実施例のイ既要?第3し1ふ・よひ第4図によ
り説明する。
り説明する。
木矢EのplJ < 、移送されてきたウェハ2C」、
ウェハ2の外周部に係合する複数個のピンC5−、。
ウェハ2の外周部に係合する複数個のピンC5−、。
ピンD5−2およびピンE5−8.r、す)K成さiす
る位1百決め手段17によV世1略位置決めさノ主る。
る位1百決め手段17によV世1略位置決めさノ主る。
41”l略位置決めされたウェハ2の下面11jtl
i/ごは、ウェハ2を水平面上に着脱自在に取着する移
W+υ手段J8か、設けらitでいる。この移動手段1
8は、ウェハ2ヶ取着したまま、水平面方向のX方向お
よびY力向(第3図に示す)VC移動可仙に形成されて
いる。、++:1略位置決めさ力、たウェハ2の外周部
には、この外;M部のX方向およびY方向の位@ゲ検出
する複数個のう′C電素子A6−4.B6−5.C6−
6およびD6−7等からなる第1の検出手段19が係合
している。又、ウェハ2の下面側には、移動手段18全
囲繞するウェハ回転テーブル4を有する回転手段20が
殻゛けられている一回転手段20は、移動手段18の取
着が解除されたウェハ2金持ち上げ、こf″LヶL7回
転うに構成されている。
i/ごは、ウェハ2を水平面上に着脱自在に取着する移
W+υ手段J8か、設けらitでいる。この移動手段1
8は、ウェハ2ヶ取着したまま、水平面方向のX方向お
よびY力向(第3図に示す)VC移動可仙に形成されて
いる。、++:1略位置決めさ力、たウェハ2の外周部
には、この外;M部のX方向およびY方向の位@ゲ検出
する複数個のう′C電素子A6−4.B6−5.C6−
6およびD6−7等からなる第1の検出手段19が係合
している。又、ウェハ2の下面側には、移動手段18全
囲繞するウェハ回転テーブル4を有する回転手段20が
殻゛けられている一回転手段20は、移動手段18の取
着が解除されたウェハ2金持ち上げ、こf″LヶL7回
転うに構成されている。
ウェハ2の外周部のオリフラ2aには、ウエノ\2の移
送方向に並設された複数個の−)’(:電素子E6−、
IF’6−2.およびG6−8からなる第2の検出手段
21が係合している。
送方向に並設された複数個の−)’(:電素子E6−、
IF’6−2.およびG6−8からなる第2の検出手段
21が係合している。
又・第1および第2の検出手段]/!l 、 2+ &
よ、図示しなし・制御手段に接N1・し、ウェハ2のX
方向Y方向および回転フj向の検出値葡人力させる。
よ、図示しなし・制御手段に接N1・し、ウェハ2のX
方向Y方向および回転フj向の検出値葡人力させる。
この制ω11手段は、#動手段18およO・回転手段加
とそれぞれ隆続し、−L記入力信号によ!〕、千gI!
llJ手■使18および回転手段20全移動しウェハ2
の中心0’+1〆1i−よびオリフラの回転(t’ξ置
を位置沈め1−/;・。1′−1、」二に、J:す、ウ
ェハ2のプリアライメント7′l)行わハることになる
、 次に、本実施例を・更に詳しくtシ明する。
とそれぞれ隆続し、−L記入力信号によ!〕、千gI!
llJ手■使18および回転手段20全移動しウェハ2
の中心0’+1〆1i−よびオリフラの回転(t’ξ置
を位置沈め1−/;・。1′−1、」二に、J:す、ウ
ェハ2のプリアライメント7′l)行わハることになる
、 次に、本実施例を・更に詳しくtシ明する。
上記の如く、木矢Eにより鷺送さノまたウェハ2は、位
置決y)手段17によf)概略位1irt決めさil−
る。
置決y)手段17によf)概略位1irt決めさil−
る。
すなJ)ち、移送さノ1.たウェハ2ケ支持する+持デ
ープル台22のよ、面側のウェハ2の移送方向には、ウ
ェハ2の外周直径よりやや大きな円周、]二K1適宜間
隔倉距てて、し9ンA3−1.ビンB5−2オ、・よび
ビンC5−8が設けられている。移送されてきたつ、:
r−ハ2 r、j:、Q4’ 51’′;lの点via
−c示’T−7211<、ビンA5−。
ープル台22のよ、面側のウェハ2の移送方向には、ウ
ェハ2の外周直径よりやや大きな円周、]二K1適宜間
隔倉距てて、し9ンA3−1.ビンB5−2オ、・よび
ビンC5−8が設けられている。移送されてきたつ、:
r−ハ2 r、j:、Q4’ 51’′;lの点via
−c示’T−7211<、ビンA5−。
とビンB5−2、又1は、ビンA3−1とビンに5−3
とKJニジ析略の蔽置決めがさitで停+、にする。支
持テーブル台22のウェハ2が概略位1tイ決めさノ1
.左中ノし位置近停には、後に説明する移動手段18お
よび回転手段加が内蔵される孔部側が形成されている。
とKJニジ析略の蔽置決めがさitで停+、にする。支
持テーブル台22のウェハ2が概略位1tイ決めさノ1
.左中ノし位置近停には、後に説明する移動手段18お
よび回転手段加が内蔵される孔部側が形成されている。
なおビンA5□等の設けられた円周の中!し点は、」二
紀孔fel+ 23の中心点より、ウェハ2の移送方向
(第3図の右方向)にずれて位置決めされている。
紀孔fel+ 23の中心点より、ウェハ2の移送方向
(第3図の右方向)にずれて位置決めされている。
従って、ウェハ2は、このずれ量δだけ孔部23の中心
より右に寄った位置に、II!!I略位置決めされる。
より右に寄った位置に、II!!I略位置決めされる。
そして矛の後、同じくずれ量δだけ同方向にずれて初期
位置セットさ′f′した移動手段18のウェハ移動テー
ブル3により、孔部nの中心点に戻されて、位置決めさ
ノ′しる。
位置セットさ′f′した移動手段18のウェハ移動テー
ブル3により、孔部nの中心点に戻されて、位置決めさ
ノ′しる。
辺、上のり1]く、位置決め手段17のビンA3−1等
を右寄りにずらして位置決めしたのは、移動手段18が
ウェハ2を取着しだ林・、第6図に示すダ11く、図の
左方向に戻って中心位置決めするブζめである。
を右寄りにずらして位置決めしたのは、移動手段18が
ウェハ2を取着しだ林・、第6図に示すダ11く、図の
左方向に戻って中心位置決めするブζめである。
すなわち、もし、ずれ量δ?零とすると、ウェハ2i−
1一孔部側の中心に正確に停止1〜ることができないた
め、その分だけ、ウェハ2°の中心とウェハ移動テーブ
ル3との中心がずれてしまうからである。
1一孔部側の中心に正確に停止1〜ることができないた
め、その分だけ、ウェハ2°の中心とウェハ移動テーブ
ル3との中心がずれてしまうからである。
従って、上記の如く、−たん右寄シにウェハ2?もって
1Tき、ウェハ移動テーブル3もIMI il゛どしJ
−右寄りに位置決め一ノることによシ、ウェハ2のほぼ
中心をウェハ移動テーブル3て取着することができる。
1Tき、ウェハ移動テーブル3もIMI il゛どしJ
−右寄りに位置決め一ノることによシ、ウェハ2のほぼ
中心をウェハ移動テーブル3て取着することができる。
なお、X方向のずれ量は、Y方向に較べて緊少のため、
概略位置決め上では問題とならない。
概略位置決め上では問題とならない。
次に、移動手段18を説明する。
孔部2:3の内部には、支持テーブル台22の上面((
平行な仕切板り↓が設けらり、ている、仕切板2−I
J:には、ウェハ移動テーブル3QX方向卦よびY方向
に摺動自在に支持する支持台がか載置されてし・る。
平行な仕切板り↓が設けらり、ている、仕切板2−I
J:には、ウェハ移動テーブル3QX方向卦よびY方向
に摺動自在に支持する支持台がか載置されてし・る。
ウェハ移動テーブル3は、支持テーブル台22の土面と
ほぼ同一レベルにそのテーブル上面ケ形成する。ウェハ
2は、上8己の如く、このテープ、+1・−に面に載置
さiする。ウェハ移動テーブル3の−1−記テ゛−プル
上面には、図示しない真空源に外通−jる真空通路26
が接続している。従つで、ウエノ12d2、この真空に
よる吸着力の作用((よす、ウニt: ))移動テーブ
ル3上に着脱自在に支持される。又、支持台か上にはウ
ェハ移動テーブル3をY力向に移動するためのY方向移
動モーフ9ど、X方向に移動−j′るための図示しない
X方向移動モータがそれイれ載置されている。ぞして、
ウェハ移動デーフル3はスプリング27Vこよυ、Y方
向移動モーフ9等に圧接する方向に付勢されている。
ほぼ同一レベルにそのテーブル上面ケ形成する。ウェハ
2は、上8己の如く、このテープ、+1・−に面に載置
さiする。ウェハ移動テーブル3の−1−記テ゛−プル
上面には、図示しない真空源に外通−jる真空通路26
が接続している。従つで、ウエノ12d2、この真空に
よる吸着力の作用((よす、ウニt: ))移動テーブ
ル3上に着脱自在に支持される。又、支持台か上にはウ
ェハ移動テーブル3をY力向に移動するためのY方向移
動モーフ9ど、X方向に移動−j′るための図示しない
X方向移動モータがそれイれ載置されている。ぞして、
ウェハ移動デーフル3はスプリング27Vこよυ、Y方
向移動モーフ9等に圧接する方向に付勢されている。
次に、第1の検出手段19ヲ説明する。
第3図および第6図に示す如く、支持テーブル台22の
孔部2:3を中心とし、ウェハ2の外周とほぼ1■−の
円周上には、中心・線上に相対向して、−)゛L電素子
A6−4と光電素子C6−6およびう゛C電累子B6−
5と光電素子D6−7が設けられている。 ウェハ2の
外周が、光電素早入6−4等のすべてとロー状態に併合
しているときは、光電素早入6−4 等は、IM−のX
方向ふ・よひY方向の検出値を検出するが、ウェハ2が
どちらかの方向にずれているときぐ」1、異った検出値
をそれぞれ検出することになる。これ等の検出値し」1
、後に説明する制御手段に入力される。
孔部2:3を中心とし、ウェハ2の外周とほぼ1■−の
円周上には、中心・線上に相対向して、−)゛L電素子
A6−4と光電素子C6−6およびう゛C電累子B6−
5と光電素子D6−7が設けられている。 ウェハ2の
外周が、光電素早入6−4等のすべてとロー状態に併合
しているときは、光電素早入6−4 等は、IM−のX
方向ふ・よひY方向の検出値を検出するが、ウェハ2が
どちらかの方向にずれているときぐ」1、異った検出値
をそれぞれ検出することになる。これ等の検出値し」1
、後に説明する制御手段に入力される。
次に、回転手段20を説明する。
第4図に示す如く、環状のウェハ回転テーブル4は、支
持テーブル台22の孔部2317Jに、回転自在に挿設
され、回転手段18のウェハ移動テーブル3を囲繞して
設けられている。ウェハ回転テーブル4の内周1111
1 +cは内歯車が形成され、第3図(tこも示す如く
、この内歯車には、ビニオン歯車20が噛合している。
持テーブル台22の孔部2317Jに、回転自在に挿設
され、回転手段18のウェハ移動テーブル3を囲繞して
設けられている。ウェハ回転テーブル4の内周1111
1 +cは内歯車が形成され、第3図(tこも示す如く
、この内歯車には、ビニオン歯車20が噛合している。
ビニオン歯車2gは、仕切板2,1−1−に小ν、1修
さJtた回転テーブル回転モータ7により回転さ)圭る
。父、仕切板24」−には、アーム酎の中間部る・支持
する支え台;30が載IPtさh支え台3()で支ト′
1さノまたアーム別の作用点側はウェハ回転デープル4
の下M」に当接すると共に、その力点側には、仕切板2
・1に増付けられた回転デープル上下川シリンダ8のピ
ストンが併合している。従って、回転デー グル上下用
シリンダ80作用により、ウェハ11」ロリ′7−ブル
4は孔部乙の内周に治って上−ト動1゛る。
さJtた回転テーブル回転モータ7により回転さ)圭る
。父、仕切板24」−には、アーム酎の中間部る・支持
する支え台;30が載IPtさh支え台3()で支ト′
1さノまたアーム別の作用点側はウェハ回転デープル4
の下M」に当接すると共に、その力点側には、仕切板2
・1に増付けられた回転デープル上下川シリンダ8のピ
ストンが併合している。従って、回転デー グル上下用
シリンダ80作用により、ウェハ11」ロリ′7−ブル
4は孔部乙の内周に治って上−ト動1゛る。
次に、第2の検出手段21ヲ説明する。
第3図、第6図、第7し1.1.−よひ第8図に示すη
I:く、ウェハ2の外周に形成されたオリフラ2a V
c係合する光電素子E6−11光電素子Fl”+−2,
1,−よび光電素子G6−8は、ウエノ12の4−t、
送方向に並設に支持デープル台22」二に支持されてい
る8第7図の如く、ウェハ2のオリフラ2aが形成され
ていない外周が光電素子E6−7等に係合している状態
では、光電素子E6−1等のすべては1b−1−の4C
G出値を検出しない。しかし、第81ヌ1のり11<、
ウェハ2のオリフラ2aが光゛n先素子E6−1等に快
合すると同一の値が検出される。従って、オリフラ2a
の回転方向がイイハ出さ′FLる。
I:く、ウェハ2の外周に形成されたオリフラ2a V
c係合する光電素子E6−11光電素子Fl”+−2,
1,−よび光電素子G6−8は、ウエノ12の4−t、
送方向に並設に支持デープル台22」二に支持されてい
る8第7図の如く、ウェハ2のオリフラ2aが形成され
ていない外周が光電素子E6−7等に係合している状態
では、光電素子E6−1等のすべては1b−1−の4C
G出値を検出しない。しかし、第81ヌ1のり11<、
ウェハ2のオリフラ2aが光゛n先素子E6−1等に快
合すると同一の値が検出される。従って、オリフラ2a
の回転方向がイイハ出さ′FLる。
次に、制御手段について説明1−る。
割部j手段は、光屯累早入6−4等の1゛べての光市、
素子に接続し、光電素子A6−4等の検出イハ号葡取り
込むための(弓路系統31(第9図に示−j−)と、取
り込まれた楡出伯号を演算する演算1刈路系統(第11
)図に示す)と、Y方向移動モータ9、X方向移動モー
タ(lxj示ぜず)、回転テーブル1f川転モータ7、
回転テーブル−1−下用シリンダ8.l、−よび1ヌ1
示しない真空通路26に連通1−る真空#、等に接続し
、これ等を動作する動作回路等とから梠成されている。
素子に接続し、光電素子A6−4等の検出イハ号葡取り
込むための(弓路系統31(第9図に示−j−)と、取
り込まれた楡出伯号を演算する演算1刈路系統(第11
)図に示す)と、Y方向移動モータ9、X方向移動モー
タ(lxj示ぜず)、回転テーブル1f川転モータ7、
回転テーブル−1−下用シリンダ8.l、−よび1ヌ1
示しない真空通路26に連通1−る真空#、等に接続し
、これ等を動作する動作回路等とから梠成されている。
次に、本実施例の作用を説明する。
上記したQo < 、移送されてきたウェハ2は、ピン
A3−1等に当接し、概略位置決めされる。ウェハ移動
テーブル3は、上記の如く予め右寄りにずノ′してずσ
首状めさノL、、Jz記椰略位置にあるウェハ2の下面
に係合し、これ孕支持する。同時に、ウェハ窟動テーブ
ル3の上面には、在学・山路2CiよりJ′℃空が送ら
れ、ウェハ2はウエノX”4動テーブル31’こ吸着さ
れ、る。次に、ウェハ回転デープル3け、ウェハ2を吸
着した一F、ま、左行じ、中心付1r1゛イなわぢ支持
テーブル22の孔部z:1の中心位置にルする。ここで
、ウェハ移動テーブル3はウエノ\2の(νクバを治〜
解除する。同時に、F11転テーブル上下用シリンダ8
の作用により、ウエノ1回転テーブル4かJZ Ji’
、し、ウェハ2を支持する。次(fこ、回転テープA[
i’11瞥モータモ−タフにより、ウェハ回転テーブル
4か回転する、 ウェハ回転テーブル4が回転し、ウエノ\2の外周に光
電素子E 6−1+ F 6−2およびG6−8が48
合し、上記し7た如く、オリフラ2aの回転位W;が検
出される。この位置でウェハ移動テーブル4の回転を停
止し、ウエノ1回転テーブル4を下降せしめ、ウェハ2
の回転方向の位置決と)か完了する。
A3−1等に当接し、概略位置決めされる。ウェハ移動
テーブル3は、上記の如く予め右寄りにずノ′してずσ
首状めさノL、、Jz記椰略位置にあるウェハ2の下面
に係合し、これ孕支持する。同時に、ウェハ窟動テーブ
ル3の上面には、在学・山路2CiよりJ′℃空が送ら
れ、ウェハ2はウエノX”4動テーブル31’こ吸着さ
れ、る。次に、ウェハ回転デープル3け、ウェハ2を吸
着した一F、ま、左行じ、中心付1r1゛イなわぢ支持
テーブル22の孔部z:1の中心位置にルする。ここで
、ウェハ移動テーブル3はウエノ\2の(νクバを治〜
解除する。同時に、F11転テーブル上下用シリンダ8
の作用により、ウエノ1回転テーブル4かJZ Ji’
、し、ウェハ2を支持する。次(fこ、回転テープA[
i’11瞥モータモ−タフにより、ウェハ回転テーブル
4か回転する、 ウェハ回転テーブル4が回転し、ウエノ\2の外周に光
電素子E 6−1+ F 6−2およびG6−8が48
合し、上記し7た如く、オリフラ2aの回転位W;が検
出される。この位置でウェハ移動テーブル4の回転を停
止し、ウエノ1回転テーブル4を下降せしめ、ウェハ2
の回転方向の位置決と)か完了する。
次に再び、ウェハ移動テーブル3の上面に次も!全作用
させ、ウエノX2を真空取着する、こσ)゛1ノ\vシ
で、ウェハ2の外周に係合する光電素子A 6−4゜1
36−51 C6−6およびD6−7の検出値孕求める
。
させ、ウエノX2を真空取着する、こσ)゛1ノ\vシ
で、ウェハ2の外周に係合する光電素子A 6−4゜1
36−51 C6−6およびD6−7の検出値孕求める
。
以下、この検出値孕制御手段にJ(ソリ込み、Y方向3
動モータ9卦よびlpl示しないX方向移動モータヲ二
i!i11作し、ウェハ2の中心位置決めをし、ウェハ
2の1リアライメント欠完了する。
動モータ9卦よびlpl示しないX方向移動モータヲ二
i!i11作し、ウェハ2の中心位置決めをし、ウェハ
2の1リアライメント欠完了する。
次に、第9図卦よび第1f1図により?1jll向手段
゛の11力作を説明する。
゛の11力作を説明する。
第9図は、」−記の加く、光電素早入6−4等の検1」
)信号を取り込むための回路系統:31孕示−”Q −
)’e電素子E 6− 、 l F 6−21 (J
6−B等には、光電素7−E(li−1々t−からのア
ナログ信号’k A、/D変換するため増幅したり、)
°L電素子間のレベルを合わせたり−J−るバッファ月
がそItそれ接続している。バッファ11には、アナロ
グスイッチ12がそれぞhj;f% L?している。ア
ナログスイッチ+2 i=1:、計q機■5のアナログ
スイッチセレクトデータにより、デコーダ14で1つの
アナログスイッチ122B4択してスイッチオンさ凡る
。これにより、所要の光電素子力)らの検出信号がA/
Dコンバータ13全介して、計算機15内シて入力され
る。
)信号を取り込むための回路系統:31孕示−”Q −
)’e電素子E 6− 、 l F 6−21 (J
6−B等には、光電素7−E(li−1々t−からのア
ナログ信号’k A、/D変換するため増幅したり、)
°L電素子間のレベルを合わせたり−J−るバッファ月
がそItそれ接続している。バッファ11には、アナロ
グスイッチ12がそれぞhj;f% L?している。ア
ナログスイッチ+2 i=1:、計q機■5のアナログ
スイッチセレクトデータにより、デコーダ14で1つの
アナログスイッチ122B4択してスイッチオンさ凡る
。これにより、所要の光電素子力)らの検出信号がA/
Dコンバータ13全介して、計算機15内シて入力され
る。
次に、上記検出信号ケ計儂−機で演算する渾算IL】1
路系統と、この演算VCより、各モータ類を^(1作す
る動作回路をフローチャートにより説明1゛る。
路系統と、この演算VCより、各モータ類を^(1作す
る動作回路をフローチャートにより説明1゛る。
第11し1はウェハ2の位置決め全求心方式で求I)る
場合會示ず。
場合會示ず。
光電素子A6−4および光電素子B6−5の検出データ
全上記の如くして計算機15に取込む。
全上記の如くして計算機15に取込む。
両者のデータ差a、全求め、この絶対値1a、li、予
め定め1ζ酌−容誤差に1と比較する。砲%I (iI
!II Ill tが許容誤差に、 J:り小さいとぎ
は、この方向(この」μ合X方回)のウェハ2の位置合
せはできたものとし、同様に光電素子C6−6とD6−
7 のデータケ取込み、データ差a、の絶対値1 a2
1と許容誤差に2全比較し、絶対値1a=lが許容誤差
に2よりも小さけり、ば、ウェハ2のY方向の位置合せ
かr:きたものとする。
め定め1ζ酌−容誤差に1と比較する。砲%I (iI
!II Ill tが許容誤差に、 J:り小さいとぎ
は、この方向(この」μ合X方回)のウェハ2の位置合
せはできたものとし、同様に光電素子C6−6とD6−
7 のデータケ取込み、データ差a、の絶対値1 a2
1と許容誤差に2全比較し、絶対値1a=lが許容誤差
に2よりも小さけり、ば、ウェハ2のY方向の位置合せ
かr:きたものとする。
絶対値1a、1が許容値に、よりも大きい場合にd、・
データ差a1のプラス又は、マイナスに応じてウェハ移
動テーブル3iXのマイナス方向又はプラス方向に移動
し、中心位置決め會する。同様eこ、データ差a2につ
いても、ウェハ悠、動テーブル3金Yのマイナス方向又
はノ0ラス方向に移動しこ、ウェハ2の中心(5j’、
(jQ決め?+−する。
データ差a1のプラス又は、マイナスに応じてウェハ移
動テーブル3iXのマイナス方向又はプラス方向に移動
し、中心位置決め會する。同様eこ、データ差a2につ
いても、ウェハ悠、動テーブル3金Yのマイナス方向又
はノ0ラス方向に移動しこ、ウェハ2の中心(5j’、
(jQ決め?+−する。
ンンζ姓二jQ Q 米子A C1、B fi +
06−6−” ヨL、)4−5 1−) h−7のデータケ再度取込み、6−5 と6
−4゜6−6 と 5 7 、 6−5 と
6−7 卦 、l: び 6−6 と6
とのデータ差a、、a2.a、、オよびa4i求 4 め、これらの不色効1値l al l 、 l a2
1 、l as l−’よび1B41ケ、、’p 容
j!呉差K。と比較(7、ウェハ2の中心トウエバ7移
動テーブル3との中心が許容範囲内で一匂L−でいろコ
コ11否ズI)の判定k・し7、一致していノ]、は位
置合せケ(、〉了し、不可σ)場合は、ll51様のこ
とを芥(・ン返し行つ、。
06−6−” ヨL、)4−5 1−) h−7のデータケ再度取込み、6−5 と6
−4゜6−6 と 5 7 、 6−5 と
6−7 卦 、l: び 6−6 と6
とのデータ差a、、a2.a、、オよびa4i求 4 め、これらの不色効1値l al l 、 l a2
1 、l as l−’よび1B41ケ、、’p 容
j!呉差K。と比較(7、ウェハ2の中心トウエバ7移
動テーブル3との中心が許容範囲内で一匂L−でいろコ
コ11否ズI)の判定k・し7、一致していノ]、は位
置合せケ(、〉了し、不可σ)場合は、ll51様のこ
とを芥(・ン返し行つ、。
2+’+ 1.!し1ζτ1.3点位硝沃め方式による
ウゴーハ2の中r(1−缶屑決めフロ・−チャートに示
す。この場合ウェハ2の8送方向の中心N外周に→’Q
iJL素子H6−8が1糸p> (−てhりけられて
いる。従って、光電素子H6−8と尤I4L素千F6−
2とは、はぼ直交して配置篩゛されイ)。
ウゴーハ2の中r(1−缶屑決めフロ・−チャートに示
す。この場合ウェハ2の8送方向の中心N外周に→’Q
iJL素子H6−8が1糸p> (−てhりけられて
いる。従って、光電素子H6−8と尤I4L素千F6−
2とは、はぼ直交して配置篩゛されイ)。
jず、光?杭紫子F6−2のデータケ取込み、予め定め
た下限許容範囲S、と比較し、小さけノ]げYのマイナ
ス方向1/(ウェハ2を移動し7、大きければ上限許容
範囲S2と比較する。6−2 のデータが詐容仲、囲
S2より大きいときはYのマイナス方向にウェハl−k
稈j+i!jし、小さければ、Y方向については一応
位置決めができたものとする。
た下限許容範囲S、と比較し、小さけノ]げYのマイナ
ス方向1/(ウェハ2を移動し7、大きければ上限許容
範囲S2と比較する。6−2 のデータが詐容仲、囲
S2より大きいときはYのマイナス方向にウェハl−k
稈j+i!jし、小さければ、Y方向については一応
位置決めができたものとする。
次に回じ〈−)シミ素子I(6−8のデータ全取込み、
下限許容範囲S3および−1−眼許容範囲S4と比も(
2、X方向の鼎1整をする、七[7て、再度、6−8
のテ゛−タが下限許容範囲S、お、LびS3と一ヒ用許
容%l 1lli S2およびS4間に入っているか否
かをそハぞれ(i!Iλ々し、ウェハ2の位置決め全終
了する。1!〕、上の2つの方式は、いづれも光電素子
によってウェハ2の外周+7) −f ′hf4を検出
し、この検出(it!によってウエノ\2の中心位置決
めをするもので、許容範11JIiのj−;・ν41i
<iの設定?変えることにより、適宜のウニ・12の中
心位置決めが可能となる。従って、前上程で回路・ぐタ
ーン全焼き付けるときに用い/こプリアライメント装置
の如何に拘らず、ターグツトマーク1ケ一定の位置に位
1蝮決めてき同一のメイン了ライメント全円滑に行うこ
とができ、これにより装部の稼!7i11率ケ向」ニす
ることができる。又、従来の如く、ウェハ2の外周金押
圧して位置決めするものでかいため、ウェハ2を損傷す
ることなく、製品の歩留りを向上させることができる。
下限許容範囲S3および−1−眼許容範囲S4と比も(
2、X方向の鼎1整をする、七[7て、再度、6−8
のテ゛−タが下限許容範囲S、お、LびS3と一ヒ用許
容%l 1lli S2およびS4間に入っているか否
かをそハぞれ(i!Iλ々し、ウェハ2の位置決め全終
了する。1!〕、上の2つの方式は、いづれも光電素子
によってウェハ2の外周+7) −f ′hf4を検出
し、この検出(it!によってウエノ\2の中心位置決
めをするもので、許容範11JIiのj−;・ν41i
<iの設定?変えることにより、適宜のウニ・12の中
心位置決めが可能となる。従って、前上程で回路・ぐタ
ーン全焼き付けるときに用い/こプリアライメント装置
の如何に拘らず、ターグツトマーク1ケ一定の位置に位
1蝮決めてき同一のメイン了ライメント全円滑に行うこ
とができ、これにより装部の稼!7i11率ケ向」ニす
ることができる。又、従来の如く、ウェハ2の外周金押
圧して位置決めするものでかいため、ウェハ2を損傷す
ることなく、製品の歩留りを向上させることができる。
以上の説明で明らかの如く、本発明によれば、従来のプ
リアライメント装置に対し、互換性ケ有し・装置の稼動
全向上しつると共に製品の歩留り全向上しつる効果が上
げられる。
リアライメント装置に対し、互換性ケ有し・装置の稼動
全向上しつると共に製品の歩留り全向上しつる効果が上
げられる。
第1図(atおよび(blは従来の求心方式によるプリ
アライメントの概戦ヲ説明する説明図、第2図(alお
よび[blは同じく3点基準方式によるテリアライメン
トの説明図、第3図は本発明の一実施例の上面図、第4
図は第3図のIV −IV線矢視の断面図、第5図は実
施例のウェハの概略位値、決めケ示す説明図、第6図は
概略位置決めされたウェハと装置中心位置との関係孕示
す説明図、第7図および第8図はオリフラの位置検出手
段を示す説明図、第9図Qよ光′亀素子による検出信号
を取り込む回路系る演算、制御系統に説明するフローチ
ャー1・1.」)11図Vよその、1点制御方式による
フローチャ・−1・−Cある。 】・・・メインアライメント用ターゲットマーク、2・
・・半導体ウェハ、2a・・・メリフラ、 3・・・ウ
ェハ移動テーブル、4・・・ウェハ回転テーブル、5
・・・ 1 ピンC% 5−2・・・ピンD、5−8・・・ピンE
s 6−1 ・・・ないし6−8・・・光電素子D
、 E 、 F 、 G 、 A 、 B 。 C,H,7・・・回転テーブル回転モータ、8・・・回
転ブ−−ブ2.上下用シリンダ、9・・・Y方向移動モ
ータ\1】・・・バッファ、12・・・アナログスイッ
チ、1;3・・・A/Dコンバータ、14・・・デコー
ダ、15・・・計算機、16a・・・ピンA、16b・
・・ビニ’B、17・・・位置決め手段、18・・・移
動手段、]9・・・第1の検出手段、2()・・・回転
手段、21・・・第2の検出手段、22・・・支持テー
ブル台、1′つ・・孔部、24・・・仕切板、5・・・
支持台、20・・・真空I+n路、27・・・スプリン
グ、28・・・アーム、29・・・ビニオン歯車、30
・・・支え台、3】・・・回路系統。 第1図 (Q) (bン 第2図 (0) (b) ;:rr 6ド1 第7図 第8図 第9図 第1O図
アライメントの概戦ヲ説明する説明図、第2図(alお
よび[blは同じく3点基準方式によるテリアライメン
トの説明図、第3図は本発明の一実施例の上面図、第4
図は第3図のIV −IV線矢視の断面図、第5図は実
施例のウェハの概略位値、決めケ示す説明図、第6図は
概略位置決めされたウェハと装置中心位置との関係孕示
す説明図、第7図および第8図はオリフラの位置検出手
段を示す説明図、第9図Qよ光′亀素子による検出信号
を取り込む回路系る演算、制御系統に説明するフローチ
ャー1・1.」)11図Vよその、1点制御方式による
フローチャ・−1・−Cある。 】・・・メインアライメント用ターゲットマーク、2・
・・半導体ウェハ、2a・・・メリフラ、 3・・・ウ
ェハ移動テーブル、4・・・ウェハ回転テーブル、5
・・・ 1 ピンC% 5−2・・・ピンD、5−8・・・ピンE
s 6−1 ・・・ないし6−8・・・光電素子D
、 E 、 F 、 G 、 A 、 B 。 C,H,7・・・回転テーブル回転モータ、8・・・回
転ブ−−ブ2.上下用シリンダ、9・・・Y方向移動モ
ータ\1】・・・バッファ、12・・・アナログスイッ
チ、1;3・・・A/Dコンバータ、14・・・デコー
ダ、15・・・計算機、16a・・・ピンA、16b・
・・ビニ’B、17・・・位置決め手段、18・・・移
動手段、]9・・・第1の検出手段、2()・・・回転
手段、21・・・第2の検出手段、22・・・支持テー
ブル台、1′つ・・孔部、24・・・仕切板、5・・・
支持台、20・・・真空I+n路、27・・・スプリン
グ、28・・・アーム、29・・・ビニオン歯車、30
・・・支え台、3】・・・回路系統。 第1図 (Q) (bン 第2図 (0) (b) ;:rr 6ド1 第7図 第8図 第9図 第1O図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ■、 >s、送さ−J1−るウェハる−12を略位置
決めしたのら、該ウェハ會回転し、ウェハの外周にJ1
φ成さtl−7’jオリンラの位8 ’a・該オリフラ
と他のウェハ外周との検出イ1げの差異により検出して
、」−記つエバの回転ブラ向の位置決め(il−スると
共に、上記ウェハ外周の水平面方向の許容範囲からの差
異音検出し、上記ウェハを水平面上りこオ・り動ぜしめ
て、その中Ib位f6”決めするようにすることを特徴
と1゛るウェハのプリアライメント方法。 2、移送される。>エバの概太位−゛決めづ−る位(h
。 決め手段と、上記ウェハを水平面」二に着脱自在に取着
喋ると共に、水平面方向Vこ移動可能とする移動手段と
、」二記ウェハの外周部に係合し、該外周り平面方向の
位1灯?L検出する第1の検出手段と、」1記移動手段
による取着が解除された上記ウエハン、水平面」−vこ
回転可能に支持する回転手段と・上記ウェハの外周に形
成されたオリフラに係合し2、オリフラの位置全検出す
る第2の検出手段と、上記用1および第2の検出手段の
検出値と許容範囲等との差異により、上記移動手段およ
び回転子1:I、l+ケ、水平面方向および回転方向に
移動位11”′I′決めする制御手段とを備えたことを
特徴とするウエノ・のプリアライメント装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57155809A JPS5946029A (ja) | 1982-09-09 | 1982-09-09 | ウエハのプリアライメント装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57155809A JPS5946029A (ja) | 1982-09-09 | 1982-09-09 | ウエハのプリアライメント装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5946029A true JPS5946029A (ja) | 1984-03-15 |
JPS6262054B2 JPS6262054B2 (ja) | 1987-12-24 |
Family
ID=15613928
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57155809A Granted JPS5946029A (ja) | 1982-09-09 | 1982-09-09 | ウエハのプリアライメント装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5946029A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6245039A (ja) * | 1985-08-23 | 1987-02-27 | Canon Inc | 円形板状物体の角度位置決め装置 |
JPH03125455A (ja) * | 1989-10-09 | 1991-05-28 | Toshiba Corp | 半導体製造装置 |
JPH04166845A (ja) * | 1990-10-31 | 1992-06-12 | Hitachi Ltd | 基板の位置決め装置及びプロキシミティ露光装置 |
JP2015050197A (ja) * | 2013-08-29 | 2015-03-16 | 株式会社ピーエムティー | 広角回転機構を有する露光装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5178690A (ja) * | 1974-12-28 | 1976-07-08 | Sony Corp | Uehaichiawasesochi |
JPS5864043A (ja) * | 1981-10-13 | 1983-04-16 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 円板形状体の位置決め装置 |
-
1982
- 1982-09-09 JP JP57155809A patent/JPS5946029A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5178690A (ja) * | 1974-12-28 | 1976-07-08 | Sony Corp | Uehaichiawasesochi |
JPS5864043A (ja) * | 1981-10-13 | 1983-04-16 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 円板形状体の位置決め装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6245039A (ja) * | 1985-08-23 | 1987-02-27 | Canon Inc | 円形板状物体の角度位置決め装置 |
JPH0530304B2 (ja) * | 1985-08-23 | 1993-05-07 | Canon Kk | |
JPH03125455A (ja) * | 1989-10-09 | 1991-05-28 | Toshiba Corp | 半導体製造装置 |
JPH04166845A (ja) * | 1990-10-31 | 1992-06-12 | Hitachi Ltd | 基板の位置決め装置及びプロキシミティ露光装置 |
JP2015050197A (ja) * | 2013-08-29 | 2015-03-16 | 株式会社ピーエムティー | 広角回転機構を有する露光装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6262054B2 (ja) | 1987-12-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4695215A (en) | Device for automatically transporting disk shaped objects | |
GB1509574A (en) | Automatic positioning system and method | |
KR102528681B1 (ko) | 본딩 전 기판 정렬 방법 | |
JPS5946029A (ja) | ウエハのプリアライメント装置 | |
JPS5780724A (en) | Positioning device | |
JP5149207B2 (ja) | 基板搭載装置 | |
JP2000021769A (ja) | 位置合わせ方法及び位置合わせ装置 | |
JPS60188955A (ja) | 露光装置 | |
JP2594039Y2 (ja) | リードフレーム付きicの接触機構 | |
JPS5651732A (en) | Exposure processing method | |
JPS6311776B2 (ja) | ||
US6139251A (en) | Stepper alignment method and apparatus | |
JPH04278515A (ja) | 縮小投影露光方法 | |
JPH01173174A (ja) | 認識位置補正方法 | |
JPH06105744B2 (ja) | ウエハ移載装置及びプローブ装置 | |
JPS5994422A (ja) | プラズマエツチング装置 | |
JPS62119941A (ja) | 微細配線の形成方法およびその装置 | |
JPH02154445A (ja) | たて型ウェハハンドラ/アライナ | |
KR20010028937A (ko) | 반도체 웨이퍼 패턴의 크기 및 오버레이 측정방법 | |
KR100259583B1 (ko) | 웨이퍼의 노광시 다수개의 패턴층을 정렬하는 방법 | |
KR100246857B1 (ko) | 디퓨젼 설비 및 이를 이용한 웨이퍼 얼라인 방법 | |
JPS6329507A (ja) | 電子線描画装置 | |
KR100596280B1 (ko) | 오버레이 측정의 프리얼라인먼트 간소화 장치 및 방법 | |
JPS62119942A (ja) | 微細配線の形成方法およびその装置 | |
JPS6215854B2 (ja) |