JPH11145253A - 半導体ウエハのセンタ合わせ装置および半導体ウエハのセンタ合わせ方法 - Google Patents

半導体ウエハのセンタ合わせ装置および半導体ウエハのセンタ合わせ方法

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JPH11145253A
JPH11145253A JP30711797A JP30711797A JPH11145253A JP H11145253 A JPH11145253 A JP H11145253A JP 30711797 A JP30711797 A JP 30711797A JP 30711797 A JP30711797 A JP 30711797A JP H11145253 A JPH11145253 A JP H11145253A
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JP
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semiconductor wafer
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wafer
center position
edge
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JP30711797A
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Akira Ezaki
朗 江崎
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高精度な位置合わせの可能な半導体ウエハの
センタ合わせ装置およびセンタ合わせ方法を提供するこ
と。 【解決手段】 半導体ウエハ22を載置して回転駆動さ
せるウエハ回転手段と、半導体ウエハ22のエッジ位置
に関するデータを検出するエッジ位置検出手段20と、
このエッジ位置検出手段20の出力信号と、半導体ウエ
ハ22の回転角度とを関連付けて記憶する記憶手段27
と、半導体ウエハ22の角度位置とこの角度位置におけ
るエッジ位置のデータの組み合わせを半導体ウエハ22
の一回転中に4の倍数個記憶し、これらのデータを基に
上記半導体ウエハ22の中心位置を求める中央演算手段
29を有していることを特徴としている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置に
おいて半導体ウエハを搬送するときにウエハのセンタ及
び平坦部(オリフラ)または切り欠き部(ノッチ)の位
置角を正確に合わせるためのセンタ合わせ装置およびセ
ンタ合わせ方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体の製造装置において、半導体ウエ
ハを収納するカセットから他のカセットへ、または検査
や加工のための各ステージへ、あるいは各ステージ相互
間の移送時などにはウエハを正確にセンタ合わせする必
要が生じることがある。そのため、これらの間を移送す
る途中にセンタおよびオリフラ(ノッチ)合わせ装置を
設けて、位置合わせをする必要がある。
【0003】このような位置合わせ装置としては、ウエ
ハを回転させてそのエッジ位置を回転角度に対応させて
検出記憶し、検出信号の最大値、最小値によってウエハ
位置の偏心量と方向とを算出し、この偏心データによっ
てウエハのセンタ合わせを行うようにしたものや、オリ
フラやノッチなどの開始点および終了点においては他の
部分よりもエッジ位置のデータが急激に変化するので、
このデータを基にオリフラ(ノッチ)を特定の位置とな
るように調整して、これらウエハのセンタ合わせとオリ
フラ(ノッチ)の位置合わせを同一の装置で行うように
したものが提案されている。
【0004】図5は、このような従来のセンタ合わせ装
置の一例を示す構成図である。同図において、ターンテ
ーブル1には半導体ウエハ2が載置されるようになって
おり、このターンテーブル1には回転駆動機構3が取り
付けられており、電動機4によって回転駆動されるよう
になっている。
【0005】ターンテーブル1上に載置されたウエハ2
のエッジ部に対応する位置には、ウエハ2を検出するセ
ンサ5が設けられている。このセンサ5は、一対の投光
器5aおよび光センサ5bより構成されている。この光
センサ5bは、受光量に応じて出力が特定の関係を保ち
ながら連続的に変化するものであり、入射光量に対して
出力が直線的に変化するものが使用されている。
【0006】ここで、上記電動機4には、回転角度を検
出するためのエンコーダ6が設けられている。このエン
コーダ6によって半導体ウエハ2の回転角度が検出され
るようになっている。
【0007】これらセンサ5及びエンコーダ6によって
検出された結果は、記憶回路7に書き込まれるようにな
っている。ここで、光センサ5bの出力がアナログ信号
の場合には、記憶回路7と光センサ5bの間にA/D変
換器を設けてディジタル信号に変換する。そして、この
ディジタル信号に変換された出力信号は記憶回路7に書
き込まれ、この記憶回路7から必要なときに呼び出さ
れ、CPU8によってウエハ2の中心位置の偏位量と方
向とが算出され、修正信号を出力するようになってい
る。
【0008】上記電動機4には、この回転を制御するた
めのサーボ制御回路9が取り付けられており、上記CP
U8によって指令信号に応じてこの電動機4の駆動を制
御するように設けられている。
【0009】ここで、上記ターンテーブル1はその回転
駆動機構3ごとXY水平面内で移動させるように、XY
テーブル10上に載置されている。XYテーブル10
は、XYテーブル駆動用制御回路11により位置が制御
されるようになっており、CPU8の出力に応じてター
ンテーブル1を移動させてウエハ2の位置を修正するも
のである。
【0010】このようなセンタ合わせ装置の動作を図6
のフローチャートに基づいて説明する。ウエハ2が上記
ターンテーブル1上に載置されると(ステップ2)、こ
のターンテーブル上に載置された状態のウエハ2をθn
=0,n=0として入力し(ステップ3)、このときの
(θn ,Ln )を記憶回路7に記憶させる(ステップ
4)。
【0011】そして、ウエハ2をΔθだけ回転させ、こ
の場合n=n+1,θn =θn +Δθに設定し(ステッ
プ5)、θn ≧360。となったかどうかを判別する
(ステップ6)。θn ≧360。となっている場合に
は、データの取得を終了するが、θn ≧360。となっ
ていない場合には、再び(ステップ4)へ戻り、この角
度の(θn ,Ln )を記憶させる。このようにしてウエ
ハ2の全周に亘って(θn,Ln )の記憶を行う。
【0012】そして(ステップ6)でθn ≧360。と
なっている場合には、CPU8は記憶回路7に記憶され
たデータを順次読み出して、エッジ位置信号の最大値L
maxと最小値Lmin およびそれぞれに対応するウエハ2
の回転角度θmax とθmin を算出する(ステップ7)。
【0013】そしてこのCPU8は、エッジ位置信号L
max とLmin との差からウエハ2のターンテーブル1の
回転中心に対する直径方向の偏心量信号ΔL=(Lmax
−Lmin )/2を計算してθmax またはθmin からの偏
心量角度信号を得て、ウエハ2のターンテーブル1の回
転中心に対する中心位置のXY平面における偏位信号
(x,y)=(ΔLcosθmax ,ΔLsinθmax
または(x,y)=(ΔLcosmin θ,ΔLsinθ
min )を算出する(ステップ8)。
【0014】この後に、XYテーブル駆動用制御回路1
1にこれらによって定まる修正信号を供給し、XYテー
ブル10を駆動してセンタ合わせを行う(ステップ
9)。この場合のセンサ5の出力変化の様子を図7の線
図にて示す。この図7(a)および(c)では、横軸を
ウエハ2の回転角度θとし、縦軸をセンサ5の出力Lと
してある。この図7(a)では、図7(b)に示すよう
にウエハ2の中心がターンテーブル1の中心と一致して
いるときの出力であり、この場合には直線状となる。ま
た図7(c)では、図7(d)に示すようにウエハ2の
中心がターンテーブル1の中心からXY平面第1象源方
向に角度θで距離(偏心量)ΔLだけずれているときの
出力を示している。
【0015】この場合、センサ5の出力は、ウエハ2を
図の矢印方向に回転するに従い、略正弦波状に変化する
ようになっている。この変化の振幅は、出力の最大値を
max 、最小値をLmin とすれば、(Lmax −Lmin
であり、偏心量ΔLの2倍に相当するものとなってい
る。
【0016】また、L=Lmax のときの角度θmax がX
Y平面上でのセンサ5方向を回転原点としたときのウエ
ハ2の偏心角度に相当するものである。このため、これ
らの信号から、現在のウエハ2のセンタ位置が座標
(x,y)=(ΔLcosθmax,ΔLsinθmax
に存在することが分かる。したがって、XYテーブルを
x方向に−ΔLcosθmax 、y方向に−ΔLsinθ
max だけ移動させれば、ウエハ2のセンタ合わせができ
ることとなる。
【0017】次に、図5に示した従来装置において、ウ
エハ2にオリフラ(ノッチ)13が設けられている場合
のセンタ合わせ、およびオリフラ(ノッチ)13の位置
合わせを同時に行う場合の動作について説明する。
【0018】図8(a)は、エッジの一部にオリフラ1
3が設けられたウエハ2の平面図であり、図8(b)な
いし(e)はこのような形状のウエハ2が種々の方向に
偏心してターンテーブル1に載置されたときのエッジ位
置検出器の出力波形の例を示したものである。この図8
(b)ないし(e)において、オリフラ(ノッチ)13
では他の円周形状の部分とは著しく異なった出力変化を
示す。特にその両端部においては、極めて大きな変化率
を示しており、エッジ位置検出器の出力の変化率を監視
することによってオリフラ13の位置を検出することが
可能となっている。このため、エッジ位置検出信号の変
化率が一定以上になったところをオリフラ13の端と判
断するようにCPU8のプログラムを設定する。
【0019】この場合、変化率の限界はエッジを検出し
ているときの最大変化率がウエハ2の偏心量によって異
なるので、出力信号の最大値と最小値との差、すなわち
概略のウエハ偏心量に応じて定めれば良い。また、オリ
フラ13の位置とウエハ2の偏心方向とによって偏心量
の算出方法が異なるので、これを判別することも必要と
なる。
【0020】次に、上記装置よりも高精度でかつ高速な
位置決めが可能なウエハ2のセンタ合わせ装置を提案し
ている特開平5−343501号の概略を説明する。本
提案では、従来装置に加えてエッジ位置センサの出力信
号を他の回路に直接転送するDMAデータ転送手段を有
しており、図9に示すように、前述の装置と同様の手段
でオリフラ(ノッチ)13の中心位置を演算し、オリフ
ラ(ノッチ)13でない回転角が相互に90度隔てられ
た点(θx1,θx2,θx3,θx4)におけるウエハエッジ
位置信号Lx1,Lx2,Lx3,Lx4を算出し、 偏心量 Le =1/2×{(Lx3−Lx12 +(Lx4−Lx22 } 偏心角度 θo =tan-1{(Lx3−Lx1)/(Lx4−Lx2)} を演算することによって、ウエハ2のセンタ位置を求め
ている。
【0021】
【発明が解決しようとする課題】ところで、ウエハ2の
センタ合わせの精度は、厳しくなってきており、例えば
センタで±0.1mm、またオリフラ(ノッチ)13の
角度合わせの精度は±0.2。程度が要求されるように
なってきている。
【0022】しかしながら、センサ5の出力信号は、電
源ノイズ、外乱など多くのノイズを含んでおり、図10
の例に見られるように、鋸歯状の出力となる。このた
め、従来のようにある特定の点だけを利用してセンタ合
わせ、オリフラ(ノッチ)13の中心位置合わせを行う
と、ノイズによる誤差により出力信号の最大値、あるい
は最小値が正確に検出できず、そのため正確にセンタ合
わせすることが難しいものとなっている。
【0023】そのため、ウエハ2のセンタ合わせに要求
される精度が高くなると、このような精度を満足するこ
とが難しくなっている。本発明は上記の事情にもとづき
なされたもので、その目的とするところは、高精度な位
置合わせの可能な半導体ウエハのセンタ合わせ装置およ
びセンタ合わせ方法を提供しようとするものである。
【0024】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
半導体ウエハを載置して回転駆動させるウエハ回転手段
と、半導体ウエハのエッジ位置に関するデータを検出す
るエッジ位置検出手段と、このエッジ位置検出手段の出
力信号と、半導体ウエハの回転角度とを関連付けて記憶
する記憶手段と、半導体ウエハの角度位置とこの角度位
置におけるエッジ位置のデータの組み合わせを半導体ウ
エハの一回転中に4の倍数個記憶し、これらのデータを
基に上記半導体ウエハの中心位置を求める中央演算手段
を有していることを特徴とする半導体ウエハのセンタ合
わせ装置である。
【0025】請求項2記載の発明は、上記中央演算手段
は、所定の制限値を超える角度位置とエッジ位置データ
の組み合わせを除いたデータの平均値を求めることによ
り半導体ウエハの中心位置を求めることを特徴とする請
求項1記載の半導体ウエハのセンタ合わせ装置である。
【0026】請求項3記載の発明は、上記データは、回
転角度90度間隔の4つのデータを1組としたデータ群
を複数取得し、これらの平均値より半導体ウエハの中心
位置を求めることを特徴とする請求項1または請求項2
記載の半導体ウエハのセンタ合わせ装置である。
【0027】請求項4記載の発明は、半導体ウエハの中
心位置を合わせる半導体ウエハのセンタ合わせ方法にお
いて、上記半導体ウエハのエッジ位置とこのエッジ位置
での角度位置とを検出すると共に、それぞれを関連付け
たデータを4の倍数個記憶する記憶工程と、上記記憶工
程で記憶させたデータのうち、角度位置が90度間隔と
なる4データのエッジ位置の平均値を求める平均値算出
工程と、上記平均値算出工程により算出された平均値の
うち所定範囲を越えた平均値を除去する除去工程と、上
記除去工程により除去されたデータ以外の全ての平均値
を基に半導体ウエハの中心位置を求める中心位置算出工
程と、を具備することを特徴とする半導体ウエハのセン
タ合わせ方法である。
【0028】請求項5記載の発明は、円周の一部に平坦
部または切り欠き部を有する半導体ウエハを載置して回
転駆動させるウエハ回転手段と、このウエハのエッジ位
置に関するデータを検出するエッジ位置検出手段と、こ
のエッジ位置検出手段の出力信号と半導体ウエハの回転
角度とを関連付けて記憶する記憶手段と、回転角度が9
0度間隔となる4データのエッジ位置の和を求めて記憶
し、予め記憶させた設定値の和のパターンデータとを照
合させることにより、上記平坦部または切り欠き部の位
置を求める中央演算手段を有していることを特徴とする
半導体ウエハのセンタ合わせ装置である。
【0029】請求項6記載の発明は、円周の一部に平坦
部または切り欠き部を有する半導体ウエハの平坦部また
は切り欠き部の位置を合わせる半導体ウエハのセンタ合
わせ方法において、上記半導体ウエハのエッジ位置とこ
のエッジ位置での角度位置とを検出すると共にそれぞれ
を関連付けたデータを順次記憶する記憶工程と、上記記
憶工程により記憶されたデータから予め求められたウエ
ハ中心位置における設定値を引いて2乗して和を求め、
さらにこの和から上記半導体ウエハの半径を2乗した値
を引いた円周軌道化値を求めるデータ円周軌道化工程
と、上記データ円周軌道化工程により算出された円周軌
道化値と予め求められた半導体ウエハの円周軌道のパタ
ーンデータとを照合させることにより、上記平坦部また
は切り欠き部の位置を求める平坦部或いは切り欠き部算
出工程と、を具備することを特徴とする半導体ウエハの
センタ合わせ方法である。
【0030】請求項7記載の発明は、上記ウエハ中心位
置は、請求項4記載の平均値算出工程、除去工程および
中心位置算出工程により算出されることを特徴とする請
求項6記載の半導体ウエハのセンタ合わせ方法である。
【0031】請求項1の発明によると、半導体ウエハの
角度位置とこの角度位置におけるエッジ位置のデータの
組み合わせを半導体ウエハの一回転中に4の倍数個記憶
し、これらのデータを基に上記半導体ウエハの中心位置
を求める中央演算手段を有しているため、4つの代表点
から中心位置を求めていた従来のセンタ合わせ装置と比
較して、ノイズなどの影響がなくなり、高精度に半導体
ウエハの中心位置を求めることが可能となっている。
【0032】そのため、高精度に半導体ウエハの位置決
めをすることが可能となっている。請求項2の発明によ
ると、上記中央演算手段は、所定の制限値を超える角度
位置とエッジ位置データの組み合わせを除いたデータの
平均値を求めることにより半導体ウエハの中心位置を求
めるため、この半導体ウエハに平坦部または切り欠き部
に対応する部分はこの半導体の円周上にないので出力値
の平均値を算出するに際して除くことが可能となってい
る。
【0033】そのため、半導体ウエハの位置決めをより
高精度に行うことが可能となっている。請求項3の発明
によると、上記データは、回転角度90度間隔の4つの
データを1組としたデータ群を複数取得し、これらの平
均値より半導体ウエハの中心位置を求めるため、4つの
データの平均値を1つのみ取得した場合と比較してより
高精度に半導体ウエハの中心を求めることが可能となっ
ている。
【0034】請求項4の発明によると、上記半導体ウエ
ハのエッジ位置とこのエッジ位置での角度位置とを検出
すると共に、それぞれを関連付けたデータを4の倍数個
記憶する記憶工程と、上記記憶工程で記憶させたデータ
のうち、角度位置が90度間隔となる4データのエッジ
位置の平均値を求める平均値算出工程と、上記平均値算
出工程により算出された平均値のうち所定範囲を越えた
平均値を除去する除去工程と、上記除去工程により除去
されたデータ以外の全ての平均値を基に半導体ウエハの
中心位置を求める中心位置算出工程と、を具備するた
め、ノイズなどの影響をなくして高精度に半導体ウエハ
の中心位置を求めることが可能となっている。
【0035】また、上記平均値算出工程では通常対向す
る部分でのデータの和が所定範囲内に収まるはずである
が、上記半導体ウエハに平坦部もしくは切り欠き部が形
成されている場合には、データの和は所定範囲内となら
ない。そのため、上記半導体ウエハの平坦部もしくは切
り欠き部を精度良く検出することが可能となっている。
【0036】よって、所定範囲を越えた平均値の角度位
置およびこの角度位置におけるデータを記憶させて除去
工程で除去し、この除去工程により除去されたデータ以
外の全ての平均値を基に半導体ウエハの中心位置を求め
る中心位置算出工程によって、上記半導体ウエハの中心
位置を精度良く求めることが可能となっている。
【0037】請求項5の発明によると、回転角度が90
度間隔となる4データのエッジ位置の和を求めて記憶
し、予め記憶させた設定値の和のパターンデータとを照
合させることにより、上記平坦部または切り欠き部の位
置を求める中央演算手段を有しているため、この平坦部
または切り欠き部の中心角度をパターンデータとの照合
によって精度良く求めることが可能となっている。
【0038】請求項6の発明によると、上記半導体ウエ
ハのエッジ位置とこのエッジ位置での角度位置とを検出
すると共にそれぞれを関連付けたデータを順次記憶する
記憶工程と、上記記憶工程により記憶されたデータから
予め求められたウエハ中心位置における設定値を引いて
2乗して和を求め、さらにこの和から上記半導体ウエハ
の半径を2乗した値を引いた円周軌道化値を求めるデー
タ円周軌道化工程と、上記データ円周軌道化工程により
算出された円周軌道化値と予め求められた半導体ウエハ
の円周軌道のパターンデータとを照合させることによ
り、上記平坦部または切り欠き部の位置を求める平坦部
或いは切り欠き部算出工程と、を具備するため、半導体
ウエハの円周上にない平坦部もしくは切り欠き部に相当
する位置でのデータが半導体ウエハの他の円周部分とは
違う値となって算出される。そのため、予め求められた
パターンデータと出力された平坦部もしくは切り欠き部
に相当する位置でのデータとを比較することによって、
この平坦部もしくは切り欠き部の中心角度を精度良く求
めることが可能となっている。
【0039】請求項7の発明によると、請求項6記載の
半導体ウエハのセンタ合わせ方法であって、上記ウエハ
中心位置は、請求項4記載の平均値算出工程、除去工程
および中心位置算出工程により算出されるため、半導体
ウエハの中心位置を精度良く求めることが可能であると
ともに、平坦部もしくは切り欠き部の位置を精度良く求
めることが可能となっている。
【0040】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて、図1ないし図4に基づいて説明する。図1に示す
本発明のセンタ合わせ装置には、位置検出装置20とス
カラーロボット40が設けられている。この位置検出装
置20は、ターンテーブル21に半導体ウエハ22が載
置されるようになっており、このターンテーブル21は
回転軸30を介して電動機24により回転駆動されるよ
うに設けられている。電動機24にはエンコーダ25が
接続されており、その出力から半導体ウエハ22の回転
量が検出されるようになっている。
【0041】上記ウエハ22には、端縁にノッチ部23
が形成されていて、このノッチ部23を検出することに
より、ウエハ22の回転方向の角度を合わせることが可
能に設けられている。なお、ウエハ22には、ノッチ部
23ではなく、オリフラ部が形成されている構成であっ
ても構わない。
【0042】上記ウエハ22の絶縁位置には、ウエハエ
ッジ検出センサ26が設けられている。このウエハエッ
ジ検出センサ26は、一対の投光器26aと光センサ2
6bより構成されている。この光センサ26bは、受光
量に応じて出力が特定の関係を保ちながら連続的に変化
するものであり、CCD(電化結合素子)などの入射光
量に対して出力が直線的に変化するものが使用される。
【0043】このウエハエッジ検出センサ26およびエ
ンコーダ25によって検出された結果は、それぞれを対
応付けて記憶回路27に書き込まれるようになってい
る。ここで、上記光センサ26bでの出力はアナログ信
号となっており、このためこのアナログ信号をディジタ
ル信号に変換するA/D変換器28が設けられている。
すなわち、このディジタル信号に変換された出力信号
が、上記記憶回路27に書き込まれるようになってい
る。
【0044】そして、この記憶回路27に書き込まれた
データは、この記憶回路27から必要時にCPU(中央
演算手段)29に呼び出され、このCPU29が予め入
力されたプログラムに沿って演算することにより、上記
ウエハ22の中心位置の偏心量および偏心角度が算出さ
れる。そして、電動機24もしくは後述するスカラーロ
ボット40に修正信号を出力して、これらを作動させる
ように設けられている。
【0045】上記ターンテーブル21下方には、ターン
テーブル21より大径なコ字状に形成されたリフタ31
がそのコ字状内に回転軸30が位置するように設けられ
ている。そして、他端に取り付けられている上下駆動機
構により上下方向に移動することにより、上記ウエハ2
2を持ち上げることが可能となっている。
【0046】一方、スカラーロボット40は、上記検出
結果に基づいてウエハ22の位置合わせを行いながら移
動させるものであり、本体部41とアーム体42とから
構成されている。本体部41の上面には、第1のアーム
43、第2のアーム44、及び第2のアーム44の先端
に取り付けられたハンド45から構成されたアーム体4
5が伸縮可能に設けられている。ハンド45は、上記タ
ーンテーブル21よりも外径側でウエハ22を保持可能
とするために、先端部が略U字形状に窪んだ形状に形成
されている。
【0047】本体部41の内部には、アーム体42全体
を回転させる図示しないθ方向モータと、アーム体42
を伸縮駆動させるためのステッピングモータが設けられ
ている。
【0048】このような構成を有するセンタ合わせ装置
を用いてウエハ22のセンタ合わせを行う場合につい
て、図2のフローチャートに基づき説明する。まず、タ
ーンテーブル21上にスカラーロボット40を駆動させ
てウエハ22を載置する(ステップ2)。
【0049】この後に、電動機24を回転駆動させる直
前の角度信号θn およびnをそれぞれθn =0,n=0
として上記CPU29に記憶させる(ステップ3)。こ
の後に、電動機24を回転駆動させると同時にエンコー
ダ25より得られる回転信号とウエハエッジ検出センサ
26より得られるエッジ位置信号を対応付けたデータ
(θn ,Ln )を記憶回路27に記憶させる。初期値と
しては、まずθn =0,n=0として記憶回路27に記
憶させ(ステップ4)、次にウエハ22をΔθだけ回転
させ、この場合n=n+1,θn =θn +Δθと設定し
て(ステップ5)、このときのθn がθn ≧360。と
なっているかどうかを判別する(ステップ6)。
【0050】ここで、θn ≧360。となっている場合
には、データの取得を終了して次のステップへと進行
し、θn ≧360。となっていない場合には、再び(ス
テップ4)へ戻り、(θn ,Ln )を記憶させ、(ステ
ップ5)に移行する。そして、これらの処理をθn ≧3
60。となるまで繰り返し、順次(θn ,Ln )を記憶
回路27に記憶させる。
【0051】この場合、取得するデータ数は4の倍数と
なるように予めデータを取得するタイミングを決定して
おく。本実施の形態の場合は、ターンテーブル21が3
60。回転するまでのエンコーダ25のパルス数10
0,000パルスに対し、取得データを2500点に定
めたため、40パルス毎に(θn ,Ln )を記憶回路2
7に記憶させる。
【0052】次に、上述のように取得したデータを用い
て、180。対向したデータのエッジ位置信号の和 M
n=Ln +Ln+1250順次算出し、さらにその平均値V=
(ΣMn)/1250を算出する。
【0053】ここで、図7(c)より、ノッチ部23以
外の円周上の点と180。対向した点のエッジ位置信号
の和はVとなる。これより、αを予め定めた制限値とし
て、V−α≦Mn≦V+αとならないn(=m)は、ノ
ッチ部23上にあると判断される。そして、このn(=
m)の値を求めてCPU29に記憶する(ステップ
7)。
【0054】そして、上述より求めたn(=m)のデー
タである、θm ,θm+625 ,θm+1250,θm+1875を除い
た全てのデータに対して、Σ(x,y)=Σ(Ln co
sθn ,Ln sinθn )を算出する(ステップ8)。
【0055】次に、図3を参照してウエハ22のセンタ
位置算出の方法を示す。ターンテーブル21の回転中心
を(0,0)とするXY座標系を考える。最初に置かれ
たウエハ22は、(0,0)に対し、(a,b)のオフ
セットを持っているとする。すると、ウエハ22のエッ
ジを示す方程式は、以下の式で表される。
【0056】 (x−a)2 +(y−b)2 =Ro 2 …(1) ここで、R をウエハ22の半径とする。次に、任意
の傾きcを持つ直線とそれに直交する直線を考える。そ
の方程式は、それぞれ以下の式となる。
【0057】y=cx…(2) y=(−1/c)x…(3) これら(1) の円の方程式と(2) の直線の式、および(1)
の円の方程式と(3) の直線の式との交点は、計算より、
以下の座標となって求められる。
【0058】(x1 ,y1 )=(1/(1+c2
{(a+bc)+D1 },c/(1+c2 ){(a+b
c)+D1 }) (x2 ,y2 )=(1/(1+c2 ){(a+bc)−
1 },c/(1+c2 ){(a+bc)−D1 }) (x3 ,y3 )=(c2 /(1+c2 ){(a−b/
c)+D2 },−c/(1+c2 ){(a−b/c)+
2 }) (x4 ,y4 )=(c2 /(1+c2 ){(a−b/
c)−D2 },−c/(1+c2 ){(a−b/c)−
2 }) これら4つの座標について、それぞれx座標、y座標に
ついて和を求めると、 x1 +x2 +x3 +x4 =2a y1 +y2 +y3 +y4 =2b となり、このため(Σx,Σy)=(2a,2b)とな
る。これより、(1) の円の方程式と(2) の直線の式、お
よび(1) の円の方程式と(3) の直線の式との交点を2で
割ることにより、ウエハ22の中心座標である(a,
b)が求められるようになっている。
【0059】ここで、上述の直線(2) と(3) の傾きcお
よび(−1/c)をθn と考えた場合には、直線と円と
の交点は、ウエハ22の回転中心とウエハ22の端部ま
での距離(エッジ位置信号)をLn とすると、任意のn
における直線(2) および(3)と(1) の円の方程式との交
点は、 (xn ,yn )=(Ln cosθn ,Ln sinθn ) となる。したがって、ノッチ部23のデータ、およびそ
のデータを90。ずつ離れた4つの点の組を除いた全て
のデータに対し、Σ(x,y)=(ΣLn cosθn
ΣLn sinθn )を算出し、この平均値を2で割った
値が、ターンテーブル21の回転中心に対するウエハ2
2の中心位置(xo ,yo )となる。すなわち、 (xo ,yo )={(Σxn /2)/1250,(Σy
n /2)/1250} となる(ステップ9)。
【0060】次に、ノッチ部23の中心位置角度を求め
る方法について説明する。まず、取得した全データに対
し、ウエハ22中心を原点とした場合の位置(Xn ,Y
n )=(xn −xo ,yn −yo )を求める。
【0061】今、 Pn =Xn 2 +Yn 2 −R を求めると、図4に示すように、ウエハ22の円周上に
存在する位置のデータは全て0となり、ウエハ22の円
周上に存在しないノッチ部23のデータのみが0とはな
らず、ピークとして出現する(ステップ11)。
【0062】そこで、予め求められたパターンと上述の
方法で算出したP とを照合させ、このピークとして
出現したノッチ部23の中心位置角度θn を決定する
(ステップ12)。
【0063】なお、本実施の形態では、サンプリングと
して取得するデータの個数を2500個としているた
め、中心位置角度θn の精度は360。/2500=
0.144。、すなわち±0.072。の精度でノッチ
部23の中心を合わせることが可能となっている。
【0064】このように、ウエハ22のセンタ位置、お
よびノッチ部23の中心位置角度が求められたため、ノ
ッチ部23の中心位置が所定の方向を向くように上記タ
ーンテーブル21を回転駆動させる(ステップ13)。
この後に、上記スカラーロボット40を作動させ、スカ
ラーロボット40のハンド45がウエハ22の中心位置
である(Xo ,Yo )に位置を合わせるようにウエハ2
2を取りに行く(ステップ14)。
【0065】この場合、ターンテーブル21を回転させ
たため、ウエハ22の中心位置座標が(xo ,yo )か
ら(Xo ,Yo )へと変更されたものとなっていること
に注意する必要があるが、これは予めスカラーロボット
40を作動させるプログラムを適宜設定することで、精
度良い位置合わせが可能となっている。
【0066】以上、本発明の一実施の形態について説明
したが、本発明はこれ以外にも種々変形可能となってい
る。以下それについて述べる。上記実施の形態では、半
導体ウエハ22についてのセンタ合わせ及びノッチ部2
3の中心位置角度合わせを行う場合について述べたが、
これらのうち、一方のみを行う構成としても構わない。
センタ合わせのみを行う場合には、(ステップ1)〜
(ステップ9)を具備すれば良く、また、予め半導体ウ
エハ22の中心位置座標が求められている場合には、ノ
ッチ部23の中心位置角度合わせのみを行えば良いが、
この場合には、(ステップ1)〜(ステップ7)、(ス
テップ11)〜(ステップ14)のみを具備する構成と
すれば良い。
【0067】また、本発明は半導体ウエハ22以外の種
々の円形に成形された部材の位置合わせに適合させるこ
とが可能となっている。その他、本発明の要旨を変更し
ない範囲において、種々変形可能となっている。
【0068】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1記載の発
明によると、半導体ウエハの角度位置とこの角度位置に
おけるエッジ位置のデータの組み合わせを半導体ウエハ
の一回転中に4の倍数個記憶し、これらのデータを基に
上記半導体ウエハの中心位置を求める中央演算手段を有
しているため、4つの代表点から中心位置を求めていた
従来のセンタ合わせ装置と比較して、ノイズなどの影響
がなくなり、高精度に半導体ウエハの中心位置を求める
ことが可能となる。
【0069】そのため、高精度に半導体ウエハの位置決
めをすることが可能となる。請求項2記載の発明による
と、上記中央演算手段は、所定の制限値を超える角度位
置とエッジ位置データの組み合わせを除いたデータの平
均値を求めることにより半導体ウエハの中心位置を求め
るため、この半導体ウエハに平坦部または切り欠き部に
対応する部分はこの半導体の円周上にないので出力値の
平均値を算出するに際して除くことが可能となる。
【0070】そのため、半導体ウエハの位置決めをより
高精度に行うことが可能となる。請求項3記載の発明に
よると、上記データは、回転角度90度間隔の4つのデ
ータを1組としたデータ群を複数取得し、これらの平均
値より半導体ウエハの中心位置を求めるため、4つのデ
ータの平均値を1つのみ取得した場合と比較してより高
精度に半導体ウエハの中心を求めることが可能となる。
【0071】請求項4記載の発明によると、上記半導体
ウエハのエッジ位置とこのエッジ位置での角度位置とを
検出すると共に、それぞれを関連付けたデータを4の倍
数個記憶する記憶工程と、上記記憶工程で記憶させたデ
ータのうち、角度位置が90度間隔となる4データのエ
ッジ位置の平均値を求める平均値算出工程と、上記平均
値算出工程により算出された平均値のうち所定範囲を越
えた平均値を除去する除去工程と、上記除去工程により
除去されたデータ以外の全ての平均値を基に半導体ウエ
ハの中心位置を求める中心位置算出工程と、を具備する
ため、ノイズなどの影響をなくして高精度に半導体ウエ
ハの中心位置を求めることが可能となる。
【0072】また、上記平均値算出工程では通常対向す
る部分でのデータの和が所定範囲内に収まるはずである
が、上記半導体ウエハに平坦部もしくは切り欠き部が形
成されている場合には、データの和は所定範囲内となら
ない。そのため、上記半導体ウエハの平坦部もしくは切
り欠き部を精度良く検出することが可能となる。
【0073】よって、所定範囲を越えた平均値の角度位
置およびこの角度位置におけるデータを記憶させて除去
工程で除去し、この除去工程により除去されたデータ以
外の全ての平均値を基に半導体ウエハの中心位置を求め
る中心位置算出工程によって、上記半導体ウエハの中心
位置を精度良く求めることが可能となる。
【0074】請求項5記載の発明によると、回転角度が
90度間隔となる4データのエッジ位置の和を求めて記
憶し、予め記憶させた設定値の和のパターンデータとを
照合させることにより、上記平坦部または切り欠き部の
位置を求める中央演算手段を有しているため、この平坦
部または切り欠き部の中心角度をパターンデータとの照
合によって精度良く求めることが可能となる。
【0075】請求項6記載の発明によると、上記半導体
ウエハのエッジ位置とこのエッジ位置での角度位置とを
検出すると共にそれぞれを関連付けたデータを順次記憶
する記憶工程と、上記記憶工程により記憶されたデータ
から予め求められたウエハ中心位置における設定値を引
いて2乗して和を求め、さらにこの和から上記半導体ウ
エハの半径を2乗した値を引いた円周軌道化値を求める
データ円周軌道化工程と、上記データ円周軌道化工程に
より算出された円周軌道化値と予め求められた半導体ウ
エハの円周軌道のパターンデータとを照合させることに
より、上記平坦部または切り欠き部の位置を求める平坦
部或いは切り欠き部算出工程と、を具備するため、半導
体ウエハの円周上にない平坦部もしくは切り欠き部に相
当する位置でのデータが半導体ウエハの他の円周部分と
は違う値となって算出される。そのため、予め求められ
たパターンデータと出力された平坦部もしくは切り欠き
部に相当する位置でのデータとを比較することによっ
て、この平坦部もしくは切り欠き部の中心角度を精度良
く求めることが可能となる。
【0076】請求項7記載の発明によると、請求項6記
載の半導体ウエハのセンタ合わせ方法であって、上記ウ
エハ中心位置は、請求項4記載の平均値算出工程、除去
工程および中心位置算出工程により算出されるため、半
導体ウエハの中心位置を精度良く求めることが可能であ
るとともに、平坦部もしくは切り欠き部の位置を精度良
く求めることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態に係わるセンタ合わせ装
置の構成を表す斜視図。
【図2】同実施の形態に係わる半導体ウエハのセンタ合
わせを行う手順を示すフローチャート。
【図3】同実施の形態に係わるウエハのセンタ位置算出
の方法の概念を示す図。
【図4】同実施の形態に係わるウエハ外周の角度毎に取
得したデータのパターンに対応した概念図。
【図5】従来のセンタ合わせ装置の構成を示す側面図。
【図6】従来の半導体ウエハのセンタ合わせを行う手順
を示すフローチャート。
【図7】従来のセンサの出力変化の様子を示す線図であ
り、(a)はウエハの中心がターンテーブルの回転中心
と一致しているときの出力変化の状態を示す図、(b)
はそのときのウエハの様子を示す平面図、(c)はウエ
ハの中心がターンテーブルからずれているときの出力変
化の状態を示す図、(d)はそのときのウエハの様子を
示す平面図である。
【図8】従来のセンサの出力変化の状態を示す線図であ
り、(a)はウエハにオリフラが形成されている場合の
平面図、(b)ないし(e)はそのときの出力変化の状
態を示す図。
【図9】従来のウエハのセンタ位置算出の方法の概念の
一例を示す図。
【図10】従来のノイズを含んだ出力変化の状態を示す
線図。
【符号の説明】
20…位置検出装置 21…ターンテーブル 22…半導体ウエハ 23…ノッチ部 26…ウエハエッジ検出センサ 27…記憶回路 29…CPU 31…リフタ 40…スカラーロボット 41…本体部 42…アーム体 45…ハンド

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ウエハを載置して回転駆動させる
    ウエハ回転手段と、 半導体ウエハのエッジ位置に関するデータを検出するエ
    ッジ位置検出手段と、 上記エッジ位置検出手段の出力信号と、半導体ウエハの
    回転角度とを関連付けて記憶する記憶手段と、 半導体ウエハの角度位置とこの角度位置におけるエッジ
    位置のデータの組み合わせを半導体ウエハの一回転中に
    4の倍数個記憶し、これらのデータを基に上記半導体ウ
    エハの中心位置を求める中央演算手段を有していること
    を特徴とする半導体ウエハのセンタ合わせ装置。
  2. 【請求項2】 上記中央演算手段は、所定の制限値を超
    える角度位置とエッジ位置データの組み合わせを除いた
    データの平均値を求めることにより半導体ウエハの中心
    位置を求めることを特徴とする請求項1記載の半導体ウ
    エハのセンタ合わせ装置。
  3. 【請求項3】 上記データは、回転角度90度間隔の4
    つのデータを1組としたデータ群を複数取得し、これら
    の平均値より半導体ウエハの中心位置を求めることを特
    徴とする請求項1または請求項2記載の半導体ウエハの
    センタ合わせ装置。
  4. 【請求項4】 半導体ウエハの中心位置を合わせる半導
    体ウエハのセンタ合わせ方法において、 上記半導体ウエハのエッジ位置とこのエッジ位置での角
    度位置とを検出すると共に、それぞれを関連付けたデー
    タを4の倍数個記憶する記憶工程と、 上記記憶工程で記憶させたデータのうち、角度位置が9
    0度間隔となる4データのエッジ位置の平均値を求める
    平均値算出工程と、 上記平均値算出工程により算出された平均値のうち所定
    範囲を越えた平均値を除去する除去工程と、 上記除去工程により除去されたデータ以外の全ての平均
    値を基に半導体ウエハの中心位置を求める中心位置算出
    工程と、 を具備することを特徴とする半導体ウエハのセンタ合わ
    せ方法。
  5. 【請求項5】 円周の一部に平坦部または切り欠き部を
    有する半導体ウエハを載置して回転駆動させるウエハ回
    転手段と、 このウエハのエッジ位置に関するデータを検出するエッ
    ジ位置検出手段と、 このエッジ位置検出手段の出力信号と半導体ウエハの回
    転角度とを関連付けて記憶する記憶手段と、 回転角度が90度間隔となる4データのエッジ位置の和
    を求めて記憶し、予め記憶させた設定値の和のパターン
    データとを照合させることにより、上記平坦部または切
    り欠き部の位置を求める中央演算手段を有していること
    を特徴とする半導体ウエハのセンタ合わせ装置。
  6. 【請求項6】 円周の一部に平坦部または切り欠き部を
    有する半導体ウエハの平坦部または切り欠き部の位置を
    合わせる半導体ウエハのセンタ合わせ方法において、 上記半導体ウエハのエッジ位置とこのエッジ位置での角
    度位置とを検出すると共にそれぞれを関連付けたデータ
    を順次記憶する記憶工程と、 上記記憶工程により記憶されたデータから予め求められ
    たウエハ中心位置における設定値を引いて2乗して和を
    求め、さらにこの和から上記半導体ウエハの半径を2乗
    した値を引いた円周軌道化値を求めるデータ円周軌道化
    工程と、 上記データ円周軌道化工程により算出された円周軌道化
    値と予め求められた半導体ウエハの円周軌道のパターン
    データとを照合させることにより、上記平坦部または切
    り欠き部の位置を求める平坦部或いは切り欠き部算出工
    程と、 を具備することを特徴とする半導体ウエハのセンタ合わ
    せ方法。
  7. 【請求項7】 上記ウエハ中心位置は、請求項4記載の
    平均値算出工程、除去工程および中心位置算出工程によ
    り算出されることを特徴とする請求項6記載の半導体ウ
    エハのセンタ合わせ方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2006303241A (ja) * 2005-04-21 2006-11-02 Tokyo Seimitsu Co Ltd ウェーハ搬送方法及びウェーハ搬送装置
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CN113547691A (zh) * 2020-04-24 2021-10-26 东和株式会社 定位装置及方法、树脂成形系统及树脂成形品的制造方法

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