JP2694468B2 - 位置検出方法および検査装置 - Google Patents

位置検出方法および検査装置

Info

Publication number
JP2694468B2
JP2694468B2 JP1330100A JP33010089A JP2694468B2 JP 2694468 B2 JP2694468 B2 JP 2694468B2 JP 1330100 A JP1330100 A JP 1330100A JP 33010089 A JP33010089 A JP 33010089A JP 2694468 B2 JP2694468 B2 JP 2694468B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
rotation
angle
wafer
edge
rotation angle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP1330100A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH03189502A (ja
Inventor
隆一 竹渕
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP1330100A priority Critical patent/JP2694468B2/ja
Publication of JPH03189502A publication Critical patent/JPH03189502A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2694468B2 publication Critical patent/JP2694468B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • A Measuring Device Byusing Mechanical Method (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】
この発明は、ウェーハに形成された電極をプローブ針
に接触させて検査を行なう検査装置およびこの検査装置
による検査に先立ち、ウェーハのオリエンテーションフ
ラットを検出して予備位置合わせを行なう直線部検出方
法に関する。
【従来の技術】
半導体素子に、特にICの製造時には、円形の半導体ウ
ェーハ上に500〜600個の半導体チップを同時に形成し、
これを個々のチップに分割したのち、所定のパッケージ
に収納しているが、この場合、チップに分割する前に、
半導体ウェーハの段階で各チップの電気的特性を測定し
ている。 この測定は、半導体チップのボンディングパッド(電
極パッドともいう)列に複数のプローブ針列を各々接触
させ、これらプローブ針を通じて半導体チップを測定装
置に接続することにより行われる。 この場合に、プローブ針列と半導体ウェーハ上のボン
ディングパッド列を正しく接触させるには、それぞれ相
対的に正しい方向を向くように位置合わせをする必要が
ある。の位置合わせ方法は、一般的に半導体ウェーハの
直線部分であるオリエンテーションフラット(以下オリ
フラと称する)を用いて行なうようにしている。 従来においては、以下に説明するような電気的方法あ
るいは機械的方法によりオリフラによる予備位置合わせ
を行なった後、予め定められた基準パターンに合致する
ように、ウェーハを回転させて位置合わせを行ってい
た。 すなわち、前者の電気的方法は、所定の角度ずつステ
ップ的に半導体ウェーハを回転させるとともに、このと
きの回転中心と、半導体ウェーハのエッジとの距離を半
導体ウェーハの全周分に渡って測定し、回転中心と上記
エッジとの距離が最小となっている回転位置をオリフラ
位置として検出するものである。また、ウェーハ外周位
置を検出するセンサを少なくとも3個並列に並べ、この
3個のセンサが同時にウェーハを検出すると、この同時
に検出したところをオリフラ位置として検出する方法も
ある。上記技術は、特公昭55−39901号公報等に記載さ
れている。 また、機械的方法は、半導体ウェーハを回転させると
ともに、このとき、その半導体ウェーハのエッジを基準
面に対接させておき、オリフラが基準面に対接したと
き、その回転が停止することを利用したものである。こ
の技術については、特公昭58−24946号公報等に記載さ
れている。
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上述の電気的方法によるときには、半導体
ウェーハを真空吸着しているチャックの回転中心と、半
導体ウェーハの中心とが一致していないと、オリフラを
正しく求めることができない。このため、オリフラの検
出と、半導体ウェーハの中心の検出とを交互に実行して
両者を正しい状態に収束させている必要があり、時間が
かかってしまう。 さらに、円形の半導体ウェーハの一部に欠けがある
と、この欠けた部分をオリフラと誤認してしまう。ま
た、半導体ウェーハを回転させるとき、その1ステップ
当たりの回転角を比較的小さくする必要があり、データ
量が増加してしまう。さらに、半導体ウェーハの1回転
分すべてのデータが必要であり、このデータを取るため
データ時間が長くかかり、作業性を低下させている。 また、機械的方法によるときには、半導体ウェーハに
欠けがあると、この欠けの部分で回転が停止し、その欠
けを上記と同様にオリフラと誤認してしまう。 この発明は、上記問題点に鑑みてなされたもので、こ
の発明の目的は、不完全な半導体ウェーハ形状であって
も、位置合わせができる位置検出方法および検査装置を
提供することにある。
【課題を解決するための手段】
この発明は、全体がほぼ円形で、そのエッジの一部に
直線部を有する被検体の前記直線部を、前記被検体を回
転させながら検出する検出方法であって、前記被検体を
回転し、その回転中心と前記エッジとの距離を、前記回
転中心に対する前記直線部の開角度の1/3以下の回転角
毎に測定する測定工程と、 前記測定工程での2回以上の測定により得られる前記
距離を用いて、前記回転中心を頂点とし、今回の距離測
定回転角位置のエッジと前回の距離測定回転角位置のエ
ッジを結んだ線分を底辺とする三角形の、少なくとも前
回の距離測定回転角位置のエッジ側の内角を算出する内
角算出工程と、 前記内角算出工程で算出した今回の距離測定回転角位
置についての前記内角を、前回の距離測定回転角位置に
ついて算出された前記内角と前記距離測定の単位回転角
との和と比較することにより、前記三角形の底辺が前記
直線部の一部であるか否かを判定する判定工程と、 とを備えることを特徴とする。 また、さらに、前記判定工程で直線部が検出されたと
きに、被検体の回転を停止した後、直線部と位置合わせ
基準面との角度ずれを検出し、この角度ずれを補正し
て、被検体を位置合わせ基準面に位置合わせするように
することを特徴とする。
【作用】
上述の構成のこの発明による直線部検出方法によれ
ば、例えばウェーハのオリエンテーションフラットを検
出する場合には、オリエンテーションフラットのウェー
ハの回転中心に対する開角度の1/3以下の回転角ごと
に、ウェーハのエッジとウェーハの回転中心との距離が
測定される。したがって、オリエンテーションフラット
では、少なくとも3点のエッジについて、回転中心から
エッジまでの距離が求められ、オリエンテーションフラ
ットを底辺とする少なくとも2個の三角形が形成され
る。 例えば、後述する第1図に示すように、オリエンテー
ションフラット2の部分で3点のエッジC,D,Eについて
の距離が測定され、前回の距離測定回転角位置でのエッ
ジ位置がDで、今回の距離測定回転角位置でのエッジが
Eであるとすると、前回の距離測定回転角位置での三角
形の内角OCDと回転角αとの和が、今回の距離測定回転
角位置での三角形ODEの内角ODEに等しくなると、この内
角ODEは、前回の距離測定回転角位置での三角形の外角
になっており、線分CDEは直線となっていることが判明
する。この性質を利用して、オリエンテーションフラッ
トが検出される。 すなわち、今回の距離測定回転角位置での回転中心か
らエッジまでの距離が測定され、前回の距離測定回転角
位置での三角形の内角と回転角αとの和が、今回の距離
測定回転角位置での三角形の内角に等しいかどうかを判
定することでオリエンテーションフラットが検出され
る。そして、この検出結果が得られた時点で、ウェーハ
の回転を即座に停止して、その位置で基準位置合わせ面
に位置合わせすることができる。
【実施例】
この発明による検査装置の構成を説明する前に、この
検査装置で使用するオリフラの検出方法において、第1
図〜第4図を参照しながら説明する。 第1図に示すように、被検体例えば半導体ウェーハ1
を角度αずつ矢印方向に回転させた場合を考える。 この場合、この角度αは、その直線部分であるオリフ
ラ2が占める角間隔の1/3以下に設定される。したがっ
て、オリフラ3上で、少なくとも3点で回転を停止し、
そのオリフラ2上の少なくとも3点も測定点となる。 回転中心Oが、半導体ウェーハ1の中心に一致してい
ると仮定すると、オリフラ以外のエッジ点例えば点A,B
と回転中心Oとの成す三角形OABは、二等辺三角形を形
成している。 一方、オリフラ2上の2点C,Dと回転中心Oとのなす
三角形のOCDは、二等辺三角形にはならない。しかし、
オリフラ2は直線であるので、三角形の外角の性質か
ら、 ∠OCD+∠α=∠ODE(三角形OCDの外角) …(1) となる。 よって、半導体ウェーハを角度αずつ回転することに
より、回転中心Oとその時のエッジと、その前のエッジ
とにより形成される三角形について上記(1)式が成立
するか否かを判定することにより、オリフラ2の位置を
検出することが可能である。上記(1)式が成立するか
どうかは、回転中心と隣り合う2つのエッジで形成され
る三角形の2つの底角の内、回転方向にみて、上記1つ
前のエッジにおいて形成される∠βを検出し、これを
1つ前の三角形の該当角βi-1と回転角αとの和と比較
すればよい。 上記の関係は、回転中心Oが半導体ウェーハの中心と
ずれていても全く同様である。 上記角度βは、以下に説明するように、回転中心Oと
エッジとの距離rから求めることができる。 第2図において、回転中心Oは、半導体ウェーハ1の
回転中心とはずれている。 この第2図において、 P1〜Pn;ウェーハ1を角度αずつ回転させたときのエッ ジ上における点 Pi、Pj;点P1〜Pnのうちの任意の点と、その次の点 r1〜rn;点P1〜Pnにおける半径 ri〜rj;半径r1〜rnのうちの任意の半径と、その次の半 径 βi ;∠OPiPj γi ;∠OPjPi とすると、三角形OPjPiにおいて、二辺とその挟む角が
判明すれば、その三角形が確定することは自明の理であ
るから、次式が成り立つ。 β =tan-1rj・sin α/(ri−rj・cos α) …(2) となる。 したがって、中心点Oからウェーハ1のエッジ上の点
Pi、Pjまでの距離ri、rjを求めれば、角度αは装置によ
り予め定めてあり既知なので、(2)式から1つ前のエ
ッジ点Piと回転中心Oと今回のエッジ点Pjとのなす角度
βを求めることができる。そして、(1)式に示した
ように、この角度βが、その1つ前の角度βi-1と回
転角度αとの和に等しいか否かを検出してオリフラ2の
検出を行なうことができる。第2図においては、β6=
α+β5として、オリフラ2を検出することができる。 次に、基準面にオリフラ2を合わせる方法について以
下説明する。 今、回転中心Oからエッジまでの距離を検出するため
のセンサは、第3図に示すように、回転中心から位置合
わせ基準面3上に垂線を引いたとき、その垂線上に有る
ものとする。そして、第3図に示すように、点Pjがオリ
フラ2の上にあり、このオリフラ2が、合わせ基準面3
に対して角度θだけ反時計方向にずれていた状態(β
>90゜)で検出されたとする。 すると、 θ=β−90゜ …(3) (A)θ≧0゜→時計方向にθだけ回転 (B)θ<0゜→半時計方向にθだけ回転 となる。 すなわち、この場合には、ウェーハ1を角度θだけ時
計方向に回転させれば、オリフラ2を、合わせ基準面3
に一致させる(平行にする)ことができる。 また、第4図に示すように、点Pjがオリフラ2の上に
あり、このオリフラ2が、合わせ基準面3に対して角度
θだけ時計方向にずれていた状態(β≦90゜)で検出
されたとする。 すると、 β+θ=90゜ であるから、この式から θ=90゜−β …(4) となる。 すなわち、この場合には、ウェーハ1を角度θだけ反
時計方向に回転させれば、オリエンテーションフラット
2を、合わせ基準面3に一致させる(平行にする)こと
ができる。 以下、この発明による検査装置の一実施例を、ウェー
ハプローバにおいて、テスト前の半導体ウェーハのアラ
イメントに適用した場合を例にとって、第5図を参照し
ながら説明する。 チャック11は、半導体ウェーハ1を支持して、テスト
位置に半導体ウェーハ1を移送すると共に、テスト位置
において、プローブ方向(半導体チップの配列方向)に
上記ウェーハ1を移送するため、X−Yステージ12上に
取り付けられて、互いに直交するX方向及びY方向に移
動可能とされる。また、チャック11は、回転機構13によ
り回転移動も可能とされている。すなわち、X,Y,θステ
ージとなる。 第6図に示すように、チャック11の回転中心から予め
設定されたX方向の延長線上の位置であって、半導体ウ
ェーハ1の約半径分だけ離れた位置には、センサ14が設
けられている。このセンサ14は、上述したチャック11の
回転中心から第2図に示すような半導体ウェーハ1のエ
ッジまでの前記距離ri、rjを測定するためのものであ
り、この例においては、チャック11の径が半導体ウェー
ハ1の径よりも大きいので、センサ14は例えば静電容量
センサが用いられる。勿論、エッジを検出できればよい
ので、光電センサでもよい。 この場合、センサ14は、その検出電極と、チャック11
及びウェーハ1との対向間隔が、チャック11とウェーハ
1とでは異なるので、その静電容量の変化点を検出し、
その変化点のセンサ14における上記半径方向の位置を検
出することにより、半導体ウェーハ1のエッジの位置を
検出し、上記距離ri、rjを検出できるものである。この
例の場合、位置合わせ基準面3は、X方向に直交する状
態となっている。 そして、センサ14の検出電極は、検出回路15に接続さ
れており、センサ14の上記半径方向の一端から他端に至
る各位置での検出容量がこの検出回路15から得られる。
そして、この検出回路15の検出出力が、A/Dコンバータ1
6に供給されてデジタルデータとされてからマイクロコ
ンピュータ(以下マイコンと略称する)17に供給され
る。 また、このマイコン17からドライブ回路18を通じて回
転機構13に駆動信号が与えられ、チャック11が回転し、
ウェーハ1が回転する。 この場合、回転機構13のモータがステップモータのと
きには、ドライブ回路18は単なるパルスアンプであり、
モータは、マンコン17の出力パルスの数に対応した回転
角だけ回転するものである。また、回転機構13のモータ
が直流モータのときには、ドライブ回路18はサーボ回路
であり、マイコン17の出力を目標値としてその目標値だ
けモータを回転させるものである。 そして、この例では、マイコン17の出力に基づいて半
導体ウェーハ1が角度αずつ、例えばα=3.6゜ずつ回
転させられる。 なお、マイコン17からはX−Yステージ12にもドライ
ブ回路19を通じて駆動信号が与えられ、チャック11のX
方向及びY方向の移動が制御されている。 次に、第5図の装置の動作について、第2図をも参照
しながら以下説明する。 先ず、半導体ウェーハ1は、図示しない搬送機構によ
りウェーハチャック11上に載置される。この際、予め半
導体ウェーハ1は、ガイド等により、チャック11上から
半導体ウェーハ1がはみでないように載置されるが、チ
ャック11の回転中心とウェーハ1の中心は数mmずれてい
てもよい。そして、チャック11に対して半導体ウェーハ
1は、真空吸引されて固定される。 この位置において、X−Yステージ12をX方向に移動
し、センサ14の上記半径方向の各位置の検出容量から、
マイコン17において、半導体ウェーハ11のエッジ位置と
なる容量変化点が検出され、この容量変化位置からチャ
ック11の回転中心Oからこのときのエッジ位置Piまでの
距離r1が検出される。 次に、マイコン17からドライブ回路18を通じて回路機
構13に回転駆動信号が供給されて、チャック11が、した
がってウェーハ1が3.6゜回転させられる。そして、こ
の位置において、上記と同様にして、エッジ検出がなさ
れると共に、そのエッジ位置P2のチャック11の回転中心
Oからの距離r2が検出される。 次に、このエッジ位置P2における距離r2と、1つ前の
エッジ位置P1における距離r1とから、∠OP1P2(=
β)が、前記(2)式から求められる。 次に、マイコン17からドライブ回路18を通じて回転機
構13に回転駆動信号が供給されて、チャック11が、した
がってウェーハ1が、さらに3.6゜回転させられる。そ
して、この位置において、上記と同様にして、エッジ検
出がなされると共に、そのエッジ位置P3のチャック11の
回転中心Oからの距離r3が検出される。 次に、このエッジ位置P3における距離r3と、1つ前の
エッジ位置P2における距離r2とから、∠OP2P3(β
が、同様にして前記(2)式から求められる。そして、
前記(1)式に基づいて、この角度βが、その1つ前
の角度βと回転角α=3.6との和(α+β)に等し
いか否か判別される。等しければ、このエッジ位置P2
オリフラ上の位置として、オリフラ2を検出する。等し
くなければ、さらに、ウェーハ1を3.6゜ずつ回転し、
上述と同様の手順でオリフラ2の検出を行なう。 以上のようにして、ウェーハ1を相対的に予め定めら
れた角度αずつ回転するごとに、マイコン17において、
(2)式に基づいて、そのエッジ位置における距離r
jと、その1つ前のエッジ位置における距離riとから角
度βiを計算し、半導体ウェーハ1のオリフラ2を見付
ける。そして、オリフラ2が見つかったときは、前述し
たように、その角度βiの大きさが鋭角か鈍角かによ
り、前記(3)式あるいは(4)式に基づいて求められ
た補正角θだけウェーハ1の回転角位置が補正され、そ
のオリフラ2が、合わせ基準面に一致ないし平行とされ
る。 こうして、半導体ウェーハ1のオリエンテーションフ
ラット2を合わせ基準面に一致ないし平行とすることが
できたら、マイコン17は、X−Yステージ12に駆動信号
を供給し、チャック11を移送して、ウェーハをテスト位
置に移動し、テストを行なうものである。 なお、センサ14としては、静電容量センサに限らず、
光学センサ(ラインセンサ)その他のセンサを使用でき
ることはもちろんである。 また、この発明は、ウェーハプローバに限らず、半導
体ウェーハの位置合わせを必要とする種々の装置に適用
可能である。 また、被検体は、半導体ウェーハに限らず、円形のも
ので、その一部に直線部を有し、その直線部を用いて位
置合わせを行なう場合のすべてに、この発明は適用可能
である。
【発明の効果】
この発明によれば、一部に直線部を有する円形の被検
体の回転中心Oから上記被検体のエッジの点Pi、Pjまで
の距離ri、rjを円周方向に求める、すなわち角度αづつ
円周方向に求め、この距離ri、rjの変化を検出すること
により被検体の直線部を検出しているので、被検体の中
心点Oと回転中心とがずれていても直線部を検出するこ
とができる。 また、被検体に欠けがあっても、それがオリエンテー
ションフラットと同等以上の直線的な欠けでなければ、
これを誤認することがない。 さらに、被検体の回転角αは、予想される直線部の開
き角の1/3程度でよく、しかも、被検体の全周分につい
て回転中心からエッジまでの距離を求める必要はなく、
直線部のエッジであれば、それを即座に検出できるの
で、短時間で直線部を検出でき、迅速な位置合わせを行
なうことができる。 また、回転角αが直線部の開き角の1/3以下であれ
ば、角度が大きくても合わせの精度の低下がない。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第4図はこの発明の考え方を説明するための
図、第5図はこの発明の一実施例を示す系統図、第6図
はその一部を説明するための図である。 1;半導体ウェーハ 2;オリエンテーションフラット 3;合わせ基準面 11;ウェーハチャック 13;回転機構 14;センサ 15;検出回路 17;マイクロコンピュータ

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】全体がほぼ円形で、そのエッジの一部に直
    線部を有する被検体の前記直線部を、前記被検体を回転
    させながら検出する検出方法であって、 前記被検体を回転し、その回転中心と前記エッジとの距
    離を、前記回転中心に対する前記直線部の開角度の1/3
    以下の回転角毎に測定する測定工程と、 前記測定工程での2回以上の測定により得られる前記距
    離を用いて、前記回転中心を頂点とし、今回距離測定回
    転角位置のエッジと前回距離測定回転角位置のエッジを
    結んだ線分を底辺とする三角形の、少なくとも前回距離
    測定回転角位置のエッジ側の内角を算出する内角算出工
    程と、 前記内角算出工程で算出した今回距離測定回転角位置に
    ついての前記内角を、前回距離測定回転角位置について
    算出された前記内角と前記距離測定の単位回転角との和
    と比較することにより、前記三角形の底辺が前記直線部
    の一部であるか否かを判定する判定工程と、 を備える位置検出方法。
  2. 【請求項2】前記判定工程で前記直線部が検出されたと
    きに、前記被検体の回転を停止して前記直線部の検出作
    業を終了した後、前記直線部と位置合わせ基準面との角
    度ずれを検出し、この角度ずれを補正して、前記被検体
    を前記位置合わせ基準面に位置合わせするようにする請
    求項(1)に記載の位置検出方法。
  3. 【請求項3】ウェーハに形成された電極をプローブ針に
    接触させて検査を行なう検査装置において、 前記ウェーハを載置する載置台と、 前記載置台を回転させる回転機構と、 前記載置台に載置されて回転するウェーハの、回転中心
    からエッジ位置までの距離を検出するセンサと、 前記センサからの情報を受け、この情報から前記ウェー
    ハのオリエンテーションフラットを検出するマイクロコ
    ンピュータと を備え、 前記マイクロコンピュータは、 前記センサからの情報から前記ウェーハのオリエンテー
    ションフラットの前記回転中心に対する開角度の1/3以
    下の回転角ごとの前記距離の情報を取得し、この取得し
    た距離の情報を用いて、前記ウェーハの回転中心を頂点
    とし、今回距離情報取得回転角位置のエッジと前回距離
    情報取得回転角位置のエッジを結んだ線分を底辺とする
    三角形の、少なくとも前記距離情報取得回転角位置のエ
    ッジ側の内角を算出し、算出した今回距離測定回転角位
    置についての内角を、前回距離測定回転角位置について
    算出された内角と前記距離情報を取得する単位回転角と
    の和と比較することにより、前記三角形の底辺が前記オ
    リエンテーションフラットの一部であるか否かを判定
    し、その判定結果により前記回転機構を制御して、オリ
    エンテーションフラットを検出したときにはウェーハの
    回転を終了させ、オリエンテーションフラットが検出さ
    れなければ継続させるようにしたことを特徴とする検査
    装置。
JP1330100A 1989-12-20 1989-12-20 位置検出方法および検査装置 Expired - Fee Related JP2694468B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1330100A JP2694468B2 (ja) 1989-12-20 1989-12-20 位置検出方法および検査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1330100A JP2694468B2 (ja) 1989-12-20 1989-12-20 位置検出方法および検査装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03189502A JPH03189502A (ja) 1991-08-19
JP2694468B2 true JP2694468B2 (ja) 1997-12-24

Family

ID=18228794

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1330100A Expired - Fee Related JP2694468B2 (ja) 1989-12-20 1989-12-20 位置検出方法および検査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2694468B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7153848B2 (ja) * 2018-03-16 2022-10-17 株式会社東京精密 プローバ
US11929277B2 (en) 2019-09-06 2024-03-12 Kabushiki Kaisha Yaskawa Denki Wafer pre-aligner and method of pre-aligning wafer

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62237743A (ja) * 1986-04-09 1987-10-17 Hitachi Ltd ウエハ整合装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH03189502A (ja) 1991-08-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4786867A (en) Wafer prober
US6316953B1 (en) Contact type prober automatic alignment
JP2928331B2 (ja) プローバのアライメント装置及び方法
US7049577B2 (en) Semiconductor handler interface auto alignment
JPH01127238A (ja) 可動部材用の限定的再位置決め区域における位置フイードバック向上
US20090085594A1 (en) Probe apparatus and probing method
US4870288A (en) Alignment method
US5124931A (en) Method of inspecting electric characteristics of wafers and apparatus therefor
JP2694468B2 (ja) 位置検出方法および検査装置
JP2004063877A (ja) ウェハの位置決め修正方法
JP2002057196A (ja) プローブ方法及びプローブ装置
JPH0713990B2 (ja) プローブ針とパッドの位置合わせ方法
JP3248136B1 (ja) プローブ方法及びプローブ装置
JP3149400B2 (ja) 半導体ウェーハ抵抗率測定器
JP2000208590A (ja) ウエハの位置検出方法および位置検出装置
CN117516408B (zh) 一种曲面检测装置及磁通检测装置
JPH09326426A (ja) ウェーハの検査装置および方法
JPH11145253A (ja) 半導体ウエハのセンタ合わせ装置および半導体ウエハのセンタ合わせ方法
KR100262655B1 (ko) 웨이퍼 프로버의 정렬 방법 및 장치
CN117516408A (zh) 一种曲面检测装置及磁通检测装置
JPH0567059B2 (ja)
JPS6360542A (ja) 半導体ウエハプロ−バ
KR19990071004A (ko) 웨이퍼 로더의 정렬 방법
JP2686606B2 (ja) テンプレート登録方法
JP2534851B2 (ja) プロ―ビング方法

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees