JPS6120723A - 微小構造の面模様形成方法及びその装置 - Google Patents

微小構造の面模様形成方法及びその装置

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JPS6120723A JP60114450A JP11445085A JPS6120723A JP S6120723 A JPS6120723 A JP S6120723A JP 60114450 A JP60114450 A JP 60114450A JP 11445085 A JP11445085 A JP 11445085A JP S6120723 A JPS6120723 A JP S6120723A
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    • G03H2260/50Reactivity or recording processes
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、微少構造の面模様形成方法及びその装置、さ
らに詳細には微少構造を有する鋳型の所定面領域を熱可
塑性樹脂層に刻印することにより微少構造を有する肉視
可能な面模様を形成する微少構造の面模様形成方法及び
その装置に関する。
[従来技術] このような面模様は例えばカードや書類上に付されて回
折光学を用いた安全手段として用いられている(EP−
A−0105011111)。この面模様は幾何学的な
図形、数字1文字、装飾模様、微細な線模様等として構
成され、例えば多数の回折光学素子を配置して構成され
ている。この面模様は種々の入射角を有するコヒーレン
トな光線を干渉させることにより回折光学構造を形成し
、それをフォトリングラフィを用いて微少な凹凸構造を
表面に形成することによって作るようにしている(EP
−A−0105099)。その場合前もって作られた固
定した光学マスクを用い露光すべき領域を幾何学的に制
限するようにしている。
[発明が解決しようとする問題点] 作成すべき面模様並びにその微少構造が図形的並びに構
造的な複雑性においである限界を越えると、マスク技術
は非常に高価なものとなり用いることができないことが
わかってる。さらに例えば特殊なジグザグ構造を有する
ような非対称な図形を有する回折光学模様は上述した干
渉方法では作ることができない。
又スイス特許第594495号には、圧力と熱を用゛い
て鋳型(母型)により熱可塑性樹脂層に刻印することに
より位相回折格子2位相ホログラム等の回折模様を作る
方法が知られている。このような面模様の作成は熱可塑
性樹脂に何回も刻印することにより多数の位相回折格子
を形成することにより行なわれている。しかしこの方法
は満足すべき結果を生むことができない。というのは加
熱され圧力を受けた部分と加熱されず圧力を受けない部
分との間の領域に隆起部が生じて障害となると共に刻印
された模様を継ぎ目なく配置させることができないから
である。又この継ぎ目なく配置されることができない理
由は鋳型が金属からできており熱的な容量が大きいため
に新しく刻印した周辺領域で隣接した前の刻印模様が強
制的に消去されてしまうからである。
又スイス特許第5844E15号には鋳型を局所的に加
熱するか或いは局所的に熱可塑性樹脂層に押圧すること
により微少構造を有する鋳型の所定領域を刻印する方法
が知られている。しかしこの場合も刻印部分と刻印しな
い部分との間の境界部分が明確でないという問題が発生
する。
従って本発明はこのような従来の欠点を解決するために
成されたもので、微少構造を有する鋳型の所定面領域を
簡単な方法で刻印することにより刻印周囲領域がシャー
プな模様となり障害となるような隆起部が発生しない微
少構造を有する面模様を形成することが可能な方法及び
装置を提供することを目的とする。
[問題点を解決するための手段] 本発明は上述した問題点を解決するために、輻射源を用
いてその焦点にある熱可塑性樹脂層のほぼ点状面素を加
熱し、鋳型の微少構造を熱可塑性樹脂層のこの面素部分
だけに刻印し、面模様をこの複数の面素の集合として形
成するようにする構成を採用した。
[作 用] このような構成で、輻射源により熱可塑性樹脂層のほぼ
点状の面素領域が加熱され、それにより鋳型の微少構造
は面素部分だけにおいて刻印される。熱可塑性樹脂層を
輻射源の焦点に対して移°動させ何回も刻印することに
より上述した複数の面素から成る模様を構成することが
可能になる。
[実施例] 以下図面に示す実施例に従い本発明の詳細な説明する。
第1図において符号1で示すものは平坦で堅固な光学的
に透明な抑圧用プレートであり、このプレート1上に光
学的に透明な基板2が固定される。基板2のプレート1
と反対側表面には熱可塑性で光線を吸収する材質から成
る薄い層3が配置される。この熱可塑性樹脂層3に後で
詳細に説明するように微少構造、特に回折光学模様の構
造を有する巨視的ないしは肉視可能な面模様が刻印され
る。熱可塑性樹脂層3は例えば黒或いは着色されたプラ
スチック層から構成される。この層は例えばプラスチッ
ク溶液に含まれたコロイド状の炭素によって基板2の表
面を着色することによっても作ることができる。この層
の典型的な厚さは約0.1〜10JLmである。
熱可塑性樹脂層3に対向して非発熱の鋳型ないし母型4
が配置される。この鋳型4は刻印すべき微少構造を有し
、例えばニッケル合金から合成され好ましくは柔軟性が
ある構造である。スタンプ5を用いて鋳型4と熱可塑性
樹脂層3間に面的に見て狭い限られた点状領域に押圧力
を発生させることができる。この鋳型の厚さは約110
07zである。スタンプ5は好ましくは約7mmの曲率
半径を有する凸状の表面を有する。圧力発生器6により
スタンプ5は鋳型4を押しつけ直径が約3 m mの小
さな接触領域7となって熱可塑性樹脂層3に押圧される
。第1図に概略図示した鋳型ホルダ8により、鋳型4は
熱可塑性樹脂層3の接触領域7でのみ層3と接触し他の
領域では少し距離が離れているように保持される。鋳型
ホルダ8は鋳型4が手で保持するか或いは機械的に回転
できるように構成されるか或いは圧力発生器6が非動作
状態にある詩仙の微少構造を持つ他の鋳型と取り換えが
できるように構成される。
プレートlの鋳型4と反対側には好ましくはレーザー9
.光学変調器10.レンズ系11から成る輻射源12が
配置される。光学系11によって熱線或いは光線13が
ほぼ接触領域7の中央にある熱可塑性樹脂層3の焦点1
4に結像される。
直接入射する輻射線13並びに鋳型4で反射された輻射
線を吸収することにより熱可塑性樹脂層3は焦点14の
領域で加熱される。焦点14の好ましい直径は約100
gm以下である。変調器10を用いて熱線或いは光線1
3のエネルギーを制御したり或いはオンオフさせたりす
ることができる。
圧力発生器6によってスタンプ5はX軸方向に移動させ
ることができる。この場合、プレート1、熱可塑性樹脂
層3を有する基板2並びに鋳型4は焦点14並びにスタ
ンプ5に対してX軸方向並びにy軸方向、即ち熱可塑性
樹脂層3と平行な面において連続的に或いは間欠的に相
対的に移動することができるように構成される。このた
めにプレートl、基板2.鋳型4を移動可能にし、スタ
ンプ5並びに輻射源12を固定させるか或いは逆にする
。又プレートl、基板2.鋳型4.並びに輻射源12を
固定し、輻射線13をミラー系を用いてスタンプ5の移
動に合わせxy面で移動させることも可能である。
刻印圧力は圧力発生器6によって調節することができ、
熱可塑性樹脂層3が冷却した状態では接触領域7におい
て弾性的に変形して鋳型4の微少構造に合わされている
だけであり、押圧力を除去した場合には再び元の、例え
ば平担な状態に戻るように調節される。これに対して刻
印用の圧力と輻射線13を同時に加えると、輻射線を吸
収する熱可塑性樹脂層3は輻射源12の焦点14の領域
にあるほぼ点状の面素部分において熱可塑温度に加熱さ
れ、この面素領域ではその表面が鋳型4の微少構造に合
わせて可塑的に変形し、刻印された微少構造は押圧力が
除去された場合冷却後も刻印された状態になっている。
このようにして所望の面模様がこのような複数の面素を
合成する形で作られる。
定常的な書込モードでは輻射線13は短時間だ。
け投入される。続いて熱可塑性樹脂層3の加熱された部
分は鋳型4並びにスタンプ5へ熱が伝導されることによ
り又層3並びに基板2にも熱が伝導されることにより急
速に冷却される。スタンプ5は圧力発生器6により非動
作状態に移動され、それによって鋳型4は熱可塑性樹脂
層3から分離される。焦点14の領域にはこのようにし
て微少構造が刻印される。各刻印毎に輻射源12をオフ
にし押圧力を解除し基板2を焦点14並びにスタンプ5
に対してxy平面で所定量所定方向に移動させることに
より上述した刻印を連続して繰り返すことができる。あ
る刻印が終わった時鋳型4を交換したり或いは所定量z
軸を中心に回転させることができる。それにより関連す
る層3の領域或いは互いに区ff11された領域に任意
の微少構造を複数個刻印することが可能になる。
ダイナミックな書込モードでは鋳型4並びに層3を設け
た基板2は輻射源12を投入し圧力発生器6を作動させ
た状態で焦点14並びにスタンプ5に対して一定の速度
で連続的に相対的に移動されるので、関連した帯状の面
領域に鋳型4の微少構造が刻印される。このダイナミッ
クな書込モードにおいても順次任意の面模様を刻印する
ことにより微少構造を有する任意の面模様を形成するこ
とが可能になる。
上述した方法によって得られた肉視可能な面模様は例え
ば幾何学的な図形、数字9文字、装飾模様或いは縄編み
模様等であり、その微少構造は単−或いは複数の異なる
位相回折格子2位相ホログラム、キノホーム等である。
このようにして熱可塑性樹脂層3に安価な方法で回折的
な微少構造を有する編み込まれた線模様から成る複合し
た編み目積様を形成することが可能になる。その場合微
少構造は線毎に変化するか或いは線に沿って例えば準連
続的に化しているので、人間の目には着色して移動する
縄編み模様の効果を発生させることができる。上述した
方法は又例えば集積光学分野で用いられる微少な模様を
有する微少構造を作る場合にも用いることができる。
上述した熱可塑性樹脂3に形成された面模様から公知の
化学的並びにメッキ法に従って金属岐型の形をした複製
物を作るようにし、それを従来の刻印装置において面模
様を大量生産するために用いるようにすることもできる
第2図には上述した方法により形成された面模様の簡単
な例としてy軸方向に書込移動を行なうことによって得
られた幅狭の帯が図示されている。この帯の幅は焦点1
4の直径と等しいかそれよりわずかに大きい大きさで例
えば50gmの大きさである。この帯の構造は1mm当
たり10〜2000本の線形な位相回折格子となる。
第3図に図示したようにこのような帯を並列配置させる
ことにより任意の大きさの面模様を形成することができ
る。その場合隣接した帯の微少構造は継ぎ目なく互いに
隣接した帯に移行している。その場合鋳型4を層3に対
して相対移動することなくこのような帯を多数隣接形成
するようにすると、第3図に図示したように線模様が継
ぎ目なく多数の帯にわたって伸びる微少構造が発生する
第4図に図示したように形成された模様上に新しく書き
込むこともできる。その場合輻射エネルギーを十分な大
きさにすると前の模様を消すことができる。これによっ
て複雑な模様構造を形成することが可能になる。という
のは1回目の書込に続いて行なわれる他の構造を持った
2番目の書込用の面領域をとっておく必要がなくなるか
らである。
輻射線13のエネルギー密度を正確に制御することによ
り、又書込速度を制御することにより前の模様を完全に
消すことなく古い模様の上に新しい模様を刻印させるこ
とも可能である。
既に上述したように非常に微細な線模様或いは線状の模
様だけでなく回折微少構造を有する関連した面模様を継
ぎ目線なく互いに隣接し或いは一部重畳させて刻印する
ことが可能になる。このような面模様の各面素の構造は
同一であったり或いは面素毎に異なったりする。又干渉
法によっては形成することができないような微少構造も
刻印することが可能になる。刻印周辺領域はシャープに
区画されており障害となるような隆起物は発生しない。
このように上述した方法により堅固なマスク装置を用い
ることなく微少な模様を形成することが可能になる。そ
の場合形成方法は数値制御により完全に自動的に行なう
ことが可能になる。
刻印圧力をスタンプ5を用いて焦点14の領域のみに発
生するようにすると、鋳型4との接触時鋳型4の微少構
造が刻印されてはならない場所における層3の不本意な
局所的な変形を必要限に減少させることができる。特に
それによって鋳型の交換を容易にすることができ全面に
わたって圧力を発生させるのに比較して刻印圧力をかな
り小さなものにすることができ機械的な装置の設計が容
易になる。
第5図にはボール保持器15とボール16から成るスタ
ンプ5′が図示されている。ボール16は所定の遊びを
持ってボール保持器15の円筒空間17に配置されてい
る。円筒空間17の長手軸は第1図の2軸と一致する。
ボール16の一部はボール保持器15から突出しスタン
プ5′の凸状表面を形成している。空間17は空圧管1
8並びに電磁弁19を介して圧力発生器6として機能す
る空圧源20と接続されている。
空間17内の空圧によってボール16は鋳型4に押圧さ
れ、この空気圧は電磁弁19によってオソオフされ、又
かなりの範囲にわたって微少に変化させることができる
ので刻印圧力を正確に調整することができる。電磁弁1
9により刻印圧力を自動的に遮断することにより簡単な
方法で鋳型4を交換したり回転したり或いは移動させる
ことができる。ボール16の側部に空気が流れることに
よりボールの回転抵抗を減少させることができる。ボー
ル16と周囲の円筒との間に発生する漏れ空気によって
ボール16を空冷することができる。
第6図において符号21で示すものは図形模様の原版で
あり、その微少面模様22が光電走査器20によって走
査され、微少構造を有する肉視可能な面模様として熱可
塑性樹脂層3に正確に転写される。光源、レンズ系並び
に光検出器(図示せず)から構成される走査器23は移
動装置24”によって模様原版21上を行毎に移動され
る。それに同期して焦点14並びにスタンプ5が層3並
びに鋳型4に対して移動される。図ではこれは移動装置
24によって移動され固定点26を中心に回動されるパ
ンタグラフ25の形をしたレバー装置によって図示され
ている。走査器23からの出力信号は増幅器27と比較
スイッチ28を介して輻射源12の変調器10の制御入
力端子29と接続されている。
模様原版21の反射率が所定の値を越えると、変調器l
Oは開放するので、層3の対応した場所に鋳型4の微少
構造が刻印される。それに対し反射率が所定以下の場合
には微少構造の刻印も行なわれないし、既に刻印されて
いた模様を消去することもない。
変調器10は模様原版21の反射率が低くなった場合に
刻印が行なわれるように制御することもできる。又変調
器10は二進的に動作するのでなく段階的に駆動させる
こともできる。その場合輻射線13のエネルギーと模様
原版21の反射率との関係は線形であってもよく、又非
線形であってもよい。変調器10を段階的に駆動するこ
とにより刻印された面素の幅を変調することができる。
[発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、微少構造を有する
鋳型の所定面領域を安価な方法で熱可塑性樹脂層に刻印
することができ、その場合刻印の周囲領域はシャープと
なりその間に何ら障害となるような隆起物を発生させる
ことなく微少構造を有した面模様を形成することが可能
になる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明装置の概略構成を示した構成図、第2図
から第4図はそれぞれ形成された異なる面模様の形状を
示す説明図、第5図はスタンプの異なる実施例を示した
断面図、第6図は模様原版を走査する装置の構成を示し
た概略ブロック図である。 ■・・・抑圧用プレート 2・・・基板3・・・熱可塑
性樹脂層 4・・・鋳型5・・・スタンプ    6・
・・圧力発生器9・・・レーザー    10・・・光
学変調器第1図 第2図  第3図   第4図 第5図 第6図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)微少構造を有する鋳型(14)の所定面領域を熱可
    塑性樹脂層(3)に刻印することにより微少構造を有す
    る面模様を形成する微少構造の面模様形成方法において
    、輻射源(12)を用いてその焦点(14)にある熱可
    塑性樹脂層(3)のほぼ点状面素を加熱し、鋳型の微少
    構造をこの面素部分だけに刻印し、前記面模様を複数の
    面素の集合として形成するようにしたことを特徴とする
    微少構造の面模様形成方法。 2)焦点(14)領域においてのみ刻印用の押圧力を形
    成するようにした特許請求の範囲第1項に記載の方法。 3)前記押圧力を凸状の面を有するスタンプを用いて発
    生させるようにした特許請求の範囲第2項に記載の方法
    。 4)前記鋳型(4)と熱可塑性樹脂層(3)を焦点(1
    4)に対して連続的に移動させることにより帯状の微少
    構造面領域を熱可塑性樹脂層に刻印するようにした特許
    請求の範囲第1項、第2項又は第3項に記載の方法。 5)輻射源(12)を遮断し、押圧力を解除して熱可塑
    性樹脂層(3)を焦点に対して間欠的に移動させるよう
    にした特許請求の範囲第1項、第2項又は第3項に記載
    の方法。 6)前記移動時鋳型(4)を回転或いは交換するように
    した特許請求の範囲第5項に記載の方法。 7)光電走査器(23)を用いて模様原版 (21)を走査し、それと同期して鋳型(4)と熱可塑
    性樹脂層(3)を焦点(14)に対して移動させ、輻射
    源(12)を操作器(23)の出力信号に従って制御す
    るようにした特許請求の範囲第1項から第6項までのい
    ずれか1項に記載の方法。 8)微少構造を有する鋳型の所定面領域を熱可塑性樹脂
    層に刻印することにより微少構造を有する面模様を形成
    する微少構造の面模様形成装置において、堅固な平坦な
    プレート(1)と、熱可塑性樹脂層(3)を形成した基
    板(2)と、鋳型(4)と、スタンプ(5、5′)とを
    備え、プレートのスタンプと反対側に輻射源(12)を
    配置し、その焦点(14)において熱可塑性樹脂層(3
    )のほぼ点状面素を加熱し、前記スタンプは凸状の表面
    を有して焦点領域においてのみ刻印用の押圧力を発生し
    、前記鋳型(4)と熱可塑性樹脂層(3)を熱可塑性樹
    脂層(3)と平行な面において焦点(14)とステンプ
    (5、5′)に対して相対移動可能になるように配置し
    たことを特徴とする微少構造の面模様形成装置。 9)前記スタンプ(5′)をボール保持器 (15)とボール(16)から構成し、ボール(16)
    をボール保持器(15)の円筒空間(17)に配置し、
    前記円筒空間(17)を空圧管(18)を介して空圧源
    (20)に接続するようにした特許請求の範囲第8項に
    記載の装置。 10)光電走査器(23)を模様原版(21)上で移動
    させる移動装置(24)を設け、それと同期して鋳型(
    4)と熱可塑性樹脂層(3)を焦点(14)とスタンプ
    (5、5′)に対して移動させ、走査器(23)の出力
    信号を輻射源(12)の制御入力端子(29)に接続す
    るようにした特許請求の範囲第8項又は第9項に記載の
    装置。
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NO (1) NO164401C (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01238679A (ja) * 1988-03-18 1989-09-22 Toppan Printing Co Ltd ホログラム複製用多面付け原版の製造方法
JPH026187A (ja) * 1988-03-03 1990-01-10 Lgz Landis & Gyr Zug Ag 書類及びそのマスター形成方法
EP1519249A2 (en) 2003-09-17 2005-03-30 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method for forming fine relief patterns and methods for producing and copying optical diffraction structures
JP2005535483A (ja) * 2002-08-09 2005-11-24 レオナード クルツ ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー レーザー支援複製プロセス
JP2005535482A (ja) * 2002-08-09 2005-11-24 レオナード クルツ ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー レーザー支援複製プロセス
JP2005352334A (ja) * 2004-06-14 2005-12-22 Dainippon Printing Co Ltd 光回折構造転写シート及びその製造方法
JP2006001050A (ja) * 2004-06-15 2006-01-05 Sony Corp フィルム構造体の形成方法及びフィルム構造体

Families Citing this family (62)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0366858B1 (de) * 1988-09-30 1995-08-02 Landis & Gyr Technology Innovation AG Strichkodefeld und Strichkodeleser
JP2564638B2 (ja) * 1988-12-30 1996-12-18 太陽誘電株式会社 コンパクトディスクの製造方法
ATE131115T1 (de) * 1991-10-14 1995-12-15 Landis & Gyr Tech Innovat Sicherheitselement.
US5538753A (en) * 1991-10-14 1996-07-23 Landis & Gyr Betriebs Ag Security element
US6219015B1 (en) * 1992-04-28 2001-04-17 The Board Of Directors Of The Leland Stanford, Junior University Method and apparatus for using an array of grating light valves to produce multicolor optical images
EP0683404B1 (en) * 1994-04-08 1999-11-03 Enea Ente Per Le Nuove Tecnologie, L'energia E L'ambiente Method and apparatus for producing diffraction gratings by machine forming in a fast operation cycle
ATE170014T1 (de) * 1995-05-05 1998-09-15 Landis & Gyr Tech Innovat Verfahren zum aufbringen eines sicherheitselementes auf ein substrat
US5629801A (en) * 1995-06-07 1997-05-13 Silicon Light Machines Diffraction grating light doubling collection system
US5661592A (en) * 1995-06-07 1997-08-26 Silicon Light Machines Method of making and an apparatus for a flat diffraction grating light valve
US5798743A (en) * 1995-06-07 1998-08-25 Silicon Light Machines Clear-behind matrix addressing for display systems
US5841579A (en) * 1995-06-07 1998-11-24 Silicon Light Machines Flat diffraction grating light valve
US6064404A (en) * 1996-11-05 2000-05-16 Silicon Light Machines Bandwidth and frame buffer size reduction in a digital pulse-width-modulated display system
US5882770A (en) * 1996-12-31 1999-03-16 Makansi; Munzer Rainbow and hologram images on fabrics
US5982553A (en) 1997-03-20 1999-11-09 Silicon Light Machines Display device incorporating one-dimensional grating light-valve array
US6088102A (en) * 1997-10-31 2000-07-11 Silicon Light Machines Display apparatus including grating light-valve array and interferometric optical system
US6271808B1 (en) 1998-06-05 2001-08-07 Silicon Light Machines Stereo head mounted display using a single display device
US6130770A (en) 1998-06-23 2000-10-10 Silicon Light Machines Electron gun activated grating light valve
US6101036A (en) 1998-06-23 2000-08-08 Silicon Light Machines Embossed diffraction grating alone and in combination with changeable image display
US6215579B1 (en) 1998-06-24 2001-04-10 Silicon Light Machines Method and apparatus for modulating an incident light beam for forming a two-dimensional image
US6303986B1 (en) 1998-07-29 2001-10-16 Silicon Light Machines Method of and apparatus for sealing an hermetic lid to a semiconductor die
GB2365815B (en) * 1999-01-22 2002-10-30 Sony Corp Manufacture of optical elements
JP2000214884A (ja) 1999-01-22 2000-08-04 Olympus Optical Co Ltd 音声記録装置
JP4099887B2 (ja) * 1999-01-22 2008-06-11 ソニー株式会社 光学素子の製造方法、並びに光学素子製造用金型
DE19925175C1 (de) * 1999-05-27 2000-05-25 Jenoptik Jena Gmbh Einrichtung und Verfahren zur Übertragung von Mikrostrukturen
US6589628B1 (en) * 2000-06-27 2003-07-08 Omnova Solutions Inc. Article having optical effects
US20050037143A1 (en) * 2000-07-18 2005-02-17 Chou Stephen Y. Imprint lithography with improved monitoring and control and apparatus therefor
US7211214B2 (en) * 2000-07-18 2007-05-01 Princeton University Laser assisted direct imprint lithography
TW571291B (en) * 2001-01-31 2004-01-11 Ibm Mechanical data processing
US6707591B2 (en) 2001-04-10 2004-03-16 Silicon Light Machines Angled illumination for a single order light modulator based projection system
US6782205B2 (en) 2001-06-25 2004-08-24 Silicon Light Machines Method and apparatus for dynamic equalization in wavelength division multiplexing
US6747781B2 (en) 2001-06-25 2004-06-08 Silicon Light Machines, Inc. Method, apparatus, and diffuser for reducing laser speckle
US6829092B2 (en) 2001-08-15 2004-12-07 Silicon Light Machines, Inc. Blazed grating light valve
US6800238B1 (en) 2002-01-15 2004-10-05 Silicon Light Machines, Inc. Method for domain patterning in low coercive field ferroelectrics
ATE261350T1 (de) * 2002-01-25 2004-03-15 Leister Process Tech Verfahren zum abformen von mikro- und nanostrukturen
US6728023B1 (en) 2002-05-28 2004-04-27 Silicon Light Machines Optical device arrays with optimized image resolution
US6767751B2 (en) 2002-05-28 2004-07-27 Silicon Light Machines, Inc. Integrated driver process flow
US6822797B1 (en) 2002-05-31 2004-11-23 Silicon Light Machines, Inc. Light modulator structure for producing high-contrast operation using zero-order light
AU2003237738A1 (en) * 2002-06-20 2004-01-06 Obducat Ab Method and device for transferring a pattern
US6829258B1 (en) 2002-06-26 2004-12-07 Silicon Light Machines, Inc. Rapidly tunable external cavity laser
US6813059B2 (en) 2002-06-28 2004-11-02 Silicon Light Machines, Inc. Reduced formation of asperities in contact micro-structures
US6714337B1 (en) 2002-06-28 2004-03-30 Silicon Light Machines Method and device for modulating a light beam and having an improved gamma response
US6801354B1 (en) 2002-08-20 2004-10-05 Silicon Light Machines, Inc. 2-D diffraction grating for substantially eliminating polarization dependent losses
US6712480B1 (en) 2002-09-27 2004-03-30 Silicon Light Machines Controlled curvature of stressed micro-structures
US7194105B2 (en) * 2002-10-16 2007-03-20 Hersch Roger D Authentication of documents and articles by moiré patterns
US7295717B2 (en) * 2002-10-16 2007-11-13 Ecole polytechnique fédérale de Lausanne (EPFL) Synthesis of superposition images for watches, valuable articles and publicity
US7751608B2 (en) 2004-06-30 2010-07-06 Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) Model-based synthesis of band moire images for authenticating security documents and valuable products
US7305105B2 (en) 2005-06-10 2007-12-04 Ecole polytechnique fédérale de Lausanne (EPFL) Authentication of secure items by shape level lines
JP2005005245A (ja) * 2002-11-08 2005-01-06 Fuji Photo Film Co Ltd 転写素材の転写方法、形状転写方法及び転写装置
US6829077B1 (en) 2003-02-28 2004-12-07 Silicon Light Machines, Inc. Diffractive light modulator with dynamically rotatable diffraction plane
US6806997B1 (en) 2003-02-28 2004-10-19 Silicon Light Machines, Inc. Patterned diffractive light modulator ribbon for PDL reduction
US7037458B2 (en) * 2003-10-23 2006-05-02 Intel Corporation Progressive stamping apparatus and method
GB0426724D0 (en) * 2004-12-06 2005-01-12 Rue De Int Ltd Improved hologram
US20070194239A1 (en) * 2006-01-31 2007-08-23 Mcallister Abraham Apparatus and method providing a hand-held spectrometer
US7721843B1 (en) * 2006-02-08 2010-05-25 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Visual acoustic device
EP2104930A2 (en) 2006-12-12 2009-09-30 Evans & Sutherland Computer Corporation System and method for aligning rgb light in a single modulator projector
DE102007039591A1 (de) 2007-08-22 2009-02-26 Giesecke & Devrient Gmbh Gitterbild
US8358317B2 (en) 2008-05-23 2013-01-22 Evans & Sutherland Computer Corporation System and method for displaying a planar image on a curved surface
US8702248B1 (en) 2008-06-11 2014-04-22 Evans & Sutherland Computer Corporation Projection method for reducing interpixel gaps on a viewing surface
US8077378B1 (en) 2008-11-12 2011-12-13 Evans & Sutherland Computer Corporation Calibration system and method for light modulation device
US8351087B2 (en) * 2009-06-15 2013-01-08 Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) Authentication with built-in encryption by using moire parallax effects between fixed correlated s-random layers
US9641826B1 (en) 2011-10-06 2017-05-02 Evans & Sutherland Computer Corporation System and method for displaying distant 3-D stereo on a dome surface
TWI672212B (zh) * 2016-08-25 2019-09-21 國立成功大學 奈米壓印組合體及其壓印方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3170008A (en) * 1961-03-14 1965-02-16 Litton Systems Inc Embossing process
US3262122A (en) * 1963-05-01 1966-07-19 Ibm Thermoplastic memory
FR1603960A (ja) * 1967-09-11 1971-06-21
US4064205A (en) * 1974-07-02 1977-12-20 Logetronics, Inc. Method for making a printing plate from a porous substrate
CH594495A5 (ja) * 1976-05-04 1978-01-13 Landis & Gyr Ag
FR2401484A1 (fr) * 1977-08-25 1979-03-23 Landis & Gyr Ag Dispositif d'empreinte d'hologrammes dans un support thermoplastique
JPS59111820A (ja) * 1982-12-16 1984-06-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光情報担体デイスクの製造方法
AU4922485A (en) * 1984-11-09 1986-05-15 Canadian Patents And Development Limited Optical interference authenticating device

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH026187A (ja) * 1988-03-03 1990-01-10 Lgz Landis & Gyr Zug Ag 書類及びそのマスター形成方法
JPH01238679A (ja) * 1988-03-18 1989-09-22 Toppan Printing Co Ltd ホログラム複製用多面付け原版の製造方法
JP2005535483A (ja) * 2002-08-09 2005-11-24 レオナード クルツ ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー レーザー支援複製プロセス
JP2005535482A (ja) * 2002-08-09 2005-11-24 レオナード クルツ ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー レーザー支援複製プロセス
EP1519249A2 (en) 2003-09-17 2005-03-30 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method for forming fine relief patterns and methods for producing and copying optical diffraction structures
US7955785B2 (en) 2003-09-17 2011-06-07 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method for forming fine concavo-convex patterns, method for producing optical diffraction structure, and method for copying optical diffraction structure
JP2005352334A (ja) * 2004-06-14 2005-12-22 Dainippon Printing Co Ltd 光回折構造転写シート及びその製造方法
JP2006001050A (ja) * 2004-06-15 2006-01-05 Sony Corp フィルム構造体の形成方法及びフィルム構造体
JP4569185B2 (ja) * 2004-06-15 2010-10-27 ソニー株式会社 フィルム構造体の形成方法及びフィルム構造体

Also Published As

Publication number Publication date
AU572314B2 (en) 1988-05-05
CH664030A5 (de) 1988-01-29
DE3568651D1 (en) 1989-04-13
ES8702836A1 (es) 1987-01-16
NO164401C (no) 1990-10-03
DK304085D0 (da) 1985-07-03
ATE41250T1 (de) 1989-03-15
AU4467485A (en) 1986-01-09
EP0169326A1 (de) 1986-01-29
CA1266194A (en) 1990-02-27
DK304085A (da) 1986-01-07
JPH0423897B2 (ja) 1992-04-23
ES544893A0 (es) 1987-01-16
US4761253A (en) 1988-08-02
NO164401B (no) 1990-06-25
NO852716L (no) 1986-01-07
DK160167C (da) 1991-07-08
EP0169326B1 (de) 1989-03-08
DK160167B (da) 1991-02-04

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