JPH07281582A - 原版作製方法および作製装置 - Google Patents
原版作製方法および作製装置Info
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- JPH07281582A JPH07281582A JP6715194A JP6715194A JPH07281582A JP H07281582 A JPH07281582 A JP H07281582A JP 6715194 A JP6715194 A JP 6715194A JP 6715194 A JP6715194 A JP 6715194A JP H07281582 A JPH07281582 A JP H07281582A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】作製コストが安く、コード変更の度に撮影を行
わずにすむ、品質の安定したマシンリーダブルホログラ
ム原版の作製方法および作製装置を提供することを目的
とする。 【構成】回折格子レリーフパターンを利用したマシンリ
ーダブルホログラム原版の作製方法および装置におい
て、被エンボス基材を複製型回折格子と加熱刻印部分に
より加熱した刻印で挟む位置に配置し、複製型回折格子
を順次回転させながら加熱した刻印で被エンボス基材を
複製型回折格子に押圧していくことで、マシンリーダブ
ルマークの回折格子を被エンボス基材に順次成型してい
くことを特徴とする原版作製方法および装置。
わずにすむ、品質の安定したマシンリーダブルホログラ
ム原版の作製方法および作製装置を提供することを目的
とする。 【構成】回折格子レリーフパターンを利用したマシンリ
ーダブルホログラム原版の作製方法および装置におい
て、被エンボス基材を複製型回折格子と加熱刻印部分に
より加熱した刻印で挟む位置に配置し、複製型回折格子
を順次回転させながら加熱した刻印で被エンボス基材を
複製型回折格子に押圧していくことで、マシンリーダブ
ルマークの回折格子を被エンボス基材に順次成型してい
くことを特徴とする原版作製方法および装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、回折格子レリーフパタ
ーンを利用したマシンリーダブルホログラム原版の作製
方法および作製装置に関するものである。特に、回折格
子の方向を変えることでコードを記録しておく方式のマ
シンリーダブルホログラム原版の作製方法および作製装
置に関するものである。
ーンを利用したマシンリーダブルホログラム原版の作製
方法および作製装置に関するものである。特に、回折格
子の方向を変えることでコードを記録しておく方式のマ
シンリーダブルホログラム原版の作製方法および作製装
置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、マシンリーダブルレリーフホログ
ラムの原版を作製する方法としては、フォトレジスト上
にホログラム撮影、露光を行う方法が用いられていた。
すなわち、マシンリーダブルマークは、レーザーを用い
た２光束干渉法により順次適切な角度でレリーフ回折格
子を形成し、装飾部分のホログラムは、回折格子が形成
されたフォトレジスト上に通常のホログラム撮影にて２
重露光を行うことによりレリーフホログラムを形成して
いた。
ラムの原版を作製する方法としては、フォトレジスト上
にホログラム撮影、露光を行う方法が用いられていた。
すなわち、マシンリーダブルマークは、レーザーを用い
た２光束干渉法により順次適切な角度でレリーフ回折格
子を形成し、装飾部分のホログラムは、回折格子が形成
されたフォトレジスト上に通常のホログラム撮影にて２
重露光を行うことによりレリーフホログラムを形成して
いた。
【０００３】しかし、撮影により原版を作製する方法で
は、レーザーを使用するために撮影のコストが高いとい
う問題があった。例えば、装飾部分ホログラムのデザイ
ンは変えずにマシンリーダブル部分のコードのみを変え
る場合、撮影により原版を作製する方法ではデザイン変
更のない装飾部分ホログラムについても再撮影を行わな
ければならず、コード変更のたびに装飾部分ホログラム
の再撮影コストとして高いコストがかかってしまうとい
う問題があった。
は、レーザーを使用するために撮影のコストが高いとい
う問題があった。例えば、装飾部分ホログラムのデザイ
ンは変えずにマシンリーダブル部分のコードのみを変え
る場合、撮影により原版を作製する方法ではデザイン変
更のない装飾部分ホログラムについても再撮影を行わな
ければならず、コード変更のたびに装飾部分ホログラム
の再撮影コストとして高いコストがかかってしまうとい
う問題があった。
【０００４】また、従来の撮影により原版を作製する方
法では、回折格子の方向が変わる度に露光が必要とな
り、レーザーの安定性を考えると、複数回異なる条件で
露光されたフォトレジストを作製することとなる。これ
を現像処理によりレリーフを形成した場合、露光を行っ
た回数分のレリーフ形状ができてしまい、回折格子の回
折効率がばらついてしまって、マシンリーダブルホログ
ラムとしての機能上、品質がばらついた原版ができてし
まうという問題点があった。
法では、回折格子の方向が変わる度に露光が必要とな
り、レーザーの安定性を考えると、複数回異なる条件で
露光されたフォトレジストを作製することとなる。これ
を現像処理によりレリーフを形成した場合、露光を行っ
た回数分のレリーフ形状ができてしまい、回折格子の回
折効率がばらついてしまって、マシンリーダブルホログ
ラムとしての機能上、品質がばらついた原版ができてし
まうという問題点があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前述のよう
に、コード変更の度に装飾部分ホログラムの再撮影コス
トとして高いコストがかかってしまうという問題、及び
品質がばらついてしまうという問題点に鑑みてなされた
ものであり、作製コストが安く、コード変更の度に撮影
を行わずにすむ、品質の安定したマシンリーダブルホロ
グラム原版の作製方法および作製装置を提供することを
目的とする。
に、コード変更の度に装飾部分ホログラムの再撮影コス
トとして高いコストがかかってしまうという問題、及び
品質がばらついてしまうという問題点に鑑みてなされた
ものであり、作製コストが安く、コード変更の度に撮影
を行わずにすむ、品質の安定したマシンリーダブルホロ
グラム原版の作製方法および作製装置を提供することを
目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は前記の課題を解
決するために、第１の発明では、回折格子レリーフパタ
ーンを利用したマシンリーダブルホログラム原版の作製
方法において、被エンボス基材を複製型回折格子と加熱
刻印部分により加熱した刻印で挟む位置に配置し、複製
型回折格子を順次回転させながら、加熱した刻印で被エ
ンボス基材を複製型回折格子に押圧していくことでマシ
ンリーダブルマークの回折格子を被エンボス基材に順次
成型していくことを特徴とする原版作製方法としたもの
である。
決するために、第１の発明では、回折格子レリーフパタ
ーンを利用したマシンリーダブルホログラム原版の作製
方法において、被エンボス基材を複製型回折格子と加熱
刻印部分により加熱した刻印で挟む位置に配置し、複製
型回折格子を順次回転させながら、加熱した刻印で被エ
ンボス基材を複製型回折格子に押圧していくことでマシ
ンリーダブルマークの回折格子を被エンボス基材に順次
成型していくことを特徴とする原版作製方法としたもの
である。
【０００７】また第２の発明では、回折格子レリーフパ
ターンを利用したマシンリーダブルホログラム原版の作
製方法において、被エンボス基材を複製型回折格子と加
熱刻印部分により加熱した刻印で挟む位置に配置し、複
製型回折格子を順次回転させながら、加熱した刻印で被
エンボス基材を複製型回折格子に押圧していくことでマ
シンリーダブルマークの回折格子を被エンボス基材に順
次成型していく原版作製方法であって、前記加熱刻印部
分には温度調整用機構が設けてあり、これによりエンボ
ス成型開始時には高温状態で押圧し、エンボス成型に必
要な適正時間が経過した後に、圧着状態のまま適正温度
まで冷却することを特徴とする原版作製方法としたもの
である。
ターンを利用したマシンリーダブルホログラム原版の作
製方法において、被エンボス基材を複製型回折格子と加
熱刻印部分により加熱した刻印で挟む位置に配置し、複
製型回折格子を順次回転させながら、加熱した刻印で被
エンボス基材を複製型回折格子に押圧していくことでマ
シンリーダブルマークの回折格子を被エンボス基材に順
次成型していく原版作製方法であって、前記加熱刻印部
分には温度調整用機構が設けてあり、これによりエンボ
ス成型開始時には高温状態で押圧し、エンボス成型に必
要な適正時間が経過した後に、圧着状態のまま適正温度
まで冷却することを特徴とする原版作製方法としたもの
である。
【０００８】また第３の発明では、回折格子レリーフパ
ターンを利用したマシンリーダブルホログラム原版の作
製装置であって、加熱刻印部分と、被エンボス基材を支
持する基材支持台と、基材支持台をＸ、Ｙ方向に移動さ
せる移動装置と、複製型回折格子を支持する複製型支持
台と、複製型支持台をθ方向に回転させる回転装置とを
有し、加熱刻印部分と基材支持台と複製型支持台が順次
配置されていることを特徴とする原版作製装置としたも
のである。
ターンを利用したマシンリーダブルホログラム原版の作
製装置であって、加熱刻印部分と、被エンボス基材を支
持する基材支持台と、基材支持台をＸ、Ｙ方向に移動さ
せる移動装置と、複製型回折格子を支持する複製型支持
台と、複製型支持台をθ方向に回転させる回転装置とを
有し、加熱刻印部分と基材支持台と複製型支持台が順次
配置されていることを特徴とする原版作製装置としたも
のである。
【０００９】また第４の発明では、回折格子レリーフパ
ターンを利用したマシンリーダブルホログラム原版の作
製装置であって、加熱刻印部分と、被エンボス基材を支
持する基材支持台と、基材支持台をＸ、Ｙ方向に移動さ
せる移動装置と、複製型回折格子を支持する複製型支持
台と、複製型支持台をθ方向に回転させる回転装置とを
有し、加熱刻印部分と基材支持台と複製型支持台が順次
配置されている原版作製装置であって、前記加熱刻印部
分には温度調整用機構が設けてあることを特徴とする原
版作製装置としたものである。
ターンを利用したマシンリーダブルホログラム原版の作
製装置であって、加熱刻印部分と、被エンボス基材を支
持する基材支持台と、基材支持台をＸ、Ｙ方向に移動さ
せる移動装置と、複製型回折格子を支持する複製型支持
台と、複製型支持台をθ方向に回転させる回転装置とを
有し、加熱刻印部分と基材支持台と複製型支持台が順次
配置されている原版作製装置であって、前記加熱刻印部
分には温度調整用機構が設けてあることを特徴とする原
版作製装置としたものである。
【００１０】以下に、本発明の原版作製装置およびそれ
を用いた原版作製方法を詳細に説明する。図１は、本発
明による原版作製装置の一実施例を示す断面図、図２
は、同実施例を示す平面図である。１は加熱刻印部分、
２は被エンボス基材、３は基材支持台、４はＹステー
ジ、５はＸステージ、６は複製型支持台、７はθステー
ジ、８は複製型回折格子である。加熱刻印部分１の機構
としては、通常のアップダウン転写機と同様の機構を持
つものであれば、どの様なものでも良い。被エンボス基
材２としては、熱可塑性樹脂であればどの様なものでも
良いが、後行程で複版する場合に問題のない樹脂を選択
する必要がある。基材支持台３は、被エンボス基材２を
支持する機能を有し、特に被エンボス基材２の厚みが薄
い場合は、被エンボス基材２にシワが入らないようにテ
ンションをかける機構が必要となる。複製型回折格子８
は、レリーフ型回折格子が形成された薄い金属板を用い
るのが望ましく、これは通常のホログラムエンボス版を
作製する方法を用いて作製することができる。すなわ
ち、フォトレジスト上にレーザーを用いた２光束干渉法
によりレリーフ型回折格子を形成した後、導電膜をスパ
ッタ、蒸着法により形成し、金属の電解メッキを行うこ
とで作製することができる。
を用いた原版作製方法を詳細に説明する。図１は、本発
明による原版作製装置の一実施例を示す断面図、図２
は、同実施例を示す平面図である。１は加熱刻印部分、
２は被エンボス基材、３は基材支持台、４はＹステー
ジ、５はＸステージ、６は複製型支持台、７はθステー
ジ、８は複製型回折格子である。加熱刻印部分１の機構
としては、通常のアップダウン転写機と同様の機構を持
つものであれば、どの様なものでも良い。被エンボス基
材２としては、熱可塑性樹脂であればどの様なものでも
良いが、後行程で複版する場合に問題のない樹脂を選択
する必要がある。基材支持台３は、被エンボス基材２を
支持する機能を有し、特に被エンボス基材２の厚みが薄
い場合は、被エンボス基材２にシワが入らないようにテ
ンションをかける機構が必要となる。複製型回折格子８
は、レリーフ型回折格子が形成された薄い金属板を用い
るのが望ましく、これは通常のホログラムエンボス版を
作製する方法を用いて作製することができる。すなわ
ち、フォトレジスト上にレーザーを用いた２光束干渉法
によりレリーフ型回折格子を形成した後、導電膜をスパ
ッタ、蒸着法により形成し、金属の電解メッキを行うこ
とで作製することができる。
【００１１】次に、本発明の原版作製方法を詳細に説明
する。まず、加熱刻印部分１に所望のマシンリーダブル
マーク寸法の刻印１１を取り付け、一定温度まで充分に
加熱しておく。次に、前述の方法により作製した複製型
回折格子８を複製型支持台６に取り付ける。その後、被
エンボス基材２を基材支持台３に固定し、Ｘステージ５
およびＹステージ６にて、マシンリーダブルマークの形
成を所望する任意の位置に移動する。被エンボス基材２
と刻印１１の位置関係を所望の位置に移動した後、複製
型回折格子の格子方向を所望の角度にするため、θステ
ージ７を回転させる。そして、各位置関係を設定した
後、加熱した刻印１１と複製型回折格子８とで被エンボ
ス基材を挟み込み、圧着させてレリーフ型回折格子のエ
ンボス複製を行う。この際、加熱温度、圧着時間、圧着
圧力などの加工条件は、被エンボス基材２の材質によっ
て、適性条件が定められる。エンボス複製に必要な適性
時間だけ圧着させた後、圧着させたままの状態で加熱刻
印部分１に設けた温度調整用機構により、加熱した刻印
１１と基材２を必要な適正温度まで冷却する。適正温度
まで冷却した後に速やかに圧着を解除する。被エンボス
基材２の冷却は、被エンボス基材２の材質を選定するこ
とで、エンボス複製に必要な適性時間だけ圧着させた
後、速やかに圧着を解除し、空気による自然冷却によっ
ても対応することができる。圧着を解除した後、次のマ
ークをエンボス複製するために、再度被エンボス基材２
をＸステージ５およびＹステージ６にて、マシンリーダ
ブルマークの形成を所望する任意の位置に移動し、以下
同様にθステージ７を回転させ、加熱、加圧して被エン
ボス基材２にマークをエンボス複製する。以上のプロセ
スを繰り返すことにより、同一平面上に、目的とするマ
シンリーダブルマーク群が形成された、マシンリーダブ
ルホログラム原版を作製することができる。
する。まず、加熱刻印部分１に所望のマシンリーダブル
マーク寸法の刻印１１を取り付け、一定温度まで充分に
加熱しておく。次に、前述の方法により作製した複製型
回折格子８を複製型支持台６に取り付ける。その後、被
エンボス基材２を基材支持台３に固定し、Ｘステージ５
およびＹステージ６にて、マシンリーダブルマークの形
成を所望する任意の位置に移動する。被エンボス基材２
と刻印１１の位置関係を所望の位置に移動した後、複製
型回折格子の格子方向を所望の角度にするため、θステ
ージ７を回転させる。そして、各位置関係を設定した
後、加熱した刻印１１と複製型回折格子８とで被エンボ
ス基材を挟み込み、圧着させてレリーフ型回折格子のエ
ンボス複製を行う。この際、加熱温度、圧着時間、圧着
圧力などの加工条件は、被エンボス基材２の材質によっ
て、適性条件が定められる。エンボス複製に必要な適性
時間だけ圧着させた後、圧着させたままの状態で加熱刻
印部分１に設けた温度調整用機構により、加熱した刻印
１１と基材２を必要な適正温度まで冷却する。適正温度
まで冷却した後に速やかに圧着を解除する。被エンボス
基材２の冷却は、被エンボス基材２の材質を選定するこ
とで、エンボス複製に必要な適性時間だけ圧着させた
後、速やかに圧着を解除し、空気による自然冷却によっ
ても対応することができる。圧着を解除した後、次のマ
ークをエンボス複製するために、再度被エンボス基材２
をＸステージ５およびＹステージ６にて、マシンリーダ
ブルマークの形成を所望する任意の位置に移動し、以下
同様にθステージ７を回転させ、加熱、加圧して被エン
ボス基材２にマークをエンボス複製する。以上のプロセ
スを繰り返すことにより、同一平面上に、目的とするマ
シンリーダブルマーク群が形成された、マシンリーダブ
ルホログラム原版を作製することができる。
【００１２】
【作用】本発明において、目的とするマシンリーダブル
ホログラム原版を作製する際に、エンボス複製法により
角度の異なる回折格子から成るマシンリーダブルマーク
群を作製する方法を採ることにより、従来の撮影により
作製した原版よりもレリーフ形状のばらつきが少ない、
品質の安定した原版を作製することが可能となる。ま
た、従来の撮影による原版作製行程よりも行程時間を短
縮することができ、簡便に原版を作製することが可能と
なる。
ホログラム原版を作製する際に、エンボス複製法により
角度の異なる回折格子から成るマシンリーダブルマーク
群を作製する方法を採ることにより、従来の撮影により
作製した原版よりもレリーフ形状のばらつきが少ない、
品質の安定した原版を作製することが可能となる。ま
た、従来の撮影による原版作製行程よりも行程時間を短
縮することができ、簡便に原版を作製することが可能と
なる。
【００１３】
（実施例１）複製型回折格子８として、表面に空間周波
数が１０００ｌｉｎｅ／ｍｍ、回折格子の深さが約０．
４μｍのレリーフ回折格子が全面に形成されたＮｉ版
（厚さ約２００μｍ、面積２０×２０ｃｍ2）を使用し
た。また、加熱刻印部分１に用いる刻印１１として、Ｓ
ＫＳ合金工具鋼（面積３×３ｍｍ2、高さ５ｍｍ）を使
用した。作製すべきマシンリーダブルコードとしては、
図３に示すような４種類のマシンリーダブルマーク３１
とした。被エンボス基材２は、厚さ２５μｍのポリエス
テルシート基材上にエンボス成型用の樹脂層としてアク
リル樹脂（ダイヤナールＬＲ−２４８、三菱レイヨン社
製）を、厚さ約２μｍとなるように塗工することによっ
て作製した。次に、前述の加熱刻印部分１に取り付けた
刻印１１を１５０℃に加熱した後、被エンボス基材２の
ポリエステルシート側に加熱刻印部分１、樹脂層側に複
製型回折格子８を配置し、条件として圧力５ｋｇ／ｃｍ
2で２秒間圧着することによってエンボス成型を行っ
た。次いで設定時間が経過した後速やかに圧着を解除し
てマシンリーダブルマーク３１を成型し、次のマシンリ
ーダブルマーク３１のエンボス成型に移る。上記の行程
を１サイクルとして、複製型回折格子の格子方向を所望
の角度にするため、θステージ７を回転させることで、
各々のマシンリーダブルマーク３１を成型することがで
きた。さらに、レインボーホログラム３２もエンボス成
型して、図３に示すマシンリーダブルホログラム原版３
３を得た。上記の方法で作製したマシンリーダブルホロ
グラム原版３３をもとに、通常知られているメッキ法に
より、レリーフホログラムの金型（スタンパー）を作製
し、既知のエンボス法により、レリーフホログラムシー
ルを作製したところ、マシンリーダブルホログラムとし
ての機能を満足し、各マーク間の品質が安定しているこ
とが確認できた。
数が１０００ｌｉｎｅ／ｍｍ、回折格子の深さが約０．
４μｍのレリーフ回折格子が全面に形成されたＮｉ版
（厚さ約２００μｍ、面積２０×２０ｃｍ2）を使用し
た。また、加熱刻印部分１に用いる刻印１１として、Ｓ
ＫＳ合金工具鋼（面積３×３ｍｍ2、高さ５ｍｍ）を使
用した。作製すべきマシンリーダブルコードとしては、
図３に示すような４種類のマシンリーダブルマーク３１
とした。被エンボス基材２は、厚さ２５μｍのポリエス
テルシート基材上にエンボス成型用の樹脂層としてアク
リル樹脂（ダイヤナールＬＲ−２４８、三菱レイヨン社
製）を、厚さ約２μｍとなるように塗工することによっ
て作製した。次に、前述の加熱刻印部分１に取り付けた
刻印１１を１５０℃に加熱した後、被エンボス基材２の
ポリエステルシート側に加熱刻印部分１、樹脂層側に複
製型回折格子８を配置し、条件として圧力５ｋｇ／ｃｍ
2で２秒間圧着することによってエンボス成型を行っ
た。次いで設定時間が経過した後速やかに圧着を解除し
てマシンリーダブルマーク３１を成型し、次のマシンリ
ーダブルマーク３１のエンボス成型に移る。上記の行程
を１サイクルとして、複製型回折格子の格子方向を所望
の角度にするため、θステージ７を回転させることで、
各々のマシンリーダブルマーク３１を成型することがで
きた。さらに、レインボーホログラム３２もエンボス成
型して、図３に示すマシンリーダブルホログラム原版３
３を得た。上記の方法で作製したマシンリーダブルホロ
グラム原版３３をもとに、通常知られているメッキ法に
より、レリーフホログラムの金型（スタンパー）を作製
し、既知のエンボス法により、レリーフホログラムシー
ルを作製したところ、マシンリーダブルホログラムとし
ての機能を満足し、各マーク間の品質が安定しているこ
とが確認できた。
【００１４】（実施例２）複製型回折格子８として、表
面に空間周波数が１０００ｌｉｎｅ／ｍｍ、回折格子の
深さが約０．４μｍのレリーフ回折格子が全面に形成さ
れたＮｉ版（厚さ約２００μｍ、面積２０×２０ｃ
ｍ2）を使用した。また、加熱刻印部分１に用いる刻印
１１として、ＳＫＳ合金工具鋼（面積３×３ｍｍ2、高
さ５ｍｍ）を使用した。作製すべきマシンリーダブルコ
ードとしては、図３に示すような４種類のマシンリーダ
ブルマーク３１とした。被エンボス基材２は、厚さ２５
μｍのポリエステルシート基材上にエンボス成型用の樹
脂層としてアクリル樹脂（ダイヤナールＬＲ−２４８、
三菱レイヨン社製）を、厚さ約２μｍとなるように塗工
することによって作製した。次に、前述の加熱刻印部分
１に取り付けた刻印１１を１２０℃に加熱した後、被エ
ンボス基材２のポリエステルシート側に加熱刻印部分
１、樹脂層側に複製型回折格子８を配置し、条件として
圧力５ｋｇ／ｃｍ2で３０秒間圧着することによってエ
ンボス成型を行った。次いで設定時間が経過した後、加
熱刻印部分１に設けた温度調整用機構により、圧力５ｋ
ｇ／ｃｍ2で圧着したままの状態で、加熱した刻印１１
と被エンボス基材２を８０℃まで冷却し、エンボスされ
たレリーフ形状を定着した。以上の行程がすべて終了し
た後圧着を解除し、次のマシンリーダブルマークのエン
ボス成型に移る。上記の行程を１サイクルとして、複製
型回折格子の格子方向を所望の角度にするため、θステ
ージ７を回転させることで、各々のマシンリーダブルマ
ークを成型することができた。上記の方法で作製したマ
シンリーダブルホログラム原版３３をもとに、通常知ら
れているメッキ法により、レリーフホログラムの金型
（スタンパー）を作製し、既知のエンボス法により、レ
リーフホログラムシールを作製したところ、マシンリー
ダブルとしての機能を満足し、各マーク間の品質が安定
していることが確認できた。
面に空間周波数が１０００ｌｉｎｅ／ｍｍ、回折格子の
深さが約０．４μｍのレリーフ回折格子が全面に形成さ
れたＮｉ版（厚さ約２００μｍ、面積２０×２０ｃ
ｍ2）を使用した。また、加熱刻印部分１に用いる刻印
１１として、ＳＫＳ合金工具鋼（面積３×３ｍｍ2、高
さ５ｍｍ）を使用した。作製すべきマシンリーダブルコ
ードとしては、図３に示すような４種類のマシンリーダ
ブルマーク３１とした。被エンボス基材２は、厚さ２５
μｍのポリエステルシート基材上にエンボス成型用の樹
脂層としてアクリル樹脂（ダイヤナールＬＲ−２４８、
三菱レイヨン社製）を、厚さ約２μｍとなるように塗工
することによって作製した。次に、前述の加熱刻印部分
１に取り付けた刻印１１を１２０℃に加熱した後、被エ
ンボス基材２のポリエステルシート側に加熱刻印部分
１、樹脂層側に複製型回折格子８を配置し、条件として
圧力５ｋｇ／ｃｍ2で３０秒間圧着することによってエ
ンボス成型を行った。次いで設定時間が経過した後、加
熱刻印部分１に設けた温度調整用機構により、圧力５ｋ
ｇ／ｃｍ2で圧着したままの状態で、加熱した刻印１１
と被エンボス基材２を８０℃まで冷却し、エンボスされ
たレリーフ形状を定着した。以上の行程がすべて終了し
た後圧着を解除し、次のマシンリーダブルマークのエン
ボス成型に移る。上記の行程を１サイクルとして、複製
型回折格子の格子方向を所望の角度にするため、θステ
ージ７を回転させることで、各々のマシンリーダブルマ
ークを成型することができた。上記の方法で作製したマ
シンリーダブルホログラム原版３３をもとに、通常知ら
れているメッキ法により、レリーフホログラムの金型
（スタンパー）を作製し、既知のエンボス法により、レ
リーフホログラムシールを作製したところ、マシンリー
ダブルとしての機能を満足し、各マーク間の品質が安定
していることが確認できた。
【００１５】
【発明の効果】前述の如く従来は、撮影により原版を作
製する方法を用いているため、コード変更のたびに装飾
部分ホログラムの再撮影コストとして高いコストがかか
っていた。また、従来の撮影により原版を作製する方法
では、マークの数だけレーザー露光を行うため、回折格
子の回折効率がばらついてしまい、マシンリーダブルホ
ログラムとしての機能上、品質がばらついた原版ができ
てしまった。ところが、本発明の作製方法および作製装
置によれば、エンボス複製方式を採ったことにより、行
程時間を短縮することができ、簡便に原版を作製するこ
とが可能となるため、作製コストを下げる効果がある。
また、複製型回折格子に使用する格子が同一であり、レ
リーフ形状にばらつきが少ない、品質の安定したマシン
リーダブルホログラム原版を作製することができるとい
う優れた実用上の効果がある。
製する方法を用いているため、コード変更のたびに装飾
部分ホログラムの再撮影コストとして高いコストがかか
っていた。また、従来の撮影により原版を作製する方法
では、マークの数だけレーザー露光を行うため、回折格
子の回折効率がばらついてしまい、マシンリーダブルホ
ログラムとしての機能上、品質がばらついた原版ができ
てしまった。ところが、本発明の作製方法および作製装
置によれば、エンボス複製方式を採ったことにより、行
程時間を短縮することができ、簡便に原版を作製するこ
とが可能となるため、作製コストを下げる効果がある。
また、複製型回折格子に使用する格子が同一であり、レ
リーフ形状にばらつきが少ない、品質の安定したマシン
リーダブルホログラム原版を作製することができるとい
う優れた実用上の効果がある。
【図１】本発明による原版作製装置の一実施例を示す断
面で表した説明図である。
面で表した説明図である。
【図２】本発明による原版作製装置の同実施例を示す平
面図である。
面図である。
【図３】本発明による原版作製方法により作製した、マ
シンリーダブルホログラム原版の一実施例を示す平面図
である。
シンリーダブルホログラム原版の一実施例を示す平面図
である。
１‥‥加熱刻印部分 ２‥‥被エンボス基材 ３‥‥基材支持台 ４‥‥Ｙステージ ５‥‥Ｘステージ ６‥‥複製型支持台 ７‥‥θステージ ８‥‥複製型回折格子 １１‥‥刻印 ３１‥‥マシンリーダブルマーク ３２‥‥レインボーホログラム ３３‥‥マシンリーダブルホログラム原版
Claims (4)
- 【請求項１】回折格子レリーフパターンを利用したマシ
ンリーダブルホログラム原版の作製方法において、被エ
ンボス基材を複製型回折格子と加熱刻印部分により加熱
した刻印で挟む位置に配置し、複製型回折格子を順次回
転させながら加熱した刻印で被エンボス基材を複製型回
折格子に押圧していくことで、マシンリーダブルマーク
の回折格子を被エンボス基材に順次成型していくことを
特徴とする原版作製方法。 - 【請求項２】回折格子レリーフパターンを利用したマシ
ンリーダブルホログラム原版の作製方法において、被エ
ンボス基材を複製型回折格子と加熱刻印部分により加熱
した刻印で挟む位置に配置し、複製型回折格子を順次回
転させながら、加熱した刻印で被エンボス基材を複製型
回折格子に押圧していくことでマシンリーダブルマーク
の回折格子を被エンボス基材に順次成型していく原版作
製方法であって、前記加熱刻印部分には温度調整用機構
が設けてあり、これにより被エンボス成型開始時には高
温状態で押圧し、エンボス成型に必要な適正時間が経過
した後に、圧着状態のまま適正温度まで冷却することを
特徴とする原版作製方法。 - 【請求項３】回折格子レリーフパターンを利用したマシ
ンリーダブルホログラム原版の作製装置であって、加熱
刻印部分と、被エンボス基材を支持する基材支持台と、
基材支持台をＸ、Ｙ方向に移動させる移動装置と、複製
型回折格子を支持する複製型支持台と、複製型支持台を
θ方向に回転させる回転装置とを有し、加熱刻印部分と
基材支持台と複製型支持台が順次配置されていることを
特徴とする原版作製装置。 - 【請求項４】回折格子レリーフパターンを利用したマシ
ンリーダブルホログラム原版の作製装置であって、加熱
刻印部分と、被エンボス基材を支持する基材支持台と、
基材支持台をＸ、Ｙ方向に移動させる移動装置と、複製
型回折格子を支持する複製型支持台と、複製型支持台を
θ方向に回転させる回転装置とを有し、加熱刻印部分と
基材支持台と複製型支持台が順次配置されている原版作
製装置であって、前記加熱刻印部分には温度調整用機構
が設けてあることを特徴とする原版作製装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6715194A JPH07281582A (ja) | 1994-04-05 | 1994-04-05 | 原版作製方法および作製装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6715194A JPH07281582A (ja) | 1994-04-05 | 1994-04-05 | 原版作製方法および作製装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07281582A true JPH07281582A (ja) | 1995-10-27 |
Family
ID=13336627
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6715194A Pending JPH07281582A (ja) | 1994-04-05 | 1994-04-05 | 原版作製方法および作製装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07281582A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100446914B1 (ko) * | 2001-11-14 | 2004-09-01 | 주식회사 엘지에스 | 핫 엠보싱을 이용한 회절광학소자 렌즈의 제조방법 및 그장치 |
| JP2006047721A (ja) * | 2004-08-05 | 2006-02-16 | Dainippon Printing Co Ltd | 画像形成方法、及び画像形成装置 |
| JP2010508554A (ja) * | 2006-10-31 | 2010-03-18 | オーワイ モディネス エルティディ． | 複雑な三次元形状をもつ光学製品の製造方法および製造機構 |
-
1994
- 1994-04-05 JP JP6715194A patent/JPH07281582A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100446914B1 (ko) * | 2001-11-14 | 2004-09-01 | 주식회사 엘지에스 | 핫 엠보싱을 이용한 회절광학소자 렌즈의 제조방법 및 그장치 |
| JP2006047721A (ja) * | 2004-08-05 | 2006-02-16 | Dainippon Printing Co Ltd | 画像形成方法、及び画像形成装置 |
| JP2010508554A (ja) * | 2006-10-31 | 2010-03-18 | オーワイ モディネス エルティディ． | 複雑な三次元形状をもつ光学製品の製造方法および製造機構 |
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