JPH01238679A - ホログラム複製用多面付け原版の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、ホログラムの複製用に使用するホログラＪ、
多面付は原版の製造方法に関するもので、微小な凹凸形
状を有するホログラム型原版を基板上に塗布された樹脂
層に押圧する工程において、サブミクロンオーダーの微
小な凹凸形状を忠実に転写し、かつ微小な凹凸形状を有
する各ホログラム複製型の間に間隙あるいは溝の完全に
ない、しかも高位置精度で前記ホログラム複製型の多面
付けをすることが容易に一度の工程で一枚の版状にでき
るようなホログラム複製用多面付け原版の製造方法に関
するものである。

〈従来技術およびその問題点〉 従来のホログラム複製用多面付け原版の製造方法につい
て以下に説明する。従来から知られている既知方法によ
りフォトレジスト上に形成した微小な凹凸形状を有する
ホログラムにＡｕ、　Ａｇ、　Ｎｉ等を蒸着し、これを
電極としてＮ１メツキを行って、厚さ数百μｍ程度のＮ
！メツキ層を形成して剥離することにより微小な凹凸形
状を有するホログラム型原版を得る。次に上記方法によ
り得られた微小な凹凸形状を有するホログラム型原版の
表面に剥離処理をほどこし、この原版を基にして再度複
数回Ｎｉメツキを行うことにより微小な凹凸形状を有す
るホログラム複製型を面付は数だけ得る。あるいは微小
な凹凸形状を有するホログラム原版上に電子線若しくは
紫外線で硬化する樹脂を塗布し、その後樹脂面上に硬化
時に接着する適当な支持基板を密着させ、電子線若くし
は紫外線を照射して硬化させ剥離することによって微小
な凹凸形状を有するホログラム複製型を面付は数だけ得
る。こうして得られた微小な凹凸形状を有するホログラ
ム複製型をその後、所定形状に断裁する。一方、微小な
凹凸形状を有するホログラム複製型とほぼ厚みの等しい
別の材料を用いて上記の断裁に用いた打抜型によってこ
の材料に所定の間隔でもって面付は数だけ打ち抜いてお
く。

こうして得られた打抜き部に上記で打ち抜いた微小な凹
凸形状を有するホログラム複製型を填め込んで微小な凹
凸形状を有するホログラム複製型の間隙を隙間なく充填
させて、これら全体を基板上に接着剤や粘着剤を用いた
り、両面テープを用いたり、溶接あるいは溶剤接着によ
り接着させてホログラム複製用多面付は原版を得ていた
。しかし上述のような従来技術においては、微小な凹凸
形状を有するホログラム複製型及び充填材の材料を裁断
する際、物理的に力を加えて裁断を行うために被裁断面
が変形してしまうので上記のように微小な凹凸形状を有
するホログラム複製型を充填材の材料の打抜き部に填め
込んだ場合、完全に隙間なく充填させることは不可能で
ある。

前記のように微小な凹凸形状を有するホログラム複製型
と充填材の材料の間に隙間やあるいは溝が発生してしま
うので、上記方法より得たホログラム複製用多面付は原
版を基にＮ１メツキで複製するまでの工程において、Ａ
ｕ、　Ａｇ、　Ｎｉ等をホログラム複製用多面付は原版
表面に蒸着する場合、微小な凹凸形状を有するホログラ
ム複製型の側面あるいは充填材の材料の打ち抜き部の側
面に蒸着膜が形成されないために蒸着膜に電流が流れず
、そのために蒸着膜が電極として作用せず、Ｎｉメツキ
が不可能になってしまう場合が生じることがあり、また
、たとえ各側面に蒸着膜が形成されてもＮ１メツキによ
り得たＮｉメツキ層が、微小な凹凸形状を有するホログ
ラム複製型と充填材の材料の間の間隙部あるいは溝部に
形成されてしまうので原版からの離型が困難であった。

また、この間隙部あるいは溝部に形成されたＮｉメンキ
層は、ホログラム複製用多面付は原版からＮｉメツキ層
を離型する際に突起部として残在してしまうために、熱
可塑性樹脂を用いて上記ホログラム多面付は複製版でプ
レス成型しても突起部の高さが微小な凹凸形状の高さよ
りも十分に高いためホログラム部分にプレスの圧力が充
分にかからず、そのためにレリーフホログラムの微小な
凹凸形状が転写されない部分が発生してしまうことがあ
った。また従来技術においては、微小な凹凸形状を有す
るホログラム型原版を得た後、まず微小な凹凸形状を有
するホログラム複製型を面付は数だけ複製しなければな
らない長時間を用する工程を行い、次にこのホログラム
複製型を所定形状に断裁する工程を行い、その次に充填
材の材料に所定の間隔でもって面付は数だけ上記所定形
状に打ち抜く工程を行い、最後に充填材の材料の打ち抜
き部にこのホログラム複製型を填め込み、これらを基板
上に接着する工程を行うことによりホログラム複製上条
面付は原版を製造する必要があり、上記方法においては
作業工程がとても長く、従って作業能率の点において十
分に考慮された製造方法であるとは言えなかった。

〈発明が解決しようとする問題点〉 本発明は、従来のホログラム複製用多面付は原版の製造
方法に関しての上記の如き欠点、すなわち微小な凹凸形
状を有するホログラム複製型と充填材の材料との間に生
じる間隙あるいは溝をなくすことによりＮｉメツキによ
る複製工程までに発生しうる前項諸問題、すなわち蒸着
膜が電極して作用しなくなることを解消してスムーズに
Ｎｉメ、キを行なえるようにし、かつホログラム複製用
多面付は原版からＮｉメツキ層の離型の困難さを解消し
て容易に離型できるようにし、またＮｉメツキによる複
製工程後、Ｎｉメツキにより複製された上記ホログラム
多面付は複製板を用いてプレス成型する際に生しる不良
転写部の発生を防止して良好な微小な凹凸形状の転写を
良好に行なえるようにし、さらにホログラム複製用多面
付は原版の製造に関しての一連の工程の短縮化をはかる
ことにより作業能率の大幅な改善を行うことを目的とし
てなされたものである。

〈問題点を解決するための手段〉 本発明は、ホログラム複製用多面付は原版の製造方法に
ついての発明である。まず第１図に示すように、既知方
法によってフォトレジスト上に形成された微小な凹凸形
状を有するホログラム１にＡｕ、八ｇ、　Ｎｉ等を蒸着
して蒸着膜２を形成し、これを電極としてＮｉメツキを
行い厚みが数百μｍ程度のＮｉメツキ層３を形成し、フ
ォトレジスト上に形成した微小な凹凸形状を有するホロ
グラム１から剥離することによりＮｉメツキ層３に形成
された微小な凹凸形状を有するホログラム型原版４を得
る。

次に、第２図の八に示すように微小な凹凸形状を有する
ホログラム型原版を原版をセントするホルダー５に固定
し、ホルダーの移動等により原版が動かないようにする
。この時の原版のホルダーへの固定は、ネジ、バキュー
ム、マグネット等を用いて行い、かつ固定の際、原版全
体がうねったり曲がったすせず、基板面と原版の面が完
全に平行になるようにしてセットする。そして原版の上
側には、間隔を開けて外部工フルギーにより硬化性を有
する未硬化樹脂６を塗布した基板７を基板セット用ホル
ダー８に固定する。使用する基板の大きさは、原版に比
べて数倍の大きさを有するものであり、また樹脂面が原
版面側に来るように樹脂塗布の基板７をセットする。基
板上に樹脂を塗布する方法よしては、スピンコード、バ
ーコード等の方法を用いる。さらに樹脂を塗布した基板
７の上側、すなわち基板側には、間隔を開けて原版と形
状かつ大きさが同じであるマスク９と一体となっている
エネルギー照射系１０をマスク９に取り付けであるシャ
ッター１１を閉じた状態で設置する。

次に第２図のＢに示すように原版をセットしたホルダー
系１２に上昇動作をさせて未硬化樹脂層１３に原版表面
１４を接触させる程度に押圧し、マスク９と一体となっ
ているエネルギー照射系１０にマスク９に取り付けであ
るシャッター１１を閉した状態で下降動作をさせて基板
７に密着させる。この際、未硬化樹脂６により微小な凹
凸の高さの半分程が充填される程度に原版４を未硬化樹
脂層１３に押圧する。また、エネルギー照射系１０にセ
ントされているマスク９の位置と原版４の位置は、同じ
になるようにする。その後、第２図のＣに示すように、
マスク９に取り付けであるシャッター１１を開いて、エ
ネルギー１５を照射して原版４が未硬化樹脂層１３に押
圧されている部分のみの未硬化樹脂６を硬化させ微小な
凹凸形状を有するホログラム複製型１６を形成する。

上記部分の未硬化樹脂６を硬化させた後、第２図のＤに
示すように原版をセットしたホルダー系１２及びマスク
９と一体となっているエネルギー照耐糸１０にマスク９
を取り付けであるシャ、ター１１を閉した状態でそれぞ
れ下降、上昇動作をさせ、その後、原版をセットしたホ
ルダー系１２及びマスク９と一体となっているエネルギ
ー照射系１０を固定しておいて、未硬化樹脂６を塗布し
た基板７を矢印（実線）の方向に動かすか、未硬化樹脂
６を塗布した基板７を固定しておいて、原版をセットし
たホルダー系１１及びマスク９と一体となっているエネ
ルギー照射系１０を同期させて矢印（点線）の方向に動
かすかの方法により未硬化樹脂６が存在する位置に原版
４を移動させ、第２図のＥに示すように再び、上記のよ
うに原版をセントしたホルダー系１２及びマスク９と一
体となっているエネルギー照射系ＩＯをそれぞれ上昇、
下降動作させて原版４のある部分のみの未硬化樹脂６を
硬化させて再び微小な凹凸形状を有するホログラム複製
型１６を形成する。

以上の一連の手続きを面付は数だけ行うことにより第３
図のＡに示すように硬化した樹脂により形成された微小
な凹凸形状を有するホログラム蝮製型１６と未硬化樹脂
６の部分ができるので、最後に全面にエネルギー照射を
して完全に樹脂を硬化させる。以上の製造方法により第
３図のＢに示すようにホログラム複製用多面材は原版１
７の作製を行う。

く作用〉 本発明のホログラム複製用多面材は原版の製造方法にお
いては、微小な凹凸形状を有するホログラム型原版の数
倍の大きさを有する一枚の基板上に塗布された未硬化樹
脂層に順次、微小な凹凸形状を有するホログラム型原版
の微小な凹凸の溝に樹脂が充填される接触程度にこの原
版を押圧することにより、各ホログラム複製型の間に空
き間や溝が発生せず、前記部分がなめらかな平面となる
ので、Ａｕ、　Ａｇ、　Ｎｉ等を蒸着する際、蒸着膜の
形成されない部分が生してしまうことがなく、従ってス
ムーズにＮｉメツキの工程を行え、かつホログラム複製
用多面材は原版からのＮｉメツキ層の離型が容易になる
。またＮｉメツキにより複製されたホログラム多面付は
複製板を用いてのプレス成型においても微小な凹凸形状
の良好な転写を熱可塑性樹脂にすることができる。さら
に−枚の基板上に塗布された未硬化樹脂層に微小な凹凸
形状を有するホログラム型原版を順次、部分的に押圧し
硬化させてい（ことにより、あらかしめ個々に作製され
た微小な凹凸形状を有するホログラム複製型を所定形状
に断裁してそれらを並べて一枚の大きな版にしたり、充
填材の材料の打ち抜き部に填め込んで一枚の大きな版に
する必要がなく、ホログラム複製用多面材は原版の製造
に関しての一連の工程の短縮化がはかれ、従って大幅な
作業能率の改善ができ、ホログラム複製用多面材は原版
の製造コストのダウン化へつながる。

〈実施例〉 次に実施例により本発明のホログラム複製用多面材は原
版の製造方法について説明する。まず既知方法により基
板上のフォトレノスト層に微小な凹凸形状を有するホロ
グラムを形成しこの微小な凹凸形状を有するホログラム
表面にＡｕを厚さ５００人程度仄着し、この蒸着膜を電
極としてＮｉメツキを行い、厚さ３００　μｍ程度のＮ
ｉメツキ層を蒸着膜上に形成して、これを剥離すること
により２５ＩＩＩＩ１１×２５ｍｍの正方形の微小な凹
凸形状を有するホログラム型原版を得た。次にこの微小
な凹凸形状を有するホログラム型原版を原版セント用の
ホルダーに取り付け、ホルダーのバキュームにより固定
した。

一方、２００ｍｍ　Ｘ　２００ｍｍの正方形で厚さ２．
０ｍｍのガラス基板表面にシランカンプリング処理を行
い、その後、ガラス基板上に紫外線で硬化する樹脂液（
粘度３０〜４０ＣＰＳ　）をスピンナーを用いて厚さが
１００　μｍ程度になるように均一に塗布して未硬化の
紫外線硬化樹脂を塗布した基板を得て、その後、この基
板をセントするホルダーに固定した。次に原版セント用
ホルダーを上昇させて、微小な凹凸形状を有するホログ
ラム型原版を未硬化樹脂層に前記原版表面を接触させる
程度に押圧して微小な凹凸形状の溝に未硬化樹脂を充填
し、また、これと同時にマスクと一体となっている紫外
線照射ユニットをマスクに取り付けであるシャッターを
閉じた状態で下降させて、ガラス基板に密着させ、そし
て、一定量の紫外線照射後、シャッターを閉じ、原版セ
ット用ホルダー及び紫外線照射ユニソＩ・をそれぞれ下
降、上昇させて、その後、未硬化樹脂の部分に、原版セ
ット用ホルダー及び紫外線照射ユニシトを移動させて再
び上記手順を行った。

以上の手順を基板の横方向に６回ずつ、縦方向に６回ず
つ行い、計３６個のホログラム複製型を紫外線硬化樹脂
層に形成し、最後に前記樹脂層を有する基板全面を紫外
線照射して、３６個の微小な凹凸形状を有するホログラ
ム複製型を有するホログラム複製用多面材は原版を得る
ことができた。

〈発明の効果〉 本発明によりホログラム複製用多面材は原版を作製する
際に各微小な凹凸形状を有するホログラム複製型の間の
部分に間隙や溝が発生しないのでＮ１メノキ工程におけ
るトラブルが生じず、かつホログラム複製用多面材は原
版からのＮｉメツキ層の離型が容易になり、さらにＮｉ
メツキ層によって形成された上記原版の複製板を用いて
プレス法により熱可塑性樹脂に微小な凹凸形状を転写し
た場合良好な転写が行えた。また−枚の大きな基板上に
塗布された樹脂層に順次微小な凹凸形状を有するホログ
ラム複製型を形成できるので、ホログリム複製用多面付
は原版を簡単にしかも短時間に作製でき、製造コストの
ダウン化につながった。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の実施例を示すもので、第１図は、Ｎ１メ
ツキによりＮ１メツキ層に微小な凹凸形状を有するホロ
グラム型原版を形成した状態を示す説明図であり、第２
図は、基板に塗布した樹脂層に微小な凹凸形状を有する
ホログラム複製型を多面付けする方法を説明する図であ
り、Ａは樹脂層に微小な凹凸形状を有するホログラム複
製型を形成する前の状態を示す図であり、Ｂは樹脂層に
微小な凹凸形状を有するホログラム複製型を形成する直
前の状態を示す図であり、Ｃは樹脂層に微小な凹凸形状
を有するホログラム複製型を形成中の状態を示す図であ
り、Ｄは樹脂層に微小な凹凸形状を有するホログラム複
製型を形成した後の状態示す図であり、Ｅは未硬化樹脂
のある樹脂層に再び微小な凹凸形状を有するホログラム
複製型を形成中の状態を示す図であり、第３図は樹脂層
に微小な凹凸形状を有するホログラム複製型が多面付け
された状態を説明する図であり、Ａは多面付けされた直
後の状態を示す図であり、Ｂは基板にエネルギーを照射
して樹脂層全体を硬化させてホログラム複製用多面付は
原版を得た状態を示す図である。 １　・微小な凹凸形状を有するホログラム２・・芸着脱 ３　・・Ｎ＋メツキ層 ４・・微小な凹凸形状を有するホログラム型原版（原版
） ５・・・原版をセットするホルダー ６　・未硬化樹脂 ７　　・　基　（反 ８・・・基十反セント用ホルダー ９・・マスク １０・エネルギー照射系 １１・・ンヤノター １２・・・原版をセットしたホルダー系１３・・・未硬
化樹脂層 １４・・・原版表面 １５・エネルギー １６・微小な凹凸形状を有するホログラム複製型１７・
・・ホログラム複製用多面付は原版時　　許　　出　　
願　　人 凸版印刷株式会社

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １）基板上に外部エネルギーによって硬化性を有する樹
   脂層を形成し、この樹脂層側に基板と比較して数分の一
   の大きさを持った微小な凹凸形状を有するホログラム型
   原版を設置し、樹脂層の反対側に微小な凹凸形状を有す
   るホログラム型原版形状と同じ形状かつ同じ大きさを有
   するマスクと一体になっているエネルギー照射系を設置
   して、微小な凹凸形状を有するホログラム型原版の樹脂
   層への押圧時、この微小な凹凸形状を有するホログラム
   型原版部分のみに、マスクを通してエネルギーを照射し
   て部分的に樹脂層を硬化させることにより、微小な凹凸
   形状を有するホログラム複製型を形成せしめ、前記手続
   きを未硬化樹脂層部において複数回行うことを特徴とす
   るホログラム複製用多面付け原版の製造方法。