DK160167B - Fremgangsmaade og apparat til fremstilling af et makroskopoisk flademoenster med en mikroskopisk struktur, isaer en diffraktionsoptisk virksom struktur. - Google Patents

Fremgangsmaade og apparat til fremstilling af et makroskopoisk flademoenster med en mikroskopisk struktur, isaer en diffraktionsoptisk virksom struktur. Download PDF

Info

Publication number
DK160167B
DK160167B DK304085A DK304085A DK160167B DK 160167 B DK160167 B DK 160167B DK 304085 A DK304085 A DK 304085A DK 304085 A DK304085 A DK 304085A DK 160167 B DK160167 B DK 160167B
Authority
DK
Denmark
Prior art keywords
embossing
thermoplastic layer
matrix
pattern
pressure
Prior art date
Application number
DK304085A
Other languages
English (en)
Other versions
DK160167C (da
DK304085A (da
DK304085D0 (da
Inventor
Gregor Antes
Original Assignee
Landis & Gyr Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Landis & Gyr Ag filed Critical Landis & Gyr Ag
Publication of DK304085D0 publication Critical patent/DK304085D0/da
Publication of DK304085A publication Critical patent/DK304085A/da
Publication of DK160167B publication Critical patent/DK160167B/da
Application granted granted Critical
Publication of DK160167C publication Critical patent/DK160167C/da

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H1/0276—Replicating a master hologram without interference recording
    • G03H1/028—Replicating a master hologram without interference recording by embossing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
    • G06K1/00—Methods or arrangements for marking the record carrier in digital fashion
    • G06K1/12—Methods or arrangements for marking the record carrier in digital fashion otherwise than by punching
    • G06K1/126—Methods or arrangements for marking the record carrier in digital fashion otherwise than by punching by photographic or thermographic registration
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
    • G06K19/00—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings
    • G06K19/06—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code
    • G06K19/08—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code using markings of different kinds or more than one marking of the same kind in the same record carrier, e.g. one marking being sensed by optical and the other by magnetic means
    • G06K19/10—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code using markings of different kinds or more than one marking of the same kind in the same record carrier, e.g. one marking being sensed by optical and the other by magnetic means at least one kind of marking being used for authentication, e.g. of credit or identity cards
    • G06K19/16—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code using markings of different kinds or more than one marking of the same kind in the same record carrier, e.g. one marking being sensed by optical and the other by magnetic means at least one kind of marking being used for authentication, e.g. of credit or identity cards the marking being a hologram or diffraction grating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
    • B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
    • B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
    • B29C35/0805—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
    • B29C2035/0838—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation using laser
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2101/00—Use of unspecified macromolecular compounds as moulding material
    • B29K2101/12—Thermoplastic materials
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
    • B29L2011/00—Optical elements, e.g. lenses, prisms
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
    • B29L2017/00—Carriers for sound or information
    • B29L2017/001—Carriers of records containing fine grooves or impressions, e.g. disc records for needle playback, cylinder records
    • B29L2017/003—Records or discs
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H1/0236—Form or shape of the hologram when not registered to the substrate, e.g. trimming the hologram to alphanumerical shape
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
    • G03H1/024—Hologram nature or properties
    • G03H1/0244—Surface relief holograms
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
    • G03H1/0493—Special holograms not otherwise provided for, e.g. conoscopic, referenceless holography
    • G03H2001/0497—Dot matrix holograms
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H2224/00—Writing means other than actinic light wave
    • G03H2224/06—Thermal or photo-thermal means
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H2260/00—Recording materials or recording processes
    • G03H2260/50—Reactivity or recording processes
    • G03H2260/61—Producing material deformation

Description

1 DK 160167 B
Opfindelsen angår en fremgangsmåde til fremstilling af et makroskopisk flademønster med en mikroskopisk struktur af den i krav Γ$ indledning angivne art. Opfindelsen angår desuden et apparat til gennemførelse af fremgangsmåden.
5 Sådanne flademønstre tjener f.eks. som et diffraktionsoptisk sikkerhedselement på et dokument (EP-A-0 105 099). De kan være udformede som geometriske figurer, tal, bogstaver, ornamenter, guillocheringer osv. og kan være sammensat ved sammenkædning af et stort antal diffraktionsoptiske elementer. Denne syntese kan real i-10 seres ved, at diffraktionsoptiske strukturer fremstilles ved inter-ferometrisk overlejring af kohærente lysstråler med forskellige indfaldsvinkler, der fotolitografisk omsættes til et overflademi-kroprofil (EP-A-0 105 099), hvorunder der til geometrisk begrænsning af de felter, der skal belyses, kan anvendes forfabrikerede optiske 15 masker. Dersom flademønsteret, der skal fremstilles, og dets mikroskopiske struktur overskrider en bestemt grad af grafisk og strukturel kompleksitet, viser masketeknikken sig at være prohibitiv kostbar. Endvidere kan diffraktionsoptiske strukturelementer med asymmetrisk profil, f.eks. specielle savtandprofiler, ikke frem-20 stilles ved den nævnte interferometriske metode.
Det er kendt at fremstille diffraktionsoptisk virksomme strukturer, såsom fasediffraktionsgitre, fasehologrammer og lignende ved prægning i et termoplastisk substrat ved hjælp af en prægematrice under anvendelse af tryk og varme (CH-PS 594 495). Op-25 bygningen af et flademønster med diffraktionsoptisk virksom struktur ville derfor også kunne ske ved, at man ved gentagne prægninger i et termoplastisk substrat samler talrige fasediffraktionselementer med hinanden. Denne metode fører imidlertid til utilfredsstillende resultater, dels fordi der ved prægekanterne mellem den opvarmede 30 trykzone og den uopvarmede trykløse flade uden for prægeområdet opstår forstyrrende vulster, og dels fordi de forskellige prægezoner ikke kan lægges sømløst mod hinanden, idet kantzonen af en tilstødende gammel prægning nødvendigvis udslettes ved kanten af en ny prægning på grund af metal prægematricers store termiske masse.
35 Fra CH-PS 594 495 er det også kendt at forme valgbare områder af en prægematrice med en mikrostruktur, ved at prægematricen kun opvarmes lokalt eller kun lokalt trykkes mod det termoplasti ske substrat. Derved fås imidlertid ingen skarpt definerede grænser mellem prægede og ikke-prægede partier.
2 DK Ί60167Β
Formålet med opfindelsen er at angive en fremgangsmåde af den i krav l's indledning angivne art samt et apparat, hvormed det er muligt ved afformning af udvalgte fladeområder af en prægematrice, der har en mikrostruktur på økonomisk måde at tilvejebringe et 5 flademønster med en mikroskopisk struktur, ved hvilket prægekanterne er skarpt begrænsede, og som ikke har forstyrrende vulster.
Fremgangsmåden ifølge opfindelsen er kendetegnet i krav 1, og apparatet ifølge opfindelsen til gennemførelse af fremgangsmåden er kendetegnet i krav 8. Fordelagtige videreudformninger er angivet 10 i under kravene.
I det følgende forklares udførelseseksempler på opfindelsen nærmere under henvisning til tegningen. På tegningen viser.
Fig. 1 en principskitse af et apparat ifølge opfindelsen til fremstilling af et flademønster, 15 fig- 2-4 forskellige flademønstre, fig. 5 et stempel, og fig. 6 en principskitse af et apparat til afføling af et mønsterforbi11ede.
I tegningens ikke målestokstro fig. 1 betyder 1 en plan stiv 20 og optisk transparent trykplade. På denne er der på ikke nærmere vist måde fastgjort et optisk transparent substrat 2. Den bort fra trykpladen 1 vendende overflade af substratet 2 er belagt med et tyndt lag 3 af et termoplastisk strålingsabsorberende materiale, i hvilket der skal præges et makroskopisk flademønster med en mikro-25 skopisk struktur, fortrinsvis en diffraktionsoptisk virksom struktur. Laget 3 kan f.eks. bestå af en sort eller farvet formstoffol ie.
Det kan også dannes ved farvning af overfladen af substratet 2, f.eks. ved hjælp af kolloidt kulstof i en kunststofopløsning. Dets typiske tykkelse er 0,1-10 jum.
30 Ud for det termoplasti ske lag 3 er der anbragt en uopvarmet prægematrice 4 med en mikrostruktur, der skal afformes zonevis og f.eks. består af en nikkellegering og fordelagtigt er så fleksibel, at der ved hjælp af et stempel 5 kan fremstilles et flademæssigt snævert begrænset prægetryk mellem prægematricen 4 og det termo-35 plastiske lag 3. Den typiske tykkelse af prægematricen er 100 μια. Stemplet 5 har fordelagtigt en konveks overflade med en typisk krumningsradius på ca. 7 mm. Ved hjælp af et trykapparat 6 trykkes stemplet 5 mod prægematricen 4 og trykker denne i en lille kontaktzone 7, hvis typiske diameter er 3 mm, mod det termoplasti ske lag 3.
DK 160167 B
3
En i fig. 1 skematisk antydet matriceholder 8 fastholder prægematricen 4 på en sådan måde, at denne kun ligger an mod det termo-pl asti ske lag 3 i selve kontaktzonen 7 men ellers har en lille afstand fra det termoplasti ske lag. Matriceholderen 8 er fordelag-5 tigt udført på en sådan måde, at prægematricen 4 med få enkle håndgreb eller endog maskinelt kan drejes eller udskiftes med en anden prægematrice med anden mikrostruktur, når trykapparatet 6 befinder sig i hvilestilling.
På den bort fra prægematricen 4 vendende side af trykpladen 10 1 er der fordelagtigt anbragt en af en laser 9, en optisk modulator 10 og et linsesystem 11 bestående strålekilde 12, der fokuserer en samlet varme- eller lysstråle 13 i en brændplet 14 i det termopla-stiske lag 3 og tilnærmelsesvis i centrum af kontaktzonen 7. Ved absorption af den direkte indfaldende stråle 13 og den mod prægema-15 tri een 4 reflekterede stråle opvarmes laget 3 i brændpletten 14's område. Den typiske diameter af brændpletten 14 er mindre end 100 pi. Ved hjælp af modul atoren 10 kan varme-eller lysstrålen 13's energi styres, eller lysstrålen 13 tændes og slukkes.
Trykapparatet 6 tillader en forskydning af stemplet 5 i 20 z-aksen, der ligger vinkelret på overfladen af delene 1-4. Appara-tets beskrevne konstruktionsdele er monterede på en ikke-vist grundplade på en sådan måde, at trykpladen 1, substratet 2 med det termoplasti ske lag 3 og prægematricen 4 kontinuerligt eller trinvis kan forskydes i forhold til brændpletten 14 og stemplet 5 både i 25 x-aksen og i y-aksen, d.v.s. i et med det termopl asti ske lag 3 parallelt plan. Hertil kan delene 1-4 være forskydelige, og delene 5 og 12 være stationære eller omvendt. Det er også muligt at anbringe delene 1-4 og 12 stationært og ved hjælp af et spejlsystem at lade strålen 12 følge bevægelsen af stemplet 5 i x-y-planet.
30 Prægetrykket indstilles ved hjælp af trykapparatet 6 på en sådan måde, at det termoplastiske lag 3 i dettes kolde tilstand kun elastisk deformerende tilpasser sig efter prægematricen 4's mikrostruktur i kontaktzonen 7 og ved prægetrykkets ophør atter afspænder sig til dets oprindelige, d.v.s. glatte tilstand. Dersom strålen 13 35 imidlertid tændes, samtidig med at prægetrykket udøves, opvarmes det strålingsabsorberende termoplasti ske lag 3 så meget over blødgø-ringstemperaturen i et tilnærmelsesvis punktformet fladeelement, der ligger i strålekilden 12's brændplet 14, at dette fladeelements overflade deformeres plastisk svarende til prægematricen 4's
„ DK 160167 B
4 mikrostruktur og den prægede struktur og bibeholder den prægede struktur efter afkøling, når prægetrykket ophører. Det ønskede flademønster sammensættes nu af flere sådanne fladeelementer.
Ved stationær skrivemåde tændes strålen 13 kun kortfristet.
5 Derefter afkøles det opvarmede volumen af det termoplasti ske lag 3 hurtigt ved varmeafgivelse til prægematricen 4 og stemplet 5 samt til laget 3 henholdsvis substratet 2. Trykapparatet 6 bringer stemplet 5 i hvilestilling og adskiller derved prægematricen 4 fra det termoplastiske lag. I brændpletten 14's område bibeholdes den 10 prægede struktur. Derefter gentages denne prægeproces successivt, idet substratet 2 med dets termoplasti ske lag 3 mellem de enkelte prægninger og ved slukket strålekilde 12 og ophævet prægetryk forskydes et bestemt stykke i en bestemt retning i x-y-planet i forhold til brændpletten 14 og stemplet 5. Mellem de enkelte præg-15 ninger kan prægematricen 4 udskiftes eller drejes et bestemt stykke om x-aksen. Derved kan sammenhængende eller fra hinanden adskilte områder af laget 3 forsynes med ønskede mikroskopiske strukturer.
Ved dynamisk skrivemåde forskydes prægematricen 4 og substratet 2 med laget 3 ved tændt strålekilde 12 og arbejdende tryk-20 apparat 6 kontinuerligt med bestemt hastighed i forhold til brændpletten 14 og stemplet 5, således at sammenhængende båndformede fladeområder af prægematricen 4's mikrostruktur afformes. Også ved dynamisk skrivemåde kan der ved successiv afformning tilvejebringes ønskede flademønstre med mikroskopisk struktur.
25 De ved den beskrevne fremgangsmåde fremstillede makro skopiske flademønstre kan være geometriske figurer, tal, bogstaver, ornamenter, guillocheringer osv.,, hvis mikroskopiske struktur danner et eneste eller flere forskellige fasediffraktionsgitre, faseholo-grammér, kinoforms og lignende. Således er det f.eks. muligt på 30 økonomisk måde at fremstille et komplekst fletværk af sammenslyngede makroskopiske linier med diffraktionsoptisk virksom mikroskopisk struktur i det termoplasti ske lag, hvor de mikroskopiske strukturer ændres fra linie til linie eller endog langs en linie, f.eks. varierer kvasikontinuerligt, således at der for det menneskelige øje 35 opstår en virkning som farvet bevægede guillocheringsmønstre. Den beskrevne fremgangsmåde kan dog f.eks. også anvendes til fremstilling af finkonturerede mikrostrukturer, således som de f.eks. anvendes inden for den såkaldte integrerede optik.
Af det på det termoplasti ske lag 3 fremstillede flademønster
DK 160167 B
5 kan der ved kendte kemiske og galvaniske fremgangsmåder fremstilles et duplikat i form af en metal prægematrice, der anvendes til massereproduktion af flademønsteret i et konventionelt prægeapparat.
Fig. 2 viser som et enkelt eksempel på et ved den beskrevne 5 fremgangsmåde fremstillet flademønster et smalt bånd, der er fremstillet ved en eneste skrivebevægelse i y-aksen. Bredden af båndet er tilnærmelsesvis lig med eller lidt større end diameteren af brændpletten 14 og er f.eks. 50 μια. Båndets struktur danner f.eks. et lineært fasediffraktionsgitter med 10-2000 linier pr. mm.
10 Ved samling af flere sådanne bånd, som vist i fig. 3, kan der fremstilles flademønstre af ønsket størrelse, hvor de mikroskopiske strukturer af ved siden af hinanden beliggende bånd går sømløst over i hinanden. Dersom flere sådanne bånd anbringes ved siden af hinanden, uden at prægematricen 4 herunder bevæges i 15 forhold til laget 3, opstår der, som det ses i fig. 3, en mikroskopisk struktur, hvis strukturlinier sømløst forløber over flere bånd.
Som det ses i fig. 4 kan en fremstillet struktur overskrives påny. Derved slettes den gamle struktur, dersom strålens energi- tæthed er tilstrækkelig stor. Dette forenkler fremstillingen af 20 komplekse strukturer, idet de fladeområder, der ved en påfølgende anden skrivning skal udfyldes med en anden struktur, ikke skal lades være fri ved den første skrivning.
Ved nøjagtig dosering af strålen 13's energitæthed og skrivehastigheden er det imidlertid også muligt oven på den gamle 25 struktur at præge en ny struktur, uden at den gamle struktur slettes helt.
Fordelene ved opfindelsen ses let. Som allerede nævnt kan både meget små linie- eller punktformede flader og større sammenhængende fladedele forsynes med diffraktionsoptisk virksomme mikro-30 strukturer uden synlige sømlinier ved skrivninger tæt op mod hinanden eller delvis overskrivning. Strukturerne af sådanne flademønstres enkelte fladeelementer kan være identiske eller variere fra element til element. Der kan også afformes mi kroprofil er, der ikke kan fremstilles ved interferometriske metoder. Prægekanterne er 35 skarpt afgrænsede og har ingen forstyrrende vulster. Generelt er det ved den beskrevne fremgangsmåde for første gang muligt at fremstille fint konturerede mikrostrukturer uden at være bunde til stive maskesystemer og at automatisere forløbet af fremgangsmåden ved nummerisk programmering og styring.
DK 160167 B
e
Dersom prægetrykket ved hjælp af stemplet 5 udelukkende udøves i brændpletten 14's område, vil uønskede partielle koldde-f ormeri nger af laget 3 som følge af prægematricen 4's tryk under hele prægetiden være reduceret til det ubetinget nødvendige med 5 hensyn til varigheden og hyppigheden ved steder, hvor prægematricen 4's mikrostruktur ikke skal afformes. Endvidere lettes udskiftningen af matricen, og i sammenligning med trykudøvelsen over den fulde flade kan der anvendes væsentligt mindre prægekræfter, hvilket letter den mekaniske udførelse af apparatet.
10 I fig. 5 ses et stempel 5', der består af en kugleholder 15 og en kugle 16. Kuglen 16 ligger med lille spillerum i et cylindrisk rum 17 i kugleholderen 15. Det cylindriske rum 17's længdeakse falder sammen med x-aksen (fig. 1). En del af kuglen 16 rager ud af kugleholderen 15 og danner den konvekse overflade af stemplet 5'.
15 Rummet 17 er over en trykluftledning 18 og en magnetventil 19 forbundet med en som trykapparat 6' virkende trykluftkilde 20.
Luftovertrykket i rummet 17, der trykker kuglen 16 mod prægematricen 4 (fig. 1), kan afbrydes og atter oprettes ved hjælp af magnetventilen 19 og kan varieres fint inden for vide grænser, 20 hvilket muliggør en nøjagtig justering af prægetrykket. Den automatiserede afbrydelse af prægetrykket ved hjælp af magnetventilen 19 muliggør på enkel måde udskiftning, drejning eller forskydning af prægematricen 4. Luftlejringen af kuglen 16 ved dens sider sikrer en lille rullemodstand. Lækluften, der undviger mellem kuglen 16 og 25 kugleføringens cylindriske væg, giver en luftkøling af kuglen 16.
I fig. 6 betegner 21 et grafisk forbillede, hvis makrosko piske flademønster 22 aftastes ved hjælp af en optoelektronisk aftaster 23, og som et makroskopisk flademønster med mikroskopisk struktur gengives målestokstro på laget 3 (fig. 1). En forskyd-30 ningsenhed 24 fører den af en lyskilde, et linsesystem og en lysdetektor (ikke vist) bestående aftaster 23, f.eks. linie for linie hen over mønsterforbiIlede 21. Synkront hermed forskydes brændpletten 14 og stemplet 5 i forhold til laget 3 og prægematricen 4. På tegningen er dette vist i form af en pantograf 25's stangsystem, der bevæges 35 ved hjælp af forskydningsenheden 24 og herunder drejes om et fast drejepunkt 26. Aftasteren 23's elektriske udgang er over en forstærker 27 og en tærskel kontakt 28 forbundet med en styreindgang 29 til strålekilden 12's modulator 10.
Dersom mønsterforbillede 21's lokale reflektivitet
7 DK 160167 B
overskrider en forud fastsat værdi, åbnes modulatoren 10, således at prægematricen 4's mikrostruktur afformes på de korresponderende steder af laget 3. Ved en reflektion, som ligger under den forud fastsatte værdi, sker der derimod hverken en blivende overformning 5 af mikrostrukturen eller en slettelse af en eventuel tidligere præget struktur.
Modulatoren 10 kan også styres på en sådan måde, at der ikke sker en prægning ved større men derimod ved mindre reflektion af mønsterforbilledet. Endvidere kan modulatoren 10 betjenes gradueret 10 i stedet for binært, hvorved afhængigheden af strålen 13's energi af mønsterforbi11edet 21's reflektion kan være lineær eller ikke-line-ær. Den graduerede betjening af modulatoren 10 giver en modulering af bredden af de prægede fladeelementer.
15 20 25 30 35

Claims (10)

1. Fremgangsmåde til fremstilling af et makroskopisk flade- 5 mønster med en mikroskopisk struktur, især en diffraktionsoptisk virksom struktur ved afformning af udvalgte fladeområder af en prægematrice (14) med mikrostruktur i et termoplastisk lag (3), kendetegnet ved, at man ved hjælp af en strålekilde (12) opvarmer et i dennes brændplet (14) liggende tilnærmelsesvis punkt-10 formet fladeelement af det termoplasti ske lag (3), således at prægematricens (4) mikrostruktur kun i dette fladeelement afformes plastisk, og at flademønsteret sammensættes af flere sådanne fladeelementer.
2. Fremgangsmåde ifølge krav 1, kendetegnet ved, 15 at der kun i brændplettens (14) område udøves et prægetryk.
3. Fremgangsmåde ifølge krav 2, kendetegnet ved, at prægetrykket udøves i brændplettens (14) område ved hjælp af et stempel (5,5') med konveks overflade.
4. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 1-3, 20 kendetegnet ved, at sammenhængende båndformede fladeområder af prægematricens (4) mikrostruktur afformes ved kontinuerlig forskydning af prægematricen (4) og det termoplasti ske lag (3) i forhold til brændpletten (14).
5. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 1-3, 25 kendetegnet ved, at det termopl asti ske lag (3) ved afbrudt strålekilde (12) og ophævet prægetryk forskydes trinvis i forhold til brændpletten (14).
6. Fremgangsmåde ifølge krav 5, kendetegnet ved, at prægematricen (4) drejes eller udskiftes ved forskydningen.
7. Fremgangsmåde ifølge et hvilket som helst af kravene 1-6, kendetegnet ved, at et mønsterforbillede (21) aftastes ved hjælp af en optoelektronisk aftaster (23), at prægematricen (4) og det termoplasti ske lag (3) synkront hermed forskydes i forhold til brændpletten (14), og at strålekilden (12) styres på en sådan måde i 35 afhængighed af aftasterens (23) udgangssignal, at prægematricens (4) mikrostruktur kun afformes ved korresponderende steder af laget (3), dersom mønsterforbilledets (21) lokale refleksibilitet overskrider en forud bestemt værdi.
8. Apparat til gennemførelse af fremgangsmåden ifølge et DK 160167 B hvilket som helst af kravene 1-7 med en plan stiv trykplade (1), et substrat (2) med et termoplastisk lag (3), en prægematrice (4) og et stempel (5,5'), kendetegnet ved, at trykpladen er transparent, at der ved den modsat stemplet (5) beliggende side af 5 trykpladen (1) er anbragt en strålekilde (12), hvis brændplet (14) opvarmer et tilnærmelsesvis punktformet fladeelement af det termo-plasti ske lag (3), at stemplet (5,5') har en konveks overflade og udelukkende i brændplettens (14) område fremstiller et prægetryk, og at prægematricen (4) og det termoplasti ske lag (3) er forskydelige i 10 forhold til brændpletten (14) og stemplet (5,5') i et med det termoplasti ske lag (3) parallelt plan.
9. Apparat ifølge krav 8, kendetegnet ved, at stemplet (5') består af en kugleholder (15) og en kugle (16), at kuglen (16) er anbragt i et cylindrisk rum (17) i kugleholderen 15 (15), og at det cylindriske rum (17) over en trykluftledning (18) er sluttet til en trykluftkilde (20).
10. Apparat ifølge krav 8 eller 9, kendetegnet ved, at det har en forskydningsenhed (24), der fører en optoelek-trisk aftaster (23) hen over et mønsterforbiIlede (21) og synkront 20 hermed forskyder prægematricen (4) og det termoplasti ske lag (3) i forhold til brændpletten (14) og stemplet (5,5'), og at aftasterens (23) elektriske udgang er forbundet med en styreindgang (29) til en modulator (10) for energien af den fra strålekilden (12) udgående stråle (13). 25 30 35
DK304085A 1984-07-06 1985-07-03 Fremgangsmaade og apparat til fremstilling af et makroskopoisk flademoenster med en mikroskopisk struktur, isaer en diffraktionsoptisk virksom struktur. DK160167C (da)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH327784 1984-07-06
CH3277/84A CH664030A5 (de) 1984-07-06 1984-07-06 Verfahren zur erzeugung eines makroskopischen flaechenmusters mit einer mikroskopischen struktur, insbesondere einer beugungsoptisch wirksamen struktur.

Publications (4)

Publication Number Publication Date
DK304085D0 DK304085D0 (da) 1985-07-03
DK304085A DK304085A (da) 1986-01-07
DK160167B true DK160167B (da) 1991-02-04
DK160167C DK160167C (da) 1991-07-08

Family

ID=4252505

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DK304085A DK160167C (da) 1984-07-06 1985-07-03 Fremgangsmaade og apparat til fremstilling af et makroskopoisk flademoenster med en mikroskopisk struktur, isaer en diffraktionsoptisk virksom struktur.

Country Status (11)

Country Link
US (1) US4761253A (da)
EP (1) EP0169326B1 (da)
JP (1) JPS6120723A (da)
AT (1) ATE41250T1 (da)
AU (1) AU572314B2 (da)
CA (1) CA1266194A (da)
CH (1) CH664030A5 (da)
DE (1) DE3568651D1 (da)
DK (1) DK160167C (da)
ES (1) ES8702836A1 (da)
NO (1) NO164401C (da)

Families Citing this family (69)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0330738B1 (de) * 1988-03-03 1991-11-13 Landis & Gyr Betriebs AG Dokument
JP2789597B2 (ja) * 1988-03-18 1998-08-20 凸版印刷株式会社 ホログラム複製用多面付け原版の製造方法
ATE125967T1 (de) * 1988-09-30 1995-08-15 Landis & Gry Tech Innovat Ag Strichkodefeld und strichkodeleser.
JP2564638B2 (ja) * 1988-12-30 1996-12-18 太陽誘電株式会社 コンパクトディスクの製造方法
ATE131115T1 (de) * 1991-10-14 1995-12-15 Landis & Gyr Tech Innovat Sicherheitselement.
US5538753A (en) * 1991-10-14 1996-07-23 Landis & Gyr Betriebs Ag Security element
US6219015B1 (en) * 1992-04-28 2001-04-17 The Board Of Directors Of The Leland Stanford, Junior University Method and apparatus for using an array of grating light valves to produce multicolor optical images
EP0683404B1 (en) * 1994-04-08 1999-11-03 Enea Ente Per Le Nuove Tecnologie, L'energia E L'ambiente Method and apparatus for producing diffraction gratings by machine forming in a fast operation cycle
DE59503265D1 (de) * 1995-05-05 1998-09-24 Landis & Gyr Tech Innovat Verfahren zum Aufbringen eines Sicherheitselementes auf ein Substrat
US5629801A (en) * 1995-06-07 1997-05-13 Silicon Light Machines Diffraction grating light doubling collection system
US5798743A (en) * 1995-06-07 1998-08-25 Silicon Light Machines Clear-behind matrix addressing for display systems
US5841579A (en) * 1995-06-07 1998-11-24 Silicon Light Machines Flat diffraction grating light valve
US5661592A (en) * 1995-06-07 1997-08-26 Silicon Light Machines Method of making and an apparatus for a flat diffraction grating light valve
US6064404A (en) * 1996-11-05 2000-05-16 Silicon Light Machines Bandwidth and frame buffer size reduction in a digital pulse-width-modulated display system
US5882770A (en) * 1996-12-31 1999-03-16 Makansi; Munzer Rainbow and hologram images on fabrics
US5982553A (en) 1997-03-20 1999-11-09 Silicon Light Machines Display device incorporating one-dimensional grating light-valve array
US6088102A (en) * 1997-10-31 2000-07-11 Silicon Light Machines Display apparatus including grating light-valve array and interferometric optical system
US6271808B1 (en) 1998-06-05 2001-08-07 Silicon Light Machines Stereo head mounted display using a single display device
US6101036A (en) 1998-06-23 2000-08-08 Silicon Light Machines Embossed diffraction grating alone and in combination with changeable image display
US6130770A (en) 1998-06-23 2000-10-10 Silicon Light Machines Electron gun activated grating light valve
US6215579B1 (en) 1998-06-24 2001-04-10 Silicon Light Machines Method and apparatus for modulating an incident light beam for forming a two-dimensional image
US6303986B1 (en) 1998-07-29 2001-10-16 Silicon Light Machines Method of and apparatus for sealing an hermetic lid to a semiconductor die
GB2365815B (en) * 1999-01-22 2002-10-30 Sony Corp Manufacture of optical elements
JP2000214884A (ja) 1999-01-22 2000-08-04 Olympus Optical Co Ltd 音声記録装置
JP4099887B2 (ja) * 1999-01-22 2008-06-11 ソニー株式会社 光学素子の製造方法、並びに光学素子製造用金型
DE19925175C1 (de) * 1999-05-27 2000-05-25 Jenoptik Jena Gmbh Einrichtung und Verfahren zur Übertragung von Mikrostrukturen
US6589628B1 (en) * 2000-06-27 2003-07-08 Omnova Solutions Inc. Article having optical effects
US20050037143A1 (en) * 2000-07-18 2005-02-17 Chou Stephen Y. Imprint lithography with improved monitoring and control and apparatus therefor
US7211214B2 (en) * 2000-07-18 2007-05-01 Princeton University Laser assisted direct imprint lithography
TW571291B (en) * 2001-01-31 2004-01-11 Ibm Mechanical data processing
US6707591B2 (en) 2001-04-10 2004-03-16 Silicon Light Machines Angled illumination for a single order light modulator based projection system
US6782205B2 (en) 2001-06-25 2004-08-24 Silicon Light Machines Method and apparatus for dynamic equalization in wavelength division multiplexing
US6747781B2 (en) 2001-06-25 2004-06-08 Silicon Light Machines, Inc. Method, apparatus, and diffuser for reducing laser speckle
US6829092B2 (en) 2001-08-15 2004-12-07 Silicon Light Machines, Inc. Blazed grating light valve
US6800238B1 (en) 2002-01-15 2004-10-05 Silicon Light Machines, Inc. Method for domain patterning in low coercive field ferroelectrics
DE50200284D1 (de) * 2002-01-25 2004-04-15 Leister Process Technologies S Verfahren zum Abformen von Mikro- und Nanostrukturen
US6767751B2 (en) 2002-05-28 2004-07-27 Silicon Light Machines, Inc. Integrated driver process flow
US6728023B1 (en) 2002-05-28 2004-04-27 Silicon Light Machines Optical device arrays with optimized image resolution
US6822797B1 (en) 2002-05-31 2004-11-23 Silicon Light Machines, Inc. Light modulator structure for producing high-contrast operation using zero-order light
WO2004000566A1 (en) * 2002-06-20 2003-12-31 Obducat Ab Method and device for transferring a pattern
US6829258B1 (en) 2002-06-26 2004-12-07 Silicon Light Machines, Inc. Rapidly tunable external cavity laser
US6714337B1 (en) 2002-06-28 2004-03-30 Silicon Light Machines Method and device for modulating a light beam and having an improved gamma response
US6813059B2 (en) 2002-06-28 2004-11-02 Silicon Light Machines, Inc. Reduced formation of asperities in contact micro-structures
JP2005535483A (ja) * 2002-08-09 2005-11-24 レオナード クルツ ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー レーザー支援複製プロセス
DE10236597A1 (de) 2002-08-09 2004-02-19 Leonhard Kurz Gmbh & Co. Kg Laserunterstütztes Replizierverfahren
US6801354B1 (en) 2002-08-20 2004-10-05 Silicon Light Machines, Inc. 2-D diffraction grating for substantially eliminating polarization dependent losses
US6712480B1 (en) 2002-09-27 2004-03-30 Silicon Light Machines Controlled curvature of stressed micro-structures
US7295717B2 (en) * 2002-10-16 2007-11-13 Ecole polytechnique fédérale de Lausanne (EPFL) Synthesis of superposition images for watches, valuable articles and publicity
US7194105B2 (en) * 2002-10-16 2007-03-20 Hersch Roger D Authentication of documents and articles by moiré patterns
US7305105B2 (en) 2005-06-10 2007-12-04 Ecole polytechnique fédérale de Lausanne (EPFL) Authentication of secure items by shape level lines
US7751608B2 (en) * 2004-06-30 2010-07-06 Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) Model-based synthesis of band moire images for authenticating security documents and valuable products
JP2005005245A (ja) * 2002-11-08 2005-01-06 Fuji Photo Film Co Ltd 転写素材の転写方法、形状転写方法及び転写装置
US6806997B1 (en) 2003-02-28 2004-10-19 Silicon Light Machines, Inc. Patterned diffractive light modulator ribbon for PDL reduction
US6829077B1 (en) 2003-02-28 2004-12-07 Silicon Light Machines, Inc. Diffractive light modulator with dynamically rotatable diffraction plane
US7245406B2 (en) 2003-09-17 2007-07-17 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method for forming fine concavo-convex patterns, method for producing optical diffraction structure, and method for copying optical diffraction structure
US7037458B2 (en) * 2003-10-23 2006-05-02 Intel Corporation Progressive stamping apparatus and method
JP2005352334A (ja) * 2004-06-14 2005-12-22 Dainippon Printing Co Ltd 光回折構造転写シート及びその製造方法
JP4569185B2 (ja) * 2004-06-15 2010-10-27 ソニー株式会社 フィルム構造体の形成方法及びフィルム構造体
GB0426724D0 (en) * 2004-12-06 2005-01-12 Rue De Int Ltd Improved hologram
US20070194239A1 (en) * 2006-01-31 2007-08-23 Mcallister Abraham Apparatus and method providing a hand-held spectrometer
US7721843B1 (en) * 2006-02-08 2010-05-25 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Visual acoustic device
EP2104930A2 (en) 2006-12-12 2009-09-30 Evans & Sutherland Computer Corporation System and method for aligning rgb light in a single modulator projector
DE102007039591A1 (de) 2007-08-22 2009-02-26 Giesecke & Devrient Gmbh Gitterbild
US8358317B2 (en) 2008-05-23 2013-01-22 Evans & Sutherland Computer Corporation System and method for displaying a planar image on a curved surface
US8702248B1 (en) 2008-06-11 2014-04-22 Evans & Sutherland Computer Corporation Projection method for reducing interpixel gaps on a viewing surface
US8077378B1 (en) 2008-11-12 2011-12-13 Evans & Sutherland Computer Corporation Calibration system and method for light modulation device
US8351087B2 (en) * 2009-06-15 2013-01-08 Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) Authentication with built-in encryption by using moire parallax effects between fixed correlated s-random layers
US9641826B1 (en) 2011-10-06 2017-05-02 Evans & Sutherland Computer Corporation System and method for displaying distant 3-D stereo on a dome surface
TWI672212B (zh) * 2016-08-25 2019-09-21 國立成功大學 奈米壓印組合體及其壓印方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3170008A (en) * 1961-03-14 1965-02-16 Litton Systems Inc Embossing process
US3262122A (en) * 1963-05-01 1966-07-19 Ibm Thermoplastic memory
FR1603960A (da) * 1967-09-11 1971-06-21
US4064205A (en) * 1974-07-02 1977-12-20 Logetronics, Inc. Method for making a printing plate from a porous substrate
CH594495A5 (da) * 1976-05-04 1978-01-13 Landis & Gyr Ag
FR2401484A1 (fr) * 1977-08-25 1979-03-23 Landis & Gyr Ag Dispositif d'empreinte d'hologrammes dans un support thermoplastique
JPS59111820A (ja) * 1982-12-16 1984-06-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光情報担体デイスクの製造方法
AU4922485A (en) * 1984-11-09 1986-05-15 Canadian Patents And Development Limited Optical interference authenticating device

Also Published As

Publication number Publication date
DK160167C (da) 1991-07-08
EP0169326A1 (de) 1986-01-29
US4761253A (en) 1988-08-02
NO852716L (no) 1986-01-07
ES8702836A1 (es) 1987-01-16
ES544893A0 (es) 1987-01-16
DK304085A (da) 1986-01-07
CA1266194A (en) 1990-02-27
NO164401C (no) 1990-10-03
AU4467485A (en) 1986-01-09
DK304085D0 (da) 1985-07-03
DE3568651D1 (en) 1989-04-13
EP0169326B1 (de) 1989-03-08
CH664030A5 (de) 1988-01-29
JPH0423897B2 (da) 1992-04-23
AU572314B2 (en) 1988-05-05
JPS6120723A (ja) 1986-01-29
ATE41250T1 (de) 1989-03-15
NO164401B (no) 1990-06-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DK160167B (da) Fremgangsmaade og apparat til fremstilling af et makroskopoisk flademoenster med en mikroskopisk struktur, isaer en diffraktionsoptisk virksom struktur.
US5461495A (en) Apparatus for providing autostereoscopic and dynamic images and method of manufacturing same
US4223050A (en) Process for embossing a relief pattern into a thermoplastic information carrier
US5920380A (en) Apparatus and method for generating partially coherent illumination for photolithography
WO1994004948A9 (en) Apparatus for providing autostereoscopic and dynamic images and method of manufacturing same
US7401550B2 (en) Laser-assisted replication method
KR20200068713A (ko) 중합체 생성물들을 주조하기 위한 방법들 및 장치들
EP1150843B1 (en) Method and device for rotational moulding of surface relief structures
EP1685449A4 (en) HOLOGRAPHIC EMBOSSING SUBSTRATE WITHOUT JOINTS PRODUCED BY LASER ABLATION
PL180287B1 (pl) Sposób zamykania porów na wybranych obszarach powierzchni porowatychtworzyw termoplastycznych PL PL PL
CN107272330A (zh) 压印设备、压印方法、制造物品的方法及模具
KR20070029320A (ko) 대면적 도광판 제조장치 및 제조방법
US7357075B2 (en) Laser-supported reproduction method
JP2003311831A (ja) 凹凸パターンの形成方法
Eshel et al. Programmable thermocapillary shaping of thin liquid films
CN85105065A (zh) 具有微观结构的宏观表面图样的生成方法
WO2018004900A1 (en) Optically variable film, apparatus and method for making the same
GB2223861A (en) Making a product having a multiplicity of fine lines
DE10155741A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von interferentiell-optischen Linearmaßstäben zur Verwendung in einem optischen Längenmesssystem sowie optisches Längenmesssystem mit einem derartig hergestellten Maßstab
JPH05138746A (ja) 光学的立体造形装置
JP2001183960A (ja) 光情報記録体およびその記録方法

Legal Events

Date Code Title Description
AHB Application shelved due to non-payment
PBP Patent lapsed