JPS61171446A - 含酸素化合物の製造方法 - Google Patents
含酸素化合物の製造方法Info
- Publication number
- JPS61171446A JPS61171446A JP60240539A JP24053985A JPS61171446A JP S61171446 A JPS61171446 A JP S61171446A JP 60240539 A JP60240539 A JP 60240539A JP 24053985 A JP24053985 A JP 24053985A JP S61171446 A JPS61171446 A JP S61171446A
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- JP
- Japan
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- catalyst
- oxygen
- compound
- ethanol
- carrier
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一酸化炭素及び水素を、ロジウム、ニオブ、コ
バルト及びイリジウムからなる触媒と接触させ、主とし
てエタノール等の炭素数２の含酸素化合物を製造する方
法に関する。
バルト及びイリジウムからなる触媒と接触させ、主とし
てエタノール等の炭素数２の含酸素化合物を製造する方
法に関する。
−酸化炭素及び水素から炭素数２の含酸素化合物を直接
製造する方法として、ロジウム及びニオブを触媒成分と
して使用する方法は特開昭５６−５１４２５、特開昭５
６−１５８７２０、特開昭５６−１４７７５１等として
知られている。しかしこれらの方法は高価な貴金属であ
ゐロジウム単位麓当シの目的含酸素化合物の収量が少な
く、工業的にすぐれた触媒とは言い難い。
製造する方法として、ロジウム及びニオブを触媒成分と
して使用する方法は特開昭５６−５１４２５、特開昭５
６−１５８７２０、特開昭５６−１４７７５１等として
知られている。しかしこれらの方法は高価な貴金属であ
ゐロジウム単位麓当シの目的含酸素化合物の収量が少な
く、工業的にすぐれた触媒とは言い難い。
本発明はロジウム及びニオブよりなる触媒に更に他の触
媒成分を加えることにより目的とする含酸素化合物、特
にエタノールの収量を向上させる方法であ〕、−酸化炭
素及び水素を、ロジウム、ニオブ、コバルト及びイリジ
ウムからなる触媒と接触させることからなる。
媒成分を加えることにより目的とする含酸素化合物、特
にエタノールの収量を向上させる方法であ〕、−酸化炭
素及び水素を、ロジウム、ニオブ、コバルト及びイリジ
ウムからなる触媒と接触させることからなる。
本発明触媒を調製するのに用いられる原料化合物として
は上記各元素の酸化物、塩化物、臭化物、硝酸塩、炭酸
塩等の無機化合物、酢酸塩、シュウ酸塩、アセチルアセ
トナート塩、ジメチルグリオキシム塩、エチレンジアミ
ン４酢酸塩等の有機塩、その他キレート化合物、カルボ
ニル化物、シクロペンタジェン化物、アンミン錯体、金
属アルコキシド、アルキル金属化合物等、通常貴金属触
媒を調整する際に用いられる化合物を広く利用すること
が出来る。これらの触媒成分は含浸法、浸漬法、イオン
交換法、共沈法、混練法響によシ担体上に分散させて使
用する。
は上記各元素の酸化物、塩化物、臭化物、硝酸塩、炭酸
塩等の無機化合物、酢酸塩、シュウ酸塩、アセチルアセ
トナート塩、ジメチルグリオキシム塩、エチレンジアミ
ン４酢酸塩等の有機塩、その他キレート化合物、カルボ
ニル化物、シクロペンタジェン化物、アンミン錯体、金
属アルコキシド、アルキル金属化合物等、通常貴金属触
媒を調整する際に用いられる化合物を広く利用すること
が出来る。これらの触媒成分は含浸法、浸漬法、イオン
交換法、共沈法、混練法響によシ担体上に分散させて使
用する。
担体としては通常の担体として知られているものが広（
利用出来るが、特に比表面覆１０〜１０００ｉ／Ｐ、細
孔径１０Ａ以上を有するものが好ましい。これらを具体
的に例示するとシリカ、チタンやジルコニウム等各種金
属の珪酸塩、モレキュラーシーブ、ケインウ土、シリカ
ゲル、アルミナ、活性炭等であシ、特にシリカが好まし
い。
利用出来るが、特に比表面覆１０〜１０００ｉ／Ｐ、細
孔径１０Ａ以上を有するものが好ましい。これらを具体
的に例示するとシリカ、チタンやジルコニウム等各種金
属の珪酸塩、モレキュラーシーブ、ケインウ土、シリカ
ゲル、アルミナ、活性炭等であシ、特にシリカが好まし
い。
触媒中吉成分の濃度と組成比は広い範囲にわたって変え
ることが出来るが、ロジウムとして担体に対し０．００
１〜０．５（重量比）、好ましくは０．０１〜０．５の
範囲で担持する。
ることが出来るが、ロジウムとして担体に対し０．００
１〜０．５（重量比）、好ましくは０．０１〜０．５の
範囲で担持する。
ニオブのロジウムに対する添加比率は０．０５〜１０（
原子比）、好ましくは０．１〜５の範囲である。又、コ
バルト及びイリジウムの添加比率はそれぞれロジウムに
対し０．０１〜５（原子比）、好ましくは０．０５〜１
の範囲である。
原子比）、好ましくは０．１〜５の範囲である。又、コ
バルト及びイリジウムの添加比率はそれぞれロジウムに
対し０．０１〜５（原子比）、好ましくは０．０５〜１
の範囲である。
触媒成分を担体に担持させるには上記の金属化合物を水
、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ノルマルヘキサン、ベンゼン等の溶媒に溶解し
、これに担体を加え触媒成分を含浸させたのち溶液を留
去、乾燥する含浸法等によシ担持させることが出来る。
、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ノルマルヘキサン、ベンゼン等の溶媒に溶解し
、これに担体を加え触媒成分を含浸させたのち溶液を留
去、乾燥する含浸法等によシ担持させることが出来る。
又担持に際してはそれぞれの原料化合物を異なる溶媒に
溶解し各成分を逐次的く担体に担持しても良く、又複数
の原料化合物を同一の溶媒に溶解し同時に担持しても良
い。更には各成分を必要に応じ還元、熱処理響の処理を
行ないながら逐次的、段階的に担持する方法によっても
良い。
溶解し各成分を逐次的く担体に担持しても良く、又複数
の原料化合物を同一の溶媒に溶解し同時に担持しても良
い。更には各成分を必要に応じ還元、熱処理響の処理を
行ないながら逐次的、段階的に担持する方法によっても
良い。
このような手段によ！Ｄ１１！１された触媒は通常還元
処理を行ない活性化したのち反応に供せられる。還元は
水素、−酸化炭素等を含有する気体の存在下、１００℃
以上、好ましくは２００〜６００℃程度の温度で処理す
るのが一般的で、触媒の各成分の分散を十分に行なわせ
る目的で低温よ１々に、あるいは段階的に昇温しなか
、！ｌら還元することが望ｔしい。この他ヒ
ドラジン、水素化ホウ素化合物、水素化アルミニウム化
合物などの還元剤を使用して還元を行なう事も出来る。
処理を行ない活性化したのち反応に供せられる。還元は
水素、−酸化炭素等を含有する気体の存在下、１００℃
以上、好ましくは２００〜６００℃程度の温度で処理す
るのが一般的で、触媒の各成分の分散を十分に行なわせ
る目的で低温よ１々に、あるいは段階的に昇温しなか
、！ｌら還元することが望ｔしい。この他ヒ
ドラジン、水素化ホウ素化合物、水素化アルミニウム化
合物などの還元剤を使用して還元を行なう事も出来る。
本発明反応を実施するに際しての反応条件として反応温
度は１５０〜４５０’Ｃ１好１１．＜は２００〜３５０
℃である。温度が４５０’Ｃよシ高いと炭化水素の副生
量が増加する。反応圧力は常圧でも良いが、空時収率を
上げる為には加圧下で行なう事が好ましく、従って０〜
５５０％Ｇ１好ｔしくは１ｏ〜２５０％Ｇである。空間
速度は１０２〜１０’１１ｒ−’の範囲から、反応温度
、原料ガス組成との関係で適宜選択される。
度は１５０〜４５０’Ｃ１好１１．＜は２００〜３５０
℃である。温度が４５０’Ｃよシ高いと炭化水素の副生
量が増加する。反応圧力は常圧でも良いが、空時収率を
上げる為には加圧下で行なう事が好ましく、従って０〜
５５０％Ｇ１好ｔしくは１ｏ〜２５０％Ｇである。空間
速度は１０２〜１０’１１ｒ−’の範囲から、反応温度
、原料ガス組成との関係で適宜選択される。
原料ガスは一酸化炭素と水素をＣｏ／Ｈ２比で０゜１〜
１０、好ましくは０．２５〜５（容積比）で含ｉガスが
使用出来、その他窒素、アルゴン、炭化水素、炭酸ガス
、水等の反応に不活性なガスを含有していても良い。又
反応方法は固定床の流通式反応、流動床式反応あるいは
溶媒中に触媒を分散させた液相均一反応にょシ行なうこ
とが出来る。
１０、好ましくは０．２５〜５（容積比）で含ｉガスが
使用出来、その他窒素、アルゴン、炭化水素、炭酸ガス
、水等の反応に不活性なガスを含有していても良い。又
反応方法は固定床の流通式反応、流動床式反応あるいは
溶媒中に触媒を分散させた液相均一反応にょシ行なうこ
とが出来る。
本発明によれば一酸化炭素と水素よルエタノールを主と
する含酸素化合物を好収率で製造する事が出来る。
する含酸素化合物を好収率で製造する事が出来る。
以下の実施例におイテ０２０ ｇＩ ＣＨ３ＣＨＯ，Ｃ
２Ｈ３（ＸＣＨｓＣＯＯＨの和であ）、酢酸エステル分
は酢酸とアルコールに分けて計算した。又、炭化水素と
は炭素数２〜４の炭化水素の和である。
２Ｈ３（ＸＣＨｓＣＯＯＨの和であ）、酢酸エステル分
は酢酸とアルコールに分けて計算した。又、炭化水素と
は炭素数２〜４の炭化水素の和である。
実施例 １
塩化ロジウＡ （ＲｈＣＪｓ、３ＨｚＯ） ４ 、５
６ｍｍｏＪｊ ｓ五塩化ニオブ（ＮｂＣｆｆ１ｓ）
４．５６ｍｍｏＪ ｓ塩化コバルト（ＣｏＣＩｊｘ 、
６Ｈ２０） １ 。
６ｍｍｏＪｊ ｓ五塩化ニオブ（ＮｂＣｆｆ１ｓ）
４．５６ｍｍｏＪ ｓ塩化コバルト（ＣｏＣＩｊｘ 、
６Ｈ２０） １ 。
５７ ｍｍｏ４及び塩化イリジウム（Ｉｒ（ｕ４−Ｈ２
Ｏ）１．５７ｍｍｏＪｌをエタノ−／Ｉ／（９９，５％
）５０−εこ溶解し、これ６ζ２８０℃で２時間真空加
熱脱気した１０〜２４メツシユのシリカゲル１０ｆ（２
５ｍ）を加え浸漬した。次いでロータリーエバポレータ
ーを用いてエチルアルコールを留出、乾固し、更に十分
真空乾燥した後、水素及び窒素の混合ガス（Ｈｚ／Ｎｚ
＝２／１ ）を流しながら段階的に昇温し、最終的に４
００℃で５時間、計１６時間水素還元を行なった。
Ｏ）１．５７ｍｍｏＪｌをエタノ−／Ｉ／（９９，５％
）５０−εこ溶解し、これ６ζ２８０℃で２時間真空加
熱脱気した１０〜２４メツシユのシリカゲル１０ｆ（２
５ｍ）を加え浸漬した。次いでロータリーエバポレータ
ーを用いてエチルアルコールを留出、乾固し、更に十分
真空乾燥した後、水素及び窒素の混合ガス（Ｈｚ／Ｎｚ
＝２／１ ）を流しながら段階的に昇温し、最終的に４
００℃で５時間、計１６時間水素還元を行なった。
Claims (1)
- 一酸化炭素及び水素を、ロジウム、ニオブ、コバルト、
及びイリジウム、からなる触媒と接触させることを特徴
とする含酸素化合物の製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60240539A JPS61171446A (ja) | 1985-10-29 | 1985-10-29 | 含酸素化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60240539A JPS61171446A (ja) | 1985-10-29 | 1985-10-29 | 含酸素化合物の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58141091A Division JPS6032726A (ja) | 1983-08-03 | 1983-08-03 | 含酸素化合物を製造する方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61171446A true JPS61171446A (ja) | 1986-08-02 |
| JPS6210970B2 JPS6210970B2 (ja) | 1987-03-10 |
Family
ID=17061036
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60240539A Granted JPS61171446A (ja) | 1985-10-29 | 1985-10-29 | 含酸素化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61171446A (ja) |
-
1985
- 1985-10-29 JP JP60240539A patent/JPS61171446A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6210970B2 (ja) | 1987-03-10 |
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