JPS6341373B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6341373B2 JPS6341373B2 JP60197791A JP19779185A JPS6341373B2 JP S6341373 B2 JPS6341373 B2 JP S6341373B2 JP 60197791 A JP60197791 A JP 60197791A JP 19779185 A JP19779185 A JP 19779185A JP S6341373 B2 JPS6341373 B2 JP S6341373B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- sio
- prepared
- rhodium
- carrier
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 75
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 27
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 17
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 15
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 14
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 13
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011572 manganese Substances 0.000 claims description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 3
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910002090 carbon oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 25
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 25
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 14
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 12
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 8
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- -1 methane Chemical class 0.000 description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K rhodium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Rh+3] SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 5
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021380 Manganese Chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- GLFNIEUTAYBVOC-UHFFFAOYSA-L Manganese chloride Chemical compound Cl[Mn]Cl GLFNIEUTAYBVOC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 3
- 229940099607 manganese chloride Drugs 0.000 description 3
- 235000002867 manganese chloride Nutrition 0.000 description 3
- 239000011565 manganese chloride Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 238000000975 co-precipitation Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 2
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N zinc nitrate Chemical compound [Zn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M (z)-4-oxopent-2-en-2-olate Chemical class C\C([O-])=C\C(C)=O POILWHVDKZOXJZ-ARJAWSKDSA-M 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- IENXJNLJEDMNTE-UHFFFAOYSA-N acetic acid;ethane-1,2-diamine Chemical compound CC(O)=O.NCCN IENXJNLJEDMNTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010277 boron hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010779 crude oil Substances 0.000 description 1
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- JGUQDUKBUKFFRO-CIIODKQPSA-N dimethylglyoxime Chemical class O/N=C(/C)\C(\C)=N\O JGUQDUKBUKFFRO-CIIODKQPSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- VUZPPFZMUPKLLV-UHFFFAOYSA-N methane;hydrate Chemical compound C.O VUZPPFZMUPKLLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003891 oxalate salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 238000004451 qualitative analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K trichloroiridium Chemical compound Cl[Ir](Cl)Cl DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はエタノールの製造方法に関する。更に
詳しくは、(イ)ロジウムを担体担持してなる触媒、
(ロ)ロジウム並びにリチウム及び/又はマンガンを
担体担持してなる触媒、(ハ)ロジウム、マンガン、
イリジウム及びリチウムを担体担持してなる触媒
のいずれかとこれらとは別個に調整した(ニ)レニウ
ム又はレニウムと亜鉛を担体担持してなる触媒と
の共存下、一酸化炭素と水素とを反応させること
からなる、エタノールの製造方法に関する。 〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題
点〕 エタノール、アセトアルデヒド等の炭素数2の
含酸素化合物は従来ナフサを原料とする石油化学
的方法によつて製造されてきた。しかし、近年の
原油の高騰により、製造価格の著しい上昇が起
り、原料転換の必要性が生じている。 一方、豊富で且つ安価に入手可能な一酸化炭素
及び水素の混合ガスより炭素数2の含酸素化合物
を製造する方法が種々検討されている。即ち、一
酸化炭素と水素の混合ガスを、ロジウムを主成分
とし、マンガン、チタン、ジルコニウム、タング
ステンなどの金属もしくは金属酸化物より成る触
媒の存在下に反応させて、炭素数2の含酸素化合
物を選択的に製造する方法は公知である。 しかしながら、かかる方法も副生する炭化水
素、例えばメタン等の量が多く、含酸素化合物の
選択率が低いものや含酸素化合物の選択率が高い
場合には主生成物の選択性が低いものであつた。
更に高価な貴金属であるロジウムあたりの目的化
合物の生成量がまだまだ少く、経済的にもプロセ
ス的にも完成された技術が提供されていないのが
実情である。 更に炭素数2の含酸素化合物を高収量で高選択
的に製造することを目的としたロジウムにマンガ
ンを添加した触媒及びその改良法(特開昭52−
14706、56−8333、56−8334号)が提案されてい
るが、いずれの方法もアセトアルデヒド、酢酸を
主生成物とするものであり、エタノールの収率、
選択性などは著しく低い欠点を有している。 以上述べた如く、一酸化炭素及び水素を含有す
る気体よりエタノールを主成分とする含酸素化合
物を効率よく経済性よく製造する方法は提供され
ていない。 本発明者らはエタノールを選択的に製造する方
法について鋭意検討を重ねた結果、前述した如く
アセトアルデヒドや酢酸の製造用触媒として知ら
れていたロジウム触媒系と該ロジウム系触媒とは
別個に調整したレニウム又はレニウムと亜鉛を含
有する触媒とを組合わせることによりエタノール
を高選択的に製造できることを見出し本発明を完
成した。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明は前記した如く(イ)〜(ハ)のいずれかの触媒
と、これらとは別個に調整した(ニ)の触媒との共存
下、一酸化炭素及び水素を反応させてエタノール
を製造するものである。 以下、本発明を順次詳述する。 本発明において用いられる触媒は前述の如く、
(イ)〜(ハ)のいずれかの触媒と、(ニ)の触媒とからなる
二者の触媒を主たる構成成分とする両者の触媒は
各々別途に調製したものを使用することが必要で
あり、使用に際しては混合あるいは(イ)〜(ハ)の触媒
を上層に(ニ)の触媒を下層に充填して使用すること
ができる。触媒の調製にあたつては通常、貴金属
触媒において行われる如く担体上に上記の成分を
分散させた触媒を用いる。 本発明において用いられる触媒は貴金属常法を
用いて調製することができる。例えば含浸法、浸
漬法、イオン交換法、共沈法、混練法等によつて
調製できる。 前記触媒を構成する諸成分の原料化合物として
は、酸化物、塩化物、硝酸塩、炭酸塩等の無機
塩、酢酸塩、シユウ酸塩、アセチルアセトナート
塩、ジメチルグリオキシム塩、エチレンジアミン
酢酸塩等有機塩又はキレート化物、カルボニル化
合物、シクロペンタジエニル化合物、アンミン錯
体、金属アルコキシド化合物、アルキル金属化合
物等通常貴金属触媒を調製する際に用いられる化
合物を使用することができる。 以下に含浸法に例をとり触媒の調製法を説明す
る。 上記の金属化合物を水、メタノール、エタノー
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ノルマン
ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の溶媒に溶解
し、その溶液に担体を加え浸漬し、溶媒を留去、
乾燥し、必要とあれば加熱等の処理を行い、担体
に金属化合物を担持する。 担持の手法としては、原料化合物を同一溶媒に
同時に溶解した混合溶液を作り、担体に同時に担
持する方法、各成分を遂次的に担体に担持する方
法、あるいは各成分を必要に応じて還元、熱処理
等の処理を行いながら遂次的、段階的に担持する
方法などの各手法を用いることができる。尚、前
記した如く二者の触媒はそれぞれ別個にこれらの
手法を用いて調製する。 その他の調製法、例えば担体のイオン交換能を
利用したイオン交換によつて金属を担持する方
法、共沈法によつて触媒を調製する方法なども本
発明方法に用いられる触媒の調製手法として採用
できる。 上述の手法によつて調製された触媒は通常還元
処理を行うことにより活性化し次いで反応に供せ
られる。還元を行うには水素を含有する気体によ
り昇温下で行うことが簡便であつて好ましい。こ
の際還元温度として、ロジウムの還元される温
度、即ち100℃程度の温度条件下でも還元処理が
できるのであるが、好ましくは200℃〜600℃の温
度下で還元処理を行う。この際触媒の各成分の分
散を十分に行わせる目的で低温より徐々にあるい
は段階的に昇温しながら水素還元を行つてもよ
い。また還元剤を用いて、化学的に還元を行うこ
ともできる。たとえば、一酸化炭素と水を用いた
り、ヒドラジン、水素化ホウ素化合物、水素化ア
ルミニウム化合物などの還元剤を用いた還元処理
を行つてもよい。 本発明において用いられる担体は好ましくは比
表面積10〜1000m2/g、細孔径10Å以上を有する
ものであれば通常担体として知られているものを
使用することができる。具体的な担体としては、
シリカ、珪酸塩、シリカゲル、モレキユラーシー
ブ、ケイソウ土等のシリカ系担体、アルミナ、活
性炭などがあげられるがシリカ系の担体が好まし
い。触媒(イ)〜(ニ)のいずれの場合も触媒中の各成分
の濃度と組成比は広い範囲でかえることができ
る。 ロジウム、レニウムの担体に対する比率は、担
体の比表面積を考慮して重量比で0.0001〜0.5、
好ましくは0.001〜0.3である。また、(イ)〜(ハ)触媒
において、助触媒金属の比率はロジウムに対して
原子比で各々0.001〜10、好ましくは0.01〜5の
範囲である。更に(ニ)触媒において、亜鉛の比率は
レニウムに対し原子比で各々0.01〜30、好ましく
は0.1〜10の範囲である。 本発明は、たとえば固定床の流通式反応装置に
適用することができる。すなわち反応器内に触媒
を充填し、原料ガスを送入して反応を行わせる。
生成物は分離し、未反応の原料ガスは精製したの
ちに循環再使用することも可能である。 また、本発明は流動床式の反応装置にも適用で
きる。すなわち原料ガスと流動化した触媒を同伴
させて反応を行わせることもできる。更には本発
明は溶媒中に触媒を分散させ、原料ガスを送入し
反応を行うとこからなる液相不均一反応にも適用
できる。 本発明を実施するに際して採用される条件は、
エタノールを主成分とする含酸素化合物を高収
率・高選択率で製造することを目的として種々の
反応条件の因子を有機的に組合せて選択される。
反応圧力は常圧(すなわち0Kg/cm2ゲージ)でも
当該目的化合物を高選択率・高収率で製造できる
のであるが、空時収率を高める目的で加圧下にお
いて反応を行うことができる。 従つて反応圧力としては0Kg/cm2ゲージ〜350
Kg/cm2ゲージ、好ましくは0Kg/cm2ゲージ〜
250/Kg/cm2ゲージの圧力下で行う。反応温度は
150℃〜450℃、好ましくは180℃〜350℃である。
反応温度が高い場合には、炭化水素の副生量が増
加するため原料の送入速度を早くする必要があ
る。従つて、空間速度(原料ガス送入量×触媒容
積)は、標準状態(0℃、1気圧)換算で10h-1
〜106h-1の範囲より、反応圧力と反応温度、原料
ガス組成との関係より適宜選択される。 当該原料ガスの組成は、主として一酸化炭素と
水素を含有しているガスであつて、窒素、アルゴ
ン、ヘリウム、メタン等の不活性ガスあるいは反
応条件下において気体の状態であれば炭化水素や
炭酸ガスや水を含有していてもよい。一酸化炭素
と水素の混合比はCO/H2比で0.1〜10、好ましく
は0.2〜5(容積比)である。 以下実施例によつて本発明を更に詳細に説明す
る。 実施例 1 塩化ロジウム(RhCl3・3H2O)0.480g
(1.82mmol)を溶解させたエタノール溶液に、予
め300℃で2時間高真空下で焼成脱気したシリカ
ゲル(Davison#57,Davison社製)3.7g
(10ml)を加え浸漬した。次いでロータリーエバ
ポレーターを用いてエタノールを留去し乾固した
後、更に真空乾燥した。その後、パイレツクス反
応管に充填し、常圧で水素及び窒素の混合ガス
(H2:60ml/分,N2:60ml/分)の通気下、400
℃で4時間活性化処理を行い、Rh/SiO2触媒を
調製した。次いで、過レニウム酸アンモニウム
(NH4ReO4)0.734gを溶解させた水溶液中に焼
成脱気したシリカゲル3.7g(10ml)を加え浸漬
した。上記と同様の調製法及び活性化処理を用い
てRe/SiO2触媒を調製した。このようにして得
られたRh/SiO2触媒(触媒8ml),Re/SiO2触媒
(2ml)を高圧流通式反応装置の反応管(チタン
製)に、上層,下層になる様に充填し、常圧水素
ガスの流通下(200ml/分)、300℃で2時間程度
再還元処理した後、一酸化炭素と水素の混合ガス
を送入し、所定の反応条件下で反応を行つた。反
応生成物の分析は、液状生成物については水に溶
解し補集し、気体生成物については直接ガス採取
し、ガスクロ分析を行い、定性及び定量分析し、
生成物の分布を求めた。結果を表1に示した。 実施例 2 塩化ロジウム0.480g、塩化リチウム(LiCl・
H2O)0.022gを溶解させたエタノール溶液及び
過レニウム酸アンモン2.104gを溶解させた水溶
液を300℃焼成脱気したシリカゲル10mlに各々浸
漬した後、実施例1と同様の処理によりRh−
Li/SiO2,Re/SiO2触媒を調製した。Rh−Li/
SiO2触媒(2ml)、Re/SiO2触媒(0.5ml)を高
圧流通式反応装置の反応管に上層,下層に充填
し、実施例1と同様の方法で活性試験を行つた。
結果を表1に示した。 実施例 3 硝酸亜鉛(Zn(NO3)2・6H2O)2.333gを溶解
させた水溶液を300℃焼成脱気したシリカゲル
10mlに浸漬した。その後、実施例1と同様の処
理により、Zn/SiO2触媒を調製した。次いで、
過レニウム酸アンモン0.734gを溶解させた水溶
液をZn/SiO2触媒10mlに浸漬した。実施例1と
同様の処理により、Re/Zn/SiO2触媒を調製し
た。実施例2で調製したRh−Li/SiO2触媒
(2ml)とRe/Zn/SiO2触媒(0.5ml)を高圧流
通式反応装置の反応管に上層,下層に充填し、実
施例1と同様の方法で活性試験を行つた。結果を
表1に示した。 実施例 4 塩化ロジウム0.480g、塩化マンガン
(MnCl2・4H2O)を溶解させたエタノール溶液を
300℃焼成脱気シリカゲル10mlに浸漬した後、実
施例1と同様の処理により、Rh−Mn/SiO2触媒
を調製した。他方、実施例3において過レニウム
酸アンモンの量を2.104gに変化させた以外は同
様の方法によりRe/Zn/SiO2触媒を調整した。
Rh−Mn/SiO2触媒(2ml)、Re/Zn/SiO2触媒
(2ml)を高圧流通式反応装置の反応管に上層,
下層に充填し、実施例1と同様の方法で活性試験
を行つた。結果を表1に示した。 実施例 5 塩化ロジウム0.480g、塩化マンガン0.0108g、
塩化リチウム0.033gを溶解させたエタノール溶
液を300℃焼成脱気したシリカゲル10mlに浸漬し
た。実施例1と同様の処理によりRh−Mn−Li/
SiO2を調製した。Rh−Mn−Li/SiO2触媒
(2ml)と実施例4で調製したRe/Zn/SiO2触媒
(2ml)を高圧流通式反応装置の反応管に上層,
下層に充填した実施例1と同様の方法で活性試験
を行つた。結果を表1に示した。 実施例 6 塩化ロジウム0.480g、塩化マンガン0.011g、
塩化イリジウム0.064g、塩化リチウム0.033gを
溶解させたエタノール溶液を300℃焼成脱気した
シリカゲル10mlに浸漬した後、実施例1と同様
の処理によりRh−Mn−Ir−Li/SiO2触媒を調製
した。Rh−Mn−Ir−Li/SiO2触媒(2ml)と実
施例4で調製したRe/Zn/SiO2触媒(2ml)を
高圧流通式反応装置の反応管に上層,下層に充填
し実施例1と同様の方法で活性試験を行つた。結
果を表1に示した。 比較例 1 実施例1で調製したRh/SiO2触媒(10ml)を
高圧流通式反応装置の反応管に充填し、実施例1
と同様の方法で活性試験を行つた。結果を表1に
示した。 比較例 2 実施例2で調製したRh−Li/SiO2触媒(2ml)
を高圧流通式反応装置の反応管に充填し、実施例
1と同様の方法で活性試験を行つた。 比較例 3 実施例5で調製したRh−Mn−Li/SiO2触媒
(2ml)を高圧流通式反応装置の反応管に充填し、
実施例1と同様の方法で活性試験を行つた。結果
を表1に示した。 【表】
詳しくは、(イ)ロジウムを担体担持してなる触媒、
(ロ)ロジウム並びにリチウム及び/又はマンガンを
担体担持してなる触媒、(ハ)ロジウム、マンガン、
イリジウム及びリチウムを担体担持してなる触媒
のいずれかとこれらとは別個に調整した(ニ)レニウ
ム又はレニウムと亜鉛を担体担持してなる触媒と
の共存下、一酸化炭素と水素とを反応させること
からなる、エタノールの製造方法に関する。 〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題
点〕 エタノール、アセトアルデヒド等の炭素数2の
含酸素化合物は従来ナフサを原料とする石油化学
的方法によつて製造されてきた。しかし、近年の
原油の高騰により、製造価格の著しい上昇が起
り、原料転換の必要性が生じている。 一方、豊富で且つ安価に入手可能な一酸化炭素
及び水素の混合ガスより炭素数2の含酸素化合物
を製造する方法が種々検討されている。即ち、一
酸化炭素と水素の混合ガスを、ロジウムを主成分
とし、マンガン、チタン、ジルコニウム、タング
ステンなどの金属もしくは金属酸化物より成る触
媒の存在下に反応させて、炭素数2の含酸素化合
物を選択的に製造する方法は公知である。 しかしながら、かかる方法も副生する炭化水
素、例えばメタン等の量が多く、含酸素化合物の
選択率が低いものや含酸素化合物の選択率が高い
場合には主生成物の選択性が低いものであつた。
更に高価な貴金属であるロジウムあたりの目的化
合物の生成量がまだまだ少く、経済的にもプロセ
ス的にも完成された技術が提供されていないのが
実情である。 更に炭素数2の含酸素化合物を高収量で高選択
的に製造することを目的としたロジウムにマンガ
ンを添加した触媒及びその改良法(特開昭52−
14706、56−8333、56−8334号)が提案されてい
るが、いずれの方法もアセトアルデヒド、酢酸を
主生成物とするものであり、エタノールの収率、
選択性などは著しく低い欠点を有している。 以上述べた如く、一酸化炭素及び水素を含有す
る気体よりエタノールを主成分とする含酸素化合
物を効率よく経済性よく製造する方法は提供され
ていない。 本発明者らはエタノールを選択的に製造する方
法について鋭意検討を重ねた結果、前述した如く
アセトアルデヒドや酢酸の製造用触媒として知ら
れていたロジウム触媒系と該ロジウム系触媒とは
別個に調整したレニウム又はレニウムと亜鉛を含
有する触媒とを組合わせることによりエタノール
を高選択的に製造できることを見出し本発明を完
成した。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明は前記した如く(イ)〜(ハ)のいずれかの触媒
と、これらとは別個に調整した(ニ)の触媒との共存
下、一酸化炭素及び水素を反応させてエタノール
を製造するものである。 以下、本発明を順次詳述する。 本発明において用いられる触媒は前述の如く、
(イ)〜(ハ)のいずれかの触媒と、(ニ)の触媒とからなる
二者の触媒を主たる構成成分とする両者の触媒は
各々別途に調製したものを使用することが必要で
あり、使用に際しては混合あるいは(イ)〜(ハ)の触媒
を上層に(ニ)の触媒を下層に充填して使用すること
ができる。触媒の調製にあたつては通常、貴金属
触媒において行われる如く担体上に上記の成分を
分散させた触媒を用いる。 本発明において用いられる触媒は貴金属常法を
用いて調製することができる。例えば含浸法、浸
漬法、イオン交換法、共沈法、混練法等によつて
調製できる。 前記触媒を構成する諸成分の原料化合物として
は、酸化物、塩化物、硝酸塩、炭酸塩等の無機
塩、酢酸塩、シユウ酸塩、アセチルアセトナート
塩、ジメチルグリオキシム塩、エチレンジアミン
酢酸塩等有機塩又はキレート化物、カルボニル化
合物、シクロペンタジエニル化合物、アンミン錯
体、金属アルコキシド化合物、アルキル金属化合
物等通常貴金属触媒を調製する際に用いられる化
合物を使用することができる。 以下に含浸法に例をとり触媒の調製法を説明す
る。 上記の金属化合物を水、メタノール、エタノー
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ノルマン
ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の溶媒に溶解
し、その溶液に担体を加え浸漬し、溶媒を留去、
乾燥し、必要とあれば加熱等の処理を行い、担体
に金属化合物を担持する。 担持の手法としては、原料化合物を同一溶媒に
同時に溶解した混合溶液を作り、担体に同時に担
持する方法、各成分を遂次的に担体に担持する方
法、あるいは各成分を必要に応じて還元、熱処理
等の処理を行いながら遂次的、段階的に担持する
方法などの各手法を用いることができる。尚、前
記した如く二者の触媒はそれぞれ別個にこれらの
手法を用いて調製する。 その他の調製法、例えば担体のイオン交換能を
利用したイオン交換によつて金属を担持する方
法、共沈法によつて触媒を調製する方法なども本
発明方法に用いられる触媒の調製手法として採用
できる。 上述の手法によつて調製された触媒は通常還元
処理を行うことにより活性化し次いで反応に供せ
られる。還元を行うには水素を含有する気体によ
り昇温下で行うことが簡便であつて好ましい。こ
の際還元温度として、ロジウムの還元される温
度、即ち100℃程度の温度条件下でも還元処理が
できるのであるが、好ましくは200℃〜600℃の温
度下で還元処理を行う。この際触媒の各成分の分
散を十分に行わせる目的で低温より徐々にあるい
は段階的に昇温しながら水素還元を行つてもよ
い。また還元剤を用いて、化学的に還元を行うこ
ともできる。たとえば、一酸化炭素と水を用いた
り、ヒドラジン、水素化ホウ素化合物、水素化ア
ルミニウム化合物などの還元剤を用いた還元処理
を行つてもよい。 本発明において用いられる担体は好ましくは比
表面積10〜1000m2/g、細孔径10Å以上を有する
ものであれば通常担体として知られているものを
使用することができる。具体的な担体としては、
シリカ、珪酸塩、シリカゲル、モレキユラーシー
ブ、ケイソウ土等のシリカ系担体、アルミナ、活
性炭などがあげられるがシリカ系の担体が好まし
い。触媒(イ)〜(ニ)のいずれの場合も触媒中の各成分
の濃度と組成比は広い範囲でかえることができ
る。 ロジウム、レニウムの担体に対する比率は、担
体の比表面積を考慮して重量比で0.0001〜0.5、
好ましくは0.001〜0.3である。また、(イ)〜(ハ)触媒
において、助触媒金属の比率はロジウムに対して
原子比で各々0.001〜10、好ましくは0.01〜5の
範囲である。更に(ニ)触媒において、亜鉛の比率は
レニウムに対し原子比で各々0.01〜30、好ましく
は0.1〜10の範囲である。 本発明は、たとえば固定床の流通式反応装置に
適用することができる。すなわち反応器内に触媒
を充填し、原料ガスを送入して反応を行わせる。
生成物は分離し、未反応の原料ガスは精製したの
ちに循環再使用することも可能である。 また、本発明は流動床式の反応装置にも適用で
きる。すなわち原料ガスと流動化した触媒を同伴
させて反応を行わせることもできる。更には本発
明は溶媒中に触媒を分散させ、原料ガスを送入し
反応を行うとこからなる液相不均一反応にも適用
できる。 本発明を実施するに際して採用される条件は、
エタノールを主成分とする含酸素化合物を高収
率・高選択率で製造することを目的として種々の
反応条件の因子を有機的に組合せて選択される。
反応圧力は常圧(すなわち0Kg/cm2ゲージ)でも
当該目的化合物を高選択率・高収率で製造できる
のであるが、空時収率を高める目的で加圧下にお
いて反応を行うことができる。 従つて反応圧力としては0Kg/cm2ゲージ〜350
Kg/cm2ゲージ、好ましくは0Kg/cm2ゲージ〜
250/Kg/cm2ゲージの圧力下で行う。反応温度は
150℃〜450℃、好ましくは180℃〜350℃である。
反応温度が高い場合には、炭化水素の副生量が増
加するため原料の送入速度を早くする必要があ
る。従つて、空間速度(原料ガス送入量×触媒容
積)は、標準状態(0℃、1気圧)換算で10h-1
〜106h-1の範囲より、反応圧力と反応温度、原料
ガス組成との関係より適宜選択される。 当該原料ガスの組成は、主として一酸化炭素と
水素を含有しているガスであつて、窒素、アルゴ
ン、ヘリウム、メタン等の不活性ガスあるいは反
応条件下において気体の状態であれば炭化水素や
炭酸ガスや水を含有していてもよい。一酸化炭素
と水素の混合比はCO/H2比で0.1〜10、好ましく
は0.2〜5(容積比)である。 以下実施例によつて本発明を更に詳細に説明す
る。 実施例 1 塩化ロジウム(RhCl3・3H2O)0.480g
(1.82mmol)を溶解させたエタノール溶液に、予
め300℃で2時間高真空下で焼成脱気したシリカ
ゲル(Davison#57,Davison社製)3.7g
(10ml)を加え浸漬した。次いでロータリーエバ
ポレーターを用いてエタノールを留去し乾固した
後、更に真空乾燥した。その後、パイレツクス反
応管に充填し、常圧で水素及び窒素の混合ガス
(H2:60ml/分,N2:60ml/分)の通気下、400
℃で4時間活性化処理を行い、Rh/SiO2触媒を
調製した。次いで、過レニウム酸アンモニウム
(NH4ReO4)0.734gを溶解させた水溶液中に焼
成脱気したシリカゲル3.7g(10ml)を加え浸漬
した。上記と同様の調製法及び活性化処理を用い
てRe/SiO2触媒を調製した。このようにして得
られたRh/SiO2触媒(触媒8ml),Re/SiO2触媒
(2ml)を高圧流通式反応装置の反応管(チタン
製)に、上層,下層になる様に充填し、常圧水素
ガスの流通下(200ml/分)、300℃で2時間程度
再還元処理した後、一酸化炭素と水素の混合ガス
を送入し、所定の反応条件下で反応を行つた。反
応生成物の分析は、液状生成物については水に溶
解し補集し、気体生成物については直接ガス採取
し、ガスクロ分析を行い、定性及び定量分析し、
生成物の分布を求めた。結果を表1に示した。 実施例 2 塩化ロジウム0.480g、塩化リチウム(LiCl・
H2O)0.022gを溶解させたエタノール溶液及び
過レニウム酸アンモン2.104gを溶解させた水溶
液を300℃焼成脱気したシリカゲル10mlに各々浸
漬した後、実施例1と同様の処理によりRh−
Li/SiO2,Re/SiO2触媒を調製した。Rh−Li/
SiO2触媒(2ml)、Re/SiO2触媒(0.5ml)を高
圧流通式反応装置の反応管に上層,下層に充填
し、実施例1と同様の方法で活性試験を行つた。
結果を表1に示した。 実施例 3 硝酸亜鉛(Zn(NO3)2・6H2O)2.333gを溶解
させた水溶液を300℃焼成脱気したシリカゲル
10mlに浸漬した。その後、実施例1と同様の処
理により、Zn/SiO2触媒を調製した。次いで、
過レニウム酸アンモン0.734gを溶解させた水溶
液をZn/SiO2触媒10mlに浸漬した。実施例1と
同様の処理により、Re/Zn/SiO2触媒を調製し
た。実施例2で調製したRh−Li/SiO2触媒
(2ml)とRe/Zn/SiO2触媒(0.5ml)を高圧流
通式反応装置の反応管に上層,下層に充填し、実
施例1と同様の方法で活性試験を行つた。結果を
表1に示した。 実施例 4 塩化ロジウム0.480g、塩化マンガン
(MnCl2・4H2O)を溶解させたエタノール溶液を
300℃焼成脱気シリカゲル10mlに浸漬した後、実
施例1と同様の処理により、Rh−Mn/SiO2触媒
を調製した。他方、実施例3において過レニウム
酸アンモンの量を2.104gに変化させた以外は同
様の方法によりRe/Zn/SiO2触媒を調整した。
Rh−Mn/SiO2触媒(2ml)、Re/Zn/SiO2触媒
(2ml)を高圧流通式反応装置の反応管に上層,
下層に充填し、実施例1と同様の方法で活性試験
を行つた。結果を表1に示した。 実施例 5 塩化ロジウム0.480g、塩化マンガン0.0108g、
塩化リチウム0.033gを溶解させたエタノール溶
液を300℃焼成脱気したシリカゲル10mlに浸漬し
た。実施例1と同様の処理によりRh−Mn−Li/
SiO2を調製した。Rh−Mn−Li/SiO2触媒
(2ml)と実施例4で調製したRe/Zn/SiO2触媒
(2ml)を高圧流通式反応装置の反応管に上層,
下層に充填した実施例1と同様の方法で活性試験
を行つた。結果を表1に示した。 実施例 6 塩化ロジウム0.480g、塩化マンガン0.011g、
塩化イリジウム0.064g、塩化リチウム0.033gを
溶解させたエタノール溶液を300℃焼成脱気した
シリカゲル10mlに浸漬した後、実施例1と同様
の処理によりRh−Mn−Ir−Li/SiO2触媒を調製
した。Rh−Mn−Ir−Li/SiO2触媒(2ml)と実
施例4で調製したRe/Zn/SiO2触媒(2ml)を
高圧流通式反応装置の反応管に上層,下層に充填
し実施例1と同様の方法で活性試験を行つた。結
果を表1に示した。 比較例 1 実施例1で調製したRh/SiO2触媒(10ml)を
高圧流通式反応装置の反応管に充填し、実施例1
と同様の方法で活性試験を行つた。結果を表1に
示した。 比較例 2 実施例2で調製したRh−Li/SiO2触媒(2ml)
を高圧流通式反応装置の反応管に充填し、実施例
1と同様の方法で活性試験を行つた。 比較例 3 実施例5で調製したRh−Mn−Li/SiO2触媒
(2ml)を高圧流通式反応装置の反応管に充填し、
実施例1と同様の方法で活性試験を行つた。結果
を表1に示した。 【表】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 (イ)ロジウムを担体担持してなる触媒と、(イ)の
触媒とは別個に調整した(ニ)レニウム又はレニウム
と亜鉛を担体担持してなる触媒との共存下、一酸
化炭素と水素とを反応させることからなる、エタ
ノールを製造する方法。 2 (ロ)ロジウム並びにリチウム及び/又はマンガ
ンを担体担持してなる触媒と、(ロ)の触媒とは別個
に調整した(ニ)レニウム又はレニウムと亜鉛を担体
担持してなる触媒との共存下、一酸化炭素と水素
とを反応させることからなる、エタノールを製造
する方法。 3 (ハ)ロジウム、マンガン、イリジウム及びリチ
ウムを担体担持してなる触媒と、(ハ)の触媒とは別
個に調整した(ニ)又はレニウムと亜鉛を担体担持し
てなる触媒の共存下、一酸化炭素と水素とを反応
させることからなる、エタノールを製造する方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60197791A JPS6259229A (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | エタノ−ルを製造する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60197791A JPS6259229A (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | エタノ−ルを製造する方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6259229A JPS6259229A (ja) | 1987-03-14 |
JPS6341373B2 true JPS6341373B2 (ja) | 1988-08-17 |
Family
ID=16380408
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60197791A Granted JPS6259229A (ja) | 1985-09-09 | 1985-09-09 | エタノ−ルを製造する方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6259229A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04118278U (ja) * | 1991-04-03 | 1992-10-22 | 大和工業株式会社 | 電気抵抗溶接機 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10213025B4 (de) * | 2002-03-22 | 2014-02-27 | Daimler Ag | Selbstzündende Brennkraftmaschine |
DE10213011B4 (de) * | 2002-03-22 | 2014-02-27 | Daimler Ag | Selbstzündende Brennkraftmaschine |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5651425A (en) * | 1979-10-03 | 1981-05-09 | Sagami Chem Res Center | Preparation of oxygen-containing compound composed mainly of ethanol |
JPS56104828A (en) * | 1980-01-24 | 1981-08-20 | British Petroleum Co | Manufacture of oxidated hydrocarbon from synthesizing gas |
JPS56147731A (en) * | 1980-04-21 | 1981-11-16 | Sagami Chem Res Center | Preparation of oxygen-containing compound |
JPS5713094A (en) * | 1980-06-27 | 1982-01-23 | Komatsu Mfg Co Ltd | Crane winch device |
JPS57130941A (en) * | 1981-02-04 | 1982-08-13 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | Synthetic method of alkane polyol |
-
1985
- 1985-09-09 JP JP60197791A patent/JPS6259229A/ja active Granted
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5651425A (en) * | 1979-10-03 | 1981-05-09 | Sagami Chem Res Center | Preparation of oxygen-containing compound composed mainly of ethanol |
JPS56104828A (en) * | 1980-01-24 | 1981-08-20 | British Petroleum Co | Manufacture of oxidated hydrocarbon from synthesizing gas |
JPS56147731A (en) * | 1980-04-21 | 1981-11-16 | Sagami Chem Res Center | Preparation of oxygen-containing compound |
JPS5713094A (en) * | 1980-06-27 | 1982-01-23 | Komatsu Mfg Co Ltd | Crane winch device |
JPS57130941A (en) * | 1981-02-04 | 1982-08-13 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | Synthetic method of alkane polyol |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04118278U (ja) * | 1991-04-03 | 1992-10-22 | 大和工業株式会社 | 電気抵抗溶接機 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6259229A (ja) | 1987-03-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6049617B2 (ja) | エタノ−ルなどの含酸素化合物を製造する方法 | |
JPS6341373B2 (ja) | ||
JPS63412B2 (ja) | ||
JPS6238335B2 (ja) | ||
JPS63413B2 (ja) | ||
JPS6238333B2 (ja) | ||
JPS6210486B2 (ja) | ||
JPS6119608B2 (ja) | ||
JPS6353169B2 (ja) | ||
JPS6238334B2 (ja) | ||
JPS6049615B2 (ja) | エタノ−ルを主成分とする含酸素化合物の製造方法 | |
JPS6049616B2 (ja) | エタノ−ルを主成分とする含酸素化合物の製造法 | |
JPS6353168B2 (ja) | ||
JPS6238343B2 (ja) | ||
JPS6238337B2 (ja) | ||
JPS6238336B2 (ja) | ||
JPS6119611B2 (ja) | ||
JPS63416B2 (ja) | ||
JPS63414B2 (ja) | ||
JPS643857B2 (ja) | ||
JPS6218530B2 (ja) | ||
JPS6238339B2 (ja) | ||
JPS63415B2 (ja) | ||
JPS6238340B2 (ja) | ||
JPS6238341B2 (ja) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |