JPS6238334B2 - - Google Patents

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JPS6238334B2
JPS6238334B2 JP60017722A JP1772285A JPS6238334B2 JP S6238334 B2 JPS6238334 B2 JP S6238334B2 JP 60017722 A JP60017722 A JP 60017722A JP 1772285 A JP1772285 A JP 1772285A JP S6238334 B2 JPS6238334 B2 JP S6238334B2
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JP
Japan
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catalyst
rhodium
sio
chloride
ethanol
Prior art date
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JP60017722A
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English (en)
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JPS61191633A (ja
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Satoshi Arimitsu
Katsumi Yanagi
Takakazu Fukushima
Toshihiro Saito
Kazuo Takada
Kazuaki Tanaka
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
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Publication date
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 本発明はエタノールの製造方法に関する。更に
詳しくは、(イ)ロジウムを担体担持してなる触媒、
(ロ)ロジウム及びリチウム又はマンガンを担体担持
してなる触媒、(ハ)ロジウム、マンガン、イリジウ
ム及び/又はリチウムを担体担持してなる触媒の
いずれかと(ニ)ロジウム及び鉄又はモリブデンを担
体担持してなる触媒との存在下、一酸化炭素と水
素とを反応させることからなる、エタノールの製
造法に関する。 〔従来の技術及び発明が解決しようとする問題
点〕 エタノール、アセトアルデヒド等の炭素数2の
含酸素化合物は従来ナフサを原料とする石油化学
的方法によつて製造されてきた。しかし、近年の
原油の高騰により、製造価格の著しい上昇が起
り、原料転換の必要性が生じている。 一方、豊富で且つ安価に入手可能な一酸化炭素
及び水素の混合ガスより炭素数2の含酸素化合物
を製造する方法が種々検討されている。則ち、一
酸化炭素と水素の混合ガスを、ロジウムを主成分
とし、マンガン、チタン、ジルコニウム、タング
ステンなどの金属もしくは金属酸化物より成る触
媒の存在下に反応させて、炭素数2の含酸素化合
物を選択的に製造する方法は公知である。 しかしながら、かかる方法も副生する炭化水
素、例えばメタン等の量が多く、含酸素化合物の
選択率が低いものや含酸素化合物の選択率が高い
場合には主生成物の選択性が低いものであつた。
更に高価な貴金属であるロジウムあたりの目的化
合物の生成量がまだまだ少く、経済的にもプロセ
ス的にも完成された技術が提供されていないのが
実情である。 更に炭素数2の含酸素化合物を高収量で高選択
的に製造することを目的としたロジウムにマンガ
ンを添加した触媒及びその改良法(特開昭52−
14706、56−8333、56−8334号)が提案されてい
るが、いずれの方法もアセトアルデヒド、酢酸を
主生成物とするものであり、エタノールの収率、
選択性などは著しく低い欠点を有している。 以上述べた如く、一酸化炭素及び水素を含有す
る気体よりエタノールを主成分とする含酸素化合
物を効率よく経済性よく製造する方法は提供され
ていない。 本発明者らはエタノールを選択的に製造する方
法について鋭意検討を重ねた結果、前述した如く
アセトアルデヒドや酢酸の製造用触媒として知ら
れていたロジウム系触媒と鉄又はモリブチンを含
有するロジウム触媒とを組合せることによりエタ
ノールを高選択的に製造できることを見出し本発
明を完成した。 〔発明の概要〕 本発明は前記した如く(イ)〜(ハ)のいずれかの触媒
と、(ニ)の触媒との存在下、一酸化炭素及び水素を
反応させエタノールを製造するものである。 以下、本発明を順次詳述する。 本発明において用いられる触媒は前述の如く、
(イ)〜(ハ)のいずれかの触媒と、(ニ)の触媒とからなる
二者の触媒を主たる構成成分とする。両者の触媒
は各々別途に調製したものを使用することが必要
であり、使用に際しては混合あるいは、(イ)〜(ハ)の
触媒を上層に(ニ)の触媒を下層に充填して使用する
ことができる。触媒の調製にあたつては通常、貴
金属触媒において行われる如く、担体上に上記の
成分を分散させた触媒を用いる。 本発明において用いられる触媒は貴金属常法を
用いて調製することができる。例えば含浸法、浸
漬法、イオン交換法、共沈法、混練法等によつて
調製できる。 前記触媒を構成する諸成分の原料化合物として
は、酸化物、塩化物、硝酸塩、炭酸塩等の無機
塩、酢酸塩、シユウ酸塩、アセチルアセトナート
塩、ジメチルグリオキシム塩、エチレンジアミン
酢酸塩等有機塩又はキレート化物、カルボニル化
合物、シクロペンタジエニル化合物、アンミン錯
体、金属アルコキシド化合物、アルキル金属化合
物等通常貴金属触媒を調製する際に用いられる化
合物を使用することができる。 以下に含浸法に例をとり触媒の調製法を説明す
る。 上記の金属化合物を水、メタノール、エタノー
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ノルマル
ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の溶媒に溶解
し、その溶液に担体を加え浸漬し、溶媒を留去、
乾燥し、必要とあれば加熱等の処理を行い、担体
に金属化合物を担持する。 担持の手法としては、原料化合物を同一溶媒に
同時に溶解した混合溶液を作り、担体に同時に担
持する方法、各成分を遂次的に担体に担持する方
法、あるいは各成分を必要に応じて還元、熱処理
等の処理を行いながら遂次的、段階的に担持する
方法などの各手法を用いることができる。尚、前
記した如く二者の触媒はそれぞれ別個にこれらの
手法を用いて調製する。 その他の調製法、例えば担体のイオン交換能を
利用したイオン交換によつて金属を担持する方
法、共沈法によつて触媒を調整する方法なども本
発明方法に用いられる触媒の調製手法として採用
できる。 上述の手法によつて調製された触媒は通常還元
処理を行うことにより活性化し次いで反応に供せ
られる。還元を行うには水素を含有する気体によ
り昇温下で行うことが簡便であつて好ましい。こ
の際還元温度として、ロジウムの還元される温
度、即ち100℃程度・温度条件下でも還元処理が
できるのであるが、好ましくは200℃〜600℃の温
度下で還元処理を行う。この際触媒の各成分の分
散を十分に行わせる目的で低温より除々にあるい
は段階的に昇温しながら水素還元を行つてもよ
い。また還元剤を用いて、化学的に還元を行うこ
ともできる。たとえば、一酸化炭素と水を用いた
り、ヒドラジン、水素化ホウ素化合物、水素化ア
ルミニウム化合物などの還元剤を用いた還元処理
を行つてもよい。 本発明において用いられる担体は好ましくは比
表面積10〜1000m2/g、細孔径10Å以上を有する
ものであれば通常担体として知られているものを
使用することができる。具体的な担体としては、
シリカ、珪酸塩、シリカゲル、モレキユラーシー
ブ、ケイソウ土等のシリカ系担体、アルミナ、活
性炭などがあげられるがシリカ系の担体が好まし
い。(イ)〜(ニ)触媒いずれの場合も触媒中の各成分の
濃度と組成比は広い範囲でかえることができる。 ロジウムの担体に対する比率は、担体の比表面
積を考慮して重量比で0.0001〜0.5、好ましくは
0.001〜0.3である。また、(イ)〜(ハ)触媒において、
助触媒金属の比率はロジウムに対して原子比で
各々0.001〜10、好ましくは0.01〜5の範囲であ
る。更に(ニ)触媒において、鉄及びモリブデンの比
率はロジウムに対し原子比で各々0.001〜10、好
ましくは0.01〜5の範囲である。 本発明は、たとえば固定床の流通式反応装置に
適用することができる。すなわち反応器内に触媒
を充填し、原料ガスを送入して反応を行わせる。
生成物は分離し、未反応の原料ガスは精製したの
ちに循環再使用することも可能である。 また、本発明は流動床式の反応装置にも適用で
きる。すなわち原料ガスと流動化した触媒を同伴
させて反応を行わせることもできる。更には本発
明は溶媒中に触媒を分散させ、原料ガスを送入し
反応を行うことからなる液相不均一反応にも適用
できる。 本発明を実施するに際して採用される条件は、
エタノールを主成分とする含酸素化合物を高収
率・高選択率で製造することを目的として種々の
反応条件の因子を有機的に組合せて選択される。
反応圧力は常圧(すなわち0Kg/cm2ゲージ)でも
当該目的化合物を高選択率・高収率で製造できる
のであるが、空時収率を高める目的で加圧下にお
いて反応を行うことができる。 従つて反応圧力としては0Kg/cm2ゲージ〜350
Kg/cm2ゲージ、好ましくは0Kg/cm2ゲージ〜250
Kg/cm2ゲージの圧力下で行う。反応温度は150℃
〜450℃、好ましくは180℃〜350℃である。反応
温度が高い場合には、炭化水素の副生量が増加す
るため原料の送入速度を早くする必要がある。従
つて、空間速度(原料ガス送入量×触媒容積)
は、標準状態(0℃、1気圧)換算で10h-1
106h-1の範囲より、反応圧力と反応温度、原料ガ
ス組成との関係より適宜選択される。 当該原料ガスの組成は、主として一酸化炭素と
水素を含有しているガスであつて、窒素、アルゴ
ン、ヘリウム、メタン等の不活性ガスあるいは反
応条件下において気体の状態であれば炭化水素や
炭酸ガスや水を含有していてもよい。一酸化炭素
と水素の混合比はCO/H2比で0.1〜10、好ましく
は0.2〜5(容積比)である。 以下実施例によつて本発明を更に詳細に説明す
る。 実施例 1 塩化ロジウム(RhCl3・3H2O)0.480g(1.82
mmol)を溶解させたエタノール溶液中に、予め
300℃で2時間高真空下で焼成脱気したシリカゲ
ル(Davison #57、Davison社製)3.7g、(10
ml)を加え浸漬した。次いでロータリーエバポレ
ーターを用いてエタノールを留去し乾固した後、
更に真空乾燥した。その後、パイレツクス反応管
に充填し、常圧で水素及び窒素の混合ガス
(H2:60ml/分、N2:60ml/分)の通気下、400
℃で4時間活性化処理を行い、Rh/SiO2触媒を
調製した。次いで、塩化ロジウム0.480g、塩化
第一鉄(FeCl2・4H2O)0.109gを溶解させたエ
タノール溶液中に焼成脱気した。シリカゲル11.1
g(30ml)を加え浸漬した。上記と同様の調製法
及び活性化処理を用いてRh−Fe/SiO2触媒を調
製した。 このようにして得られたRh/SiO2触媒(触媒
7ml)、Rh−Fe/SiO2触媒(3ml)を高圧流通
式反応装置の反応管(チタン製)に上層、下層に
なる様に充填し、常圧水素ガスの流通下(200
ml/分)、300℃で2時間程度再還元処理した後、
一酸化炭素と水素の混合ガスを送入し、所定の反
応条件下で反応を行つた。反応生成物の分析は、
液状生成物については水溶解し捕集し、気体生成
物については直接ガス採取し、ガスクロ分析を行
い、定性及び定量分析し、生成物の分布を求め
た。結果を表1に示した。 実施例 2 塩化ロジウム0.480g、塩化リチウム(LiCl・
H2O)0.022gを溶解させたエタノール溶液及び
塩化ロジウム0.048g、塩化モリブデン
(MoCl5)0.050gを溶解させたエタノール溶液を
300℃焼成脱気したシリカゲル10mlに各々を浸漬
した後、実施例1と同様の処理によりRh−Li/
SiO2、Rh−Mo/SiO2触媒を調製した。Rh−Li/
SiO2触媒(7ml)、Rh−Mo/SiO2触媒(3ml)
を高圧流通式反応装置の反応管に上層、下層に充
填し、実施例1と同様の方法で活性試験を行つ
た。 結果を表1に示した。 実施例 3 塩化ロジウム0.480g、塩化マンガン
(MnCl2・4H2O)0.361gを溶解させたエタノー
ル溶液を300℃焼成脱気シリカ10mlに浸漬した。
他方、塩化ロジウム0.480g、塩化第一鉄0.109g
を溶解させたエタノール溶液を300℃焼成脱気シ
リカ30mlに浸漬した。各々を実施例1と同様の処
理により、Rh−Mn/SiO2、Rh−Fe/SiO2を調
製した。Rh−Mn/SiO2触媒(10ml)とRh−
Fe/SiO2(30ml)を混合撹拌した後、高圧流通
式反応装置の反応管に充填し、実施例1と同様の
方法で活性試験を行つた。結果を表1に示した。 実施例 4 塩化ロジウム0.480g、塩化マンガン0.036g、
塩化イリジウム(IrCl4。H2O)0.193gを溶解さ
せたエタノール溶液及び塩化ロジウム0.144g、
塩化モリブテン0.050gを溶解させたエタノール
溶液を300℃焼成脱気シリカゲル10mlに各々を浸
漬した後、実施例1と同様の処理によりRh−Mn
−Ir/SiO2、Rh−Mo/SiO2触媒を調製した。Rh
−Mn−Ir/SiO2触媒(7ml)、Rh−Mo/SiO2
(3ml)を高圧流通式反応装置の反応管に上層、
下層に充填し、実施例1と同様の方法で活性試験
を行つた。結果を表1に示した。 実施例 5 塩化ロジウム0.480g、塩化マンガン0.361g、
塩化リチウム0.055gを溶解させたエタノール溶
液を300℃焼成脱気したシリカゲル10mlに侵漬し
た。他方、塩化ロジウム0.240g、塩化モリブテ
ン0.075gを溶解させたエタノール溶液を300℃焼
成脱気したシリカゲル30mlに浸漬した。実施例1
と同様の処理によりRh−Mn−Li/SiO2、Rh−
Mo/SiO2を調製した。Rh−Mn−Li/SiO2触媒
(10ml)とRh−Mo/SiO2触媒(30ml)を混合撹
拌した後、高圧流通式反応装置の反応管に充填
し、実施例1と同様の方法で活性試験を行つた。
結果を表1に示した。 実施例 6 塩化ロジウム0.480g、塩化第一鉄0.109gを溶
解させたエタノール溶液を300℃焼成脱気シリカ
ゲル10mlに浸漬した後、実施例1と同様の処理に
より、Rh−Fe/SiO2を調製した。実施例5で調
製したRh−Mn−Li/SiO2触媒(10ml)とRh−
Fe/SiO2(10ml)を高圧流通式反応装置の反応
管に上層、下層に充填し、実施例1と同様の方法
で活性試験を行つた。結果を表1に示した。 実施例 7 塩化ロジウム0.480g、塩化マンガン0.072g、
塩化イリジウム0.193g、塩化リチウム0.011gを
溶解させたエタノール溶液を300℃焼成脱気した
シリカゲル10mlに浸漬した後、実施例1と同様の
処理により、Rh−Mn−Ir−Li/SiO2を調製し
た。Rh−Mn−Ir−Li/SiO2触媒(10ml)と実施
例6で調製したRh−Fe/SiO2触媒(10ml)を高
圧流通式反応装置の反応管に上層、下層に充填
し、実施例1と同様の方法で活性試験を行つた。
結果を表1に示した。 比較例 1 実施例1で調製したRh/SiO2触媒(10ml)を
高圧流通式反応装置の反応管に充填し、実施例1
と同様の方法で活性試験を行つた。結果を表1に
示した。 比較例 2 実施例2で調製したRh−Li/SiO2触媒(10
ml)を高圧流通式反応装置の反応管に充填し、実
施例1と同様の方法で活性試験を行つた。結果を
表1に示した。 比較例 3 実施例5で調製したRh−Mn−Li/SiO2触媒
(10ml)を高圧流通式反応装置の反応管に充填
し、実施例1と同様の方法で活性試験を行つた。
結果を表1に示した。 【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ロジウムを担体担持してなる触媒と、ロジウ
    ム及び鉄又はモリブデンを担体担持してなる触媒
    との存在下、一酸化炭素と水素とを反応させるこ
    とからなる、エタノールの製造法。 2 ロジウム及びリチウム又はマンガンを担体担
    持してなる触媒と、ロジウム及び鉄又はモリブデ
    ンを担体担持してなる触媒との存在下、一酸化炭
    素と水素とを反応させることからなる、エタノー
    ルの製造法。 3 ロジウム、マンガン、イリジウム及び/又は
    リチウムを担体担持してなる触媒と、ロジウム及
    び鉄又はモリブデンを担体担持してなる触媒の存
    在下、一酸化炭素と水素とを反応させることから
    なる、エタノールの製造法。
JP60017722A 1985-02-02 1985-02-02 エタノ−ルの製造法 Granted JPS61191633A (ja)

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JPS61191633A JPS61191633A (ja) 1986-08-26
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5180807A (ja) * 1974-01-28 1976-07-15 Union Carbide Corp

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5180807A (ja) * 1974-01-28 1976-07-15 Union Carbide Corp

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