JPS6115582B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6115582B2 JPS6115582B2 JP7898078A JP7898078A JPS6115582B2 JP S6115582 B2 JPS6115582 B2 JP S6115582B2 JP 7898078 A JP7898078 A JP 7898078A JP 7898078 A JP7898078 A JP 7898078A JP S6115582 B2 JPS6115582 B2 JP S6115582B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- aluminum
- pattern
- type thin
- etching
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 13
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 11
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 10
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 19
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 13
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 11
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 9
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は減圧した雰囲気中での蝕刻加工に関し
特にアルミニウムを主とする金属の加工法にかか
わる。
特にアルミニウムを主とする金属の加工法にかか
わる。
近年、半導体装置の製造工程に於て各種薄膜の
蝕刻には、溶液に代つて減圧した雰囲気中でのプ
ラズマ放電を利用した蝕刻法いわゆるプラズマエ
ツチング法が利用されてきている。このプラズマ
エツチング法によるアルミニウムのエツチングに
於ては、この被加工物であるアルミニウム表面に
形成されるアルミニウム酸化物のエツチング速度
が遅く、この膜のエツチングに数分間必要であ
る。この間にも最も一般的にマスキング材料とし
て使用されるホトレジストもエツチングされるた
め、従来法に於てはエツチングのパターン精度が
低下する。
蝕刻には、溶液に代つて減圧した雰囲気中でのプ
ラズマ放電を利用した蝕刻法いわゆるプラズマエ
ツチング法が利用されてきている。このプラズマ
エツチング法によるアルミニウムのエツチングに
於ては、この被加工物であるアルミニウム表面に
形成されるアルミニウム酸化物のエツチング速度
が遅く、この膜のエツチングに数分間必要であ
る。この間にも最も一般的にマスキング材料とし
て使用されるホトレジストもエツチングされるた
め、従来法に於てはエツチングのパターン精度が
低下する。
本発明は上記従来法の欠点を除き、マスキング
パターンに忠実な加工パターンを再現性良く得る
ことを目的とする。
パターンに忠実な加工パターンを再現性良く得る
ことを目的とする。
本発明によれば、基板上にアルミニウムを真空
蒸着法で被着させた後、空気中でのアルミニウム
の酸化を防止するため、同一真空内で、前記アル
ミニウム膜の表面に異る材料の薄膜を被着させ
る。
蒸着法で被着させた後、空気中でのアルミニウム
の酸化を防止するため、同一真空内で、前記アル
ミニウム膜の表面に異る材料の薄膜を被着させ
る。
このように形成した薄膜上にホトレジストパタ
ーンを形成してプラズマエツチング法を適用すれ
ば、最上層薄膜に続いて酸化アルミニウムを表面
に有しないアルミニウム膜が順次エツチングされ
ホトレジストパターンに忠実な加工パターンが得
られる。
ーンを形成してプラズマエツチング法を適用すれ
ば、最上層薄膜に続いて酸化アルミニウムを表面
に有しないアルミニウム膜が順次エツチングされ
ホトレジストパターンに忠実な加工パターンが得
られる。
本発明をより良く理解するため、図に用いて説
明する。以下の説明では、簡単のため半導体材料
としてシリコン、主配線材料としてアルミニウム
酸化防止用材料としてモリブデンを例とする。第
1図aのように所望のP型及びN型導電層を形成
したシリコン基板1の一主面を覆うシリコン酸化
膜2に開孔3を設ける。次に、その基板1表面に
真空蒸着法によりアルミニウム4及びモリブデン
5を同一真空内で順次被着する〔第1図b〕。し
かる後、前記モリブデン5表面に所望のパターン
をホトレジスト6にて形成し〔第1図c〕、該ホ
トレジストパターンを含む基板1にプラズマエツ
チング処理を施す〔第1図d〕。次に酸素プラズ
マ中にてホトレジストの灰化処理を施し、マスキ
ングに用いたホトレジスト6を除去する〔第1図
e〕。このようにしてアルミニウム表面を空気中
に曝すことなくエツチングが実施できるため、エ
ツチングによるホトレジストの消耗を少なくでき
る。したがつて微細なパターン加工が可能とな
る。
明する。以下の説明では、簡単のため半導体材料
としてシリコン、主配線材料としてアルミニウム
酸化防止用材料としてモリブデンを例とする。第
1図aのように所望のP型及びN型導電層を形成
したシリコン基板1の一主面を覆うシリコン酸化
膜2に開孔3を設ける。次に、その基板1表面に
真空蒸着法によりアルミニウム4及びモリブデン
5を同一真空内で順次被着する〔第1図b〕。し
かる後、前記モリブデン5表面に所望のパターン
をホトレジスト6にて形成し〔第1図c〕、該ホ
トレジストパターンを含む基板1にプラズマエツ
チング処理を施す〔第1図d〕。次に酸素プラズ
マ中にてホトレジストの灰化処理を施し、マスキ
ングに用いたホトレジスト6を除去する〔第1図
e〕。このようにしてアルミニウム表面を空気中
に曝すことなくエツチングが実施できるため、エ
ツチングによるホトレジストの消耗を少なくでき
る。したがつて微細なパターン加工が可能とな
る。
上記例では第2種薄膜としてモリブデンを用い
たが、この膜は材料自身或は、その材料を空気中
に曝した時に形成される酸化膜が、アルミニウム
に使用されるエツチングガスに対してアルミニウ
ムと同等程度がそれ以上のエツチング速度を有し
ている材料であれば良い。
たが、この膜は材料自身或は、その材料を空気中
に曝した時に形成される酸化膜が、アルミニウム
に使用されるエツチングガスに対してアルミニウ
ムと同等程度がそれ以上のエツチング速度を有し
ている材料であれば良い。
または、アルミニウムエツチングガスとは異な
るガスを用いて同一排気系中でエツチングできる
材料であれば良い。この時には先ずこの第2種膜
のエツチング完了後にガスを切り換えることによ
つてアルミニウムのエツチングを実施すれば同様
の効果が得られる。
るガスを用いて同一排気系中でエツチングできる
材料であれば良い。この時には先ずこの第2種膜
のエツチング完了後にガスを切り換えることによ
つてアルミニウムのエツチングを実施すれば同様
の効果が得られる。
一般にはアルミニウムのプラズマエツチングに
は四塩化炭素(Ccl4)が用いられている。前記例
のモリブデンは四塩化炭素でも、テトラフロロメ
タン(CFa)でもエツチング可能であるので、前
記にいずれの方法も採用できる。モリブデンの他
にはチタン等も同様の効果が期待できる。前記例
では配線主材料としてアルミニウムを用いたが、
銅(Cu)やシリコン(Si)を含んだアルミニウ
ム合金にも同様の効果が期待できる。
は四塩化炭素(Ccl4)が用いられている。前記例
のモリブデンは四塩化炭素でも、テトラフロロメ
タン(CFa)でもエツチング可能であるので、前
記にいずれの方法も採用できる。モリブデンの他
にはチタン等も同様の効果が期待できる。前記例
では配線主材料としてアルミニウムを用いたが、
銅(Cu)やシリコン(Si)を含んだアルミニウ
ム合金にも同様の効果が期待できる。
このようにして得た配線層を有する半導体装置
では、先願特許51−140854の効果が得られる。
では、先願特許51−140854の効果が得られる。
上記のように得た配線層に於て、モリブデン層
の全部或は一部を除去する場合には、前記配線層
を有するシリコン基板にテトラフロロメタンを用
いたプラズマエツチング処理を施すか、或は、除
去したい部分を除く表面をホトレジストにて被覆
して同様の処理を施せば良い。この時、テトラフ
ロロメタンを用いたプラズマエツチング処理では
アルミニウムはエツチングされず、また、二酸化
シリコンのエツチング速度は遅いのでモリブデン
層のエツチングに好適である。
の全部或は一部を除去する場合には、前記配線層
を有するシリコン基板にテトラフロロメタンを用
いたプラズマエツチング処理を施すか、或は、除
去したい部分を除く表面をホトレジストにて被覆
して同様の処理を施せば良い。この時、テトラフ
ロロメタンを用いたプラズマエツチング処理では
アルミニウムはエツチングされず、また、二酸化
シリコンのエツチング速度は遅いのでモリブデン
層のエツチングに好適である。
前記アルミニウム膜4及びモリブデン膜5の膜
厚は、実用的には、各々1.0〜1.5μ、500〜1000
Å程度が好適である。
厚は、実用的には、各々1.0〜1.5μ、500〜1000
Å程度が好適である。
以上のように本発明によれば、ホトレジストパ
ターンに忠実なアルミニウム加工パターンが再現
性良く得られ、本発明の大きな効果は微細な配線
パターンが得られることにある。
ターンに忠実なアルミニウム加工パターンが再現
性良く得られ、本発明の大きな効果は微細な配線
パターンが得られることにある。
第1図a〜eは、本発明による一実施例の各工
程断面図である。 1……シリコン、2……二酸化シリコン、4…
…アルミニウム、5……チタン、6……ホトレジ
スト。
程断面図である。 1……シリコン、2……二酸化シリコン、4…
…アルミニウム、5……チタン、6……ホトレジ
スト。
Claims (1)
- 1 半導体基板上に主配線材料からなる第1種薄
膜と膜材料及びその酸化物のプラズマ蝕刻速度が
前記主配線材料と同等以上である第2種薄膜を同
一排気系中にて連続的に順次被着する工程と、該
第2種薄膜上に所望のマスキングパターンを形成
する工程と、該パターンをマスクとして前記第2
種薄膜及びその酸化物に続き、第1種薄膜を同一
排気系中にて連続的に順次基板に達するまで、プ
ラズマ蝕刻する工程とを含むことを特徴とする配
線パターンの形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7898078A JPS556844A (en) | 1978-06-28 | 1978-06-28 | Method of formating wiring pattern |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7898078A JPS556844A (en) | 1978-06-28 | 1978-06-28 | Method of formating wiring pattern |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS556844A JPS556844A (en) | 1980-01-18 |
JPS6115582B2 true JPS6115582B2 (ja) | 1986-04-24 |
Family
ID=13677032
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7898078A Granted JPS556844A (en) | 1978-06-28 | 1978-06-28 | Method of formating wiring pattern |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS556844A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0470589A (ja) * | 1990-07-12 | 1992-03-05 | Koufu Nippon Denki Kk | フォトセンサ信号検出回路 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5519873A (en) * | 1978-07-28 | 1980-02-12 | Mitsubishi Electric Corp | Forming method of metallic layer pattern for semiconductor |
JPS5715441A (en) * | 1980-07-01 | 1982-01-26 | Fujitsu Ltd | Formation of aluminum interconnection |
JPS5739538A (en) * | 1980-08-20 | 1982-03-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Etching method of aluminum |
JPS5749231A (en) * | 1980-09-09 | 1982-03-23 | Mitsubishi Electric Corp | Forming method for electrode and wiring layer |
JPS57130429A (en) * | 1981-02-06 | 1982-08-12 | Hitachi Ltd | Formation of electrode wiring |
JPS583253A (ja) * | 1981-06-29 | 1983-01-10 | Seiko Epson Corp | 半導体基板上への金属配線形成方法 |
JP2552876B2 (ja) * | 1987-08-25 | 1996-11-13 | 本田技研工業株式会社 | 車輌盗難防止装置 |
JPH0714712B2 (ja) * | 1987-08-25 | 1995-02-22 | 本田技研工業株式会社 | 車輌盗難防止装置 |
-
1978
- 1978-06-28 JP JP7898078A patent/JPS556844A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0470589A (ja) * | 1990-07-12 | 1992-03-05 | Koufu Nippon Denki Kk | フォトセンサ信号検出回路 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS556844A (en) | 1980-01-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4496419A (en) | Fine line patterning method for submicron devices | |
US4897365A (en) | Reduced-beak planox process for the formation of integrated electronic components | |
JPS588579B2 (ja) | ハンドウタイソウチノセイゾウホウホウ | |
JPS6115582B2 (ja) | ||
US3772102A (en) | Method of transferring a desired pattern in silicon to a substrate layer | |
JP2765561B2 (ja) | 微細空中配線の作製方法 | |
JP2892337B2 (ja) | 半導体素子の金属配線製造方法 | |
JP2902513B2 (ja) | レジストパターン形成方法 | |
JPH1197346A (ja) | 半導体ウエハの製造 | |
JPS58194334A (ja) | 薄膜の形成方法 | |
JPH07321091A (ja) | エッチング方法及び配線形成方法 | |
JPH05144812A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH03125427A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS6143484A (ja) | 半導体装置の電極形成方法 | |
JPS583230A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH02134818A (ja) | 配線構造体の形成法 | |
JPH0697292A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JPH0289319A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH0521430A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPH09181081A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS62234333A (ja) | 微細溝加工用マスクの形成方法 | |
JPH10125661A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS60153146A (ja) | 半導体装置のアルミニウム配線 | |
JPH0828538B2 (ja) | 超電導薄膜パタンの形成方法 | |
JPS5928344A (ja) | 半導体装置の製造方法 |