JPS61146540A

JPS61146540A - スクリ−ン印刷方法

Info

Publication number: JPS61146540A
Application number: JP27000484A
Authority: JP
Inventors: Toshinori Urade; 浦出　俊則
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 1984-12-20
Filing date: 1984-12-20
Publication date: 1986-07-04

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明はフラットタイプのディスプレイパネル。

プリント板等における電極及び電極端子などの厚膜パタ
ーン、レジストパターン、或いはハイブリッドＩＣ等を
スクリーン印刷によって形成する方法の改良に関するも
のである。

スクリーン印刷方法は、被厚膜パターン形成面上にスク
リーン印刷パターンマスクを通して厚膜印刷インクをス
キージ移動操作により、所望の厚膜パターンを印刷形成
する方法であって、フラットタイプのディスプレイパネ
ル、ハイブリッドＩＣ１或いはプリント板等の製作に広
く用いられている。

しかしこれらスクリーン印刷方法によって所望の電極、
電極端子、コンデンサ、或いは抵抗等の厚膜パターンを
形成する場合、その印刷精度のバラツキはそのまま形成
された前記厚膜パターンのバラツキとなって現れること
から、印刷精度に充分な配慮がなされたスクリーン印刷
機構を用いることが必要である。

〔従来の技術〕

従来のスクリーン印刷方法は第６図に示すように、スク
リーン印刷装置における基板載置台１上に配置された基
板２面上に、ナイロンメフシェ、或いはステンレスメツ
シュに所定マスクパターン−が形成されたスクリーン印
刷パターンマスク（以下印刷マスクと称する）３を所定
微小間隔をもって配設し、該印刷マスク３上に供給され
たペースト状の厚膜印刷インク４を、スキージ５によっ
て矢印の方向に移動操作することによって、該印刷マス
ク３が部分的に順次基板２に押しつけられ、パターン開
放部より厚膜印刷インク４が押し出されることにより、
該基板２上に印刷マスク３のパターンと同形の所望とす
る厚膜パターンを形成している。

（発明が解決しようとする問題点〕ところで上記のようなスクリーン印刷方法においては、
第６図に示すようにスキージ５移動操作開始の時点では
、印刷マスク３パターンと印刷される厚膜パターンとの
間にはＡ及びＡ′で示すされるようにパターンずれは見
られないが、スキージ５が移動方向に進むにつれてＢ及
びＢｏで示すように　パターンずれが発生する所謂、印
刷マスクのパターン寸法に対して印刷された厚膜パター
ン寸法に誤差が発生し易い不都合がある。

この誤差は、■印刷機本来の機構精度、■印刷マスク３
の種類、■印刷マスク３の伸縮、■環境温湿度の変化、
■堵機構のセッテング条件（印刷スキージ圧、マスク・
基板間ギャップ、スキージ角など）等の多くの要因によ
って変化するもので、当然同一の印刷マスクを用いて多
数枚の基板に同一厚膜パターンを順次繰り返して印刷す
る場合にも、印刷マスク３のパターン寸法と同寸法パタ
ーンを精度良く再現することは容易でない。

このため、特に一方向にのみ高寸法精度が要求される例
えばフラットタイプのディスプレイパネルにおける電極
の重畳印刷、或いは該パネル、プリント板等の端子部分
など他の構成パターンと高精度な目合わせ及び印刷に対
しても当然のことながら対処出来ない欠点があり、これ
ら問題点の改善解消が要望されている。

〔問題点を解決するための手段〕

上記問題点は、厚膜パターンを形成すべき基板上にスク
リーン印刷パターンマスクを配置し、該マスク上の厚膜
印刷インクに対してスキージを移動させることにより被
厚膜パターン形成面上に、該スクリーンに形成された印
刷パターンと同形状の厚膜パターンを形成する方法にお
いて、上記スキージ移動操作中に前記スクリーン印刷パ
ターンマスクと被厚膜パターン形成面との相対位置を、
スキージ移動操作方向にずらして印刷形成される、被厚
膜パターンの伸縮を補正制御するようにした本発明によ
るスクリーン印刷方法によって解決される。

〔作用〕

即ち、印刷マスク上の厚膜印刷インクに対してスキージ
を移動させることにより被厚膜パターン形成基板面上に
、該スクリーンに形成された印刷パターンと同形状の厚
膜パターンを形成する際に、上記スキージ移動操作中に
前記被厚膜パターンを形成する基板側に対して印刷マス
クの位置を、被印刷パターンの印刷方向への伸び・縮み
を予め測定・計算等によって求めて、この伸び・縮みに
対応する寸法分だけスキージ移動操作方向に微小にずら
しながら印刷して形成される厚膜パターンの伸縮を補正
制御するか、又はその逆に印刷マスクに対して前記被厚
膜パターンを形成する基板側の位置を、前記被印刷パタ
ーンの印刷方向への伸び・縮みに対応する寸法分だけス
キージ移動操作方向に微小にずらしながら印刷して、形
成される被厚膜パターンの伸縮を補正することにより、
特に一方向（スキージ移動操作方向）のみに高寸法精度
が要求される例えばフラットタイプのディスプレイパネ
ルにおける電極の重畳印刷、或いは該パネル、プリント
板等の端子部分など他の構成パターンと高精度な目合わ
せ及び印刷を精度良く行うことが可能となる。

〔実施例〕

以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。

第１図は本発明に係るスクリーン印刷方法の第１実施例
を模式的に示す要部断面図である。なお従来例で示した
第６図と同等機能部分には同一符号を付した。

本実施例においては、基板載置台１上に配置された基板
２面上に、所定微小間隔をもって配設した印刷マスク３
をスキージ５の移動方向に微小移動可能とすると共に、
該印刷マスク３にスキージ５の移動方向に微小移動する
補正駆動装置２１を接続して置く。

次にスキージ移動操作によって前記被厚膜パターンを形
成する基板２に対して印刷マスク３の被印刷パターンの
印刷方向への伸び・縮みを予め測定・計算等によって求
めておき、このデータ信号に基づき、スキージ移動操作
と共に前記補正駆動装置２１を駆動させて印刷マスク３
をスキージ移動方向に微小に移動制御することにより、
印刷マスク３のパターン寸法と同寸法パターンの所望と
する厚膜パターンを高精度、特にスキージ移動操作方向
に対して高寸法精度に再現性良（印刷形成することが可
能となる。

第２図は本発明に係るスクリーン印刷方法の第２実施例
を模式的に示す要部断面図である。なお第１図と同等機
能部分には同一符号を付した。

本実施例が第１図による前記第１実施例と異なる点は、
基板載置台１をスキージ５の移動方向に微小移動可能と
すると共に、該基板載置台１にスキージ５の移動方向に
微小移動する補正駆動装置２１を接続した構成とし、予
めスキージ移動操作によって被印刷パターンの印刷方向
への伸び・縮みを測定・計算等によって求めたデータ信
号に基づき、スキージ移動操作と共に前記補正駆動装置
２１を駆動させて前記基板載置台１をスキージ移動方向
に微小に移動制御するようにしたことである。

本実施例の方法によっても前記第１実施例と同様に印刷
マスク３のパターン寸法と同寸法パターンの所望とする
厚膜パターンを高精度に、特にスキージ移動操作方向に
対して高寸法精度に再現性良く印刷形成することが可能
となる。

第３図は本発明に係るスクリーン印刷方法の第３実施例
を模式的に示す要部断面図である。なお第１図と同等機
能部分には同一符号を付した。

本実施例が第１図による前記第１実施例２と異なる点は
、予め補正演算回路３１に印刷の種別による諸印刷条件
と、用いられる印刷マスク３毎に、スキージ移動操作に
よって被印刷パターンの印刷方向への伸び・縮みを実際
に計測して求めたデータ等を入力しておく。

次に印刷に際してスキージ移動操作時のスキージ５の移
動位置を、例えばポテンショメータ、磁気スケール、或
いはリニアエンコーダなどからなる位置検出手段３２に
よって検出し、この検出信号を増幅器３３を介して前記
補正演算回路３１に入力して印刷マスク３と前記基板載
置台１上の基板２との相対位置関係を補正演算し、この
補正信号フィードバック回路系からの補正信号を補正駆
動装置２１に入力し、スキージ５の移動操作を行うと同
時に前記補正駆動装置２１を該補正信号に基づいて駆動
させ、前記印刷マスク３をスキージ移動方向に微小に移
動制御するようにしたことである。

スキージの移動位置検出としては、上記のように直接検
知する場合の他に、スキージ移動速度等よりスキージの
移動開始時点からの経過時間によって計算し、割り出す
ようにしてもよい。

又、上記補正操作を最も容易に行う方法とじては、スキ
ージの移動開始時点から同移動終点迄の被印刷パターン
の印刷方向へのずれ、即ち伸び・縮みを直線補正するこ
とであり、例えば２乗、３乗等、ずれ傾向が一定であれ
ばその傾向に沿った補正も可能である。

上記のように本実施例の方法によっても前記第１、第２
実施例と同様、或いはより効果的に印刷マスク３のパタ
ーン寸法と同寸法パターンの所望とする厚膜パターンを
高精度に、特にスキージ移動操作方向に対して高寸法精
度に再現性良く印刷形成することが可能となる。

第４図は本発明に係るスクリーン印刷方法の第４実施例
を模式的に示す要部断面図である。なお第２図と同等機
能部分には同一符号を付した。

本実施例が第２図による第２実施例と異なる点は、スキ
ージ移動操作によって印刷マスク３の印刷パターンと、
被印刷パターンが形成される基板２とのスキージ移動方
向への位置ずれ（伸び・縮み）を図示のように例えば透
過型ビデオセンサーからなる位置ズレ検出センサー４１
によって検出し、その検出信号を補正演算回路（電子計
算機等を適用してもよい）３１にて演算し、出力した補
正信号を補正駆動装置２１に入力せしめて印刷マスクと
被印刷パターンが形成される基板２との位置ずれ関係を
補正するようにしたことである。

本実施例の方法によっても前記第１．第２実施例と同様
、或いはより効果的に印刷マスク３のパターン寸法と同
寸法パターンの所望とする厚膜パターンを高精度に、特
にスキージ移動操作方向に対して高寸法精度に再現性良
く印刷形成することが可能となる。

尚、上記位置ズレ検出センサー４１としては、前記透過
型ビデオセンサーに限らず、例えば反射型ビデオセンサ
ーや、位置ズレの程度により遮光面積の変化を検出する
光量検出型センサー、或いは電気マイクロメータ等の機
械的センサーなども適用することができる。

又、上記位置ズレ検出センサー４１の配置数も単数に限
定されるものでは無く、例えば第５図に示すように複数
個の位置ズレ検出センサー４１ａ〜４１ｃを分散配置し
て補正精度を更に上げるようにすることもできる。

更に、本実施例の方法に第３図の実施例によって説明し
たスキージ位置検出のフィードバック回路系を併用する
ようにしてもよい。

〔発明の効果〕

以上の説明から明らかなように、本発明に係るスクリー
ン印刷方法によれば、スクリーン印刷マスクのパターン
寸法と同寸法パターンの所望とする厚膜パターンを、特
にスキージ移動操作方向に対して高寸法精度に、かつ再
現性良く印刷形成することが可能となる優れた利点を有
する。

従って、一方向（スキージ移動操作方向）にのみ特に高
寸法精度が要求される、例えばフラットタイプのディス
プレイパネルにおける電極の重畳印刷、或いは該パネル
、プリント板等の端子部分など他の構成パターンと高精
度な目合わせを必要とする印刷等を精度良く行うことが
できるなど、実用上の効果は極めて大きい。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係るスクリーン印刷方法の第１実施例
を模式的に示す要部断面図、第２図は本発明に係るスクリーン印刷方法の第２実施例
を模式的に示す要部断面図、第３図は本発明に係るスクリーン印刷方法の第３実施例
を模式的に示す要部断面図、第４図は本発明に係るスクリーン印刷方法の第４実施例
を模式的に示す要部断面図、第５図は本発明に係るスクリーン印刷方法の第５実施例
を模式的に示す要部断面図、第６図は従来のスクリーン印刷方法を説明するための要
部断面図である。図中、１は基板載置台、２は基板、３はスクリーン印刷
パターンマスク、４は厚膜印刷インク、５はスキージ、
２１は補正駆動装置、３１は補正演算回路、３２は位置
検出手段、３３は増幅器、４１．４１ａ〜４１ｃは位置
ズレ検出手段をそれぞれ示す。第１図第２図１１８３図

Claims

【特許請求の範囲】

厚膜パターンを形成すべき基板上にスクリーン印刷パタ
ーンマスクを配置し、該マスク上の厚膜印刷インクに対
してスキージを移動させることにより、被厚膜パターン
形成面上に、該スクリーン印刷パターンと同形状の厚膜
パターンを形成する方法において、上記スキージ移動操
作中に前記スクリーン印刷パターンマスクと被厚膜パタ
ーン形成面との相対位置を、スキージ移動操作方向にず
らして印刷形成される被厚膜パターンの伸縮を補正制御
するようにしたことを特徴とするスクリーン印刷方法。