JPH04112074A - ローラー転写用アライメント方法およびアライメント装置 - Google Patents
ローラー転写用アライメント方法およびアライメント装置Info
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- JPH04112074A JPH04112074A JP2231563A JP23156390A JPH04112074A JP H04112074 A JPH04112074 A JP H04112074A JP 2231563 A JP2231563 A JP 2231563A JP 23156390 A JP23156390 A JP 23156390A JP H04112074 A JPH04112074 A JP H04112074A
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- 238000012546 transfer Methods 0.000 title claims abstract description 83
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 30
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 51
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
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- G03F9/7023—Aligning or positioning in direction perpendicular to substrate surface
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Inking, Control Or Cleaning Of Printing Machines (AREA)
- Printing Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はローラー転写用アライメント方法およびアライ
メント装置に関し、さらに詳しくは、ワークへの転写パ
ターンの転写を高い精度で正確に行うことができて例え
ば薄膜半導体素子の製造に好適に採用することのできる
ローラー転写用アライメント方法と、この方法に好適に
使用することのできるアライメント装置とに関する。
メント装置に関し、さらに詳しくは、ワークへの転写パ
ターンの転写を高い精度で正確に行うことができて例え
ば薄膜半導体素子の製造に好適に採用することのできる
ローラー転写用アライメント方法と、この方法に好適に
使用することのできるアライメント装置とに関する。
〔従来の技術および発明が解決しようとする課題〕たと
えば薄膜半導体素子の製造においては、導電性微細パタ
ーンを正確に形成する必要かある。
えば薄膜半導体素子の製造においては、導電性微細パタ
ーンを正確に形成する必要かある。
この薄膜半導体素子の製造においては、たとえば被加工
物にレジストインキパターンを直接印刷する方法、ある
いは被加工物にあらかじめフォトレジスト層を塗布し、
次いで、この被加工物に所定形状で紫外線を遮断する印
刷インキ層を印刷した後、エツチング処理を行なう印刷
法を採用して導電性微細パターンを形成する方法が考え
られる。
物にレジストインキパターンを直接印刷する方法、ある
いは被加工物にあらかじめフォトレジスト層を塗布し、
次いで、この被加工物に所定形状で紫外線を遮断する印
刷インキ層を印刷した後、エツチング処理を行なう印刷
法を採用して導電性微細パターンを形成する方法が考え
られる。
そして、被加工物に所定形状で印刷インキ層を印刷する
ためには、被加工物と印刷インキ層との正確な位置合せ
をしなければならない。また、位置合せを行なう場合で
も、−旦、印刷インキ層を被加工物に印刷して印刷位置
を確認した後は、定の再現性で印刷が行なわれるものと
して印刷毎の位置合せを省略しているので、被加工物上
に印刷される印刷パターンの位置合せ精度およびその再
現性は２０〜３０μｍが限度であり、たとえば薄膜半導
体素子の導電性微細パターンに要求される位置合せ精度
およびその再現性の水準（例えば１〜５μｍ）には至っ
ていない。
ためには、被加工物と印刷インキ層との正確な位置合せ
をしなければならない。また、位置合せを行なう場合で
も、−旦、印刷インキ層を被加工物に印刷して印刷位置
を確認した後は、定の再現性で印刷が行なわれるものと
して印刷毎の位置合せを省略しているので、被加工物上
に印刷される印刷パターンの位置合せ精度およびその再
現性は２０〜３０μｍが限度であり、たとえば薄膜半導
体素子の導電性微細パターンに要求される位置合せ精度
およびその再現性の水準（例えば１〜５μｍ）には至っ
ていない。
本発明は前記の事情に基づいて高精度位置合せと反復再
現の信頼性を得るためになされたものである。すなわち
、本発明はワークへの転写パターンの転写を高い精度で
正確に行なうことができて例えば薄膜半導体素子の製造
に好適に採用することのできるローラー転写用アライメ
ント方法と、この方法に好適に使用することのできるア
ライメント装置とを提供することを目的とする。
現の信頼性を得るためになされたものである。すなわち
、本発明はワークへの転写パターンの転写を高い精度で
正確に行なうことができて例えば薄膜半導体素子の製造
に好適に採用することのできるローラー転写用アライメ
ント方法と、この方法に好適に使用することのできるア
ライメント装置とを提供することを目的とする。
前記の課題を解決するための本発明の要旨は、回転ドラ
ムの円周方向に沿って転写パターンを形成してなるロー
ラー上の該転写パターンに設けたパターン側レジスター
マークと、前記ローラーに対向するワーク定盤上に載置
したワークに設けたワーク側レジスターマークとを、観
察光学系により光学的に観察しつつ該観察光学系から得
られる情報に応じて前記ワーク定盤又は前記回転ドラム
を非接触状態で移動させることにより重ね合わせて前記
転写パターンと前記ワークとの整合を行ない、その後、
前記転写パターンと前記ワークとを圧着させた状態で前
記ローラーを回転させることにより前記ワークの表面に
前記転写パターンを転写させることを特徴とするローラ
ー転写用アライメント方法であり、 前記の整合終了後、前記転写パターンと前記ワ−りとを
圧着させるまでの間、さらに前記の整合動作を継続させ
る請求項１に記載のローラー転写用アライメント方法で
あり、 観察光学系に透過光を用いる請求項１または請求項２に
記載のローラー転写用アライメント方法であり、 観察光学系に反射光を用いる請求項１または請求項２に
記載のローラー転写用アライメント方法であり、 回転ドラムの円周方向に沿って転写パターンを形成して
なるローラー上の該転写パターンに設けたパターン側レ
ジスターマークと前記ローラーに対向するワーク定盤上
に載置したワークに設けたワーク側レジスターマークと
を光学的に観察する観察光学系と、該観察光学系で得ら
れた情報により前記パターン側レジスターマークと前記
ワーク側レジスターマークとの位置ずれを算出するアラ
イメント量算出部と、該アライメント量算出部による算
出結果に基づいた制御信号を出力するステージ制御部と
、該ステージ制御部から出力された前記制御信号に応じ
て前記ワーク側レジスターマークと前記パターン側レジ
スターマークとが重なり合う位置に前記ワーク定盤を移
動させるステージ駆動部とを備えることを特徴とするア
ライメント装置であり、回転ドラムの円周方向に沿って
転写パターンを形成してなるローラー上の該転写パター
ンに設けたパターン側レジスターマークと前記ローラー
に対向するワーク定盤上に載置したワークに設けたワー
ク側レジスターマークとを光学的に観察する観察光学系
と、該観察光学系で得られた情報により前記パターン側
レジスターマークと前記ワーク側レジスターマークとの
位置ずれを算出するアライメント量算出部と、該アライ
メント量算出部による算出結果に基づいた制御信号を出
力するステージ制御部と、該ステージ制御部から出力さ
れた前記制御信号に応じて前記ワーク側レジスターマー
クと前記パターン側レジスターマークとが重なり合う位
置に前記ローラーを移動させるローラー駆動部とを備え
ることを特徴とするアライメント装置である。
ムの円周方向に沿って転写パターンを形成してなるロー
ラー上の該転写パターンに設けたパターン側レジスター
マークと、前記ローラーに対向するワーク定盤上に載置
したワークに設けたワーク側レジスターマークとを、観
察光学系により光学的に観察しつつ該観察光学系から得
られる情報に応じて前記ワーク定盤又は前記回転ドラム
を非接触状態で移動させることにより重ね合わせて前記
転写パターンと前記ワークとの整合を行ない、その後、
前記転写パターンと前記ワークとを圧着させた状態で前
記ローラーを回転させることにより前記ワークの表面に
前記転写パターンを転写させることを特徴とするローラ
ー転写用アライメント方法であり、 前記の整合終了後、前記転写パターンと前記ワ−りとを
圧着させるまでの間、さらに前記の整合動作を継続させ
る請求項１に記載のローラー転写用アライメント方法で
あり、 観察光学系に透過光を用いる請求項１または請求項２に
記載のローラー転写用アライメント方法であり、 観察光学系に反射光を用いる請求項１または請求項２に
記載のローラー転写用アライメント方法であり、 回転ドラムの円周方向に沿って転写パターンを形成して
なるローラー上の該転写パターンに設けたパターン側レ
ジスターマークと前記ローラーに対向するワーク定盤上
に載置したワークに設けたワーク側レジスターマークと
を光学的に観察する観察光学系と、該観察光学系で得ら
れた情報により前記パターン側レジスターマークと前記
ワーク側レジスターマークとの位置ずれを算出するアラ
イメント量算出部と、該アライメント量算出部による算
出結果に基づいた制御信号を出力するステージ制御部と
、該ステージ制御部から出力された前記制御信号に応じ
て前記ワーク側レジスターマークと前記パターン側レジ
スターマークとが重なり合う位置に前記ワーク定盤を移
動させるステージ駆動部とを備えることを特徴とするア
ライメント装置であり、回転ドラムの円周方向に沿って
転写パターンを形成してなるローラー上の該転写パター
ンに設けたパターン側レジスターマークと前記ローラー
に対向するワーク定盤上に載置したワークに設けたワー
ク側レジスターマークとを光学的に観察する観察光学系
と、該観察光学系で得られた情報により前記パターン側
レジスターマークと前記ワーク側レジスターマークとの
位置ずれを算出するアライメント量算出部と、該アライ
メント量算出部による算出結果に基づいた制御信号を出
力するステージ制御部と、該ステージ制御部から出力さ
れた前記制御信号に応じて前記ワーク側レジスターマー
クと前記パターン側レジスターマークとが重なり合う位
置に前記ローラーを移動させるローラー駆動部とを備え
ることを特徴とするアライメント装置である。
以下、本発明のローラー転写用アライメント方法および
アライメント装置について、図面を参照して説明する。
アライメント装置について、図面を参照して説明する。
第１図（イ）〜（ハ）に本発明のローラー転写用アライ
メント方法におけるローラー１とワーク４との関係を工
程の順に示す。なお、第１図（ロ）および（ハ）におい
ては、同図（イ）に示すアライメント装置の図示を省略
しである。
メント方法におけるローラー１とワーク４との関係を工
程の順に示す。なお、第１図（ロ）および（ハ）におい
ては、同図（イ）に示すアライメント装置の図示を省略
しである。
箪１図（イ）に示すように、本発明の方法においては、
まず、ローラー１上に形成した転写パターン２に設けた
パターン側レジスターマーク（図示せず）と、ローラー
１に対向するワーク定盤３上に載置したワーク４に設け
たワーク側レジスターマーク（図示せず）とを、観察光
学系５により光学的に観察しつつ観察光学系５から得ら
れる情報に応じてワーク定盤３又はローラー１を移動さ
せることにより重ね合わせて転写パターン２とワーク４
との整合を行なう。また、ワーク定盤３を固定し、ロー
ラー１を移動させることによっても転写パターン２とワ
ーク４との整合を行なうことができる。
まず、ローラー１上に形成した転写パターン２に設けた
パターン側レジスターマーク（図示せず）と、ローラー
１に対向するワーク定盤３上に載置したワーク４に設け
たワーク側レジスターマーク（図示せず）とを、観察光
学系５により光学的に観察しつつ観察光学系５から得ら
れる情報に応じてワーク定盤３又はローラー１を移動さ
せることにより重ね合わせて転写パターン２とワーク４
との整合を行なう。また、ワーク定盤３を固定し、ロー
ラー１を移動させることによっても転写パターン２とワ
ーク４との整合を行なうことができる。
この整合は、たとえば第２図（イ）および同図（ロ）に
示すように、転写パターン２の所定の部位に設けたパタ
ーン側レジスターマーク６とワーク４の所定の部位に設
けたワーク側レジスターマーク７との位置関係を観察光
学系５で観察しながらパターン側レジスターマーク７と
が重なり合う位置にワーク定盤３又はローラー１を移動
せさることにより行なう。
示すように、転写パターン２の所定の部位に設けたパタ
ーン側レジスターマーク６とワーク４の所定の部位に設
けたワーク側レジスターマーク７との位置関係を観察光
学系５で観察しながらパターン側レジスターマーク７と
が重なり合う位置にワーク定盤３又はローラー１を移動
せさることにより行なう。
すなわち、観察光学系５で得られる情報が、たとえば第
２図（イ）に示すようにパターン側レジスターマーク６
とワーク側レジスターマーク７との位置ずれを示してい
れば、第２図（ロ）に示すようにパターン側レジスター
マーク６とワーク側レジスターマーク７とが重なり合っ
て観察される位置までワーク定盤３又はローラー１を移
動させることにより転写パターン２とワーク４との位置
合せを行なう。
２図（イ）に示すようにパターン側レジスターマーク６
とワーク側レジスターマーク７との位置ずれを示してい
れば、第２図（ロ）に示すようにパターン側レジスター
マーク６とワーク側レジスターマーク７とが重なり合っ
て観察される位置までワーク定盤３又はローラー１を移
動させることにより転写パターン２とワーク４との位置
合せを行なう。
ワーク定盤３又はローラー１の移動は、空間座標系（ｘ
−ｙ−ｚ座標系）における水平方向（Ｘ軸方向、ｙ軸方
向および原点から角度θの方向）と鉛直方向（Ｚ軸方向
）とにおいて行なう。ワーク定盤３又はローラー１を水
平方向（Ｘ軸方向、ｙ軸方向および原点から角度θの方
向）のみならず鉛直方向（ｚ軸方向）にも移動させるの
は、観察光学系５による正確な光学的観察を行なうため
に必要な所定の整合ギャップを維持するためである。
−ｙ−ｚ座標系）における水平方向（Ｘ軸方向、ｙ軸方
向および原点から角度θの方向）と鉛直方向（Ｚ軸方向
）とにおいて行なう。ワーク定盤３又はローラー１を水
平方向（Ｘ軸方向、ｙ軸方向および原点から角度θの方
向）のみならず鉛直方向（ｚ軸方向）にも移動させるの
は、観察光学系５による正確な光学的観察を行なうため
に必要な所定の整合ギャップを維持するためである。
なお、観察光学系５に用いる光は、透過光であってもよ
いし、反射光であってもよい。
いし、反射光であってもよい。
また、転写パターン２とワーク４との整合は、転写パタ
ーン２に設けられた複数のパターン側レジスターマーク
６とワーク４に設けられた複数のワーク側レジスターマ
ーク７とについてそれぞれ行なうことが望ましい。この
場合、転写パターン２とワーク４の整合は、第３図（イ
）〜（ニ）に示すようにワーク４の一端側に設けられた
ワーク側レジスターマーク（図示せず）と同レジスター
マークに対応するパターン側レジスターマーク（図示せ
ず）との整合を行なった後、順次、観察光学系を移動さ
せてワーク４の他端側に設けられたワーク側レジスター
マークと同レジ−スターマークとパターン側レジスター
マークとの整合を行なえばよい。なお、第３図（ロ）〜
（ニ）においては、同図（イ）に示したアライメントシ
フト量算出部８、ステージ制御部９およびステージ駆動
部１０を省略しである。また複数のレジスターマークが
散在する場合に図示のように単一光学系を移動させると
アライメント時間および測定精度に問題が生じる恐れが
あれば、光学系の数を増やして行なうのが好ましい。
ーン２に設けられた複数のパターン側レジスターマーク
６とワーク４に設けられた複数のワーク側レジスターマ
ーク７とについてそれぞれ行なうことが望ましい。この
場合、転写パターン２とワーク４の整合は、第３図（イ
）〜（ニ）に示すようにワーク４の一端側に設けられた
ワーク側レジスターマーク（図示せず）と同レジスター
マークに対応するパターン側レジスターマーク（図示せ
ず）との整合を行なった後、順次、観察光学系を移動さ
せてワーク４の他端側に設けられたワーク側レジスター
マークと同レジ−スターマークとパターン側レジスター
マークとの整合を行なえばよい。なお、第３図（ロ）〜
（ニ）においては、同図（イ）に示したアライメントシ
フト量算出部８、ステージ制御部９およびステージ駆動
部１０を省略しである。また複数のレジスターマークが
散在する場合に図示のように単一光学系を移動させると
アライメント時間および測定精度に問題が生じる恐れが
あれば、光学系の数を増やして行なうのが好ましい。
以上のようにして転写パターン２とワーク４との整合を
行なった後、ワーク定盤３を前記ｚ軸方向に移動させて
ワーク４を転写パターン２に圧着する（第１図（ロ）参
照）。
行なった後、ワーク定盤３を前記ｚ軸方向に移動させて
ワーク４を転写パターン２に圧着する（第１図（ロ）参
照）。
この操作により、ローラー１に設けられた転写パターン
２とワーク定盤３上に載置したワーク４とは、パターン
側レジスターマーク６とワーク側レジスターマーク７と
が重なり合う状態で密着することになる。
２とワーク定盤３上に載置したワーク４とは、パターン
側レジスターマーク６とワーク側レジスターマーク７と
が重なり合う状態で密着することになる。
なお、前述の整合操作を行なった後、ワーク定盤３を２
軸方向に移動させてワーク４を転写パターン２に圧着す
るまでの移動の間に整合位置の変動が機械的に発生する
恐れがある場合は、さらに前述の整合操作を継続して行
なうことが好ましい。
軸方向に移動させてワーク４を転写パターン２に圧着す
るまでの移動の間に整合位置の変動が機械的に発生する
恐れがある場合は、さらに前述の整合操作を継続して行
なうことが好ましい。
整合操作を継続して行なうことにより、転写パターン２
とワーク４との初期整合時とワーク４と転写パターン２
との圧着時との間に生じることのある位置ずれ（いわゆ
るイメージシフト）の発生を防止することが可能である
。
とワーク４との初期整合時とワーク４と転写パターン２
との圧着時との間に生じることのある位置ずれ（いわゆ
るイメージシフト）の発生を防止することが可能である
。
前述のようにしてワーク４と転写パターン２とを圧着し
た後、圧着状態を保持したままローラー−１を回転させ
ることによりワーク４の表面に転写パターン２を転写さ
せる。
た後、圧着状態を保持したままローラー−１を回転させ
ることによりワーク４の表面に転写パターン２を転写さ
せる。
したがって、ワーク４上に所定の位置に転写パターン２
を正確に、且つ高い再現性で転写させることが可能であ
る。
を正確に、且つ高い再現性で転写させることが可能であ
る。
次に、アライメント装置について説明する。
第４図および第５図に示すように本発明のアライメント
装置は、ローラー１上の転写パターン２に設けたパター
ン側レジスターマーク（図示せず）とローラー１に対向
するワーク定盤３上に載置したワーク４に設けたワーク
側レジスターマーク（図示せず）とを光学的に観察する
観察光学系５と、観察光学系５で得られた情報によりパ
ターン側レジスターマークとワーク側レジスターマーク
との位置ずれを算出するアライメント量算出部８と、ア
ライメント量算出部８による算出結果に基づいた制御信
号を出力するステージ制御部９と、ステージ制御部９か
ら出力された制御信号に応じてワーク側レジスターマー
クとパターン側レジスターマークとが重なり合う位置に
ワーク定盤３を移動させるステージ駆動部１０とを備え
る。また、第６図に示すよう−にステージ駆動部１０に
代えて、ステージ制御部９から出力された制御信号に応
じてワーク側レジタ−マークとパターン側レジスターマ
ークとが重なり合う位置にローラー１を駆動するローラ
ー駆動部２０を備えていてもよい。
装置は、ローラー１上の転写パターン２に設けたパター
ン側レジスターマーク（図示せず）とローラー１に対向
するワーク定盤３上に載置したワーク４に設けたワーク
側レジスターマーク（図示せず）とを光学的に観察する
観察光学系５と、観察光学系５で得られた情報によりパ
ターン側レジスターマークとワーク側レジスターマーク
との位置ずれを算出するアライメント量算出部８と、ア
ライメント量算出部８による算出結果に基づいた制御信
号を出力するステージ制御部９と、ステージ制御部９か
ら出力された制御信号に応じてワーク側レジスターマー
クとパターン側レジスターマークとが重なり合う位置に
ワーク定盤３を移動させるステージ駆動部１０とを備え
る。また、第６図に示すよう−にステージ駆動部１０に
代えて、ステージ制御部９から出力された制御信号に応
じてワーク側レジタ−マークとパターン側レジスターマ
ークとが重なり合う位置にローラー１を駆動するローラ
ー駆動部２０を備えていてもよい。
なお、第４図は観察光学系５に透過光を用いるアライメ
ント装置の構成例を示す説明図であり、第５図は観察光
学系５に反射光を用いるアライメント装置の構成例を示
す説明図である。
ント装置の構成例を示す説明図であり、第５図は観察光
学系５に反射光を用いるアライメント装置の構成例を示
す説明図である。
観察光学系５は、たとえば顕微鏡、ＣＣＤ５／＼−フミ
ラーなどを用いて構成することができる。
ラーなどを用いて構成することができる。
そして、ワーク４の少なくともワーク側レジスターマー
ク形成部がたとえばシリカガラス基板等の光透過性材料
からなる場合には、観察光学系５に透過光を好適に用い
ることができるし、また、ワーク４の少なくともワーク
側レジスターマーク形成部がたとえば絶縁性セラミック
ス基板等の光反射性材料からなる場合には、観察光学系
５に反射光を好適に用いることができる。
ク形成部がたとえばシリカガラス基板等の光透過性材料
からなる場合には、観察光学系５に透過光を好適に用い
ることができるし、また、ワーク４の少なくともワーク
側レジスターマーク形成部がたとえば絶縁性セラミック
ス基板等の光反射性材料からなる場合には、観察光学系
５に反射光を好適に用いることができる。
第４図に示すように、観察光学系５に透過光を用いる場
合には、通常、ワーク定盤３に観察部（開孔）３０を設
ける必要があり、パターン側レジスターマーク６および
ワーク側レジスターマーク７をそれぞれ複数設けてもよ
い。また、第５図に示すように、観察光学系５に反射光
を用いる場合には、たとえばハーフミラ−１１を用いて
観察光学系５を構成することができる。ハーフミラ−１
１を用いることにより、ワーク側レジスターマークの観
察とパターン側レジスターマークの観察とを１系統の観
察光学系５により観察することができる。
合には、通常、ワーク定盤３に観察部（開孔）３０を設
ける必要があり、パターン側レジスターマーク６および
ワーク側レジスターマーク７をそれぞれ複数設けてもよ
い。また、第５図に示すように、観察光学系５に反射光
を用いる場合には、たとえばハーフミラ−１１を用いて
観察光学系５を構成することができる。ハーフミラ−１
１を用いることにより、ワーク側レジスターマークの観
察とパターン側レジスターマークの観察とを１系統の観
察光学系５により観察することができる。
観察光学系５はワーク定盤３に対して移動可能に支持さ
れている。
れている。
この観察光学系５により、転写パターン２に設けたパタ
ーン側レジスターマーク６とマーク定盤３上に載置した
ワーク４に設けたワーク側レジスターマーク７との位置
関係を光学的に観察可能である。
ーン側レジスターマーク６とマーク定盤３上に載置した
ワーク４に設けたワーク側レジスターマーク７との位置
関係を光学的に観察可能である。
観察光学系５にはアライメント量算出部８が接続されて
いる。
いる。
アライメント量算出部８においては、パターン側レジス
ターマーク６とワーク側レジスターマーク７との位置関
係に関して観察光学系５から得られる光学的情報に基づ
いてパターン側レジスターマーク６とワーク側レジスタ
ーマーク７との位置ずれを算出する。
ターマーク６とワーク側レジスターマーク７との位置関
係に関して観察光学系５から得られる光学的情報に基づ
いてパターン側レジスターマーク６とワーク側レジスタ
ーマーク７との位置ずれを算出する。
このアライメント量算出部８は、第７図に示すように、
たとえば、入出力インターフェース（Ｉ １０）とコン
トロールプロセシングユニット（ＣＰ Ｕ）とランダム
アクセスメモリー（ＲＡＭ）とを用いて構成することが
できる。
たとえば、入出力インターフェース（Ｉ １０）とコン
トロールプロセシングユニット（ＣＰ Ｕ）とランダム
アクセスメモリー（ＲＡＭ）とを用いて構成することが
できる。
そして、パターン側レジタ−マーク６とワーク側レジタ
−マーク７との位置関係はアライメント量算出部８で算
出され、得られた算出結果はステージ制御部９を介して
制御信号としてステージ駆動部１０へ出力される。
−マーク７との位置関係はアライメント量算出部８で算
出され、得られた算出結果はステージ制御部９を介して
制御信号としてステージ駆動部１０へ出力される。
すなわち、ステージ制御部９においては、空間座標系（
ｘ−ｙ−ｚ座標系）における水平方向（Ｘ軸方向、ｙ軸
方向および原点から角度θの方向）と鉛直方向（ｚ軸方
向）とについてのパターン側レジスターマーク６とワー
ク側レジスターマーク７との位置関係に関し、所定の整
合ギャップを維持しつつパターン側レジスターマーク６
とワーク側レジスターマーク７とが重なり合う位置まで
ワーク定盤３が移動するのに必要な制御信号がステージ
駆動部１０へ出力される。なお、鉛直方向（Ｚ軸方向）
についての制御信号は観察光学系５により正確な観察を
行なうための整合ギャップ（第４図中、！で示す）の維
持および転写パターン２とワーク４との圧着に関するも
のである。
ｘ−ｙ−ｚ座標系）における水平方向（Ｘ軸方向、ｙ軸
方向および原点から角度θの方向）と鉛直方向（ｚ軸方
向）とについてのパターン側レジスターマーク６とワー
ク側レジスターマーク７との位置関係に関し、所定の整
合ギャップを維持しつつパターン側レジスターマーク６
とワーク側レジスターマーク７とが重なり合う位置まで
ワーク定盤３が移動するのに必要な制御信号がステージ
駆動部１０へ出力される。なお、鉛直方向（Ｚ軸方向）
についての制御信号は観察光学系５により正確な観察を
行なうための整合ギャップ（第４図中、！で示す）の維
持および転写パターン２とワーク４との圧着に関するも
のである。
ステージ制御部９に接続されるステージ駆動部１０は、
前記の制御信号に基づいてパターン側レジスターマーク
６とワーク側レジスターマーク７とが重なり合う位置ま
でワーク定盤３を移動させるとともに、ワーク定盤３上
に載置したワーク４がローラー１上の転写パターン２に
圧着するまでワーク定盤３を移動させる。また、ローラ
ー１を同様に移動させるローラー駆動部２０を設けても
よい。
前記の制御信号に基づいてパターン側レジスターマーク
６とワーク側レジスターマーク７とが重なり合う位置ま
でワーク定盤３を移動させるとともに、ワーク定盤３上
に載置したワーク４がローラー１上の転写パターン２に
圧着するまでワーク定盤３を移動させる。また、ローラ
ー１を同様に移動させるローラー駆動部２０を設けても
よい。
なお、本発明のアライメント装置においては、転写パタ
ーン２とワーク４との整合を行なった後、ワーク定盤３
を前記の２軸方向に移動させてワーク４を転写パターン
２に圧着するまでの間、さらに前述の整合動作が継続可
能であることが好ましい。
ーン２とワーク４との整合を行なった後、ワーク定盤３
を前記の２軸方向に移動させてワーク４を転写パターン
２に圧着するまでの間、さらに前述の整合動作が継続可
能であることが好ましい。
前述の整合動作を継続させるためには、転写パターン２
とワーク４との整合を行なった後、ワーク定盤３を前記
の２軸方向に移動させてワーク４を転写パターン２に圧
着するまでの間、観察光学系５により得られる光学的情
報をアライメント量算出部８で処理し、得られる算出結
果に基づいてステージ制御部９が出力する制御信号をス
テージ駆動部１０にフィードバックするフィードバック
機能を設ければよい。
とワーク４との整合を行なった後、ワーク定盤３を前記
の２軸方向に移動させてワーク４を転写パターン２に圧
着するまでの間、観察光学系５により得られる光学的情
報をアライメント量算出部８で処理し、得られる算出結
果に基づいてステージ制御部９が出力する制御信号をス
テージ駆動部１０にフィードバックするフィードバック
機能を設ければよい。
なお、ステージ駆動部１０又はローラー駆動部は、たと
えばリニアモーター、微少ステップのパスルモーター等
の各種モーターを用いて構成することができる。
えばリニアモーター、微少ステップのパスルモーター等
の各種モーターを用いて構成することができる。
本発明のアライメント装置は、各種ローラー転写方法に
おいて好適に使用可能であり、本発明のローラー転写用
アライメント方法においては特に好適に使用可能である
。
おいて好適に使用可能であり、本発明のローラー転写用
アライメント方法においては特に好適に使用可能である
。
本発明によると、パターンを転写すべきワークと転写パ
ターンとの整合を光学的に観察しつつワーク毎に行なう
ので、正確に、しかも高い再現性でワーク上に転写パタ
ーンを転写することのできるローラー転写用アライメン
ト方法を提供することができる。
ターンとの整合を光学的に観察しつつワーク毎に行なう
ので、正確に、しかも高い再現性でワーク上に転写パタ
ーンを転写することのできるローラー転写用アライメン
ト方法を提供することができる。
また、本発明によれば、ワークと転写パターンの整合を
光学的に観察する観察光学系と、この観察光学系で得ら
れた情報によりパターン側レジスターマークとワーク側
レジスターマークとの位置ずれを算出するアライメント
量算出部と、このアライメント量算出部による算出結果
に基づいた制御信号を出力するステージ制御部と、この
ステージ制御部から出力された制御信号に応じてワーク
側レジスターマークとパターン側レジスターマークとが
重なり合う位置にワーク定盤を移動させるステージ駆動
部とを備えるので、ワークと転写パターンとの整合をロ
ーラー転写用アライメント方法において特に好適に使用
することのできるアライメント装置を提供することがで
きる。
光学的に観察する観察光学系と、この観察光学系で得ら
れた情報によりパターン側レジスターマークとワーク側
レジスターマークとの位置ずれを算出するアライメント
量算出部と、このアライメント量算出部による算出結果
に基づいた制御信号を出力するステージ制御部と、この
ステージ制御部から出力された制御信号に応じてワーク
側レジスターマークとパターン側レジスターマークとが
重なり合う位置にワーク定盤を移動させるステージ駆動
部とを備えるので、ワークと転写パターンとの整合をロ
ーラー転写用アライメント方法において特に好適に使用
することのできるアライメント装置を提供することがで
きる。
第１図（イ）〜（ハ）は本発明のローラー転写用アライ
メント方法におけるワークと転写パターンとの関係を工
程順に示す説明図、第２図（イ）および同図（ロ）はそ
れぞれ本発明のローラー転写用アライメント方法におい
てパターン側レジスターマークとワーク側レジスターマ
ークとの位置関係について観察光学系で得られる情報を
模式的に示す説明図、第３図（イ）〜（ニ）は本発明の
ローラー転写用アライメント方法におけるワークと転写
用パターンとの整合方法の一例を模式的に示す説明図、
第４図は本発明のアライメント装置の構成例を示す説明
図、第５図は本発明のアライメント装置の他の構成例を
示す説明図、第６図は本発明のアライメント装置のさら
に他の構成例を示す説明図、第７図はアライメント装置
におけるアライメント量算出部の構成例を示す説明図で
ある。 １・・・ローラー ２・・・転写パターン、３・・・ワ
ーク定盤、４・・・ワーク、５・・・観察光学系、６・
・・パターン側レジスターマーク、７・・・ワーク側レ
ジスターマーク、８・・・アライメント量算出部、９・
・・ステージ制御部、１０・・・ステージ駆動部。
メント方法におけるワークと転写パターンとの関係を工
程順に示す説明図、第２図（イ）および同図（ロ）はそ
れぞれ本発明のローラー転写用アライメント方法におい
てパターン側レジスターマークとワーク側レジスターマ
ークとの位置関係について観察光学系で得られる情報を
模式的に示す説明図、第３図（イ）〜（ニ）は本発明の
ローラー転写用アライメント方法におけるワークと転写
用パターンとの整合方法の一例を模式的に示す説明図、
第４図は本発明のアライメント装置の構成例を示す説明
図、第５図は本発明のアライメント装置の他の構成例を
示す説明図、第６図は本発明のアライメント装置のさら
に他の構成例を示す説明図、第７図はアライメント装置
におけるアライメント量算出部の構成例を示す説明図で
ある。 １・・・ローラー ２・・・転写パターン、３・・・ワ
ーク定盤、４・・・ワーク、５・・・観察光学系、６・
・・パターン側レジスターマーク、７・・・ワーク側レ
ジスターマーク、８・・・アライメント量算出部、９・
・・ステージ制御部、１０・・・ステージ駆動部。
Claims (6)
- １．回転ドラムの円周方向に沿って転写パターンを形成
してなるローラー上の該転写パターンに設けたパターン
側レジスターマークと、前記ローラーに対向するワーク
定盤上に載置したワークに設けたワーク側レジスターマ
ークとを、観察光学系により光学的に観察しつつ該観察
光学系から得られる情報に応じて前記ワーク定盤又は前
記回転ドラムを非接触状態で移動させることにより重ね
合わせて前記転写パターンと前記ワークとの整合を行な
い、その後、前記転写パターンと前記ワークとを圧着さ
せた状態で前記ローラーを回転させることにより前記ワ
ークの表面に前記転写パターンを転写させることを特徴
とするローラー転写用アライメント方法。 - ２．前記の整合終了後、前記転写パターンと前記ワーク
とを圧着させるまでの間、さらに前記の整合動作を継続
させる請求項１に記載のローラー転写用アライメント方
法。 - ３．観察光学系に透過光を用いる請求項１または請求項
２に記載のローラー転写用アライメント方法。 - ４．観察光学系に反射光を用いる請求項１または請求項
２に記載のローラー転写用アライメント方法。 - ５．回転ドラムの円周方向に沿って転写パターンを形成
してなるローラー上の該転写パターンに設けたパターン
側レジスターマークと前記ローラーに対向するワーク定
盤上に載置したワークに設けたワーク側レジスターマー
クとを光学的に観察する観察光学系と、該観察光学系で
得られた情報により前記パターン側レジスターマークと
前記ワーク側レジスターマークとの位置ずれを算出する
アライメント量算出部と、該アライメント量算出部によ
る算出結果に基づいた制御信号を出力するステージ制御
部と、該ステージ制御部から出力された前記制御信号に
応じて前記ワーク側レジスターマークと前記パターン側
レジスターマークとが重なり合う位置に前記ワーク定盤
を移動させるステージ駆動部とを備えることを特徴とす
るアライメント装置。 - ６．回転ドラムの円周方向に沿って転写パターンを形成
してなるローラー上の該転写パターンに設けたパターン
側レジスターマークと前記ローラーに対向するワーク定
盤上に載置したワークに設けたワーク側レジスターマー
クとを光学的に観察する観察光学系と、該観察光学系で
得られた情報により前記パターン側レジスターマークと
前記ワーク側レジスターマークとの位置ずれを算出する
アライメント量算出部と、該アライメント量算出部によ
る算出結果に基づいた制御信号を出力するステージ制御
部と、該ステージ制御部から出力された前記制御信号に
応じて前記ワーク側レジスターマークと前記パターン側
レジスターマークとが重なり合う位置に前記ローラーを
移動させるローラー駆動部とを備えることを特徴とする
アライメント装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2231563A JPH04112074A (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | ローラー転写用アライメント方法およびアライメント装置 |
| US07/752,010 US5272980A (en) | 1990-08-31 | 1991-08-29 | Alignment method for transfer and alignment device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2231563A JPH04112074A (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | ローラー転写用アライメント方法およびアライメント装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04112074A true JPH04112074A (ja) | 1992-04-14 |
Family
ID=16925472
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2231563A Pending JPH04112074A (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | ローラー転写用アライメント方法およびアライメント装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04112074A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008062461A (ja) * | 2006-09-06 | 2008-03-21 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の位置決め方法 |
| JP2013022944A (ja) * | 2011-07-26 | 2013-02-04 | Tokyo Electron Ltd | 印刷装置、印刷方法及びその印刷方法を実行させるためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
| US20130142991A1 (en) * | 2011-12-01 | 2013-06-06 | Fih (Hong Kong) Limited | Coated article and method for making same |
| WO2013187304A1 (ja) * | 2012-06-13 | 2013-12-19 | シャープ株式会社 | アレイ基板の製造方法、液晶パネルの製造方法、アレイ基板の製造装置およびオフセット印刷装置 |
| CN110181934A (zh) * | 2019-07-03 | 2019-08-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种印刷装置、印刷系统及其印刷方法 |
-
1990
- 1990-08-31 JP JP2231563A patent/JPH04112074A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008062461A (ja) * | 2006-09-06 | 2008-03-21 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の位置決め方法 |
| JP2013022944A (ja) * | 2011-07-26 | 2013-02-04 | Tokyo Electron Ltd | 印刷装置、印刷方法及びその印刷方法を実行させるためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
| US20130142991A1 (en) * | 2011-12-01 | 2013-06-06 | Fih (Hong Kong) Limited | Coated article and method for making same |
| WO2013187304A1 (ja) * | 2012-06-13 | 2013-12-19 | シャープ株式会社 | アレイ基板の製造方法、液晶パネルの製造方法、アレイ基板の製造装置およびオフセット印刷装置 |
| CN110181934A (zh) * | 2019-07-03 | 2019-08-30 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种印刷装置、印刷系统及其印刷方法 |
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