JP3472078B2 - 露光方法及び露光装置 - Google Patents
露光方法及び露光装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は露光方法及び露光装
置に関し、例えばマスク原板を投影光学系を用いて投影
露光し、液晶パネル等を作成する際に好適なものであ
る。
置に関し、例えばマスク原板を投影光学系を用いて投影
露光し、液晶パネル等を作成する際に好適なものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来より、例えば液晶パネルの作成は光
露光技術、いわゆるフォトリソグラフィ技術により微細
パターンを重ね合せながら作成されている。露光工程で
は液晶パネルとなる基板を露光装置に対し精密に位置合
わせする必要がある。基板と露光装置の位置合わせは、
該基板上の露光領域の周辺部分、例えば露光領域に隣接
する左右の位置に予め形成された位置合わせマークを用
いて行なわれる。基板ステージ上に搬送された基板を露
光位置に移動する時、露光装置は基板上の位置合わせマ
ークに対し観察光学系から一定光量の観察光を照射し、
その反射光を再び前記観察光学系内に取り込んで、ＣＣ
Ｄカメラで検出を行う。観察光学系内に固定されている
ＣＣＤカメラで検出された画像は、画像処理により前記
位置合わせマークとその周辺部分のコントラスト差から
位置情報を検出される。これより観察光学系内のＣＣＤ
カメラと基板の位置ずれ量、即ち露光装置に対する基板
の位置ずれ量が算出され、基板が保持されている基板ス
テージを前記算出されたずれ量分駆動して、基板と露光
装置の位置合わせが行なわれ、露光動作につながってい
た。
露光技術、いわゆるフォトリソグラフィ技術により微細
パターンを重ね合せながら作成されている。露光工程で
は液晶パネルとなる基板を露光装置に対し精密に位置合
わせする必要がある。基板と露光装置の位置合わせは、
該基板上の露光領域の周辺部分、例えば露光領域に隣接
する左右の位置に予め形成された位置合わせマークを用
いて行なわれる。基板ステージ上に搬送された基板を露
光位置に移動する時、露光装置は基板上の位置合わせマ
ークに対し観察光学系から一定光量の観察光を照射し、
その反射光を再び前記観察光学系内に取り込んで、ＣＣ
Ｄカメラで検出を行う。観察光学系内に固定されている
ＣＣＤカメラで検出された画像は、画像処理により前記
位置合わせマークとその周辺部分のコントラスト差から
位置情報を検出される。これより観察光学系内のＣＣＤ
カメラと基板の位置ずれ量、即ち露光装置に対する基板
の位置ずれ量が算出され、基板が保持されている基板ス
テージを前記算出されたずれ量分駆動して、基板と露光
装置の位置合わせが行なわれ、露光動作につながってい
た。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】近年は液晶パネルの生
産コストの低減を目指した液晶パネルの大型化により、
基板のサイズは徐々に大型化している。
産コストの低減を目指した液晶パネルの大型化により、
基板のサイズは徐々に大型化している。
【０００４】図２は従来の基板２７上に形成されている
パターンの配置図である。露光領域４８に隣接して配置
された位置合わせマーク４２、４３はフォトリソグラフ
ィ工程を進める過程、例えば回転塗布機で感光液を基板
に塗布中にマーク自体が基板上から消失したり、あるい
は他の理由で損傷を受ける場合がある。露光装置は基板
が搬入されると、後述する図１の基板ステージ２８を移
動させて位置合わせマーク４２、４３を観察光学系２２
で検出可能な位置４６、４７に持っていく。位置合わせ
マーク４２、４３は図３のような位置関係となり、画像
処理回路４０で検出画像の処理が行なわれる。検出の
際、前述した理由で図４の様に左側の位置合わせマーク
４２がなくなると、画像処理回路４０で前記位置合わせ
マーク４２とその周辺部分の回路との分離ができず、前
記位置合わせマークが検出不能となって、基板と露光装
置の位置合わせができなくなる。この傾向は基板サイズ
の大型化に伴い頻度が増してきている。
パターンの配置図である。露光領域４８に隣接して配置
された位置合わせマーク４２、４３はフォトリソグラフ
ィ工程を進める過程、例えば回転塗布機で感光液を基板
に塗布中にマーク自体が基板上から消失したり、あるい
は他の理由で損傷を受ける場合がある。露光装置は基板
が搬入されると、後述する図１の基板ステージ２８を移
動させて位置合わせマーク４２、４３を観察光学系２２
で検出可能な位置４６、４７に持っていく。位置合わせ
マーク４２、４３は図３のような位置関係となり、画像
処理回路４０で検出画像の処理が行なわれる。検出の
際、前述した理由で図４の様に左側の位置合わせマーク
４２がなくなると、画像処理回路４０で前記位置合わせ
マーク４２とその周辺部分の回路との分離ができず、前
記位置合わせマークが検出不能となって、基板と露光装
置の位置合わせができなくなる。この傾向は基板サイズ
の大型化に伴い頻度が増してきている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は位置合わせマー
クに損傷が起きた場合でも、露光装置に対して基板を正
確に位置決めできるように、冗長性を増した位置合わせ
方法及びそれを用いた露光方法や露光装置を提供するこ
とにある。又本発明によれば基板上に予め３点以上の位
置合わせマークを配置し、該位置合わせマークの検出を
観察光学系と画像処理回路を用いて基板ステージを移動
させながら行ない、該位置合わせマークが少なくとも２
点検出されるまで検出を続行することを特徴としてい
る。該検出した結果から算出された基板と露光装置の位
置ずれ量は露光装置側にフィードバックされ、該位置ず
れ量に基づいて基板ステージが駆動され、基板と露光装
置の位置合わせが行われるものである。具体的には、本
発明の位置合わせ方法は、第１物体と第２物体を位置合
わせする方法において、前記第２物体上の複数の区画領
域の周囲にそれぞれ複数の位置合わせマークを設け、位
置合わせしようとする区画領域において前記位置合わせ
マークを２個以上検出できない場合に他の区画領域の位
置合わせマークの検出を行ない、合計２個以上の位置合
わせマークを検出するまで検出動作を行ない、該検出動
作終了後、検出された位置合わせマークの情報に基づい
て第１物体と第２物体の位置合わせを行なうことを特徴
としている。
クに損傷が起きた場合でも、露光装置に対して基板を正
確に位置決めできるように、冗長性を増した位置合わせ
方法及びそれを用いた露光方法や露光装置を提供するこ
とにある。又本発明によれば基板上に予め３点以上の位
置合わせマークを配置し、該位置合わせマークの検出を
観察光学系と画像処理回路を用いて基板ステージを移動
させながら行ない、該位置合わせマークが少なくとも２
点検出されるまで検出を続行することを特徴としてい
る。該検出した結果から算出された基板と露光装置の位
置ずれ量は露光装置側にフィードバックされ、該位置ず
れ量に基づいて基板ステージが駆動され、基板と露光装
置の位置合わせが行われるものである。具体的には、本
発明の位置合わせ方法は、第１物体と第２物体を位置合
わせする方法において、前記第２物体上の複数の区画領
域の周囲にそれぞれ複数の位置合わせマークを設け、位
置合わせしようとする区画領域において前記位置合わせ
マークを２個以上検出できない場合に他の区画領域の位
置合わせマークの検出を行ない、合計２個以上の位置合
わせマークを検出するまで検出動作を行ない、該検出動
作終了後、検出された位置合わせマークの情報に基づい
て第１物体と第２物体の位置合わせを行なうことを特徴
としている。
【０００６】
【発明の実施の形態】図１は本発明の実施形態例１の液
晶を製造するときの露光装置の概略図である。同図にお
いて２３は基板２７に転写する液晶パネル画素パターン
が形成されているマスク、２４はマスク２３を搭載し、
ＸＹθ方向に移動可能でＹ方向に走査露光機能を有する
マスクステージである。２７は液晶表示板を製造するた
めのトランジスタなどのパターンが通常のフォトリソグ
ラフィの手段で形成されるガラス基板である。２８は基
板２７を保持してＸＹθ方向に移動可能な基板ステージ
で、Ｙ方向に走査露光を行う機能を有している。２６は
凸凹面鏡を組合せて構成される周知のミラー投影光学系
で、マスクステージ２４によって所定位置に位置決めさ
れたマスク２３のパターン像を基板２７上に等倍投影す
る。２１は特定の波長の光で露光位置にあるマスク２３
を照明する照明光学系で、マスク２３上の液晶パネル画
素パターン４１を基板２７ 上の感光層に露光し転写す
ることを可能としている。
晶を製造するときの露光装置の概略図である。同図にお
いて２３は基板２７に転写する液晶パネル画素パターン
が形成されているマスク、２４はマスク２３を搭載し、
ＸＹθ方向に移動可能でＹ方向に走査露光機能を有する
マスクステージである。２７は液晶表示板を製造するた
めのトランジスタなどのパターンが通常のフォトリソグ
ラフィの手段で形成されるガラス基板である。２８は基
板２７を保持してＸＹθ方向に移動可能な基板ステージ
で、Ｙ方向に走査露光を行う機能を有している。２６は
凸凹面鏡を組合せて構成される周知のミラー投影光学系
で、マスクステージ２４によって所定位置に位置決めさ
れたマスク２３のパターン像を基板２７上に等倍投影す
る。２１は特定の波長の光で露光位置にあるマスク２３
を照明する照明光学系で、マスク２３上の液晶パネル画
素パターン４１を基板２７ 上の感光層に露光し転写す
ることを可能としている。
【０００７】２５は基板ステージ２８とマスクステージ
２４を搭載している本体構造体である。３１及び３２は
各ステージ２４、２８を図面に対して平行方向であるＹ
方向に移動させるための駆動モータ、２９、３０は各ス
テージ２４、２８即ちマスク２３及び基板２７の位置を
モニタするためのレーザ干渉計等の計測機である。制御
回路３４は走査露光時にレーザ干渉計２９、３０のステ
ージ位置情報をもとにモータ３１、３２への駆動量を制
御して、ステージ２４、２８をお互いに同期して移動さ
せる。制御としてはモータ３１を一定電圧で駆動してマ
スクステージ２４を定速走行させ、レーザ干渉計２９，
３０で計測される各ステージ２４、２８の位置に応じた
駆動量をモータ３２に供給して基板ステージ２８を移動
させる等の方式が採用される。
２４を搭載している本体構造体である。３１及び３２は
各ステージ２４、２８を図面に対して平行方向であるＹ
方向に移動させるための駆動モータ、２９、３０は各ス
テージ２４、２８即ちマスク２３及び基板２７の位置を
モニタするためのレーザ干渉計等の計測機である。制御
回路３４は走査露光時にレーザ干渉計２９、３０のステ
ージ位置情報をもとにモータ３１、３２への駆動量を制
御して、ステージ２４、２８をお互いに同期して移動さ
せる。制御としてはモータ３１を一定電圧で駆動してマ
スクステージ２４を定速走行させ、レーザ干渉計２９，
３０で計測される各ステージ２４、２８の位置に応じた
駆動量をモータ３２に供給して基板ステージ２８を移動
させる等の方式が採用される。
【０００８】図４以降に本発明にかかわる部分の詳細を
示す。図８は本発明の動作を具体的に表わすフローチャ
ートである。基板における位置合わせマークの損失、損
傷をリカバーするため、本発明ではフローチャートに示
す様に基板上の２点の位置合わせマークの検出ができる
まで露光装置がステップ移動と位置合わせマークの検出
を繰り返すことを特徴としている。２点の検出が完了し
た時点で露光装置は基板と自分自身の位置ずれ量を計算
し、該計算結果から基板ステージ２８を駆動して基板の
位置合わせを行うものである。
示す。図８は本発明の動作を具体的に表わすフローチャ
ートである。基板における位置合わせマークの損失、損
傷をリカバーするため、本発明ではフローチャートに示
す様に基板上の２点の位置合わせマークの検出ができる
まで露光装置がステップ移動と位置合わせマークの検出
を繰り返すことを特徴としている。２点の検出が完了し
た時点で露光装置は基板と自分自身の位置ずれ量を計算
し、該計算結果から基板ステージ２８を駆動して基板の
位置合わせを行うものである。
【０００９】図５は本発明の露光装置に従って製作され
た基板のパターン配置と、配置された位置合わせマーク
を観察している時の観察光学系の位置を示したものであ
る。同図においては基板２７上には図２の従来例のよう
に２点だけでなく、全部で４点の位置合わせマーク４
２、４３、４４、４５が形成されている。即ち２個予備
の位置合わせマークが付け加わっている。４２、４３は
１回目に露光する露光領域４８を左右にはさむ形で配置
され、４４、４５は２回目に露光する露光領域４９を左
右にはさむ形で配置されている。４２と４３、４４と４
５の間隔は等しく、さらに信号検出系を共通化するた
め、マークも同一形状をしている。即ち４２と４３、４
４と４５というペアのマークは相対配置及び構成が同一
となっている。
た基板のパターン配置と、配置された位置合わせマーク
を観察している時の観察光学系の位置を示したものであ
る。同図においては基板２７上には図２の従来例のよう
に２点だけでなく、全部で４点の位置合わせマーク４
２、４３、４４、４５が形成されている。即ち２個予備
の位置合わせマークが付け加わっている。４２、４３は
１回目に露光する露光領域４８を左右にはさむ形で配置
され、４４、４５は２回目に露光する露光領域４９を左
右にはさむ形で配置されている。４２と４３、４４と４
５の間隔は等しく、さらに信号検出系を共通化するた
め、マークも同一形状をしている。即ち４２と４３、４
４と４５というペアのマークは相対配置及び構成が同一
となっている。
【００１０】基板上の複数の露光領域は順次露光位置に
ステップ移動され、各露光位置においてその露光領域上
に原板であるマスクの像が露光される。その時、前記基
板上の位置合わせマークが検出され、基板と露光装置と
の位置合わせが行なわれる。
ステップ移動され、各露光位置においてその露光領域上
に原板であるマスクの像が露光される。その時、前記基
板上の位置合わせマークが検出され、基板と露光装置と
の位置合わせが行なわれる。
【００１１】基板２７を固定した基板ステージ２８は４
２、４３という位置合わせマークを観察位置４６、４７
にまで導くため、先ず図５に示す位置まで基板を持って
いく動作、即ち第１ステップの移動を行う。図中長方形
で囲ってある領域が観察光学系２２の観察に対応する領
域である。観察光学系２２は観察光３５を基板及び露光
装置に対し照射し、反射光３６をＣＣＤカメラ３３によ
って検出する。観察位置が２つあることに対応してＣＣ
Ｄ３３も２個設けられている。本実施例では基板側にし
か位置合わせマークが設けられていないが、露光装置側
では観察位置そのものが基準位置となって位置合わせマ
ークに対応している。
２、４３という位置合わせマークを観察位置４６、４７
にまで導くため、先ず図５に示す位置まで基板を持って
いく動作、即ち第１ステップの移動を行う。図中長方形
で囲ってある領域が観察光学系２２の観察に対応する領
域である。観察光学系２２は観察光３５を基板及び露光
装置に対し照射し、反射光３６をＣＣＤカメラ３３によ
って検出する。観察位置が２つあることに対応してＣＣ
Ｄ３３も２個設けられている。本実施例では基板側にし
か位置合わせマークが設けられていないが、露光装置側
では観察位置そのものが基準位置となって位置合わせマ
ークに対応している。
【００１２】図４は第１ステップで左側の位置合わせマ
ーク４２のマークが損傷し、その周辺部分とのコントラ
ストが同一となって検出が不可能な場合を示している。
この場合右側の位置合わせマーク４３は周辺部分とコン
トラスト差があり、観察光学系２２を通して画像処理回
路４０で検出可能である。これより右側のマーク４３に
ついて観察光学系２２に対するＸＹ方向の位置ずれ量が
図９で示す様に算出され、図１の画像処理回路４０内の
記憶装置５１に記憶される。
ーク４２のマークが損傷し、その周辺部分とのコントラ
ストが同一となって検出が不可能な場合を示している。
この場合右側の位置合わせマーク４３は周辺部分とコン
トラスト差があり、観察光学系２２を通して画像処理回
路４０で検出可能である。これより右側のマーク４３に
ついて観察光学系２２に対するＸＹ方向の位置ずれ量が
図９で示す様に算出され、図１の画像処理回路４０内の
記憶装置５１に記憶される。
【００１３】第１ステップで１つの位置合わせマークし
か検出できなかったため、図８のフローチャートに従い
露光装置は基板２７を固定した基板ステージ２８に対し
第２ステップの移動を行なう指令を自動的に出す。第２
ステップのステップの移動動作後の状態が図６で、図５
と同じく観察光学系の位置が長方形２２で示されてい
る。今度は位置合わせマーク４４、４５が観察位置４
６、４７に導かれ、同様に検出が行なわれる。本実施例
では４６、４７の間隔が固定なので位置合わせマーク４
２と４３、４４と４５の間隔は同一である。このように
すれば検出時間、精度双方の点で有利である。両者の間
隔が異なると、第２ステップで４６と４７の間隔の変更
が必要となる。図７は第２ステップでの検出時に観察さ
れるマークの状況であるが、今度は右側の位置合わせマ
ーク４５が損傷している。このため４５は周辺部分とコ
ントラストが同一で検出不可能であるが、左側の位置合
わせマーク４４は周辺部分とコントラスト差があるので
検出可能である。４４について露光装置は観察光学系２
２に対するずれ量をＸ方向ずれ量５４、Ｙ方向ずれ量５
５として図９の様に算出し、図１の画像処理回路４０内
の記憶装置５２に記憶する。なお図１にあるもう一つの
記憶装置５３は予め配置されている位置合わせマークの
座標位置を記憶する役目をする。
か検出できなかったため、図８のフローチャートに従い
露光装置は基板２７を固定した基板ステージ２８に対し
第２ステップの移動を行なう指令を自動的に出す。第２
ステップのステップの移動動作後の状態が図６で、図５
と同じく観察光学系の位置が長方形２２で示されてい
る。今度は位置合わせマーク４４、４５が観察位置４
６、４７に導かれ、同様に検出が行なわれる。本実施例
では４６、４７の間隔が固定なので位置合わせマーク４
２と４３、４４と４５の間隔は同一である。このように
すれば検出時間、精度双方の点で有利である。両者の間
隔が異なると、第２ステップで４６と４７の間隔の変更
が必要となる。図７は第２ステップでの検出時に観察さ
れるマークの状況であるが、今度は右側の位置合わせマ
ーク４５が損傷している。このため４５は周辺部分とコ
ントラストが同一で検出不可能であるが、左側の位置合
わせマーク４４は周辺部分とコントラスト差があるので
検出可能である。４４について露光装置は観察光学系２
２に対するずれ量をＸ方向ずれ量５４、Ｙ方向ずれ量５
５として図９の様に算出し、図１の画像処理回路４０内
の記憶装置５２に記憶する。なお図１にあるもう一つの
記憶装置５３は予め配置されている位置合わせマークの
座標位置を記憶する役目をする。
【００１４】２点の位置合わせマーク４３、４４が検出
されると、記憶装置５１、５２に記憶された前記位置合
わせマークの観察光学系に対するずれ量と、図１の５３
に予め記憶されている前記検出された位置合わせマーク
４３、４４の間隔５０から以下の式で観察光学系２２と
基板２７のずれ量が算出される。
されると、記憶装置５１、５２に記憶された前記位置合
わせマークの観察光学系に対するずれ量と、図１の５３
に予め記憶されている前記検出された位置合わせマーク
４３、４４の間隔５０から以下の式で観察光学系２２と
基板２７のずれ量が算出される。
【００１５】ズレ量Ｘ＝（位置合わせマーク４３のＸ方
向ズレ量＋位置合わせマーク４４のＸ方向ズレ量）／２ ズレ量Ｙ＝（位置合わせマーク４３のＹ方向ズレ量＋位
置合わせマーク４４のＹ方向ズレ量）／２ ズレ量θ＝ｔａｎ-1 ｛（位置合わせマーク４３のＹ方
向ズレ量ー位置合わせマーク４４のＹ方向ズレ量）／位
置合わせマーク間隔５０｝ この算出結果から基板ステージ２８を駆動して、観察光
学系２２と基板２７の位置合わせが行なわれ、続いて露
光動作に入る。
向ズレ量＋位置合わせマーク４４のＸ方向ズレ量）／２ ズレ量Ｙ＝（位置合わせマーク４３のＹ方向ズレ量＋位
置合わせマーク４４のＹ方向ズレ量）／２ ズレ量θ＝ｔａｎ-1 ｛（位置合わせマーク４３のＹ方
向ズレ量ー位置合わせマーク４４のＹ方向ズレ量）／位
置合わせマーク間隔５０｝ この算出結果から基板ステージ２８を駆動して、観察光
学系２２と基板２７の位置合わせが行なわれ、続いて露
光動作に入る。
【００１６】実施形態１では液晶露光装置の典型例とし
てミラー投影光学系を用いた装置を示したが、本発明は
これに限られることはなくレンズ投影光学系等を用いた
露光装置、即ち等倍系だけでなく縮小あるいは拡大倍率
を持つ露光装置にも適用が可能である。
てミラー投影光学系を用いた装置を示したが、本発明は
これに限られることはなくレンズ投影光学系等を用いた
露光装置、即ち等倍系だけでなく縮小あるいは拡大倍率
を持つ露光装置にも適用が可能である。
【００１７】また本発明の本質は基板上の複数個の位置
合わせマークを検出して２次元的な位置合わせを可能と
することにあるので、実施形態のように基板の左右端面
で２つの位置合わせマークを検出するだけでなく、基板
上の任意の２つ以上の位置の位置合わせマークを検出で
きれば目的が達成される。従って基板上には予め最低限
必要な少なくとも２個の位置合わせマークの他に予備で
１個以上の位置合わせマークを配置しておく必要があ
る。多数の位置合わせマークを配置しておけば検出率の
向上に効果がある。この場合、第１ステップで１個、第
２ステップで２個というように２個以上の位置合わせマ
ークの検出ができた場合には、全てのマークの情報を使
って計算を行なって平均化効果を期待した計算を行なっ
てもよいし、最も距離の離れた２点を選択するというよ
うに予めマークの選択法をルール化しておいてもよい。
合わせマークを検出して２次元的な位置合わせを可能と
することにあるので、実施形態のように基板の左右端面
で２つの位置合わせマークを検出するだけでなく、基板
上の任意の２つ以上の位置の位置合わせマークを検出で
きれば目的が達成される。従って基板上には予め最低限
必要な少なくとも２個の位置合わせマークの他に予備で
１個以上の位置合わせマークを配置しておく必要があ
る。多数の位置合わせマークを配置しておけば検出率の
向上に効果がある。この場合、第１ステップで１個、第
２ステップで２個というように２個以上の位置合わせマ
ークの検出ができた場合には、全てのマークの情報を使
って計算を行なって平均化効果を期待した計算を行なっ
てもよいし、最も距離の離れた２点を選択するというよ
うに予めマークの選択法をルール化しておいてもよい。
【００１８】本発明は基本的には２つの物体間の位置合
わせ手法であるため、２つの物体として違う対象を選択
することも可能である。実施形態では２つの物体として
基板と露光装置を選んだが、同様にマスクと基板を選ぶ
ことも可能である。マスクと基板を選んだ場合には両者
の直接的な位置合わせが行なうことができる。マスクと
基板には装置側での検出位置のような基準がないため、
両者に必要な少なくとも２つの位置合わせマークと予備
の１個以上の位置合わせマークを互いに対応する位置に
予め設けておく必要がある。これらのマークが装置の検
出位置に導かれて検出が行なわれ、両者が位置合わせさ
れて露光に至る。
わせ手法であるため、２つの物体として違う対象を選択
することも可能である。実施形態では２つの物体として
基板と露光装置を選んだが、同様にマスクと基板を選ぶ
ことも可能である。マスクと基板を選んだ場合には両者
の直接的な位置合わせが行なうことができる。マスクと
基板には装置側での検出位置のような基準がないため、
両者に必要な少なくとも２つの位置合わせマークと予備
の１個以上の位置合わせマークを互いに対応する位置に
予め設けておく必要がある。これらのマークが装置の検
出位置に導かれて検出が行なわれ、両者が位置合わせさ
れて露光に至る。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように本発明では、必要な
最低限の個数の位置合わせマークに対して予備の位置合
わせマークを予め配置し、位置合わせマークの損傷等に
より検出に不都合が出た場合には該予備のマークを検出
できるように機械が自動的に動作することにより、位置
合わせの対象となる基板と露光装置のような２つの物体
の位置決めを検出率よく行なうことが可能となった。実
施形態のように本発明を実施した露光装置においては位
置合わせマークの多少の損傷があっても機械自身でリカ
バーできるため、露光装置は自動的に稼働を続行するこ
とになり、液晶パネルの生産歩留りが向上し、パネル生
産コストを削減することが可能となった。
最低限の個数の位置合わせマークに対して予備の位置合
わせマークを予め配置し、位置合わせマークの損傷等に
より検出に不都合が出た場合には該予備のマークを検出
できるように機械が自動的に動作することにより、位置
合わせの対象となる基板と露光装置のような２つの物体
の位置決めを検出率よく行なうことが可能となった。実
施形態のように本発明を実施した露光装置においては位
置合わせマークの多少の損傷があっても機械自身でリカ
バーできるため、露光装置は自動的に稼働を続行するこ
とになり、液晶パネルの生産歩留りが向上し、パネル生
産コストを削減することが可能となった。
【図１】 本発明を適用する液晶露光装置の構成図、
【図２】 従来の基板でのパターン配置図、
【図３】 基板の位置合わせを行なうときの観察光学系
とマークの関係、
とマークの関係、
【図４】 実施形態１における第１ステップでの位置合
わせマークの状態、
わせマークの状態、
【図５】 本発明に従う基板のパターン配置と、第１ス
テップで該基板の位置合わせを行なうときの観察光学系
と位置合わせマークの関係、
テップで該基板の位置合わせを行なうときの観察光学系
と位置合わせマークの関係、
【図６】 本発明に従う基板のパターン配置と、第２ス
テップで該基板の位置合わせを行なうときの観察光学系
と位置合わせマークの関係、
テップで該基板の位置合わせを行なうときの観察光学系
と位置合わせマークの関係、
【図７】 実施形態１における第２ステップでの位置合
わせマークの状態、
わせマークの状態、
【図８】 位置合わせのフローチャート、
【図９】 位置合わせマークを検出したときの位置ずれ
量の検出図。
量の検出図。
２１ 照明光学系、
２２ 観察光学系、
２３ マスク、
２４ マスクステージ、
２５ 露光装置の本体構造体、
２６ ミラー投影光学系、
２７ 基板、
２８ 基板ステージ、
２９ マスクＹ軸制御レーザ干渉計、
３０ 基板Ｙ軸制御レーザ干渉計、
３１ マスクＹ軸駆動モータ、
３２ 基板Ｙ軸駆動モータ、
３３ ＣＣＤカメラ、
３４ 制御回路、
３５ 観察光、
３６ 反射光、
４０ 画像処理回路、
４２ 第１ステップ用位置合わせマーク（左）、
４３ 第１ステップ用位置合わせマーク（右）、
４４ 第２ステップ用位置合わせマーク（左）、
４５ 第２ステップ用位置合わせマーク（右）、
４６ 観察光学系での左側観察位置、
４７ 観察光学系での右側観察位置、
４８ 第１ステップ露光領域、
４９ 第２ステップ露光領域、
５０ 位置合わせマーク間隔、
５１ 記憶装置、
５２ 記憶装置、
５３ 記憶装置、
５４ Ｘ方向ずれ量、
５５ Ｙ方向ずれ量
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
G03F 9/00
G02F 1/10 - 1/16
H01L 21/027
Claims (3)
- 【請求項１】第１物体と第２物体を位置合わせする方法
において、前記第２物体上の複数の区画領域の周囲にそ
れぞれ複数の位置合わせマークを設け、位置合わせしよ
うとする区画領域において前記位置合わせマークを２個
以上検出できない場合に他の区画領域の位置合わせマー
クの検出を行ない、合計２個以上の位置合わせマークを
検出するまで検出動作を行ない、該検出動作終了後、検
出された位置合わせマークの情報に基づいて第１物体と
第２物体の位置合わせを行なうことを特徴とする位置合
わせ方法。 - 【請求項２】前記複数の区画領域の周囲に設けられた複
数の位置合わせマークは、構成及び相対配置が等しいこ
とを特徴とする請求項１の位置合わせ方法。 - 【請求項３】前記位置合わせマークが前記区画領域の両
側に配置されていることを特徴とする請求項１の位置合
わせ方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13591797A JP3472078B2 (ja) | 1997-05-09 | 1997-05-09 | 露光方法及び露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13591797A JP3472078B2 (ja) | 1997-05-09 | 1997-05-09 | 露光方法及び露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10312067A JPH10312067A (ja) | 1998-11-24 |
| JP3472078B2 true JP3472078B2 (ja) | 2003-12-02 |
Family
ID=15162873
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13591797A Expired - Fee Related JP3472078B2 (ja) | 1997-05-09 | 1997-05-09 | 露光方法及び露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3472078B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100732571B1 (ko) * | 1999-10-26 | 2007-06-27 | 사무코 테크시부 가부시키가이샤 | 반도체 웨이퍼의 마킹방법 |
| CN104714375B (zh) * | 2015-04-02 | 2017-09-29 | 安徽三安光电有限公司 | 一种晶片曝光设备及其曝光方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5795627A (en) * | 1980-12-05 | 1982-06-14 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Method for arranging mark in electron beam exposure |
| JP2868548B2 (ja) * | 1989-11-09 | 1999-03-10 | キヤノン株式会社 | アライメント装置 |
| JPH06161093A (ja) * | 1992-11-16 | 1994-06-07 | Dainippon Printing Co Ltd | リードフレーム製造用フォトマスク |
-
1997
- 1997-05-09 JP JP13591797A patent/JP3472078B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
| JPH10312067A (ja) | 1998-11-24 |
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