JP4609167B2 - 露光システム、露光方法及びマイクロデバイスの製造方法 - Google Patents
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- 基板を搬送する搬送部と、前記基板上に所定のパターンを露光する露光装置本体とを備えた露光システムにおいて、
前記搬送部で前記基板を搬送する際に前記基板の位置検出を行う第1位置検出部と、
前記基板を露光する際に前記露光装置本体で前記基板を保持した状態で前記基板の位置検出を行う第2位置検出部と、
前記露光システムの前記基板の処理時間に応じて、前記第1位置検出部と前記第2位置検出部との少なくとも一方で前記基板の位置検出を行うように切り換える切換手段と、
を備えることを特徴とする露光システム。 - 前記第1位置検出部は前記基板の粗位置検出を行うことが可能であり、前記第2位置検出部は前記基板の粗位置検出及び微細位置検出を行うことが可能であることを特徴とする請求項1記載の露光システム。
- 前記切換手段は、前記基板の搬送部での搬送時間と前記露光装置本体での前記基板の露光に要する露光時間とを比較することにより、前記第1位置検出部または前記第2位置検出部の少なくとも一方を用いて、前記基板の粗位置検出を行うことを特徴とする請求項2記載の露光システム。
- 前記切換手段は、前記露光装置本体における前記基板の露光ショットの配列に基づいて前記露光時間を算出し、前記算出した露光時間と前記搬送時間とを比較することにより、前記基板の粗位置検出を前記第1位置検出部または前記第2位置検出部の少なくとも一方で行うことを特徴とする請求項2または請求項3記載の露光システム。
- 前記基板の情報を取得する基板情報取得手段を備えることを特徴とする請求項1乃至請求項4の何れか一項に記載の露光システム。
- 前記基板は、外径が500mmよりも大きいことを特徴とする請求項1乃至請求項5の何れか一項に記載の露光システム。
- 基板を搬送して、前記基板をアライメントして、前記基板上にパターンを露光する露光方法において、
第1露光工程として前記基板を搬送する搬送時間と、露光装置本体で前記基板のアライメントを行った際の前記基板の露光に要する露光時間とを比較する第1比較工程と、
第2露光工程として前記基板を搬送する搬送部で前記基板のアライメントを行った際の搬送時間と、前記基板を露光するのに要する露光時間とを比較する第2比較工程と、
前記第1比較工程及び前記第2比較工程における比較結果に基づき、前記第1露光工程または前記第2露光工程を選択する選択工程と、
を含むことを特徴とする露光方法。 - 前記基板のアライメントは、前記基板をラフにアライメントするコースアライメント動作を含むことを特徴とする請求項7記載の露光方法。
- 前記露光装置本体での露光の際には、前記基板をファインにアライメントするファインアライメント動作を含むことを特徴とする請求項7または請求項8記載の露光方法。
- 前記基板は、フラットパネルディスプレイ用の基板であることを特徴とする請求項7乃至請求項9の何れか一項に記載の露光方法。
- 請求項1乃至請求項6の何れか一項に記載の露光システムを用いて所定のパターンを感光性基板上に露光する露光工程と、
前記露光工程により露光された前記感光性基板を現像する現像工程と、
を含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法。 - 請求項7乃至請求項10の何れか一項に記載の露光方法を用いて所定のパターンを感光性基板上に露光する露光工程と、
前記露光工程により露光された前記感光性基板を現像する現像工程と、
を含むことを特徴とするマイクロデバイスの製造方法。
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