WO2013187304A1 - アレイ基板の製造方法、液晶パネルの製造方法、アレイ基板の製造装置およびオフセット印刷装置 - Google Patents

アレイ基板の製造方法、液晶パネルの製造方法、アレイ基板の製造装置およびオフセット印刷装置 Download PDF

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WO2013187304A1
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blanket roll
alignment mark
substrate
array substrate
printing
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山本　正明
大輔 布施
勝哉 山本
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シャープ株式会社
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    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
    • B41F13/00—Common details of rotary presses or machines
    • B41F13/08—Cylinders
    • B41F13/10—Forme cylinders
    • B41F13/12—Registering devices
    • B41F13/14—Registering devices with means for displacing the cylinders
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
    • B41F33/00—Indicating, counting, warning, control or safety devices
    • B41F33/0081—Devices for scanning register marks
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/1259—Multistep manufacturing methods
    • H01L27/1292—Multistep manufacturing methods using liquid deposition, e.g. printing

Definitions

  • the present invention relates to an offset printing apparatus, an array substrate manufacturing apparatus, an array substrate manufacturing method, and a display apparatus manufacturing method.
  • the present invention relates to a method of manufacturing an array substrate (TFT substrate) using an offset printing method and a manufacturing apparatus used therefor.
  • the liquid crystal display device includes a liquid crystal panel in which liquid crystal is sealed between a pair of translucent substrates, and a backlight device arranged on the back side of the panel.
  • the light emitted from the light source of the backlight device is irradiated from the back side of the liquid crystal display panel, whereby the image displayed on the liquid crystal panel becomes visible.
  • the liquid crystal display panel is composed of a pair of translucent substrates, that is, an array substrate on which a thin film transistor (Thin Film Transistor) is formed, and a color filter substrate including a color filter layer.
  • the array substrate and the color filter substrate are respectively formed on separate substrates, and are bonded to each other after the liquid crystal material is dropped. In this way, the liquid crystal display panel is manufactured.
  • an electric field is applied between the array substrate and the color filter substrate to change the alignment state of the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer, thereby controlling the light transmission amount for each pixel. The image of is displayed.
  • Patent Document 1 discloses an offset printing apparatus that can perform transfer printing of an original pattern formed on a printing plate on a substrate with a large area and high accuracy.
  • the offset printing apparatus disclosed in Patent Document 1 during printing, in order to control the printing pressure of the blanket roll, the surface position of the blanket roll and the surface position of the substrate on the stage are measured, and the inclination and height of the substrate are measured. Means for adjusting the distance have been proposed.
  • Patent Document 1 there is a reference to manufacture of an electrode pattern of a recording thermal head and a manufacture of a color filter of a liquid crystal display device, but reference to manufacturing an array substrate of a liquid crystal panel with an offset printing device. Absent.
  • the inventor of the present application has found the following causes as a result of examining the reason why it is difficult to satisfy the pattern formation accuracy on the array substrate by offset printing.
  • offset printing ink is supplied to a blanket roll in the offset printing apparatus, and printing is performed.
  • the blanket roll swells, so that the alignment accuracy is deteriorated. Therefore, the required accuracy in manufacturing the array substrate (TFT substrate) is satisfied.
  • TFT substrate the array substrate
  • Patent Document 1 Even if an attempt is made to improve the alignment accuracy by using the technique of the above-mentioned Patent Document 1, if a deviation occurs during the printing operation, the deviation cannot be corrected. That is, the technique disclosed in Patent Document 1 is intended to improve alignment accuracy in a printing set, and when a deviation occurs during a printing operation, the deviation cannot be eliminated.
  • the present invention has been made in view of such a point, and a main object thereof relates to a method and a manufacturing apparatus for manufacturing an array substrate with high accuracy using an offset printing method.
  • An array substrate manufacturing method is a method of manufacturing an array substrate using an offset printing apparatus, and the offset printing apparatus includes a gravure plate on which a printing pattern is formed, and ink applied to the gravure plate. Is transferred, and a blanket roll for applying the ink to the substrate, and a stage on which the substrate is placed, the stage is provided with an imaging device for imaging the substrate, and the imaging device is used.
  • the blanket roll misalignment amount is calculated from the imaging data of the blanket roll alignment mark and the substrate alignment mark (a), and the blanket roll alignment mark and the substrate alignment mark.
  • step (a) an image of a state when the alignment mark of the blanket roll is in contact with the substrate is captured.
  • the amount of deviation is It is determined whether or not the pattern formation accuracy is within an allowable range of the array substrate, and the step (c) is executed when it is determined that the deviation amount does not exist within the allowable range.
  • the imaging device travels in synchronization with traveling in the printing direction of the blanket roll, and the imaging of the blanket roll alignment mark and the substrate alignment mark travels. Performed by the imaging device.
  • the blanket roll alignment mark is a first mark capable of measuring a position in the x direction that is the printing direction of the blanket roll and a position in the y direction that is perpendicular to the printing direction. It is a blanket roll alignment mark, and the alignment mark of the substrate is a first substrate alignment mark serving as a reference for the first blanket alignment mark.
  • step (b) the amount of deviation ⁇ x in the x direction of the blanket roll and the amount of deviation in the y direction from the first blanket roll alignment mark and the first substrate alignment mark.
  • step (c) the blanket roll is aligned so as to correct the shift amount ⁇ x in the x direction and the shift amount ⁇ y in the y direction.
  • the step (c) is executed when one of the deviation amount ⁇ x and the deviation amount ⁇ y exceeds a range of ⁇ 5 ⁇ m.
  • the blanket roll alignment mark is a line-shaped second blanket roll alignment mark indicating the movement direction of the blanket roll
  • the substrate alignment mark is the second blanket roll alignment mark. It is a 2nd board
  • a deviation amount ⁇ in the ⁇ direction with respect to the reference line in the moving direction is calculated from the second blanket roll alignment mark and the second substrate alignment mark.
  • the blanket roll is aligned so as to correct the shift amount ⁇ in the ⁇ direction.
  • the step (c) is performed when the deviation amount ⁇ exceeds a range of ⁇ 2 °.
  • the blanket roll alignment mark is a first blanket capable of measuring a position in the x direction that is the printing direction of the blanket roll and a position in the y direction that is perpendicular to the printing direction.
  • a roll alignment mark and a second blanket roll alignment mark having a line shape indicating a movement direction of the blanket roll, and the alignment mark of the substrate is a first reference serving as a reference with respect to the first blanket alignment mark.
  • a second substrate alignment mark that forms a reference line in the printing direction serving as a reference with respect to the second blanket alignment mark.
  • the blanket roll in the step (c), is aligned so as to correct the shift amount ⁇ in the ⁇ direction, and then the shift amount ⁇ x in the x direction and the shift amount in the y direction.
  • the blanket roll is aligned so as to correct ⁇ y.
  • a deviation amount ⁇ d of the interval between the first blanket roll alignment marks is calculated from the first blanket roll alignment marks and the first substrate alignment marks.
  • the deviation amount ⁇ d is corrected. And changing the rotational speed of the blanket roll.
  • alignment marks of the blanket roll are provided at both ends in the longitudinal direction of the blanket roll, and the alignment marks of the substrate are aligned with the movement of the blanket roll on the substrate.
  • the blanket roll is provided at a position that should coincide with the alignment mark.
  • the method for manufacturing a liquid crystal panel according to the present invention includes a step of preparing an array substrate manufactured by the method of manufacturing an array substrate, and a step of disposing the color filter substrate so as to face the array substrate.
  • An array substrate manufacturing apparatus is an apparatus for manufacturing an array substrate, comprising: a stage on which the substrate is placed; and a printing unit for printing a pattern on the substrate placed on the stage,
  • the printing unit includes a gravure plate on which a printing pattern is formed, and a blanket roll to which the ink applied to the gravure plate is transferred and applies the ink to the substrate.
  • An alignment mark for the roll is formed, the alignment mark for the substrate is formed on the substrate, and an imaging device for imaging the alignment mark for the blanket roll and the alignment mark for the substrate is disposed on the stage.
  • the stage moves along the direction in which the printing unit moves.
  • a blanket roll displacement amount is calculated based on the data of the imaging device obtained by reading the blanket roll alignment mark and the substrate alignment mark.
  • a control unit is provided.
  • control unit controls the position of the blanket roll based on a deviation amount of the blanket roll.
  • the offset printing apparatus includes a stage on which a substrate is placed, a printing unit that prints a pattern on the substrate placed on the stage, and a control unit that controls the operation of the printing unit,
  • the printing unit includes a gravure plate on which a printing pattern is formed, and a blanket roll to which the ink applied to the gravure plate is transferred and applies the ink to the substrate.
  • the blanket roll alignment mark is formed, the substrate is formed with the alignment mark of the substrate, and the stage has an imaging device for imaging the blanket roll alignment mark and the substrate alignment mark.
  • the printing unit moves to the stage.
  • a groove is formed along which the imaging device moves, and the control unit controls the position and rotation speed of the blanket roll, and the control unit includes an alignment mark of the blanket roll and the The amount of deviation of the blanket roll is calculated based on the data of the imaging device that has read the alignment mark on the substrate, and the control unit controls the blanket roll based on the amount of deviation.
  • the blanket roll alignment mark and the substrate alignment mark are imaged using the imaging device that images the substrate, and the blanket roll alignment mark is captured.
  • the blanket roll displacement amount can be calculated from the image data of the substrate and the substrate alignment mark, and the blanket roll can be aligned based on the blanket roll displacement amount. Therefore, since the amount of blanket roll displacement can be measured in real time by the imaging device and the printing displacement can be adjusted, an array substrate (for example, a TFT substrate) can be manufactured with high accuracy while using the offset printing method. Can do.
  • an array substrate can be manufactured at a lower cost than a photolithography method.
  • FIG. (A) is a schematic top view showing a configuration of an array substrate manufacturing apparatus (offset printing apparatus) 100 according to an embodiment of the present invention, and (b) is a printing unit of the array substrate manufacturing apparatus 100. It is a schematic sectional drawing which shows the structure of 130.
  • FIG. (A) is a schematic plan view showing a camera traveling unit 110 in an array substrate manufacturing apparatus (offset printing apparatus) 100 according to an embodiment of the present invention, and (b) is an array substrate manufacturing apparatus 100.
  • It is a schematic sectional drawing which shows the positional relationship of the camera 112 in FIG. 5 is a flowchart showing a method for manufacturing an array substrate according to an embodiment of the present invention.
  • (A)-(d) is process sectional drawing which shows the manufacturing method of the array substrate based on one Embodiment of this invention.
  • 5 is a flowchart showing a method for manufacturing an array substrate according to an embodiment of the present invention.
  • (A) is a schematic top view for demonstrating the alignment mark (SA1) of a board
  • (B) And (c) is the schematic of the alignment mark (SA1) of a board
  • 5 is a flowchart showing a method for manufacturing an array substrate according to an embodiment of the present invention.
  • (A) is a schematic top view for demonstrating the alignment mark (SA2) of a board
  • (B) is the schematic of the alignment mark (SA2) of a board
  • 5 is a flowchart showing a method for manufacturing an array substrate according to an embodiment of the present invention.
  • (A) is a schematic top view for demonstrating the alignment mark (SA1, SA2) of a board
  • FIG. 1 is a schematic top view for demonstrating the alignment mark (SA1) of a board
  • FIG. 1 is a schematic top view for demonstrating the alignment mark (SA1) of a board
  • (B) is the schematic of the alignment mark (SA1) of a board
  • FIG. 1 is a schematic diagram for explaining a shift amount due to swelling of a blanket roll in an array substrate manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • 5 is a flowchart showing a method for manufacturing an array substrate according to an embodiment of the present invention.
  • (A) is a schematic top view for demonstrating the alignment mark (SA1, SA2) of a board
  • (B) to (d) are schematic views of the alignment mark (SA1) of the substrate and the alignment mark (BA1) of the blanket roll for explaining the amount of deviation.
  • FIG. 1A schematically shows an array substrate manufacturing apparatus 100 according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 1B schematically shows the configuration of a printing unit 130 that constitutes the array substrate manufacturing apparatus 100.
  • the array substrate of this embodiment is a TFT substrate (substrate on which switching elements are formed) that constitutes a liquid crystal panel.
  • the array substrate manufacturing apparatus 100 according to the present embodiment is an offset printing apparatus, and can form a pattern (for example, an insulating layer pattern) on the substrate 120 by printing.
  • the array substrate manufacturing apparatus (offset printing apparatus) 100 of this embodiment can also be referred to as a liquid crystal panel substrate manufacturing apparatus.
  • FIGS. 2A and 2B show the positional relationship between the camera traveling unit 110 and the camera 112 and the printing unit 130 in the array substrate manufacturing apparatus (offset printing apparatus) 100 according to an embodiment of the present invention.
  • a schematic plan view and a schematic cross-sectional view are shown.
  • the manufacturing apparatus 100 is a stage on which a substrate (glass substrate) 120 such as a TFT substrate is placed. 101 and a printing unit 130 for forming a pattern (for example, an insulating layer pattern, a conductive layer pattern, etc.) on the substrate 120 using an offset printing method.
  • a substrate glass substrate
  • a printing unit 130 for forming a pattern (for example, an insulating layer pattern, a conductive layer pattern, etc.) on the substrate 120 using an offset printing method.
  • an alignment mark which will be described in detail later, is provided in the printing direction A1 of the printing unit 130.
  • the camera 112 is a CMOS camera, a CCD camera, or the like, for example, and image data captured by the camera 112 is transmitted to the control unit 190 described later.
  • the stage 101 is provided with a camera traveling unit 110 that can travel the camera 112 in the printing direction A1 corresponding to the alignment mark of the substrate 120.
  • the camera traveling unit 110 is a groove (concave portion) formed in the stage 101, and a camera 112 is provided in the groove 110. It is comprised so that it may drive. That is, the camera traveling unit 110 has a groove extending along the printing direction (A1), which is the traveling direction of the camera, and is formed along the longitudinal direction of both edges of the stage 101 in this embodiment.
  • a translucent member (a glass member or a resin member) can be disposed on the upper surface (upper open portion) of the camera travel section (groove section) 110.
  • the printing unit 130 has an ink supply port 135 through which ink is supplied, a gravure plate 160 into which ink from the ink supply port 135 is dropped, and ink from the gravure plate 160 is transferred to the substrate.
  • a blanket roll 170 for printing on 120 is provided.
  • a printing pattern (pattern on the array substrate) is formed on the gravure plate 160.
  • a blade 180 is disposed in the vicinity of the gravure plate 160.
  • the ink used here is a material (for example, an insulating material) that forms a pattern of the substrate (array substrate) 120.
  • an alignment mark (BA) is provided on the surface of the blanket roll 170 at a position that should coincide with the alignment mark of the substrate 120 when printing on the substrate 120.
  • the printing unit 130 is provided with a control unit 190.
  • the control unit 190 according to the present embodiment is based on data (captured image data) of the alignment mark (BA) of the blanket roll 170 and the alignment mark (SA) of the substrate 120 read by the camera 112. The amount of deviation is calculated.
  • the control unit 190 can control the posture of the blanket roll 170 or the rotation speed of the blanket roll 170 (or the plate rotation speed of the gravure plate 160) based on the amount of deviation.
  • the control unit 190 is composed of, for example, a semiconductor integrated circuit device (for example, MPU), but is not limited thereto.
  • the amount of deviation of the blanket roll 170 (that is, the amount of deviation of the alignment mark (BA) of the blanket roll 170 based on the alignment mark (SA) of the substrate 120). ) Is within the permissible range, and then, if it is not within the permissible range, the blanket roll 170 is controlled based on the amount of deviation.
  • the permissible range of the present embodiment that is, the permissible range of pattern formation accuracy in the array substrate 120 is within the range in which the alignment accuracy required for the array substrate 120 can be satisfied.
  • the permissible range is typically stricter than the range in which the alignment accuracy required for the color filter substrate can be satisfied.
  • the misalignment dimension is ⁇ 5 ⁇ m or less (or the misalignment angle is ⁇ 2 °). It is.
  • a printing unit support unit 140 that supports the printing unit 130 is provided.
  • the printing unit travel shaft 150 is disposed along the longitudinal direction (printing direction A1) of the stage 101, the printing unit support 140 is set on the printing unit travel shaft 150, and the printing unit 130 is configured to perform printing. It is possible to move above the substrate 120 along the unit travel axis 150.
  • FIG. 3 is a flowchart showing a method of manufacturing the array substrate according to the present embodiment.
  • 4A to 4D are process cross-sectional views illustrating a method for manufacturing an array substrate according to an embodiment of the present invention.
  • step S210 when printing is started in step S200, in step S210, the camera 112 travels simultaneously with the travel of the blanket roll 170 in the printing direction A1 from the print start position (state of FIG. 4A). However, the alignment mark of the blanket roll 170 and the alignment mark of the substrate 120 are read at any time (in real time) (see FIG. 4B). That is, in synchronization with the movement of the blanket roll 170 of the printing unit 130, the camera 112 moves and images both the alignment mark of the blanket roll 170 and the alignment mark of the substrate 120.
  • step S220 the control unit 190 of the printing unit 130 calculates the amount of deviation of the blanket roll 170 from the imaging data of the alignment mark of the blanket roll 170 and the alignment mark of the substrate 120 read by the camera 112. Then, it is determined whether or not it exists within a specific allowable range as will be described later.
  • step S220 if “No” in step S220, that is, if the alignment mark of the blanket roll 170 is not within the allowable range (for example, the blanket roll 170 is displaced as shown in FIG. 4B), the process proceeds to step S230. move on. On the other hand, if “Yes” in step S220, that is, if the alignment mark of the blanket roll 170 is within the allowable range, the process proceeds to step S250 described later.
  • step S230 the control unit 190 of the printing unit 130 calculates a deviation amount for executing the alignment of the blanket roll 170 from the read alignment mark of the substrate 120 and the alignment mark of the blanket roll 170. To do.
  • step S210 or S220 when a specific shift amount for executing the alignment of the blanket roll 170 is calculated, the numerical value may be used. Note that the amount of deviation obtained in step S210 or S220 is used to determine whether or not the amount is within an allowable range, and an accurate and specific amount of deviation for executing alignment of the blanket roll 170 is calculated. If not, a step of calculating the amount of deviation is executed in step S230.
  • step S240 the blanket roll 170 is aligned based on the amount of deviation calculated by the control unit 190 of the printing unit 130. Then, for example, as shown in FIG. 4C, the blanket roll 170 is deviated.
  • step S250 when printing is completed (the state shown in FIG. 4D), the process proceeds to step S260, and the camera 112 returns to the print start position (the state shown in FIG. 4A). Or end the next printing operation. On the other hand, if the printing has not been completed yet, the process returns to step S220 to continue the above steps.
  • the alignment mark of the blanket roll 170 and the substrate 120 are moved by the camera 112 that travels simultaneously with the travel of the blanket roll 170 in the printing direction A1.
  • the alignment mark can be read at any time (in real time). Therefore, the posture control of the blanket roll 170 and the rotation speed control of the blanket roll 170 (or the plate rotation speed control of the gravure plate 160) can be performed at any time (in real time).
  • the array substrate 120 which has conventionally been difficult to manufacture with high accuracy by using the offset printing method.
  • FIG. 5 is a flowchart showing the method of manufacturing the array substrate according to the first embodiment.
  • FIG. 6A is a schematic plan view showing the alignment mark (SA1) of the substrate 120 and the alignment mark (BA1) of the blanket roll 170 in the manufacturing apparatus 100 according to the first embodiment.
  • FIGS. 6B and 6C show the alignment mark (SA1) of the substrate 120 and the alignment mark (BA1) of the blanket roll 170 for explaining the shift amount in the method of manufacturing the array substrate 120 according to the first embodiment.
  • the alignment mark (BA1) of the blanket roll 170 is a blanket roll capable of measuring a position in the x direction that is the printing direction of the blanket roll 170 and a position in the y direction that is perpendicular to the printing direction. This is the alignment mark (BA1).
  • the alignment mark (BA1) of the blanket roll 170 is a “cross mark” extending in the x and y directions.
  • the alignment mark (SA1) of the substrate 120 is a substrate alignment mark (SA1) serving as a reference for the blanket alignment mark (BA1).
  • the alignment mark (SA1) of the substrate 120 is a “square” (diamond, rectangle, or square) whose apex is located in the x and y directions.
  • the illustrated alignment mark (BA1) of the blanket roll 170 and the alignment mark (SA1) of the substrate 120 may be interchanged. Alternatively, other alignment marks may be adopted.
  • step S220a following step S210 of FIG. 3 described above, it is determined whether the positional relationship between the two alignments is within an allowable range. That is, the position of the alignment mark BA1 (first blanket roll alignment mark) of the blanket roll 170 read by the camera 112 by the control unit 190 of the printing unit 130 is the alignment mark SA1 (first first mark of the substrate 120 read). On the basis of the substrate alignment mark), it is determined whether or not it exists within an allowable range (for example, ⁇ 5 ⁇ m).
  • the permissible range is preferably a range of ⁇ 5 ⁇ m with reference to the alignment mark SA1 of the substrate 120, but this range is an example, and a suitable one can be adopted as appropriate.
  • FIG. 6B shows an example in which the read alignment mark BA1 of the blanket roll 170 matches the alignment mark SA1 of the substrate 120.
  • FIG. 6C shows an example where the read alignment mark BA1 of the blanket roll 170 and the alignment mark SA1 of the substrate 120 are misaligned.
  • step S220a if “No” in step S220a, that is, if the alignment mark BA1 of the blanket roll 170 is not within the allowable range, the process proceeds to step S230a. On the other hand, if “Yes” in step S220a, that is, if the alignment mark BA1 of the blanket roll 170 is within the allowable range, the process proceeds to step S250 in FIG.
  • step S230a the control unit 190 of the printing unit 130 reads x from the alignment mark SA1 of the substrate 120 and the alignment mark BA1 of the blanket roll 170, as shown in FIG.
  • the shift amount ⁇ x in the direction and the shift amount ⁇ y in the y direction are calculated. As described above, when the amount of deviation has already been calculated, the numerical value is used.
  • step S240a the control unit 190 of the printing unit 130 aligns the blanket roll 170 in the x and y directions based on the calculated shift amounts ⁇ x and ⁇ y. Thereafter, the above-described steps after step S250 are performed.
  • the posture control of the blanket roll 170 in the x and y directions can be performed, and the substrate 120 can be manufactured with high accuracy using the offset printing method.
  • the alignment mark BA1 of the blanket roll 170 is provided at both ends in the length direction of the blanket roll 170, respectively. Further, each of the alignment marks SA1 of the substrate 120 is provided on the substrate 120 at a position that should coincide with each of the alignment marks BA1 of the blanket roll 170 as the blanket roll 170 moves. For this reason, in step S220a, it is determined whether or not each of the alignment marks BA1 of the blanket roll 170 is within the allowable range. If it is determined in step S230a that each of the alignment marks BA1 of the blanket roll 170 is not within the allowable range, the alignment mark BA1 of the blanket roll 170 and each of the alignment marks SA1 of the substrate 120 are used.
  • the amount of deviation of each blanket roll 170 is calculated. Furthermore, in step S240a, based on the larger deviation amount of the respective deviation amounts of the blanket roll 170, the end corresponding to the larger deviation amount of both ends of the blanket roll 170 is moved in the x and y directions. Alignment is possible.
  • FIG. 7 is a flowchart showing a method of manufacturing an array substrate according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 8A is a schematic plan view showing a substrate alignment mark (SA2) and a blanket roll alignment mark (BA2) in the manufacturing apparatus 100 according to the second embodiment.
  • FIG. 8B is a schematic view of the substrate alignment mark (SA2) and the blanket roll alignment mark (BA2) for explaining the amount of deviation in the manufacturing method according to the second embodiment.
  • step S220b following step S210 of FIG. 3 described above, it is determined whether the positional relationship between the two alignments is within an allowable range.
  • the position of the alignment mark (second blanket roll alignment mark) BA2 of the blanket roll 170 read by the camera 112 by the control unit 190 of the printing unit 130 is the position of the alignment mark (second mark of the substrate 120 read).
  • the substrate alignment mark (SA2) is within an allowable range (for example, ⁇ 2 °) with reference to SA2.
  • the permissible range is preferably a range of ⁇ 2 ° with respect to the alignment mark SA2 of the substrate 120, but this range is an example, and a suitable one can be adopted as appropriate.
  • the alignment mark BA2 of the blanket roll 170 and the alignment mark SA2 of the substrate 120 are provided as shown in FIG.
  • the alignment marks BA2 and SA2 are formed in a line segment shape, and specifically, are formed in a dotted line shape (broken line shape). Note that at least one of the lines may be a continuous straight line so that the shift can be detected.
  • FIG. 8B shows an example in which the read alignment mark BA2 of the blanket roll 170 does not coincide with the alignment mark SA2 of the substrate 120 serving as the reference line corresponding to the printing direction A1, and is shifted. Yes.
  • step S220b if “No” in step S220b, that is, if the alignment mark BA2 of the blanket roll 170 is not within the allowable range, the process proceeds to step S230b. On the other hand, if “Yes” in step S220b, that is, if the alignment mark BA2 of the blanket roll 170 is within the allowable range, the process proceeds to step S250 of FIG. 3 described above.
  • step S230b the control unit 190 of the printing unit 130 reads from the alignment mark SA2 of the substrate 120 and the alignment mark BA2 of the blanket roll 170, for example, as shown in FIG.
  • the amount of deviation ⁇ in the direction is calculated. As described above, when the amount of deviation has already been calculated, the numerical value is used.
  • step S240b the control unit 190 of the printing unit 130 aligns the blanket roll 170 in the ⁇ direction based on the calculated shift amount ⁇ . Thereafter, the above-described steps after step S250 are performed.
  • the alignment mark BA2 of the blanket roll 170 is provided at both ends in the length direction of the blanket roll 170, and the alignment mark SA2 of the substrate 120 is Each is provided on the substrate 120 at a position that should coincide with each of the alignment marks BA2 of the blanket roll 170 as the blanket roll 170 moves.
  • step S220b determines whether or not each of the alignment marks BA2 of the blanket roll 170 is within the allowable range. If it is determined in step S230b that each of the alignment marks BA2 of the blanket roll 170 is not within the allowable range, each of the alignment marks BA2 of the blanket roll 170 and each of the alignment marks SA2 of the substrate 120 is used. The amount of deviation of each blanket roll 170 is calculated. Further, in step S240b, based on the larger deviation amount of the respective deviation amounts of the blanket roll 170, the end portion corresponding to the larger deviation amount of the both end portions of the blanket roll 170 is aligned in the ⁇ direction. be able to.
  • FIG. 9 is a flowchart showing a method of manufacturing an array substrate according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 10A is a schematic plan view showing the alignment marks (SA1, SA2) of the substrate and the alignment marks (BA1, BA2) of the blanket roll in the manufacturing apparatus 100 according to the third embodiment.
  • FIGS. 10B to 10D are schematic views for explaining the flow of correcting the shift amount in the method of manufacturing the array substrate according to the third embodiment.
  • step S220c following step S210 of FIG. 3 described above, it is determined whether the positional relationship of the alignment is within an allowable range. That is, the position of the alignment marks BA1 and BA2 of the blanket roll 170 read by the camera 112 by the control unit 190 of the printing unit 130 is within an allowable range (for example, with reference to the alignment marks SA1 and SA2 of the read substrate 120). , ⁇ 5 ⁇ m and ⁇ 2 °).
  • the preferable value of the permissible range is the same as that in the first and second embodiments.
  • the alignment marks BA1 and BA2 of the blanket roll 170 and the alignment marks SA1 and SA2 of the substrate 120 are as described in the first and second embodiments, respectively.
  • step S220c if “No” in step S220c, that is, if the alignment marks BA1 and BA2 of the blanket roll 170 are not within the allowable range, the process proceeds to step S230c. On the other hand, if “Yes” in step S220c, that is, if both the alignment marks BA1 and BA2 of the blanket roll 170 are within the allowable range, the process proceeds to step S250 of FIG. 3 described above.
  • the process proceeds to the above-described step 230a.
  • the above-described step is performed. Proceed to 230b and perform the steps described above.
  • control unit 190 of the printing unit 130 reads the alignment mark SA2 of the substrate 120 and the alignment mark BA2 of the blanket roll 170 in the ⁇ direction.
  • the amount of deviation ⁇ is calculated.
  • step S240c the control unit 190 of the printing unit 130 performs alignment in the ⁇ direction of the blanket roll 170 based on the calculated shift amount ⁇ (see FIG. 10B).
  • step S230d the controller 190 of the printing unit 130 reads the alignment mark SA1 of the substrate 120 and the alignment mark BA1 of the blanket roll 170.
  • the shift amounts ⁇ x and ⁇ y in the x and y directions are calculated.
  • step S240d the control unit 190 of the printing unit 130 aligns the blanket roll 170 in the x and y directions based on the calculated shift amounts ⁇ x and ⁇ y (see FIG. 10B). Thereafter, the process after step S250 described above is performed, or the process continues to step S245 in FIG. 14 of the fifth embodiment described later.
  • the substrate 120 can be manufactured with high accuracy using the offset printing method.
  • the alignment marks BA1 and BA2 of the blanket roll 170 are provided at both ends in the length direction of the blanket roll 170, respectively.
  • SA1 and SA2 are provided on the substrate 120 at positions that should coincide with the alignment marks BA1 and BA2 of the blanket roll 170 as the blanket roll 170 moves.
  • step S220c determines whether or not each of the alignment marks BA1 and BA2 of the blanket roll 170 is within the allowable range. If it is determined in step S230c that the alignment marks BA1 and BA2 of the blanket roll 170 are not within the allowable range, the alignment marks BA1 and BA2 of the blanket roll 170 and the alignment mark SA2 of the substrate 120 are determined. From each of these, the amount of deviation of each blanket roll 170 is calculated. Furthermore, when aligning the blanket roll 170 based on the calculated amount of deviation, the larger one of both end portions of the blanket roll 170 is determined based on the larger amount of deviation of each deviation amount of the blanket roll 170. The end corresponding to the amount of deviation can be aligned in the x, y direction, and ⁇ direction.
  • FIG. 11 is a flowchart showing a method of manufacturing an array substrate according to the fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 12A is a schematic plan view showing the alignment mark (SA1) of the substrate and the alignment mark (BA1) of the blanket roll in the manufacturing apparatus 100 according to the fourth embodiment.
  • FIG. 12B is a schematic view of the alignment mark (SA1) of the substrate and the alignment mark (BA1) of the blanket roll for explaining the amount of deviation in the manufacturing method according to the fourth embodiment.
  • FIGS. 13A to 13E are schematic views for explaining a shift amount due to swelling of the blanket roll 170 in the fourth embodiment.
  • step S220e the control unit 190 of the printing unit 130 determines that the fixed interval of the alignment mark BA1 of the blanket roll 170 read by the camera 112 is based on the fixed interval of the read alignment mark SA1 of the substrate 120. It is determined whether or not it exists within an allowable range ( ⁇ 5 ⁇ m).
  • the allowable range is preferably within a range of ⁇ 5 ⁇ m with reference to the alignment mark SA1 of the substrate 120.
  • the alignment mark BA1 of the blanket roll 170 and the alignment mark SA1 of the substrate 120 are provided as shown in FIG. Further, as shown in FIG. 12B, the amount of deviation ⁇ d between the constant interval D of the read alignment mark BA1 of the blanket roll 170 and the constant interval d of the alignment mark SA1 of the substrate 120 is, for example, (D ⁇ d) It is represented by
  • step S220e if “No” in step S220e, that is, if the fixed interval D of the alignment mark BA1 of the blanket roll 170 is not within the allowable range, the process proceeds to step S230e. On the other hand, if “Yes” in step S220e, that is, if the fixed interval D of the alignment mark BA1 of the blanket roll 170 is within the allowable range, the process proceeds to step S250 in FIG.
  • step S230e the controller 190 of the printing unit 130 reads the alignment mark SA1 of the substrate 120 and the alignment mark BA1 of the blanket roll 170 as shown in FIG. A deviation amount ⁇ d of the blanket roll 170 at a constant interval D is calculated. Note that when the deviation amount ⁇ d is calculated in step S210 or S220e, the numerical value is used.
  • step S240e based on the deviation ⁇ d calculated by the control unit 190 of the printing unit 130, the rotational speed v of the blanket roll 170 (the rotational speed v of the blanket roll 170 is determined by the plate rotational speed of the gravure plate 160). If controlled, the plate rotation speed of the gravure plate 160 is changed.
  • the circumferential angle is calculated from the radius r of the blanket roll 170 in the unswelled state and the radius R of the blanket roll 170 in the swollen state.
  • ⁇ the value of ( ⁇ / 360) ⁇ 2 ⁇ (R ⁇ r) is equal to the calculated deviation amount ⁇ d. That is, FIG. 13A shows the radius r of the blanket roll 170 in the unswelled state, while FIG. 13C shows the radius R of the blanket roll 170 in the swollen state.
  • FIG. 13B the radius ⁇ r in which the blanket roll 170 swells becomes “R ⁇ r”. Then, as shown in FIGS.
  • a substrate for a liquid crystal display device can be manufactured with higher accuracy by using a printing method.
  • the alignment mark BA1 of the blanket roll 170 is provided at both ends in the length direction of the blanket roll 170, and the alignment mark SA1 of the substrate 120 is On the substrate 120, the blanket roll 170 is provided at a position to be aligned with each of the alignment marks BA1 of the blanket roll 170 in accordance with the movement of the blanket roll 170. For this reason, in step S220e, it is determined whether or not each of the predetermined intervals of the alignment mark BA1 of the blanket roll 170 is within the allowable range.
  • step S230e if it is determined that the fixed intervals of the alignment marks BA1 of the blanket roll 170 are not within the allowable range, the alignment of the substrates 120 with the fixed intervals of the alignment marks BA1 of the blanket roll 170 is determined. From each of the fixed intervals of the mark SA1, the amount of deviation of each of the fixed intervals of the blanket roll 170 is calculated. Furthermore, in step S240e, the rotational speed of the blanket roll 170 can be adjusted based on the larger deviation amount of the deviation amounts at regular intervals of the blanket roll 170.
  • FIG. 14 is a flowchart showing a method of manufacturing an array substrate according to the fifth embodiment of the present invention.
  • FIG. 15A is a schematic plan view showing a substrate alignment mark and a blanket roll alignment mark in a liquid crystal display substrate manufacturing apparatus according to a fifth embodiment of the present invention.
  • FIGS. 5B and 5C are schematic views for explaining the flow of correcting the shift amount in the method for manufacturing the array substrate according to the third embodiment. The method for manufacturing an array substrate according to the fifth embodiment is described in addition to the method described in the third embodiment.
  • step S245 in addition to controlling the posture of the blanket roll 170 in the x, y and ⁇ directions, whether or not more precise alignment is required. To consider. If more precise alignment is required, that is, if Yes in step S245, the process proceeds to step S220f. On the other hand, if further precise alignment is not required, the process proceeds to step S250 described above.
  • step S220f the control unit 190 of the printing unit 130 reads the fixed interval of the alignment mark BA1 of the blanket roll 170 read by the camera 112. It is determined whether or not it exists within an allowable range ( ⁇ 4 ⁇ m) with reference to a certain interval of the alignment mark SA1 of the substrate 120.
  • the allowable range ⁇ 4 ⁇ m
  • the above-described allowable range in the x and y directions of the blanket roll 170 may be set, for example, ⁇ 7 ⁇ m.
  • this in addition to the posture control of the blanket roll 170 in the x, y and ⁇ directions, this is an example in which more precise alignment is required. It is desirable to set a small allowable range.
  • the alignment mark BA1 of the blanket roll 170 and the alignment mark SA1 of the substrate 120 are provided as shown in FIG. 15A, for example, as in the third embodiment.
  • the deviation ⁇ d between the constant interval D of the read alignment mark BA1 of the blanket roll 170 and the constant interval d of the alignment mark SA1 of the substrate 120 is the above-described third amount. As in the embodiment, it is represented by (Dd), for example.
  • step S220f if “No” in step S220f, that is, if the fixed interval D of the alignment mark BA1 of the blanket roll 170 does not exist within the allowable range, the process proceeds to step S230f. On the other hand, if “Yes” in step S220f, that is, if the constant interval D of the alignment mark BA1 of the blanket roll 170 is within the allowable range, the process proceeds to step S250 of FIG.
  • step S230f the controller 190 of the printing unit 130 reads the alignment mark SA1 of the substrate 120 and the alignment mark BA1 of the blanket roll 170 as shown in FIG. A deviation amount ⁇ d of the blanket roll 170 at a constant interval D is calculated. If the deviation amount ⁇ d has been calculated in a previous step (for example, step S210), the numerical value is used.
  • step S240f the control unit 190 of the printing unit 130 changes the rotational speed v of the blanket roll 170 based on the calculated shift amount ⁇ d.
  • the circumferential angle is ⁇ from the radius r of the blanket roll 170 in the unswelled state and the radius R of the blanket roll 170 in the swollen state. If there is, the value of 2 ⁇ (R ⁇ r) / 360 becomes equal to the calculated deviation amount ⁇ d. For this reason, in this step 240f, the rotational speed v is increased or decreased by 2 ⁇ (R ⁇ r) / 360v (where the rotational speed is v) seconds. Thereafter, the above-described steps after step S250 are performed.
  • the amount of deviation ⁇ d of the fixed interval D of the alignment mark D of the blanket roll 170 relative to the fixed interval d of the alignment mark SA1 of the substrate 120 is calculated.
  • the rotational speed v of the blanket roll 170 can be controlled.
  • the array substrate 120 can be manufactured with higher accuracy by using the offset printing method.
  • the blanket roll 170 when the blanket roll 170 is aligned based on the calculated deviation amount, the blanket roll 170 is based on the larger deviation amount of the deviation amounts of the blanket roll 170.
  • the rotational speed v of the blanket roll 170 can be adjusted on the basis of the larger deviation amount of the deviation amounts at regular intervals.
  • the image is not limited to continuous imaging in real time by the camera 112 but may be determined based on image data at a predetermined interval by imaging at a predetermined interval (for example, every several seconds).
  • the camera 112 is moved simultaneously with the printing unit 130.
  • the present invention is not limited to this, and a plurality of cameras 112 are fixedly arranged (for example, at equal intervals in the groove 110). It is also possible to execute the determination based on image data captured by the plurality of cameras 112.
  • the structure in which the printing unit 130 is moved above the stage 101 is used.
  • the present invention is not limited to this, and the printing unit 130 is fixed and printing is performed by moving the stage 101.
  • correction in real time may be performed.
  • the array substrate 120 has been described mainly using the TFT substrate of the pair of substrates of the liquid crystal panel as an example.
  • the array substrate is not limited to the substrate for the liquid crystal panel and is used for other purposes. You may apply to a board
  • the array substrate 120 is manufactured not only when the array substrate 120 is manufactured using only the manufacturing apparatus 100 of the present embodiment, but also by combining the photolithography method and the method of the manufacturing method of the present embodiment. It is also possible to do. That is, the method of the present embodiment can be used where the printing method of the present embodiment is suitable, and the method can be used where the photolithography method is suitable.
  • the array substrate 120 that is required to form a pattern with higher accuracy is manufactured. However, a color filter substrate that requires less accuracy than the array substrate is manufactured using the method of the present embodiment. Is also possible.
  • Array substrate manufacturing equipment (offset printing equipment) 101 Stage 110 Groove (camera travel part) 112 Imaging device (camera) 120 substrate (array substrate) 130 Printing unit 135 Ink supply port 140 Printing unit support 150 Printing unit travel shaft 160 Gravure plate 170 Blanket roll 180 Blade 190 Control unit BA1, BA2 Blanket alignment mark SA1, SA2 Substrate alignment mark

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Abstract

　オフセット印刷法を用いてアレイ基板を精度良く製造する。オフセット印刷装置を用いたアレイ基板の製造方法においては、ステージ１０１に基板１２０を撮像する撮像装置１１２が設けられ、そして、撮像装置１１２を用いて、ブランケットロール１７０のアライメントマーク（ＢＡ１）と、基板１２０のアライメントマーク（ＳＡ１）とを撮像した後、ブランケットロールのアライメントマーク（ＢＡ１）と基板のアライメントマーク（ＳＡ１）とから、ブランケットロール１７０のズレ量を算出し、次いで、ブランケットロール１７０のズレ量に基づいて、ブランケットロール１７０をアライメントする。

Description

アレイ基板の製造方法、液晶パネルの製造方法、アレイ基板の製造装置およびオフセット印刷装置
　本発明は、オフセット印刷装置、アレイ基板の製造装置、アレイ基板の製造方法、および、表示装置の製造方法に関する。特に、オフセット印刷法を用いてアレイ基板（ＴＦＴ基板）を製造する方法およびそれに用いる製造装置に関する。
　近年、高解像度の表示装置として液晶表示装置が広く用いられている。液晶表示装置は、一対の透光性基板の間に液晶が封止されてなる液晶パネルと、該パネルの背面側に配置されたバックライト装置とから構成されている。液晶表示装置では、バックライト装置の光源から出射された光が液晶表示パネルの背面側から照射されることによって液晶パネルに表示された画像が視認可能となる。
　液晶表示パネルは、一対の透光性基板、すなわち、薄膜トランジスタ（Thin-Film Transistor, ＴＦＴ）が形成されたアレイ基板と、カラーフィルタ層を含むカラーフィルタ基板とから構成されている。アレイ基板およびカラーフィルタ基板はそれぞれ別々の基板に形成され、そして、液晶材料を滴下した後に互いに貼り合わせられる。このようにして液晶表示パネルは製造されている。そして、液晶パネルにおいては、アレイ基板およびカラーフィルタ基板の間に電界を印加することにより、液晶層中の液晶分子の配向状態を変化させて、画素ごとに光の透過量を制御することで所望の画像を表示する。
　ＴＦＴが形成されたアレイ基板を製造する際には、アレイ基板に微細なパターンを形成する必要があるので、フォトリソグラフィ法が用いられる。フォトリソグラフィ法を用いる場合、その製造精度に優れる一方で、工程が複雑で高価な装置が必要である。このため、液晶パネルの製造コストを一層低減する目的で、フォトリソグラフィ法に代えて、印刷法を使用することが検討されている。
　しかしながら、印刷法を用いてアレイ基板を作製する場合、フォトリソグラフィ法と比較すると、形成されるパターンの精度が悪い。それゆえに、残念ながら、印刷法を用いてアレイ基板を作製することができないのが実情である。
　特許文献１には、印刷版に形成された原版パターンを被印刷物の上に大面積で高精度に転写印刷を行うことができるオフセット印刷装置が開示されている。特許文献１に開示されたオフセット印刷装置において、印刷時に、ブランケットロールの印圧を制御するためにブランケットロールの表面位置とステージ上の被印刷物の表面位置とを測定し、被印刷物の傾きと高さとを調整する手段が提案されている。また、特許文献１においては、記録用サーマルヘッドの電極パターンの製造、液晶表示装置のカラーフィルタの製造については言及があるが、液晶パネルのアレイ基板をオフセット印刷装置で製造することについての言及はない。
特開２０００－１６８０３０号公報
　今日、特許文献１に開示されたような高精度のオフセット印刷装置を用いても、液晶表示装置用基板としてのアレイ基板（ＴＦＴ基板）を製造することは困難であると考えられている。すなわち、高精度のオフセット印刷装置を用いても、アレイ基板に要求されるアライメント精度を満たすことが、装置の構成上および印刷手法上、困難であると考えられている。さらに説明すると、カラーフィルタ基板の場合には、高精度のオフセット印刷手法を用いることで、カラーフィルタ基板に要求されるアライメント精度を満たすことは一応可能であると考えられており、その改良または新たな印刷手法提案がなされているが、アレイ基板においては量産レベルで対応可能な印刷法（オフセット印刷）にて製造することは困難であると考えられている。
　本願発明者は、アレイ基板におけるパターン形成の精度を満たすことがオフセット印刷で難しい理由を検討した結果、次のような原因を見出した。オフセット印刷を行う場合には、オフセット印刷装置におけるブランケットロールにインクが供給されて、印刷が行われる。そこでは、ブランケットロールにインクの水分が吸い込まれることによって、ブランケットロールが膨潤するために、アライメント精度が悪化し、それゆえに、アレイ基板（ＴＦＴ基板）を作製する上での要求精度を満たすことができない。すなわち、このアライメント精度の悪化は、被印刷物の傾きと高さとを調整する手段では対応することができず、したがって、当該アライメント精度の悪化を改善することは困難である。
　さらに、上記特許文献１の技術を用いて、アライメント精度を向上させようとしても、印刷動作中にズレが生じた場合には、そのズレを補正することはできない。すなわち、上記特許文献１の技術は、印刷のセットにおいてアライメント精度を向上させようとするものであり、印刷動作中にズレが生じた場合には、そのズレを解消することができない。
　本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、オフセット印刷法を用いて精度良くアレイ基板を製造する方法および製造装置に関する。
　本発明に係るアレイ基板の製造方法は、オフセット印刷装置を用いてアレイ基板を製造する方法であり、前記オフセット印刷装置は、印刷パターンが形成されたグラビア版と、前記グラビア版に付与されたインクが転写され、基板に前記インクを付与するブランケットロールと、前記基板が載置されるステージとを備え、前記ステージには、前記基板を撮像する撮像装置が設けられており、前記撮像装置を用いて、前記ブランケットロールのアライメントマークと、前記基板のアライメントマークとを撮像する工程（ａ）と、前記ブランケットロールのアライメントマークと、前記基板のアライメントマークとの撮像データから、前記ブランケットロールのズレ量を算出する工程（ｂ）と、前記ブランケットロールのズレ量に基づいて、前記ブランケットロールをアライメントする工程（ｃ）とを含む。
　ある好適な実施形態では、前記工程（ａ）においては、前記ブランケットロールのアライメントマークが、前記基板に接している際における状態を撮像し、前記工程（ｂ）においては、前記ズレ量が、前記アレイ基板におけるパターン形成精度の許容範囲内に存在するか否かを判定し、前記工程（ｃ）は、前記ズレ量が前記許容範囲内に存在しないと判定される場合に実行される。
　ある好適な実施形態において、前記撮像装置は、前記ブランケットロールの印刷方向における走行と同期して走行し、前記ブランケットロールのアライメントマークと、前記基板のアライメントマークとの前記撮像は、走行している前記撮像装置によって行われる。
　ある好適な実施形態において、前記ブランケットロールのアライメントマークは、前記ブランケットロールの印刷方向であるｘ方向の位置と前記印刷方向に垂直に交わる方向であるｙ方向の位置とを測定可能な第１のブランケットロールアライメントマークであり、かつ、前記基板のアライメントマークは、前記第１のブランケットアライメントマークに対する基準となる第１の基板アライメントマークである。
　ある好適な実施形態では、前記工程（ｂ）においては、前記第１のブランケットロールアライメントマークと前記第１の基板アライメントマークとから、前記ブランケットロールのｘ方向のズレ量Δｘとｙ方向のズレ量Δｙとを算出することを実行し、前記工程（ｃ）においては、ｘ方向に前記ズレ量Δｘ、ｙ方向に前記ズレ量Δｙを補正するように、前記ブランケットロールをアライメントする。
　ある好適な実施形態では、前記ズレ量Δｘおよび前記ズレ量Δｙの何れか一方が±５μｍの範囲を越えた場合に、前記工程（ｃ）が実行される。
　ある好適な実施形態において、前記ブランケットロールのアライメントマークは、前記ブランケットロールの移動方向を示す線分状の第２のブランケットロールアライメントマークであり、かつ、前記基板のアライメントマークは、前記第２のブランケットアライメントマークに対して基準となる前記印刷方向の基準線を構成する第２の基板アライメントマークである。
　ある好適な実施形態では、前記工程（ｂ）においては、前記第２のブランケットロールアライメントマークと前記第２の基板アライメントマークとから、前記移動方向の前記基準線に対するθ方向のズレ量Δθを算出することを実行し、前記工程（ｃ）においては、θ方向に前記ズレ量Δθを補正するように、前記ブランケットロールをアライメントする。
　ある好適な実施形態では、前記ズレ量Δθが±２°の範囲を越えた場合に、前記工程（ｃ）が実行される。
　ある好適な実施形態において、前記ブランケットロールのアライメントマークは、前記ブランケットロールの印刷方向であるｘ方向の位置と前記印刷方向に垂直に交わる方向であるｙ方向の位置を測定可能な第１のブランケットロールアライメントマークと、前記ブランケットロールの移動方向を示す線分状の第２のブランケットロールアライメントマークとを含み、前記基板のアライメントマークは、前記第１のブランケットアライメントマークに対して基準となる第１の基板アライメントマークと、前記第２のブランケットアライメントマークに対して基準となる前記印刷方向の基準線を構成する第２の基板アライメントマークとを含む。
　ある好適な実施形態において、前記工程（ｃ）は、θ方向に前記ズレ量Δθを補正するように、前記ブランケットロールをアライメントし、次いで、ｘ方向に前記ズレ量Δｘ、ｙ方向に前記ズレ量Δｙを補正するように、前記ブランケットロールをアライメントする。
　ある好適な実施形態では、前記工程（ｂ）においては、前記第１のブランケットロールアライメントマークと前記第１の基板アライメントマークとから、前記第１のブランケットロールアライメントマークの間隔のズレ量Δｄを算出することを実行し、前記工程（ｃ）においては、ｘ方向に前記ズレ量Δｘ、ｙ方向に前記ズレ量Δｙを補正するように前記ブランケットロールをアライメントした後に、前記ズレ量Δｄを補正するように、前記ブランケットロールの回転速度を変更することを実行する。
　ある好適な実施形態において、前記ブランケットロールのアライメントマークは、前記ブランケットロールの長手方向における両端部にそれぞれ設けられており、前記基板のアライメントマークは、前記基板上に、前記ブランケットロールの移動にあわせて前記ブランケットロールのアライメントマークと一致すべき位置に設けられている。
　本発明に係る液晶パネルの製造方法は、上記アレイ基板の製造方法によって製造されたアレイ基板を用意する工程と、前記アレイ基板に、カラーフィルタ基板が対向するように配置する工程とを含む。
　本発明に係るアレイ基板の製造装置は、アレイ基板を製造する装置であり、基板が載置されるステージと、前記ステージに載置された前記基板にパターンを印刷する印刷ユニットとを備え、前記印刷ユニットは、印刷パターンが形成されたグラビア版と、前記グラビア版に付与されたインクが転写され、前記基板に前記インクを付与するブランケットロールとを備え、前記ブランケットロールの表面には、前記ブランケットロールのアライメントマークが形成されており、前記基板には、前記基板のアライメントマークが形成されており、前記ステージには、前記ブランケットロールのアライメントマークおよび前記基板のアライメントマークを撮像する撮像装置が配置されており、前記ステージは、前記印刷ユニットが移動する方向に沿って前記撮像装置が移動する溝部が形成されており、さらに、前記ブランケットロールのアライメントマークと前記基板のアライメントマークとを読み取った前記撮像装置のデータに基づいて、前記ブランケットロールのズレ量を算出する制御部が設けられている。
　ある好適な実施形態では、前記制御部は、前記ブランケットロールのズレ量に基づいて、前記ブランケットロールの位置を制御する。
　本発明に係るオフセット印刷装置は、基板が載置されるステージと、前記ステージに載置された前記基板にパターンを印刷する印刷ユニットと、前記印刷ユニットの動作を制御する制御部とを備え、前記印刷ユニットは、印刷パターンが形成されたグラビア版と、前記グラビア版に付与されたインクが転写され、前記基板に前記インクを付与するブランケットロールとを備え、前記ブランケットロールの表面には、前記ブランケットロールのアライメントマークが形成されており、前記基板には、前記基板のアライメントマークが形成されており、前記ステージには、前記ブランケットロールのアライメントマークおよび前記基板のアライメントマークを撮像する撮像装置が配置されており、前記ステージには、前記印刷ユニットが移動する方向に沿って前記撮像装置が移動する溝部が形成されており、前記制御部は、前記ブランケットロールの位置および回転速度を制御するものであり、前記制御部は、前記ブランケットロールのアライメントマークと前記基板のアライメントマークとを読み取った前記撮像装置のデータに基づいて、前記ブランケットロールのズレ量を算出するものであり、そして、前記制御部は、前記ズレ量に基づいて前記ブランケットロールを制御する。
　本発明によると、オフセット印刷装置を用いてアレイ基板を製造する方法において、基板を撮像する撮像装置を用いて、ブランケットロールのアライメントマークと、基板のアライメントマークとを撮像し、ブランケットロールのアライメントマークと基板のアライメントマークとの撮像データから、ブランケットロールのズレ量を算出し、ブランケットロールのズレ量に基づいて、ブランケットロールをアライメントすることができる。したがって、撮像装置によってブランケットロールのズレ量をリアルタイムで計測して、印刷ズレを調整することができるので、オフセット印刷法を用いながらも、アレイ基板（例えば、ＴＦＴ基板）を高精度に製造することができる。また、本発明は印刷法を用いているので、フォトリソグラフィ法と比較して、低コストでアレイ基板を製造することが可能となる。
（ａ）は、本発明の一実施形態に係るアレイ基板の製造装置（オフセット印刷装置）１００の構成を示す概略上面図であり、そして、（ｂ）は、アレイ基板の製造装置１００の印刷ユニット１３０の構成を示す概略断面図である。 （ａ）は、本発明の一実施形態に係るアレイ基板の製造装置（オフセット印刷装置）１００におけるカメラ走行部１１０を示す概略平面図であり、そして、（ｂ）は、アレイ基板の製造装置１００におけるカメラ１１２の位置関係を示す概略断面図である。 本発明の一実施形態に係るアレイ基板の製造方法を示すフローチャートである。 （ａ）～（ｄ）は、本発明の一実施形態に係るアレイ基板の製造方法を示す工程断面図である。 本発明の一実施形態に係るアレイ基板の製造方法を示すフローチャートである。 （ａ）は、本発明の一実施形態に係るアレイ基板の製造装置１００における基板のアライメントマーク（ＳＡ１）とブランケットロールのアライメントマーク（ＢＡ１）を説明するための概略平面図である。（ｂ）及び（ｃ）は、ズレ量を説明するための基板のアライメントマーク（ＳＡ１）とブランケットロールのアライメントマーク（ＢＡ１）の概略図である。 本発明の一実施形態に係るアレイ基板の製造方法を示すフローチャートである。 （ａ）は、本発明の一実施形態に係るアレイ基板の製造装置１００における基板のアライメントマーク（ＳＡ２）とブランケットロールのアライメントマーク（ＢＡ２）を説明するための概略平面図である。（ｂ）は、ズレ量を説明するための基板のアライメントマーク（ＳＡ２）とブランケットロールのアライメントマーク（ＢＡ２）の概略図である。 本発明の一実施形態に係るアレイ基板の製造方法を示すフローチャートである。 （ａ）は、本発明の一実施形態に係るアレイ基板の製造装置１００における基板のアライメントマーク（ＳＡ１、ＳＡ２）とブランケットロールのアライメントマーク（ＢＡ１、ＢＡ２）を説明するための概略平面図である。（ｂ）から（ｄ）は、ズレ量を説明するための基板のアライメントマーク（ＳＡ１、ＳＡ２）とブランケットロールのアライメントマーク（ＢＡ１、ＢＡ２）の概略図である。 本発明の一実施形態に係るアレイ基板の製造方法を示すフローチャートである。 （ａ）は、本発明の一実施形態に係るアレイ基板の製造装置１００における基板のアライメントマーク（ＳＡ１）とブランケットロールのアライメントマーク（ＢＡ１）を説明するための概略平面図である。（ｂ）は、ズレ量を説明するための基板のアライメントマーク（ＳＡ１）とブランケットロールのアライメントマーク（ＢＡ１）の概略図である。 （ａ）から（ｅ）は、本発明の一実施形態に係るアレイ基板の製造装置におけるブランケットロールの膨潤によるズレ量を説明するための概略図である。 本発明の一実施形態に係るアレイ基板の製造方法を示すフローチャートである。 （ａ）は、本発明の一実施形態に係るアレイ基板の製造装置１００における基板のアライメントマーク（ＳＡ１、ＳＡ２）とブランケットロールのアライメントマーク（ＢＡ１、ＢＡ２）を説明するための概略平面図である。（ｂ）から（ｄ）は、ズレ量を説明するための基板のアライメントマーク（ＳＡ１）とブランケットロールのアライメントマーク（ＢＡ１）の概略図である。
　以下、図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態を説明する。以下の図面においては、説明の簡潔化のために、同じ作用を奏する部材、部位には同じ符号を付し、重複する説明は省略または簡略化することがある。また、各図における寸法関係（長さ、幅、厚さ等）は、必ずしも実際の寸法関係を正確に反映するものではない。また、図中のハッチングは、構成要素の把握のし易さを主な目的として付しており、必ずしも材料の要素を表現するものではない。
　また、本明細書において特に言及している事項以外の事柄であって本発明の実施に必要な事項は、当該分野における従来技術に基づく当業者の設計事項として把握され得る。本発明は、本明細書及び図面によって開示されている内容と当該分野における技術常識とに基づいて実施することができる。加えて、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではない。
　図１（ａ）は、本発明の一実施形態に係るアレイ基板の製造装置１００を模式的に示している。また、図１（ｂ）は、アレイ基板の製造装置１００を構成する印刷ユニット１３０の構成を模式的に示している。本実施形態のアレイ基板は、液晶パネルを構成するＴＦＴ基板（スイッチング素子が形成された基板）である。また、本実施形態のアレイ基板の製造装置１００は、オフセット印刷装置であり、印刷によって基板１２０にパターン（例えば、絶縁層パターンなど）を形成することができる。なお、本実施形態のアレイ基板の製造装置（オフセット印刷装置）１００は、液晶パネル用基板の製造装置と称することもできる。また、図２（ａ）および（ｂ）は、本発明の一実施形態に係るアレイ基板の製造装置（オフセット印刷装置）１００におけるカメラ走行部１１０およびカメラ１１２と印刷ユニット１３０との位置関係を示す概略平面図と概略断面図を示している。
　図１（ａ）及び（ｂ）、図２（ａ）及び（ｂ）に示すように、本実施形態に係る製造装置１００は、例えばＴＦＴ基板などの基板（ガラス基板）１２０を載置するステージ１０１と、オフセット印刷法を用いて基板１２０にパターン（例えば、絶縁層パターン、導電層パターンなど）を形成するための印刷ユニット１３０とを備えている。
　基板１２０上には、印刷ユニット１３０の印刷方向Ａ１に、後述で詳述するアライメントマークが設けられている。ステージ１０１の内部には、基板１２０のアライメントマーク（ＳＡ）を下方から読み取る撮像装置（カメラ）１１２が配置されている。カメラ１１２は、例えば、ＣＭＯＳカメラ、ＣＣＤカメラなどであり、カメラ１１２で撮像された画像データは、後述する制御部１９０に送信される。
　また、ステージ１０１には、基板１２０のアライメントマークに対応して印刷方向Ａ１にカメラ１１２が走行可能なカメラ走行部１１０が設けられている。カメラ走行部１１０は、例えば図２（ａ）および（ｂ）に示すように、ステージ１０１に形成された溝部（凹部）であり、その溝部１１０内にカメラ１１２が設けられ、その溝部１１０の内部を走行するように構成されている。すなわち、カメラ走行部１１０は、カメラの走行方向である印刷方向（Ａ１）に沿って溝部は延びており、本実施形態では、ステージ１０１の両縁部の長手方向に沿って形成されている。カメラ走行部（溝部）１１０の上面（上部開放部）には、透光性部材（ガラス部材、樹脂部材）を配置することができる。
　また、印刷ユニット１３０には、その上部にインクが供給されるインク供給口１３５と、インク供給口１３５からのインクが滴下されるグラビア版１６０と、該グラビア版１６０からのインクが転写されて基板１２０上に印刷を行うブランケットロール１７０とが設けられている。グラビア版１６０には、印刷パターン（アレイ基板におけるパターン）が形成されている。また、グラビア版１６０の近傍には、ブレード１８０が配置されている。ここで使用されるインクは、基板（アレイ基板）１２０のパターンを形成する材料（例えば、絶縁材料など）である。
　また、本実施形態の構成では、ブランケットロール１７０の表面には、基板１２０への印刷時に、基板１２０のアライメントマークと一致すべき位置にアライメントマーク（ＢＡ）が設けられている。そして、印刷ユニット１３０には、制御部１９０が設けられている。本実施形態の制御部１９０は、カメラ１１２によって読み取られたブランケットロール１７０のアライメントマーク（ＢＡ）と基板１２０のアライメントマーク（ＳＡ）とのデータ（撮像された画像データ）に基づいて、ブランケットロールのズレ量を算出するものである。さらに、制御部１９０は、そのズレ量に基づいて、ブランケットロール１７０の姿勢またはブランケットロール１７０の回転速度（または、グラビア版１６０の版回転速度）を制御することができる。制御部１９０は、例えば、半導体集積回路装置（例えば、ＭＰＵ）から構成されているが、それに限るものではない。
　なお、本実施形態の一例におけるブランケットロールの制御においては、ブランケットロール１７０のズレ量（すなわち、基板１２０のアライメントマーク（ＳＡ）を基準とした場合のブランケットロール１７０のアライメントマーク（ＢＡ）のズレ量）が許容範囲内に存在するか否かを判定し、次いで、当該許容範囲内に存在しない場合に、ブランケットロール１７０をズレ量に基づいて制御する。ここで、本実施形態の許容範囲、すなわち、アレイ基板１２０におけるパターン形成精度の許容範囲内は、アレイ基板１２０に要求されるアライメント精度を満たすことができる範囲内である。当該許容範囲は、典型的には、カラーフィルタ基板に要求されるアライメント精度を満たすことができる範囲よりも厳しいものであり、例えば、ズレ寸法で±５μｍ以下（または、ズレ角度で±２°）である。
　本実施形態の製造装置１００では、印刷ユニット１３０を支持する印刷ユニット支持部１４０が設けられている。また、ステージ１０１の長手方向（印刷方向Ａ１）に沿って印刷ユニット走行軸１５０が配置されており、印刷ユニット支持部１４０は、印刷ユニット走行軸１５０にセットされ、そして、印刷ユニット１３０は、印刷ユニット走行軸１５０に沿って基板１２０の上方を移動することができる。
　次に、図３及び図４を参照しながら、本実施形態の製造装置（オフセット印刷装置）１００を用いて、アレイ基板１２０を製造する方法について説明する。図３は、本実施形態に係るアレイ基板の製造方法を示すフローチャートである。また、図４（ａ）～（ｄ）は、本発明の一実施形態に係るアレイ基板の製造方法を示す工程断面図である。
　図３に示すように、ステップＳ２００で印刷を開始すると、ステップＳ２１０において、カメラ１１２が、印刷開始位置から（図４（ａ）の状態）ブランケットロール１７０の印刷方向Ａ１への走行と同時に走行しながら、ブランケットロール１７０のアライメントマークと、基板１２０のアライメントマークとを随時（リアルタイムで）読み取る（図４（ｂ）参照）。すなわち、印刷ユニット１３０のブランケットロール１７０の移動と同期して、カメラ１１２は移動して、ブランケットロール１７０のアライメントマークと、基板１２０のアライメントマークとの両方を撮像する。
　次に、ステップＳ２２０において、印刷ユニット１３０の制御部１９０によって、カメラ１１２で読み取られたブランケットロール１７０のアライメントマークと、基板１２０のアライメントマークとの撮像データから、ブランケットロール１７０のズレ量を算出し、次いで、後述で例示するような具体的な許容範囲内に存在するか否かを判定する。
　次に、ステップＳ２２０において「Ｎｏ」、つまり、ブランケットロール１７０のアライメントマークが許容範囲内に存在しない場合（例えば図４（ｂ）のようにブランケットロール１７０がズレた状態）には、ステップＳ２３０に進む。一方で、ステップＳ２２０において「Ｙｅｓ」、つまり、ブランケットロール１７０のアライメントマークが許容範囲内に存在する場合には、後述するステップＳ２５０に進む。
　ステップＳ２３０に進んだ場合には、印刷ユニット１３０の制御部１９０によって、読み取られた基板１２０のアライメントマークとブランケットロール１７０のアライメントマークとから、ブランケットロール１７０のアライメントを実行するためのズレ量を算出する。ステップＳ２１０またはＳ２２０において、ブランケットロール１７０のアライメントを実行するための具体的なズレ量が算出されている場合にはその数値を利用すればよい。なお、ステップＳ２１０またはＳ２２０において求められたズレ量が、許容範囲内か否かの判定に利用されるものであり、ブランケットロール１７０のアライメントを実行するための正確かつ具体的なズレ量が算出されていない場合には、ステップＳ２３０において当該ズレ量を算出する工程を実行する。
　次に、ステップＳ２４０において、印刷ユニット１３０の制御部１９０によって算出されたズレ量に基づいて、ブランケットロール１７０のアライメントを行う。すると、例えば図４（ｃ）のように、ブランケットロール１７０のズレが解消された状態となる。
　次に、ステップＳ２５０において、印刷が完了している場合（図４（ｄ）の状態）には、ステップＳ２６０に進み、カメラ１１２が印刷開始位置まで戻り（図４（ａ）の状態）、印刷を終了するか、または、次の印刷動作へ移る。一方、印刷がまだ完了していない場合には、ステップＳ２２０に戻り、上述のステップを継続させる。
　このように、本実施形態に係る製造装置１００を用いたアレイ基板の製造方法によると、ブランケットロール１７０の印刷方向Ａ１における走行と同時に走行するカメラ１１２により、ブランケットロール１７０のアライメントマークと基板１２０のアライメントマークとを随時（リアルタイムで）読み取ることができる。このため、ブランケットロール１７０の姿勢制御や、ブランケットロール１７０の回転速度制御（または、グラビア版１６０の版回転速度制御）を随時（リアルタイムで）行うことができる。その結果、従来においてはオフセット印刷法を用いては高精度を出すことが難しくて製造が困難であったアレイ基板１２０の製造を実行することができる。
　以下に、本実施形態に係る液晶表示用基板の製造装置を用いたアレイ基板の製造方法を用いて、ブランケットロール１７０の姿勢制御、回転速度制御を行う方法について、第１実施形態から第５実施形態をあげてより詳細に説明する。
（第１実施形態）
　図５は、第１実施形態に係るアレイ基板の製造方法を示すフローチャートである。また、図６（ａ）は、第１実施形態に係る製造装置１００における基板１２０のアライメントマーク（ＳＡ１）とブランケットロール１７０のアライメントマーク（ＢＡ１）を示す概略平面図である。図６（ｂ）および（ｃ）は、第１実施形態に係るアレイ基板１２０の製造方法におけるズレ量を説明するための基板１２０のアライメントマーク（ＳＡ１）とブランケットロール１７０のアライメントマーク（ＢＡ１）の概略図である。
　本実施形態では、ブランケットロール１７０のアライメントマーク（ＢＡ１）は、ブランケットロール１７０の印刷方向であるｘ方向の位置と、印刷方向に垂直に交わる方向であるｙ方向の位置とを測定可能なブランケットロールアライメントマーク（ＢＡ１）である。具体的には、ブランケットロール１７０のアライメントマーク（ＢＡ１）は、ｘ、ｙ方向に延びた「十字マーク」である。一方、基板１２０のアライメントマーク（ＳＡ１）は、ブランケットアライメントマーク（ＢＡ１）に対する基準となる基板アライメントマーク（ＳＡ１）である。具体的には、基板１２０のアライメントマーク（ＳＡ１）は、ｘ、ｙ方向に頂点が位置する「四角形」（菱形、矩形または正方形）である。なお、図示したブランケットロール１７０のアライメントマーク（ＢＡ１）、および、基板１２０のアライメントマーク（ＳＡ１）は、入れ換えても構わない。または、他のアライメントマークを採用しても構わない。
　図５に示すようにステップＳ２２０ａにおいては、上述した図３のステップＳ２１０に続いて、両者のアライメントの位置関係が許容範囲内にあるかどうかを判定する。すなわち、印刷ユニット１３０の制御部１９０によって、カメラ１１２にて読み取られたブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１（第１のブランケットロールアライメントマーク）の位置が、読み取られた基板１２０のアライメントマークＳＡ１（第１の基板アライメントマーク）を基準にして、許容範囲（例えば、±５μｍ）内に存在するか否かを判定する。なお、当許容範囲は、基板１２０のアライメントマークＳＡ１を基準として±５μｍの範囲であることが好ましいが、この範囲は例示あり、適宜好適なものを採用することができる。
　ここで、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１および基板１２０のアライメントマークＳＡ１は、図６（ａ）に示すように設けられている。また、図６（ｂ）は、読み取られたブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１と基板１２０のアライメントマークＳＡ１とが一致している場合の例を示している。一方、図６（ｃ）は、読み取られたブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１と基板１２０のアライメントマークＳＡ１とがズレている場合の例を示している。
　次に、ステップＳ２２０ａにおいて「Ｎｏ」、つまり、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１が許容範囲内に存在しない場合には、ステップＳ２３０ａに進む。一方で、ステップＳ２２０ａにおいて「Ｙｅｓ」、つまり、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１が許容範囲内に存在する場合には、上述した図３のステップＳ２５０に進む。
　ステップＳ２３０ａに進んだ場合には、印刷ユニット１３０の制御部１９０により、読み取られた基板１２０のアライメントマークＳＡ１とブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１とから、例えば図６（ｃ）に示すように、ｘ方向のズレ量Δｘとｙ方向のズレ量Δｙを算出する。上述したようにすでに当該ズレ量が算出されている場合にはその数値を使用する。
　次に、ステップＳ２４０ａにおいて、印刷ユニット１３０の制御部１９０により、算出されたズレ量Δｘ、Δｙに基づいて、ブランケットロール１７０のｘ、ｙ方向のアライメントを行う。なお、その後は、上述したステップＳ２５０以降の工程を行う。
　このようにすると、ブランケットロール１７０のｘ、ｙ方向の姿勢制御が可能になり、オフセット印刷法を用いて基板１２０を高精度に製造することができる。
　なお、本実施形態では、図６（ａ）に示すように、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１は、ブランケットロール１７０の長さ方向における両端部にそれぞれ設けられている。また、基板１２０のアライメントマークＳＡ１のそれぞれは、基板１２０上に、ブランケットロール１７０の移動にあわせてブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１のそれぞれと一致すべき位置に設けられている。このため、ステップＳ２２０ａでは、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１のそれぞれが、許容範囲内に存在するか否かを判定する。そして、ステップＳ２３０ａは、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１のそれぞれが許容範囲内に存在しないと判定される場合には、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１のそれぞれと基板１２０のアライメントマークＳＡ１のそれぞれとから、ブランケットロール１７０のそれぞれのズレ量を算出する。さらに、ステップＳ２４０ａでは、ブランケットロール１７０のそれぞれのズレ量のうち大きい方のズレ量に基づいて、ブランケットロール１７０の両端部のうち大きい方のズレ量に対応する端部を、ｘ、ｙ方向にアライメントすることができる。
（第２実施形態）
　図７は、本発明の第２実施形態に係るアレイ基板の製造方法を示すフローチャートである。また、図８（ａ）は、第２実施形態に係る製造装置１００における基板のアライメントマーク（ＳＡ２）とブランケットロールのアライメントマーク（ＢＡ２）を示す概略平面図である。図８（ｂ）は、第２実施形態に係る製造方法におけるズレ量を説明するための基板のアライメントマーク（ＳＡ２）とブランケットロールのアライメントマーク（ＢＡ２）の概略図である。
　図７に示すようにステップＳ２２０ｂにおいては、上述した図３のステップＳ２１０に続いて、両者のアライメントの位置関係が許容範囲内にあるかどうかを判定する。すなわち、印刷ユニット１３０の制御部１９０によって、カメラ１１２にて読み取られたブランケットロール１７０のアライメントマーク（第２のブランケットロールアライメントマーク）ＢＡ２の位置が、読み取られた基板１２０のアライメントマーク（第２の基板アライメントマーク）ＳＡ２を基準にして、許容範囲（例えば、±２°）内に存在するか否かを判定する。なお、当許容範囲は、基板１２０のアライメントマークＳＡ２を基準として±２°の範囲であることが好ましいが、この範囲は例示あり、適宜好適なものを採用することができる。
　ここで、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ２および基板１２０のアライメントマークＳＡ２は、図８（ａ）に示すように設けられている。本実施形態では、アライメントマークＢＡ２およびＳＡ２は、線分状に形成されており、具体的には、点線状（破線状）で形成されている。なお、少なくとも一方を連続した直線として、ズレを検出できるようにしても構わない。図８（ｂ）は、読み取られたブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ２が、印刷方向Ａ１に対応して基準線となる基板１２０のアライメントマークＳＡ２と一致せず、ズレている場合の例を示している。
　次に、ステップＳ２２０ｂにおいて「Ｎｏ」、つまり、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ２が許容範囲内に存在しない場合には、ステップＳ２３０ｂに進む。一方で、ステップＳ２２０ｂにおいて「Ｙｅｓ」、つまり、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ２が許容範囲内に存在する場合には、上述した図３のステップＳ２５０に進む。
　ステップＳ２３０ｂに進んだ場合には、印刷ユニット１３０の制御部１９０によって、読み取られた基板１２０のアライメントマークＳＡ２とブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ２とから、例えば図８（ｂ）に示すように、θ方向のズレ量Δθを算出する。上述したようにすでに当該ズレ量が算出されている場合にはその数値を使用する。
　次に、ステップＳ２４０ｂにおいて、印刷ユニット１３０の制御部１９０によって、算出されたズレ量Δθに基づいて、ブランケットロール１７０のθ方向のアライメントを行う。なお、その後は、上述したステップＳ２５０以降の工程を行う。
　このようにすると、ブランケットロール１７０のθ方向の姿勢制御が可能になり、オフセット印刷法を用いて基板１２０を高精度に製造することができる。
　なお、本実施形態では、図８（ａ）に示すように、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ２は、ブランケットロール１７０の長さ方向における両端部にそれぞれ設けられており、基板１２０のアライメントマークＳＡ２のそれぞれは、基板１２０上に、ブランケットロール１７０の移動にあわせてブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ２のそれぞれと一致すべき位置に設けられている。
　このため、ステップＳ２２０ｂは、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ２のそれぞれが、許容範囲内に存在するか否かを判定する。そして、ステップＳ２３０ｂは、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ２のそれぞれが許容範囲内に存在しないと判定される場合には、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ２のそれぞれと基板１２０のアライメントマークＳＡ２のそれぞれとから、ブランケットロール１７０のそれぞれのズレ量を算出する。さらに、ステップＳ２４０ｂでは、ブランケットロール１７０のそれぞれのズレ量のうち大きい方のズレ量に基づいて、ブランケットロール１７０の両端部のうち大きい方のズレ量に対応する端部を、θ方向にアライメントすることができる。
（第３実施形態）
　図９は、本発明の第３実施形態に係るアレイ基板の製造方法を示すフローチャートである。また、図１０（ａ）は、第３実施形態に係る製造装置１００における基板のアライメントマーク（ＳＡ１、ＳＡ２）とブランケットロールのアライメントマーク（ＢＡ１、ＢＡ２）を示す概略平面図である。図１０（ｂ）から（ｄ）は、第３実施形態に係るアレイ基板の製造方法におけるズレ量を補正する流れを説明するための概略図である。
　図９に示すようにステップＳ２２０ｃにおいては、上述した図３のステップＳ２１０に続いて、当該アライメントの位置関係が許容範囲内にあるかどうかを判定する。すなわち、印刷ユニット１３０の制御部１９０によって、カメラ１１２で読み取られたブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１、ＢＡ２の位置が、読み取られた基板１２０のアライメントマークＳＡ１、ＳＡ２を基準にして、許容範囲（例えば、±５μｍかつ±２°）内に存在するか否かを判定する。なお、当許容範囲の好ましい値は、第１および第２実施形態と同様である。また、ここで、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１、ＢＡ２および基板１２０のアライメントマークＳＡ１、ＳＡ２については、それぞれ、上述の第１実施形態および第２実施形態にて説明した通りである。
　次に、ステップＳ２２０ｃにおいて「Ｎｏ」、つまり、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１およびＢＡ２が許容範囲内に存在しない場合には、ステップＳ２３０ｃに進む。一方で、ステップＳ２２０ｃにおいて「Ｙｅｓ」、つまり、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１およびＢＡ２の双方が許容範囲内に存在する場合には、上述した図３のステップＳ２５０に進む。
　また、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１のみが許容範囲内に存在しない場合には、上述したステップ２３０ａに進み、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ２のみが許容範囲内に存在しない場合には、上述したステップ２３０ｂに進み、上述した工程を行う。
　ステップＳ２３０ｃに進んだ場合には、印刷ユニット１３０の制御部１９０によって、読み取られた基板１２０のアライメントマークＳＡ２とブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ２とから、第２実施形態で説明したように、θ方向のズレ量Δθを算出する。
　次に、ステップＳ２４０ｃにおいて、印刷ユニット１３０の制御部１９０によって、算出されたズレ量Δθに基づいて、ブランケットロール１７０のθ方向のアライメントを行う（図１０（ｂ）参照）。
　このようにしてブランケットロール１７０のθ方向のアライメントを行った後、ステップＳ２３０ｄに進み、印刷ユニット１３０の制御部１９０により、読み取られた基板１２０のアライメントマークＳＡ１とブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１とから、第１実施形態で説明したように、ｘ、ｙ方向のズレ量Δｘ、Δｙを算出する。
　次に、ステップＳ２４０ｄにおいて、印刷ユニット１３０の制御部１９０により、算出されたズレ量Δｘ、Δｙに基づいて、ブランケットロール１７０のｘ、ｙ方向のアライメントを行う（図１０（ｂ）参照）。なお、その後は、上述したステップＳ２５０以降の工程を行うか、または、後述の第５実施形態の図１４におけるステップＳ２４５の工程へと続ける。
　このようにして、ブランケットロール１７０のｘ、ｙ方向およびθ方向の姿勢制御を行うことが可能であるため、オフセット印刷法を用いて基板１２０を高精度に製造することができる。
　なお、本実施形態では、図１０（ａ）に示すように、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１、ＢＡ２は、ブランケットロール１７０の長さ方向における両端部にそれぞれ設けられており、基板１２０のアライメントマークＳＡ１、ＳＡ２のそれぞれは、基板１２０上に、ブランケットロール１７０の移動にあわせてブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１、ＢＡ２のそれぞれと一致すべき位置に設けられている。
　このため、ステップＳ２２０ｃは、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１、ＢＡ２のそれぞれが、許容範囲内に存在するか否かを判定する。そして、ステップＳ２３０ｃは、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１、ＢＡ２のそれぞれが許容範囲内に存在しないと判定される場合には、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１、ＢＡ２のそれぞれと基板１２０のアライメントマークＳＡ２のそれぞれとから、ブランケットロール１７０のそれぞれのズレ量を算出する。さらに、算出されたズレ量に基づいてブランケットロール１７０をアライメントする場合には、ブランケットロール１７０のそれぞれのズレ量のうち大きい方のズレ量に基づいて、ブランケットロール１７０の両端部のうち大きい方のズレ量に対応する端部を、ｘ、ｙ方向およびθ方向にアライメントすることができる。
（第４実施形態）
　図１１は、本発明の第４実施形態に係るアレイ基板の製造方法を示すフローチャートである。図１２（ａ）は、第４実施形態に係る製造装置１００における基板のアライメントマーク（ＳＡ１）とブランケットロールのアライメントマーク（ＢＡ１）を示す概略平面図である。図１２（ｂ）は、第４実施形態に係る製造方法におけるズレ量を説明するための基板のアライメントマーク（ＳＡ１）とブランケットロールのアライメントマーク（ＢＡ１）の概略図である。また、図１３（ａ）から（ｅ）は、第４実施形態におけるブランケットロール１７０の膨潤によるズレ量を説明するための概略図である。
　図１１に示すように、上述した図３のステップＳ２１０に続いて、両者のアライメントの位置関係が許容範囲内にあるかどうかを判定する。すなわち、ステップＳ２２０ｅにおいて、印刷ユニット１３０の制御部１９０によって、カメラ１１２で読み取られたブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１の一定間隔が、読み取られた基板１２０のアライメントマークＳＡ１の一定間隔を基準にして、許容範囲（±５μｍ）内に存在するか否かを判定する。なお、当許容範囲は、基板１２０のアライメントマークＳＡ１を基準として±５μｍの範囲であることが好ましい。
　ここで、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１および基板１２０のアライメントマークＳＡ１は、図１２（ａ）に示すように設けられている。また、図１２（ｂ）に示すように、読み取られたブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１の一定間隔Ｄと基板１２０のアライメントマークＳＡ１の一定間隔ｄとのズレ量Δｄは、例えば（Ｄ－ｄ）で表される。
　次に、ステップＳ２２０ｅにおいて「Ｎｏ」、つまり、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１の一定間隔Ｄが許容範囲内に存在しない場合には、ステップＳ２３０ｅに進む。一方で、ステップＳ２２０ｅにおいて「Ｙｅｓ」、つまり、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１の一定間隔Ｄが許容範囲内に存在する場合には、上述した図３のステップＳ２５０に進む。
　ステップＳ２３０ｅに進んだ場合には、印刷ユニット１３０の制御部１９０により、読み取られた基板１２０のアライメントマークＳＡ１とブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１とから、上述の図１２（ｂ）に示すように、ブランケットロール１７０の一定間隔Ｄのズレ量Δｄを算出する。なお、ズレ量Δｄが、ステップＳ２１０またはＳ２２０ｅにおいて算出されている場合にはその数値を使用する。
　次に、ステップＳ２４０ｅにおいて、印刷ユニット１３０の制御部１９０により、算出されたズレ量Δｄに基づいて、ブランケットロール１７０の回転速度ｖ（グラビア版１６０の版回転速度によってブランケットロール１７０の回転速度ｖが制御される場合には、グラビア版１６０の版回転速度）を変更する。
　具体的には、図１３（ａ）から（ｅ）に示すように、ブランケットロール１７０の膨潤のない状態での半径ｒと、ブランケットロール１７０の膨潤状態での半径Ｒとから、円周角がθであるとした場合に、（θ／３６０）・２π（Ｒ－ｒ）の値が、上記算出されたズレ量Δｄと等しくなる。すなわち、図１３（ａ）においてブランケットロール１７０の膨潤のない状態での半径ｒが表され、一方、図１３（ｃ）においてブランケットロール１７０の膨潤状態での半径Ｒが表されているので、図１３（ｂ）に示すように、ブランケットロール１７０が膨潤した半径Δｒは「Ｒ－ｒ」になる。そして、図１３（ｄ）および図１３（ｅ）に示すように、（θ／３６０）・２πｒと（θ／３６０）・２πＲとの差分である（θ／３６０）・２πΔｒがズレ量Δｄに相当する。このため、本ステップ２４０ｅでは、（θ／３６０）・２πΔｒ／ｖ秒（但し、回転速度をｖとする。）の分、回転速度ｖを速くまたは遅くさせる。なお、その後は、上述したステップＳ２５０以降の工程を行う。
　このようにすると、基板１２０のアライメントマークＳＡ１の一定間隔ｄに対するブランケットロール１７０のアライメントマークの一定間隔Ｄのズレ量Δｄを算出して、ブランケットロール１７０の回転速度ｖの制御が可能になり、オフセット印刷法を用いて液晶表示装置用基板をより高精度に製造することができる。
　なお、本実施形態では、図１２（ａ）に示すように、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１は、ブランケットロール１７０の長さ方向における両端部にそれぞれ設けられており、基板１２０のアライメントマークＳＡ１は、基板１２０上に、ブランケットロール１７０の移動にあわせてブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１のそれぞれと一致すべき位置に設けられている。このため、ステップＳ２２０ｅでは、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１の一定間隔のそれぞれが、許容範囲内に存在するか否かを判定する。そして、ステップＳ２３０ｅは、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１の一定間隔のそれぞれが許容範囲内に存在しないと判定される場合には、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１の一定間隔のそれぞれと基板１２０のアライメントマークＳＡ１の一定間隔のそれぞれとから、ブランケットロール１７０の一定間隔のそれぞれのズレ量を算出する。さらに、ステップＳ２４０ｅでは、ブランケットロール１７０の一定間隔のそれぞれのズレ量のうち大きい方のズレ量に基づいて、ブランケットロール１７０の回転速度を調整することができる。
（第５実施形態）
　図１４は、本発明の第５実施形態に係るアレイ基板の製造方法を示すフローチャートである。図１５（ａ）は、本発明の一実施形態の第５実施形態に係る液晶表示装置用基板の製造装置における基板アライメントマークとブランケットロールアライメントマークを示す概略平面図である。図５（ｂ）及び（ｃ）は、第３実施形態に係るアレイ基板の製造方法におけるズレ量を補正する流れを説明するための概略図である。第５実施形態に係るアレイ基板の製造方法は、上述の第３実施形態に追加して行う方法について説明するものである。
　図１４に示すように、上述した図９のステップＳ２４０ｄに続いて、ステップＳ２４５において、ブランケットロール１７０のｘ、ｙ方向およびθ方向の姿勢制御に加えて、さらに精密なアライメントが要求されるか否かを検討する。そして、さらに精密なアライメントが要求される場合、つまり、ステップＳ２４５においてＹｅｓの場合には、ステップＳ２２０ｆに進む。一方で、さらに精密なアライメントが要求されない場合には、上述したステップＳ２５０に進む。
　そして、ステップＳ２４５において、さらに精密なアライメントが要求される場合には、ステップＳ２２０ｆにおいて、印刷ユニット１３０の制御部１９０により、カメラ１１２で読み取られたブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１の一定間隔が、読み取られた基板１２０のアライメントマークＳＡ１の一定間隔を基準にして、許容範囲（±４μｍ）内に存在するか否かを判定する。なお、当許容範囲とする場合には、ブランケットロール１７０の上述したｘ、ｙ方向の許容範囲は、例えば±７μｍなどと設定してもよい。ここでは、ブランケットロール１７０のｘ、ｙ方向およびθ方向の姿勢制御に加えて、さらに精密なアライメントが要求される場合の例であるため、ブランケットロール１７０の上述したｘ、ｙ方向の許容範囲よりも小さい許容範囲を設定することが望ましい。
　ここで、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１および基板１２０のアライメントマークＳＡ１は、上述の第３実施形態と同様に、例えば図１５（ａ）に示すように設けられている。また、上述の図１２（ｂ）に示すように、読み取られたブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１の一定間隔Ｄと基板１２０のアライメントマークＳＡ１の一定間隔ｄとのズレ量Δｄは、上述の第３実施形態と同様に、例えば（Ｄ－ｄ）で表される。
　次に、ステップＳ２２０ｆにおいて「Ｎｏ」、つまり、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１の一定間隔Ｄが許容範囲内に存在しない場合には、ステップＳ２３０ｆに進む。一方で、ステップＳ２２０ｆにおいて「Ｙｅｓ」、つまり、ブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１の一定間隔Ｄが許容範囲内に存在する場合には、上述した図３のステップＳ２５０に進む。
　ステップＳ２３０ｆに進んだ場合には、印刷ユニット１３０の制御部１９０により、読み取られた基板１２０のアライメントマークＳＡ１とブランケットロール１７０のアライメントマークＢＡ１とから、上述の図１２（ｂ）に示すように、ブランケットロール１７０の一定間隔Ｄのズレ量Δｄを算出する。なお、ズレ量Δｄがそれ以前のステップ（例えば、ステップＳ２１０など）で算出されている場合にはその数値を使用する。
　次に、ステップＳ２４０ｆにおいて、印刷ユニット１３０の制御部１９０により、算出されたズレ量Δｄに基づいて、ブランケットロール１７０の回転速度ｖを変更する。具体的には、上述の図１３を用いた説明と同様に、ブランケットロール１７０の膨潤のない状態での半径ｒと、ブランケットロール１７０の膨潤状態での半径Ｒとから、円周角がθであるとした場合に、２π（Ｒ－ｒ）／３６０の値が、上記算出されたズレ量Δｄと等しくなる。このため、本ステップ２４０ｆでは、２π（Ｒ－ｒ）／３６０ｖ（但し、回転速度をｖとする。）秒分、回転速度ｖを速くまたは遅くさせる。なお、その後は、上述したステップＳ２５０以降の工程を行う。
　このようにすると、ブランケットロール１７０のｘ、ｙ方向およびθ方向の姿勢制御に加えて、基板１２０のアライメントマークＳＡ１の一定間隔ｄに対するブランケットロール１７０のアライメントマークの一定間隔Ｄのズレ量Δｄを算出して、ブランケットロール１７０の回転速度ｖの制御が可能になる。このため、オフセット印刷法を用いてアレイ基板１２０をより高精度に製造することができる。
　なお、第４実施形態と同様に、算出されたズレ量に基づいてブランケットロール１７０をアライメントする場合には、ブランケットロール１７０のそれぞれのズレ量のうち大きい方のズレ量に基づいて、ブランケットロール１７０の一定間隔のそれぞれのズレ量のうち大きい方のズレ量に基づいて、ブランケットロール１７０の回転速度ｖを調整することができる。
　以上、本発明を好適な実施形態により説明してきたが、こうした記述は限定事項ではなく、勿論、種々の改変が可能である。例えば、カメラ１１２によってリアルタイムでアライメントを連続して撮像する場合に限らず、所定間隔（例えば、数秒間隔）で撮像して、その所定間隔の画像データに基づいて判定を行っても構わない。また、上述した実施形態の構成では、カメラ１１２を印刷ユニット１３０と同時に移動させるようにしたが、それに限らず、複数のカメラ１１２を固定して配置しておき（例えば、溝部１１０に等間隔で配置しておき）、それらの複数のカメラ１１２が撮像した画像データに基づいて判定を実行することも可能である。加えて、上述の実施形態では、印刷ユニット１３０をステージ１０１の上方で移動させる構造を用いたが、それに限らず、印刷ユニット１３０を固定して、ステージ１０１を移動するようにして印刷を実行し、かつ、リアルタイムでの補正を行うようにしてもよい。
　なお、上述の実施形態では、アレイ基板１２０として、主に、液晶パネルの一対の基板のうちのＴＦＴ基板を例として説明したが、アレイ基板は、液晶パネル用の基板に限らず他の用途の基板に適用しても構わない。加えて、本実施形態の製造装置１００だけを使用して、アレイ基板１２０を製造する場合に限らず、フォトリソグラフィ法と、本実施形態の製造方法の手法とを組み合わせて、アレイ基板１２０を製造することも可能である。すなわち、本実施形態の印刷法が適しているところは本実施形態の手法を使用し、フォトリソグラフィ法が適しているところはそれを使用することができる。加えて、本実施形態においては、より高精度のパターン形成が求められるアレイ基板１２０を製造したが、本実施形態の手法を用いて、アレイ基板よりも精度が要求されないカラーフィルタ基板を製造することも可能である。
　本発明によると、オフセット印刷法を用いて精度良くアレイ基板を製造する方法および製造装置を提供することができる。
１００ アレイ基板の製造装置（オフセット印刷装置）
１０１ ステージ１１０ 溝部（カメラ走行部）
１１２ 撮像装置（カメラ）
１２０ 基板（アレイ基板）
１３０ 印刷ユニット
１３５ インク供給口
１４０ 印刷ユニット支持部
１５０ 印刷ユニット走行軸
１６０ グラビア版
１７０ ブランケットロール
１８０ ブレード
１９０ 制御部
ＢＡ１、ＢＡ２       ブランケットアライメントマーク
ＳＡ１、ＳＡ２       基板アライメントマーク

Claims (17)

  1. 　オフセット印刷装置を用いてアレイ基板を製造する方法であって、
    　前記オフセット印刷装置は、
           印刷パターンが形成されたグラビア版と、
           前記グラビア版に付与されたインクが転写され、基板に前記インクを付与するブランケットロールと、
           前記基板が載置されるステージと
    　を備え、
    　前記ステージには、前記基板を撮像する撮像装置が設けられており、
    　前記撮像装置を用いて、前記ブランケットロールのアライメントマークと、前記基板のアライメントマークとを撮像する工程（ａ）と、
    　前記ブランケットロールのアライメントマークと、前記基板のアライメントマークとの撮像データから、前記ブランケットロールのズレ量を算出する工程（ｂ）と、
    　前記ブランケットロールのズレ量に基づいて、前記ブランケットロールをアライメントする工程（ｃ）と
    　を含む、アレイ基板の製造方法。
  2. 　前記工程（ａ）においては、前記ブランケットロールのアライメントマークが、前記基板に接している際における状態を撮像し、
    　前記工程（ｂ）においては、前記ズレ量が、前記アレイ基板におけるパターン形成精度の許容範囲内に存在するか否かを判定し、
    　前記工程（ｃ）は、前記ズレ量が前記許容範囲内に存在しないと判定される場合に実行される、請求項１に記載のアレイ基板の製造方法。
  3. 　前記撮像装置は、前記ブランケットロールの印刷方向における走行と同期して走行し、
    　前記ブランケットロールのアライメントマークと、前記基板のアライメントマークとの前記撮像は、走行している前記撮像装置によって行われる、請求項１または２に記載のアレイ基板の製造方法。
  4. 　前記ブランケットロールのアライメントマークは、
           前記ブランケットロールの印刷方向であるｘ方向の位置と前記印刷方向に垂直に交わる方向であるｙ方向の位置とを測定可能な第１のブランケットロールアライメントマークであり、かつ、
    　前記基板のアライメントマークは、前記第１のブランケットアライメントマークに対する基準となる第１の基板アライメントマークである、請求項１から３の何れか１つに記載のアレイ基板の製造方法。
  5. 　前記工程（ｂ）においては、前記第１のブランケットロールアライメントマークと前記第１の基板アライメントマークとから、前記ブランケットロールのｘ方向のズレ量Δｘとｙ方向のズレ量Δｙとを算出することを実行し、
    　前記工程（ｃ）においては、ｘ方向に前記ズレ量Δｘ、ｙ方向に前記ズレ量Δｙを補正するように、前記ブランケットロールをアライメントする、請求項３に記載のアレイ基板の製造方法。
  6. 　前記ズレ量Δｘおよび前記ズレ量Δｙの何れか一方が±５μｍの範囲を越えた場合に、前記工程（ｃ）が実行される、請求項５に記載のアレイ基板の製造方法。
  7. 　前記ブランケットロールのアライメントマークは、前記ブランケットロールの移動方向を示す線分状の第２のブランケットロールアライメントマークであり、かつ、
    　前記基板のアライメントマークは、前記第２のブランケットアライメントマークに対して基準となる前記印刷方向の基準線を構成する第２の基板アライメントマークである、請求項１から３の何れか１つ記載のアレイ基板の製造方法。
  8. 　前記工程（ｂ）においては、前記第２のブランケットロールアライメントマークと前記第２の基板アライメントマークとから、前記移動方向の前記基準線に対するθ方向のズレ量Δθを算出することを実行し、
    　前記工程（ｃ）においては、θ方向に前記ズレ量Δθを補正するように、前記ブランケットロールをアライメントする、請求項７に記載のアレイ基板の製造方法。
  9. 　前記ズレ量Δθが±２°の範囲を越えた場合に、前記工程（ｃ）が実行される、請求項８に記載のアレイ基板の製造方法。
  10. 　前記ブランケットロールのアライメントマークは、
           前記ブランケットロールの印刷方向であるｘ方向の位置と前記印刷方向に垂直に交わる方向であるｙ方向の位置を測定可能な第１のブランケットロールアライメントマークと、
           前記ブランケットロールの移動方向を示す線分状の第２のブランケットロールアライメントマークと
    　を含み、
    　前記基板のアライメントマークは、
           前記第１のブランケットアライメントマークに対して基準となる第１の基板アライメントマークと、
           前記第２のブランケットアライメントマークに対して基準となる前記印刷方向の基準線を構成する第２の基板アライメントマークとを含む、請求項１から３の何れか１つに記載のアレイ基板の製造方法。
  11. 　前記工程（ｃ）は、
           θ方向に前記ズレ量Δθを補正するように、前記ブランケットロールをアライメントし、次いで、
           ｘ方向に前記ズレ量Δｘ、ｙ方向に前記ズレ量Δｙを補正するように、前記ブランケットロールをアライメントする、請求項１０に記載のアレイ基板の製造方法。
  12. 　前記工程（ｂ）においては、前記第１のブランケットロールアライメントマークと前記第１の基板アライメントマークとから、前記第１のブランケットロールアライメントマークの間隔のズレ量Δｄを算出することを実行し、
    　前記工程（ｃ）においては、ｘ方向に前記ズレ量Δｘ、ｙ方向に前記ズレ量Δｙを補正するように前記ブランケットロールをアライメントした後に、
    　前記ズレ量Δｄを補正するように、前記ブランケットロールの回転速度を変更することを実行する、請求項１１に記載のアレイ基板の製造方法。
  13. 　前記ブランケットロールのアライメントマークは、前記ブランケットロールの長手方向における両端部にそれぞれ設けられており、
    　前記基板のアライメントマークは、前記基板上に、前記ブランケットロールの移動にあわせて前記ブランケットロールのアライメントマークと一致すべき位置に設けられている、請求項１から１２のいずれか１つに記載のアレイ基板の製造方法。
  14. 　請求項１から１３のいずれか１つに記載のアレイ基板の製造方法によって製造されたアレイ基板を用意する工程と、
    　前記アレイ基板に、カラーフィルタ基板が対向するように配置する工程と
    　を含む、液晶パネルの製造方法。
  15. 　アレイ基板を製造する装置であって、
    　基板が載置されるステージと、
    　前記ステージに載置された前記基板にパターンを印刷する印刷ユニットと
    　を備え、
    　前記印刷ユニットは、
           印刷パターンが形成されたグラビア版と、
           前記グラビア版に付与されたインクが転写され、前記基板に前記インクを付与するブランケットロールと
    　を備え、
    　前記ブランケットロールの表面には、前記ブランケットロールのアライメントマークが形成されており、
    　前記基板には、前記基板のアライメントマークが形成されており、
    　前記ステージには、前記ブランケットロールのアライメントマークおよび前記基板のアライメントマークを撮像する撮像装置が配置されており、
    　前記ステージは、前記印刷ユニットが移動する方向に沿って前記撮像装置が移動する溝部が形成されており、
    　さらに、前記ブランケットロールのアライメントマークと前記基板のアライメントマークとを読み取った前記撮像装置のデータに基づいて、前記ブランケットロールのズレ量を算出する制御部が設けられている、アレイ基板の製造装置。
  16. 　前記制御部は、前記ブランケットロールのズレ量に基づいて、前記ブランケットロールの位置を制御することを特徴とする、請求項１５に記載のアレイ基板の製造装置。
  17. 　オフセット印刷装置であって、
    　基板が載置されるステージと、
    　前記ステージに載置された前記基板にパターンを印刷する印刷ユニットと、
    　前記印刷ユニットの動作を制御する制御部と
    　を備え、
    　前記印刷ユニットは、
           印刷パターンが形成されたグラビア版と、
           前記グラビア版に付与されたインクが転写され、前記基板に前記インクを付与するブランケットロールと
    　を備え、
    　前記ブランケットロールの表面には、前記ブランケットロールのアライメントマークが形成されており、
    　前記基板には、前記基板のアライメントマークが形成されており、
    　前記ステージには、前記ブランケットロールのアライメントマークおよび前記基板のアライメントマークを撮像する撮像装置が配置されており、
    　前記ステージには、前記印刷ユニットが移動する方向に沿って前記撮像装置が移動する溝部が形成されており、
    　前記制御部は、前記ブランケットロールの位置および回転速度を制御するものであり、
    　前記制御部は、前記ブランケットロールのアライメントマークと前記基板のアライメントマークとを読み取った前記撮像装置のデータに基づいて、前記ブランケットロールのズレ量を算出するものであり、そして、
    　前記制御部は、前記ズレ量に基づいて前記ブランケットロールを制御することを特徴とする、オフセット印刷装置。
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