JPS607261B2 - 感光性エラストマ−組成物 - Google Patents
感光性エラストマ−組成物Info
- Publication number
- JPS607261B2 JPS607261B2 JP53121371A JP12137178A JPS607261B2 JP S607261 B2 JPS607261 B2 JP S607261B2 JP 53121371 A JP53121371 A JP 53121371A JP 12137178 A JP12137178 A JP 12137178A JP S607261 B2 JPS607261 B2 JP S607261B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polystyrene
- polybutadiene
- elastomer composition
- photosensitive
- photosensitive elastomer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/12—Nitrogen compound containing
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Graft Or Block Polymers (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、フレキン印刷版用として好適な感光性ヱラス
トマー組成物に関するものである。
トマー組成物に関するものである。
従来フレキソ印刷用のゴム版は、金属板を腐食して原版
を製造し、これからプラスチツクスなどの母型版を製造
し、さらにこの母型版にゴムを流し込んで加圧すること
によって作られてきた。しかし、この場合多くの工程を
要するため経費や時間がかかり過ぎる上に、得られたゴ
ム版自体精度が低いため使用に際しては裏削りを必要と
するなどの欠点を有していた。この欠点を解決するため
に、近年になって感光性ェラストマー組成物を用いて直
接的にフレキソ印刷版を製造する方法が提案されるよう
になった。
を製造し、これからプラスチツクスなどの母型版を製造
し、さらにこの母型版にゴムを流し込んで加圧すること
によって作られてきた。しかし、この場合多くの工程を
要するため経費や時間がかかり過ぎる上に、得られたゴ
ム版自体精度が低いため使用に際しては裏削りを必要と
するなどの欠点を有していた。この欠点を解決するため
に、近年になって感光性ェラストマー組成物を用いて直
接的にフレキソ印刷版を製造する方法が提案されるよう
になった。
この方法によれば裏削りは不要となり、さらに、従来の
ゴム版に比べて細かい図柄のものまで印刷することがで
きるようになった。しかし、これまでに提案されている
感光性ェラストマー組成物は必ずしも十分な感光速度を
有していないため、小さい点や線を形成させるのに長い
露光時間を必要とするという欠点があった。本発明者ら
は、このような従来のフレキソ印刷版用感光性ェラスト
マー組成物の欠点を克服するために研究を重ねた結果、
少なくとも１種の熱可塑性ヱラストマー、エチレン性不
飽和化合物及び光重合開始剤からなる感光性ェラストマ
ー組成物に、Ｎ置換マレィミド化合物を添加することに
よって感光速度を大幅に向上させることができ、その目
的を満足できることを見出し、この知見に基づき本発明
を完成するに至った。
ゴム版に比べて細かい図柄のものまで印刷することがで
きるようになった。しかし、これまでに提案されている
感光性ェラストマー組成物は必ずしも十分な感光速度を
有していないため、小さい点や線を形成させるのに長い
露光時間を必要とするという欠点があった。本発明者ら
は、このような従来のフレキソ印刷版用感光性ェラスト
マー組成物の欠点を克服するために研究を重ねた結果、
少なくとも１種の熱可塑性ヱラストマー、エチレン性不
飽和化合物及び光重合開始剤からなる感光性ェラストマ
ー組成物に、Ｎ置換マレィミド化合物を添加することに
よって感光速度を大幅に向上させることができ、その目
的を満足できることを見出し、この知見に基づき本発明
を完成するに至った。
すなわち本発明は，（ｌ）少なくとも１種の熱可塑性ヱ
ラストマー、仙エチレン性不飽和化合物（ｌｉｉ）光重
合開始剤及びＯＷＮ置換マレィミド化合物からなること
を特徴とする感光性ェラストマー組成物を提供するもの
である。
ラストマー、仙エチレン性不飽和化合物（ｌｉｉ）光重
合開始剤及びＯＷＮ置換マレィミド化合物からなること
を特徴とする感光性ェラストマー組成物を提供するもの
である。
本発明で用いられる熱可塑性ェラストマ−としては、一
般式（Ａ−Ｂ）ｎ−Ａ （Ｂ−Ａ）ｎ＋，一Ｂ （Ａ−Ｂ）肘， 又は、（Ａ−Ｂ）ｍＸ （ただしＩＳｎ≦１０、２Ｓｍミ７であり式中のＡは２
５ｑ０以上のガラス転移温度をもつ熱可塑性ヱラストマ
ー状重合体ブロック、Ｂは１０℃以下のガラス転移温度
をもつェラストマ−状ブロック、×はｍ個の結合手を持
つ多官能性残基を示す）で表わされる熱可塑性ェラスト
マー状ブロック共重合体、又は結晶性１・２−ポリブタ
ジヱン、ニトリル舎量３０％以上のアクリロニトリルブ
タジェン共重合体をあげることができる。
般式（Ａ−Ｂ）ｎ−Ａ （Ｂ−Ａ）ｎ＋，一Ｂ （Ａ−Ｂ）肘， 又は、（Ａ−Ｂ）ｍＸ （ただしＩＳｎ≦１０、２Ｓｍミ７であり式中のＡは２
５ｑ０以上のガラス転移温度をもつ熱可塑性ヱラストマ
ー状重合体ブロック、Ｂは１０℃以下のガラス転移温度
をもつェラストマ−状ブロック、×はｍ個の結合手を持
つ多官能性残基を示す）で表わされる熱可塑性ェラスト
マー状ブロック共重合体、又は結晶性１・２−ポリブタ
ジヱン、ニトリル舎量３０％以上のアクリロニトリルブ
タジェン共重合体をあげることができる。
上記の熱可塑性ブロック共重合体としては、Ａがポリス
チレン又はポリ（Ｑ−メチルスチレン）、Ｂはポリブタ
ジェン又はポリイソプレン、ＸがＳｉ又はＳｎのものを
例としてあげることができる。
チレン又はポリ（Ｑ−メチルスチレン）、Ｂはポリブタ
ジェン又はポリイソプレン、ＸがＳｉ又はＳｎのものを
例としてあげることができる。
さらにその具体例を示すと、（Ａ−Ｂ）ｎ−Ａの例とし
てはポリスチレンーポリプタジェン−ポリスチレン、ポ
リスチレンーポリイソプレンーポリスチレン、ポリ（Ｑ
−メチルスチレン）一ポリブタジエンーボリ（Ｑ−メチ
ルスチレン）、ポリスチレン、ポリブタジエンーポリス
チレンーポリブタジエンーポリスチレン、ポリスチレン
ーポリブタジエンーポリスチレンーポリブタジエンーポ
リスチレンーポリブタジエンーポリスチレンなど及びこ
れらの上記一般式の（Ａ−Ｂ）に相当する部分を１０ま
での範囲で繰返したものをあげることができる。（Ｂ−
Ａ）ｎ＋，一Ｂの例としてはポリブタジエンーポリスチ
レン、ポリブタジエンーポリスチレンーポリブタジエン
、ポリイソプレンーポリスチレン、ポリイソプレンーポ
リスチレンーポリィソプレンなど及び、これらの上記一
般式の（８一Ａ）に相当する部分が１１までの範囲で繰
返したものをあげることができる。また（Ａ−Ｂ）ｎ＋
，の例としてはポリスチレンーポリブタジェン−ポリス
チレンーポリブタジエン、ポリスチレンーポリイソプレ
ンーポリスチレンーポリイソプレン、ポリ（Ｑーメチル
スチレン）−ポリブタジエンーポリ（Ｑ−メチルスチレ
ン）−ポリブタジエン、ポリスチレン、ポリブタジエン
−ポリスチレンーポリブタジエンーポリスチレン、ポリ
ブタジェンなど及びこれらの、上記一般式の（Ａ−Ｂ）
に相当する部分を１１までの範囲で繰返したものをあげ
ることができる。また（Ａ−Ｂ）ｍ×の例としては（ポ
リスチレンーポリブタジエン）４Ｓｉ、（ポリスチレン
ーポリイソプレン）４Ｓｉ、（ポリスチレンーポリブタ
ジェン）２Ｓｎなどをあげることができる。この熱可塑
性ェラストマー状ブロック共重合体のうちで好ましいの
は、ゴム弾性及び入手しやすさという点から前記各一般
式でｎが１のもの例えばポリスチレンーポリイソプレン
ーポリスチレン、ポリスチレンーポリブタジエンーポリ
スチレン、ポリスチレンーポリプタジエンーポリスチレ
ンーポリブタジエン、（ポリスチレンーポリプタジェン
）４Ｓｉなどがあげられる。
てはポリスチレンーポリプタジェン−ポリスチレン、ポ
リスチレンーポリイソプレンーポリスチレン、ポリ（Ｑ
−メチルスチレン）一ポリブタジエンーボリ（Ｑ−メチ
ルスチレン）、ポリスチレン、ポリブタジエンーポリス
チレンーポリブタジエンーポリスチレン、ポリスチレン
ーポリブタジエンーポリスチレンーポリブタジエンーポ
リスチレンーポリブタジエンーポリスチレンなど及びこ
れらの上記一般式の（Ａ−Ｂ）に相当する部分を１０ま
での範囲で繰返したものをあげることができる。（Ｂ−
Ａ）ｎ＋，一Ｂの例としてはポリブタジエンーポリスチ
レン、ポリブタジエンーポリスチレンーポリブタジエン
、ポリイソプレンーポリスチレン、ポリイソプレンーポ
リスチレンーポリィソプレンなど及び、これらの上記一
般式の（８一Ａ）に相当する部分が１１までの範囲で繰
返したものをあげることができる。また（Ａ−Ｂ）ｎ＋
，の例としてはポリスチレンーポリブタジェン−ポリス
チレンーポリブタジエン、ポリスチレンーポリイソプレ
ンーポリスチレンーポリイソプレン、ポリ（Ｑーメチル
スチレン）−ポリブタジエンーポリ（Ｑ−メチルスチレ
ン）−ポリブタジエン、ポリスチレン、ポリブタジエン
−ポリスチレンーポリブタジエンーポリスチレン、ポリ
ブタジェンなど及びこれらの、上記一般式の（Ａ−Ｂ）
に相当する部分を１１までの範囲で繰返したものをあげ
ることができる。また（Ａ−Ｂ）ｍ×の例としては（ポ
リスチレンーポリブタジエン）４Ｓｉ、（ポリスチレン
ーポリイソプレン）４Ｓｉ、（ポリスチレンーポリブタ
ジェン）２Ｓｎなどをあげることができる。この熱可塑
性ェラストマー状ブロック共重合体のうちで好ましいの
は、ゴム弾性及び入手しやすさという点から前記各一般
式でｎが１のもの例えばポリスチレンーポリイソプレン
ーポリスチレン、ポリスチレンーポリブタジエンーポリ
スチレン、ポリスチレンーポリプタジエンーポリスチレ
ンーポリブタジエン、（ポリスチレンーポリプタジェン
）４Ｓｉなどがあげられる。
本発明に用いられる熱可塑性ェラストマー状ブロック共
重合体はェラストマー状重合体ブロックをはさむ熱可塑
性非ェラストマー状重合体ブロックが物理的架橋をする
ことによって末加硫の状態でもゴム弾性を有し、コール
ドフローをおこさないという特徴を有している。
重合体はェラストマー状重合体ブロックをはさむ熱可塑
性非ェラストマー状重合体ブロックが物理的架橋をする
ことによって末加硫の状態でもゴム弾性を有し、コール
ドフローをおこさないという特徴を有している。
しかし、熱可塑性ェラストマ−状重合体ブロックの分子
量が小さすぎると物理的勢薪喬の効果があらわれず、ま
た、大きすぎるとゴム弾性をそこなうことになる。また
ェラストマー状重合体ブロックの分子量も小さすぎると
ゴム弾性を出すことができないし、大きすぎると物理架
橋の効果を十分に出すことができなくなる。このような
点から、ポリスチレンを標準とするＧＰＣ測定によって
得られる数平均分子量は、熱可塑性非ェラストマー状重
合体ブロックにおいては２０００〜１０００００であり
、またエラストマー状重合体ブロックにおいては２５０
００なし、し１００００００であることが望ましい。こ
のような本発明で使用される熱可塑性ヱラストマー状ブ
ロック共重合体自体については例えば英国特許第１３６
６７６計号明細書に記載されている。
量が小さすぎると物理的勢薪喬の効果があらわれず、ま
た、大きすぎるとゴム弾性をそこなうことになる。また
ェラストマー状重合体ブロックの分子量も小さすぎると
ゴム弾性を出すことができないし、大きすぎると物理架
橋の効果を十分に出すことができなくなる。このような
点から、ポリスチレンを標準とするＧＰＣ測定によって
得られる数平均分子量は、熱可塑性非ェラストマー状重
合体ブロックにおいては２０００〜１０００００であり
、またエラストマー状重合体ブロックにおいては２５０
００なし、し１００００００であることが望ましい。こ
のような本発明で使用される熱可塑性ヱラストマー状ブ
ロック共重合体自体については例えば英国特許第１３６
６７６計号明細書に記載されている。
また、本発明に用いられる熱可塑性ェラストマー状ブロ
ック共重合体は米国特許第３２６５７６５号明細書など
に記載されている方法によって容易に得ることができる
。例えば〔ポリスチレンーポリイソプレン）ｎーポリス
チレンの場合、スチレンのベンゼン溶液に第二ブチルリ
チウムを添加してリビング重合によってポリスチレンア
ニオンラジカルを得、次に反応混合物にィソプレンを添
加して重合させてポリスチレンーポリィソフ。レンアニ
オンラジカルとし「再びスチレンを反応混合物に添加し
て反応させポリスチレンーポリィソプレン−ポリスチレ
ンアニオンラジカルを得ることができる。そして次々と
ィソプレンとスチレンを交互に添加反応させることによ
ってｎが任意の数である（ポリスチレンーポリイソプレ
ン）ｎ−ポリスチレンアニオンラジカルを得ることがで
きる。リビング重合の活性種であるアニオンラジカルは
、水、アルコールやフェノールのような水酸基を持つ化
合物を最後に加えることによって失活させることができ
る。（Ａ−Ｂ）ｎＡ以外の（Ｂ−Ａ）ｎ十，８や（Ａ−
８）ｎ＋，も同様にしてＡ及びＢに相当する単量体を適
当な順序で添加重合させて容易に得ることができる。（
Ａ−Ｂ）ｍ×の場合は上記したと同様の方法でＡ−Ｂア
ニオンラジカルとしたのちＳＩＣ１４やＳｎＣ１２を添
加することによって得られる。本発明で使用される上記
熱可塑性ェラストマー状ブロック共重合体や、結晶性１
・２−ポリブタジェンやニトリル含量３０％以上のアク
リロニトリルブタジェンコポリマーは、未加硫の状態で
ゴム弾性を有し、室温では流動性を示さず、したがって
コールドフローを起さないが、加熱することによって流
動性を示すようになるものを意味する。
ック共重合体は米国特許第３２６５７６５号明細書など
に記載されている方法によって容易に得ることができる
。例えば〔ポリスチレンーポリイソプレン）ｎーポリス
チレンの場合、スチレンのベンゼン溶液に第二ブチルリ
チウムを添加してリビング重合によってポリスチレンア
ニオンラジカルを得、次に反応混合物にィソプレンを添
加して重合させてポリスチレンーポリィソフ。レンアニ
オンラジカルとし「再びスチレンを反応混合物に添加し
て反応させポリスチレンーポリィソプレン−ポリスチレ
ンアニオンラジカルを得ることができる。そして次々と
ィソプレンとスチレンを交互に添加反応させることによ
ってｎが任意の数である（ポリスチレンーポリイソプレ
ン）ｎ−ポリスチレンアニオンラジカルを得ることがで
きる。リビング重合の活性種であるアニオンラジカルは
、水、アルコールやフェノールのような水酸基を持つ化
合物を最後に加えることによって失活させることができ
る。（Ａ−Ｂ）ｎＡ以外の（Ｂ−Ａ）ｎ十，８や（Ａ−
８）ｎ＋，も同様にしてＡ及びＢに相当する単量体を適
当な順序で添加重合させて容易に得ることができる。（
Ａ−Ｂ）ｍ×の場合は上記したと同様の方法でＡ−Ｂア
ニオンラジカルとしたのちＳＩＣ１４やＳｎＣ１２を添
加することによって得られる。本発明で使用される上記
熱可塑性ェラストマー状ブロック共重合体や、結晶性１
・２−ポリブタジェンやニトリル含量３０％以上のアク
リロニトリルブタジェンコポリマーは、未加硫の状態で
ゴム弾性を有し、室温では流動性を示さず、したがって
コールドフローを起さないが、加熱することによって流
動性を示すようになるものを意味する。
フレキソ印刷用感光性ェラストマー組成物層は、通常シ
ートが製造されてから印刷版に加工されるまでの間比較
的長期間貯蔵されるので、貯蔵中にコールドフロ−を起
すと厚さの精度が悪くなり実際に使用することが不可能
となる。したがって基本となる重合体は室温では流動性
を示さないことが必要であり、また、感光性ェラストマ
ー組成物への配合割合が、このコールドフローを起こさ
ないという性質を少なくとも維持できる程度であること
が必要である。この点から熱可塑性ェラストマーは少な
くとも３堰重量％以上含有されることが必要であり、目
標とする版の物性‘こよって異なるが、ゴム弾性の点や
成形のしやすさを考慮すると、６０〜９５重量％の範囲
で用いられるのが好ましい。ゴム弾性、製版特性の点か
ら結晶性１・２ーポリブタジェンやアクリロニトリルブ
タジェン共重合体よりも熱可塑性ェラストマー状ブロッ
ク共重合体の方が好ましい。
ートが製造されてから印刷版に加工されるまでの間比較
的長期間貯蔵されるので、貯蔵中にコールドフロ−を起
すと厚さの精度が悪くなり実際に使用することが不可能
となる。したがって基本となる重合体は室温では流動性
を示さないことが必要であり、また、感光性ェラストマ
ー組成物への配合割合が、このコールドフローを起こさ
ないという性質を少なくとも維持できる程度であること
が必要である。この点から熱可塑性ェラストマーは少な
くとも３堰重量％以上含有されることが必要であり、目
標とする版の物性‘こよって異なるが、ゴム弾性の点や
成形のしやすさを考慮すると、６０〜９５重量％の範囲
で用いられるのが好ましい。ゴム弾性、製版特性の点か
ら結晶性１・２ーポリブタジェンやアクリロニトリルブ
タジェン共重合体よりも熱可塑性ェラストマー状ブロッ
ク共重合体の方が好ましい。
ただし、炭化水素含有量の多いインキを用いるような特
殊な用途の場合にはアクリロニトリルブタジェン共重合
体が適している。本発明で感度を向上させる目的で加え
るＮ置換マレィミド化合物としては、炭素原子数１〜２
２の道鎖枝分れもしくは環状のアルキル基、炭素原子数
１〜６の直鎖もしくは枝分れ状ァルキル基、又はハロゲ
ン原子で核置換したもしくは非置換のフェニル基もしく
はナフチル基がある。
殊な用途の場合にはアクリロニトリルブタジェン共重合
体が適している。本発明で感度を向上させる目的で加え
るＮ置換マレィミド化合物としては、炭素原子数１〜２
２の道鎖枝分れもしくは環状のアルキル基、炭素原子数
１〜６の直鎖もしくは枝分れ状ァルキル基、又はハロゲ
ン原子で核置換したもしくは非置換のフェニル基もしく
はナフチル基がある。
また炭素原子数１〜６のアルキル基にフェニル基が置換
した形のァラルキル基などでＮ置換されたマレィミド、
又は炭素原子数１〜１２のアルキレン基、フェニレン基
、ビフェニレン基、１・６ーヘキサメチレンビフヱニレ
ン基、メチレンビフェニレン基、２・２−ジフェニレン
プロパン基などの二価の炭化水素残基に２つのマレィミ
ド基がＮの位置で結合した形のマレィミド化合物などを
あげることができる。この具体例としてはＮーメチルマ
レイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎープロピルマレイ
ミド、Ｎーブチルマレイミド、Ｎ−ベンチルマレイミド
、Ｎ−ｎ−へキシルマレイミド、Ｎーシクロヘキシルマ
レイミド、Ｎ一ｎーオクチルマレイミド、Ｎ一２−エチ
ルヘキシルマレイミド、Ｎ−ｎーデシルマレイミド、Ｎ
ーラウリルマレイミド、Ｎ一ステアリルマレイミド「Ｎ
一べへニルマレイミド、Ｎ−フエニルマレイミド「Ｎー
クロルフヱニルマレイミドもＮートリルマレイミド、Ｎ
ーキシリルマレイミド「Ｎーベンジルマレイミド、Ｎ一
（６−フエニルヘキシル）マレイミド、〆チレンピスマ
レイミド「エチレンビスマレイミド、トリメチレンビス
マレイミド、ヘキサメチレンビスマレイミド、デカメチ
レンビスマレイミド、ドテＪカメチレンビスマレイミド
「 フエニレンビスマレイミド「２８２ージフエニレン
プロパンビスマレイミド、ジフエニレンメタンビスマレ
イミドなどをあげることができるが、これらに限定され
るものではない。これらのＮ置換マレィミド化合物の中
では入手のしやすさ及び価格の′点でＮーアルキルマレ
イミド「Ｎーフエニルマレイミド「Ｎーベンジルマレィ
ミドが好ましい。
した形のァラルキル基などでＮ置換されたマレィミド、
又は炭素原子数１〜１２のアルキレン基、フェニレン基
、ビフェニレン基、１・６ーヘキサメチレンビフヱニレ
ン基、メチレンビフェニレン基、２・２−ジフェニレン
プロパン基などの二価の炭化水素残基に２つのマレィミ
ド基がＮの位置で結合した形のマレィミド化合物などを
あげることができる。この具体例としてはＮーメチルマ
レイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎープロピルマレイ
ミド、Ｎーブチルマレイミド、Ｎ−ベンチルマレイミド
、Ｎ−ｎ−へキシルマレイミド、Ｎーシクロヘキシルマ
レイミド、Ｎ一ｎーオクチルマレイミド、Ｎ一２−エチ
ルヘキシルマレイミド、Ｎ−ｎーデシルマレイミド、Ｎ
ーラウリルマレイミド、Ｎ一ステアリルマレイミド「Ｎ
一べへニルマレイミド、Ｎ−フエニルマレイミド「Ｎー
クロルフヱニルマレイミドもＮートリルマレイミド、Ｎ
ーキシリルマレイミド「Ｎーベンジルマレイミド、Ｎ一
（６−フエニルヘキシル）マレイミド、〆チレンピスマ
レイミド「エチレンビスマレイミド、トリメチレンビス
マレイミド、ヘキサメチレンビスマレイミド、デカメチ
レンビスマレイミド、ドテＪカメチレンビスマレイミド
「 フエニレンビスマレイミド「２８２ージフエニレン
プロパンビスマレイミド、ジフエニレンメタンビスマレ
イミドなどをあげることができるが、これらに限定され
るものではない。これらのＮ置換マレィミド化合物の中
では入手のしやすさ及び価格の′点でＮーアルキルマレ
イミド「Ｎーフエニルマレイミド「Ｎーベンジルマレィ
ミドが好ましい。
またアルキル基の炭素原子数の小さいＮ−アルキルマレ
ィミドは刺激臭を有しており作業性の点で好ましくない
。このためアルキル基の炭素原子数は６以上であること
が望ましい。また、アルキル基の炭素原子数が多すぎる
と入手が難しくなるので２沙〆下の炭素原子数であるこ
とが望ましい。なお非置換マレィミドは刺激臭が強く感
光性ヱラストマー組成物との相潟性も悪いので裏用上使
用することはできない。またＮ−フェニルマレィミドの
ようにアリール基を有するものはそれ自身の紫外線吸収
が大きくなり、中心部に到達する光の量が減少するので
３側やそれ以上の厚さの版を製版する場合は、Ｎーアル
キルマレィミドを加える場合に比べて製版上不利である
。このマレィミド化合物は００１〜１の重量％の範囲で
添加される。
ィミドは刺激臭を有しており作業性の点で好ましくない
。このためアルキル基の炭素原子数は６以上であること
が望ましい。また、アルキル基の炭素原子数が多すぎる
と入手が難しくなるので２沙〆下の炭素原子数であるこ
とが望ましい。なお非置換マレィミドは刺激臭が強く感
光性ヱラストマー組成物との相潟性も悪いので裏用上使
用することはできない。またＮ−フェニルマレィミドの
ようにアリール基を有するものはそれ自身の紫外線吸収
が大きくなり、中心部に到達する光の量が減少するので
３側やそれ以上の厚さの版を製版する場合は、Ｎーアル
キルマレィミドを加える場合に比べて製版上不利である
。このマレィミド化合物は００１〜１の重量％の範囲で
添加される。
添加量が少なすぎると十分な感度向上の効果が得られな
いし、あまり多くしても感光速度向上効果はご音まど増
大せず経済的に不利であるばかりでなくトマレィミド化
合物自身の紫外線吸収のために厚い版を製版する上で不
利になることがある。以上のことからＮ置換マレイミド
化合物の好ましい添加量は０．ｉ〜４重量％の範囲であ
る。本発明で使用されるＮ置換マレィミドの製法は例え
ば無水マレィン酸と相当する第一級アミンとから「オー
ガニツクジンセシス」第４１巻班ページに記載の方法な
どにより容易に合成することができる。
いし、あまり多くしても感光速度向上効果はご音まど増
大せず経済的に不利であるばかりでなくトマレィミド化
合物自身の紫外線吸収のために厚い版を製版する上で不
利になることがある。以上のことからＮ置換マレイミド
化合物の好ましい添加量は０．ｉ〜４重量％の範囲であ
る。本発明で使用されるＮ置換マレィミドの製法は例え
ば無水マレィン酸と相当する第一級アミンとから「オー
ガニツクジンセシス」第４１巻班ページに記載の方法な
どにより容易に合成することができる。
次に本発明で使用されるエチレン性不飽和化合物として
はアクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレィン酸な
どのェステル類「アクリルアミドやメタクリルアミドの
誘導体もアリルェステル、スチレン及びその誘導体など
をあげることができる。
はアクリル酸、メタクリル酸、フマル酸、マレィン酸な
どのェステル類「アクリルアミドやメタクリルアミドの
誘導体もアリルェステル、スチレン及びその誘導体など
をあげることができる。
その具体的な例としては、エチレングリコール、ジヱチ
レングリコール、プロピレングリコール「ジプロピレン
グリコール、ポリエチレングリコール「ポリプロピレン
グリコール「ブチレングリコールのジアクリレート及び
ジメタクリレートもあるいはトリメチロールプロパント
リアクリレート及びトリメタクリレート、ベンタェリト
リットテトラアクリレート及びテトラメタクリレートな
どや、Ｎ・Ｎ′−へキサメチレンビスアクリルアミド及
びメタクリルアミド「ジアセトンアクリルアミド及びメ
タクリルアミド、スチレン、ビニルトルエン、ジビニル
ベンゼン、ジアリルフタレート「トリアリルシアヌレー
ト、フマル酸ジェチルェステル「フマル酸ジブチルヱス
テル、フマル酸ジオクチルェステルもフマル酸ジステア
リルェステル、フマル酸プチルオクチルェステル・フマ
ル酸ジフェニルェステル、フマル酸ジベンジルェステル
トマレィン酸ジブチルェステル、マレィン酸ジオクチル
ェステル、フマル酸ビス（３ーフェニルプロピル）ェス
テル、フマル酸ジラウリルェステル、フマル酸ジべへニ
ルェステルなどをあげることができるが、これらに限定
されるものではない。これらは単独で用いてもよいし２
種以上を組みあわせて用いてもよい。これらのエチレン
性不飽和化合物の中で「加熱成型工程や未霧光シ−トの
保存中における安定性の点でフマレート及びマレートが
アクリル酸誘導体〜 メタクリル酸談導体などよりも優
れている。
レングリコール、プロピレングリコール「ジプロピレン
グリコール、ポリエチレングリコール「ポリプロピレン
グリコール「ブチレングリコールのジアクリレート及び
ジメタクリレートもあるいはトリメチロールプロパント
リアクリレート及びトリメタクリレート、ベンタェリト
リットテトラアクリレート及びテトラメタクリレートな
どや、Ｎ・Ｎ′−へキサメチレンビスアクリルアミド及
びメタクリルアミド「ジアセトンアクリルアミド及びメ
タクリルアミド、スチレン、ビニルトルエン、ジビニル
ベンゼン、ジアリルフタレート「トリアリルシアヌレー
ト、フマル酸ジェチルェステル「フマル酸ジブチルヱス
テル、フマル酸ジオクチルェステルもフマル酸ジステア
リルェステル、フマル酸プチルオクチルェステル・フマ
ル酸ジフェニルェステル、フマル酸ジベンジルェステル
トマレィン酸ジブチルェステル、マレィン酸ジオクチル
ェステル、フマル酸ビス（３ーフェニルプロピル）ェス
テル、フマル酸ジラウリルェステル、フマル酸ジべへニ
ルェステルなどをあげることができるが、これらに限定
されるものではない。これらは単独で用いてもよいし２
種以上を組みあわせて用いてもよい。これらのエチレン
性不飽和化合物の中で「加熱成型工程や未霧光シ−トの
保存中における安定性の点でフマレート及びマレートが
アクリル酸誘導体〜 メタクリル酸談導体などよりも優
れている。
また反応性の点でフマレートの方がマレートよりも優れ
ておりトフマレートを用いるのが好ましい。これらのエ
チレン性不飽和化合物は感光性ェラストマー組成物に反
応性を付与し、さらには硬化後の物性を改良する目的で
加えるものである。
ておりトフマレートを用いるのが好ましい。これらのエ
チレン性不飽和化合物は感光性ェラストマー組成物に反
応性を付与し、さらには硬化後の物性を改良する目的で
加えるものである。
これらのエチレン性不飽和化合物を加えないでマレィミ
ド譲導体のみを用いても反応性を付与することはできる
が、感光速度及び硬化後の物性バランスの点で劣る。本
発明で用いるエチレン性不飽和化合物の添加量は、その
種類や得ようとするフレキソ版の特性によって異なるが
、１重量％以上にする必要がある。
ド譲導体のみを用いても反応性を付与することはできる
が、感光速度及び硬化後の物性バランスの点で劣る。本
発明で用いるエチレン性不飽和化合物の添加量は、その
種類や得ようとするフレキソ版の特性によって異なるが
、１重量％以上にする必要がある。
これにより少ないと光照射によって溶剤不溶化が充分に
起らないため画像競付後の溶剤による洗出し工程で「
レリーフとなるべき個所の一部が洗い取られてしまい、
満足な版を得ることができない。反対に添加量が多くな
りすぎると、得られる版は硬くもろくなり、ゴム弾性が
少なくなるので、フレキソ印刷に使用することができな
くなることがある。好ましい添加量は５〜３の重量％で
ある。本発明の感光性ヱラストマー組成物に有効な‐重
合開始剤としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン「
ベンゾイン、ベンゾインメチルエー７ル、ベンゾインエ
チルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベン
ゾインイソブチルエーナル、Ｑ−メチロールベンゾイン
、Ｑーメチロールベンゾインメチルエーテル、Ｑーメト
キシベンゾインメチルエーテル、ベンゾインフエニルヱ
ーブル、Ｑ一ｔーブチルベンゾイン、２０２ージメトキ
シフエニルアセトフエノン、２・２ージエトキシフエニ
ルアセトフエノン、２ｏ２−ジエトキシアセトフエノン
、ベンジル、ビバロイン、アンスラキノン、ベンズアン
スラキノン「２−エチルアンスラキノン、２一クロルア
ンスラキノンなどを例としてあげることができる。
起らないため画像競付後の溶剤による洗出し工程で「
レリーフとなるべき個所の一部が洗い取られてしまい、
満足な版を得ることができない。反対に添加量が多くな
りすぎると、得られる版は硬くもろくなり、ゴム弾性が
少なくなるので、フレキソ印刷に使用することができな
くなることがある。好ましい添加量は５〜３の重量％で
ある。本発明の感光性ヱラストマー組成物に有効な‐重
合開始剤としては、ベンゾフェノン、ミヒラーケトン「
ベンゾイン、ベンゾインメチルエー７ル、ベンゾインエ
チルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベン
ゾインイソブチルエーナル、Ｑ−メチロールベンゾイン
、Ｑーメチロールベンゾインメチルエーテル、Ｑーメト
キシベンゾインメチルエーテル、ベンゾインフエニルヱ
ーブル、Ｑ一ｔーブチルベンゾイン、２０２ージメトキ
シフエニルアセトフエノン、２・２ージエトキシフエニ
ルアセトフエノン、２ｏ２−ジエトキシアセトフエノン
、ベンジル、ビバロイン、アンスラキノン、ベンズアン
スラキノン「２−エチルアンスラキノン、２一クロルア
ンスラキノンなどを例としてあげることができる。
このような光重合開始剤は重合有効量すなわち少なくと
も０．０１重量％以上添加される。一般には０．１〜２
重量％の範囲で添加されるのが好ましい。本発明の感光
性ェラストマー組成物は０．００１〜２重量％の熱重合
防止剤を含むことができる。
も０．０１重量％以上添加される。一般には０．１〜２
重量％の範囲で添加されるのが好ましい。本発明の感光
性ェラストマー組成物は０．００１〜２重量％の熱重合
防止剤を含むことができる。
この熱重合防止剤としては、例えば２・６−ジーｔーブ
チルーｐ−クレゾール、ｐーメトキシフヱノール、ベン
タエリスリトールテトラキス〔３−（３０５ージーｔ−
ブチルー４′ーヒドロキシ）フエニルプロピオネート〕
、ヒドロキノン、ｔ−ブチルカテコール、ｔ−ブチルヒ
ドロキシアニソール、４・４′ーブチリデンビス（３−
メチル一６一ｔ−ブチル）フェノールなどをあげること
ができる。また、本発明の感光性ェラストマー組成物は
所望により可塑剤を含むことができる。
チルーｐ−クレゾール、ｐーメトキシフヱノール、ベン
タエリスリトールテトラキス〔３−（３０５ージーｔ−
ブチルー４′ーヒドロキシ）フエニルプロピオネート〕
、ヒドロキノン、ｔ−ブチルカテコール、ｔ−ブチルヒ
ドロキシアニソール、４・４′ーブチリデンビス（３−
メチル一６一ｔ−ブチル）フェノールなどをあげること
ができる。また、本発明の感光性ェラストマー組成物は
所望により可塑剤を含むことができる。
この可塑剤は感光性ェラストマ−組成物の未露光部分の
除去を促進し、また、硬化部分の物性等を改良し、さら
に、感光性ェラストマー組成物層の製造、特に成型を助
成するもので、目標とする特性に応じて２〜４屯重量％
の範囲が添加される。このようなものとしては、ナフテ
ン油やパラフィン油のような炭化水素油、低分子量ポリ
スチレン（分子量３０００以下）、Ｑーメチルスチレン
ービニルトルェン共 −重合体、石油樹脂、水素添加さ
れたロジンのペンタェリスリトールェステル、ポリテル
ベン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリ（Ｑ
−メチルスチレン）、ポリアクリレート「液状１・２−
及び１１４−ポリブタジェン、液状アクリロニトリルブ
タジェンコポリマー、液状スチレンブタジェンコポリマ
ー、ステアリン酸、ポリベンタジエン、ポリウレタン、
エチレンプロピレンジエンゴムなどがあげられる。本発
明の感光性ェラストマー組成物は、その組成によっては
粘着性を生じるので、その上に重ねられる透明画像担体
との接触性を良くするため、及びその透明画像担体の再
使用を可能にするために、その表面にポリエチレン「ポ
リプロピレン、ポリエステル、ポリスチレンなどの薄い
フィルムのラミネート層を設けることができる。
除去を促進し、また、硬化部分の物性等を改良し、さら
に、感光性ェラストマー組成物層の製造、特に成型を助
成するもので、目標とする特性に応じて２〜４屯重量％
の範囲が添加される。このようなものとしては、ナフテ
ン油やパラフィン油のような炭化水素油、低分子量ポリ
スチレン（分子量３０００以下）、Ｑーメチルスチレン
ービニルトルェン共 −重合体、石油樹脂、水素添加さ
れたロジンのペンタェリスリトールェステル、ポリテル
ベン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリ（Ｑ
−メチルスチレン）、ポリアクリレート「液状１・２−
及び１１４−ポリブタジェン、液状アクリロニトリルブ
タジェンコポリマー、液状スチレンブタジェンコポリマ
ー、ステアリン酸、ポリベンタジエン、ポリウレタン、
エチレンプロピレンジエンゴムなどがあげられる。本発
明の感光性ェラストマー組成物は、その組成によっては
粘着性を生じるので、その上に重ねられる透明画像担体
との接触性を良くするため、及びその透明画像担体の再
使用を可能にするために、その表面にポリエチレン「ポ
リプロピレン、ポリエステル、ポリスチレンなどの薄い
フィルムのラミネート層を設けることができる。
このフィルムは、この上に重ねておいた透明画像担体を
通しての露光が終了してからはぎとられる。同様の目的
のためにフィルムのかわりに溶剤可溶性の薄いたわみ性
の層を設けてもよい。この場合は、透明画像担体を通じ
ての露光が終了してから未露光部を溶出する際にその層
も同時に溶解などにより除去される。本発明の感光性ェ
ラストマー組成物は種々の方法で調製することができる
。
通しての露光が終了してからはぎとられる。同様の目的
のためにフィルムのかわりに溶剤可溶性の薄いたわみ性
の層を設けてもよい。この場合は、透明画像担体を通じ
ての露光が終了してから未露光部を溶出する際にその層
も同時に溶解などにより除去される。本発明の感光性ェ
ラストマー組成物は種々の方法で調製することができる
。
これを、例えばクロロホルム、四塩化炭素、１・１・１
ートリクロルエタン、テトラクロルエチレン、トリクロ
ルエチレン、メチルエチルケトン、メチルイソプチルケ
トン、トルェン、テトラヒドロフランなどの適当な溶媒
に溶解させて混合し、型枠の中に流延して溶剤を蒸発さ
せ、そのまま板とすることもできるし、この感光性ェラ
ストマー組成物の板に加熱プレス処理をすれば精度のよ
い層が得られる。また、ニーダーあるいはロールミルで
溶剤を使わずに混合し、押出し、射出、プレス、カレン
ダーがけなどによって所望の厚さのシートに成形するこ
とができる。保護フィルムや支持体フィルムはシート成
形後ロールラミネートにより感光層に密着させることが
できる。
ートリクロルエタン、テトラクロルエチレン、トリクロ
ルエチレン、メチルエチルケトン、メチルイソプチルケ
トン、トルェン、テトラヒドロフランなどの適当な溶媒
に溶解させて混合し、型枠の中に流延して溶剤を蒸発さ
せ、そのまま板とすることもできるし、この感光性ェラ
ストマー組成物の板に加熱プレス処理をすれば精度のよ
い層が得られる。また、ニーダーあるいはロールミルで
溶剤を使わずに混合し、押出し、射出、プレス、カレン
ダーがけなどによって所望の厚さのシートに成形するこ
とができる。保護フィルムや支持体フィルムはシート成
形後ロールラミネートにより感光層に密着させることが
できる。
ラミネート後加熱プレスしていっそう精度の良い感光層
を得ることができる。薄いたわみ性の層、例えば結晶性
１１２ーポリプタジェンや可溶性ポリアミド、部分ケン
化ポリ酢酸ビニルなどの層を感光層の表面に設けようと
する場合には、これを適当な溶剤に溶かしてその溶液を
直接感光層表面にコーティングしても良いし、一度ポリ
エステル「ポリプロピレンなどのフィルムにコーティン
グし、その後これをフィルムごと感光層にラミネートし
て転写させてもよい。
を得ることができる。薄いたわみ性の層、例えば結晶性
１１２ーポリプタジェンや可溶性ポリアミド、部分ケン
化ポリ酢酸ビニルなどの層を感光層の表面に設けようと
する場合には、これを適当な溶剤に溶かしてその溶液を
直接感光層表面にコーティングしても良いし、一度ポリ
エステル「ポリプロピレンなどのフィルムにコーティン
グし、その後これをフィルムごと感光層にラミネートし
て転写させてもよい。
本発明の感光性ェラストマー組成物を溶剤不落化するの
に用いられる活性光線源としては、低圧水銀灯、高圧水
銀灯、紫外線用けし、光灯、カーボンアーク灯、キセノ
ンランプｔジルコニウムランプ、太陽光などがある。本
発明の感光性ェラストマー組成物に透明画像担体を通し
て光照射して画像を形成させたあと、未露光部を溶出す
るのに用いられる溶剤は、未露光部を良く溶剤し、露光
されてできた画像部にはほとんど影響を与えないもので
あることが必要で、例えば、１１１１１ートリクロルェ
タン、テトラクロルエチレン、トリクロルエチレン、テ
トラクロルェタン「 トルェンなどやこれらに６の重量
％以下のアルコール、例えばエタノール、イソプロパノ
ール、ｎーブタノールなどを混合させたものである。
に用いられる活性光線源としては、低圧水銀灯、高圧水
銀灯、紫外線用けし、光灯、カーボンアーク灯、キセノ
ンランプｔジルコニウムランプ、太陽光などがある。本
発明の感光性ェラストマー組成物に透明画像担体を通し
て光照射して画像を形成させたあと、未露光部を溶出す
るのに用いられる溶剤は、未露光部を良く溶剤し、露光
されてできた画像部にはほとんど影響を与えないもので
あることが必要で、例えば、１１１１１ートリクロルェ
タン、テトラクロルエチレン、トリクロルエチレン、テ
トラクロルェタン「 トルェンなどやこれらに６の重量
％以下のアルコール、例えばエタノール、イソプロパノ
ール、ｎーブタノールなどを混合させたものである。
未露光部の溶出はノズルからの贋霧によってまたはブラ
シによるブラッシングで行われる。本発明の感光性ェラ
ストマー組成物は感光性が高くフレキソ印刷用印刷版と
して優れた特性を有しているがこの他に、フオトレジス
ト用やスクリーン印刷のスクリーン用としても用いるこ
とができる。
シによるブラッシングで行われる。本発明の感光性ェラ
ストマー組成物は感光性が高くフレキソ印刷用印刷版と
して優れた特性を有しているがこの他に、フオトレジス
ト用やスクリーン印刷のスクリーン用としても用いるこ
とができる。
次に実施例により本発明を詳細に説明する。
実施例 １２そ容の３つ口フラスコ中に無水マレィン酸
１モルとジメチルホルムアミド３００夕をはり込みかき
まぜて溶解させた。次いでフラスコを冷水で冷却しなが
らラウリルアミン１．０２モルを３び分間かけて添加し
た。この際、ラウリルアミン添加と同時に反応が起り発
熱したので内温を５０℃前後に保つように注意しながら
添加した。ラゥリルアミン添加終了と同時に浴温を上げ
５０ｑ０とし、このままで１時間かくはんを行った。反
応終了後無水酢酸１・６モル、酢酸ニッケル０．０１６
モル、トリェチルアミン０．１６モルを加え９０〜９５
℃に加溢してさらに１．即時間かくはんした。その後反
応液を室温に冷却し、次いで内容物を氷水中に注いだ。
沈殿物が分離したのでろ集し、水洗及び中和を行なった
のち含水エタノールで再結晶を２回行うことによって融
点５６ｑｏラウリルマレィミド白色結晶を得た。米国特
許３２６５７６５号明細書に記された方法によって得た
ポリスチレンーポリィソブレンーポリスチレンブロツク
共重合体（スチレン含量１４％、ポリスチレンを標準と
するＧＰＣ測定による数平均分子量は２２５０００）４
ｋ９、フマル酸ジーｎーオクチルｌｋ９、液状ｌｄ２−
ポリブタジェン〔日本曹達製、ニツソーＰＢ、Ｂ２００
０（商品名）〕７００夕、２４２−ジメトキシフエニル
アセトフエノン１００夕、２８６ージーｔｅｎ−ブチル
ーｐ−クレゾール１０夕をニーダーで泥練した。
１モルとジメチルホルムアミド３００夕をはり込みかき
まぜて溶解させた。次いでフラスコを冷水で冷却しなが
らラウリルアミン１．０２モルを３び分間かけて添加し
た。この際、ラウリルアミン添加と同時に反応が起り発
熱したので内温を５０℃前後に保つように注意しながら
添加した。ラゥリルアミン添加終了と同時に浴温を上げ
５０ｑ０とし、このままで１時間かくはんを行った。反
応終了後無水酢酸１・６モル、酢酸ニッケル０．０１６
モル、トリェチルアミン０．１６モルを加え９０〜９５
℃に加溢してさらに１．即時間かくはんした。その後反
応液を室温に冷却し、次いで内容物を氷水中に注いだ。
沈殿物が分離したのでろ集し、水洗及び中和を行なった
のち含水エタノールで再結晶を２回行うことによって融
点５６ｑｏラウリルマレィミド白色結晶を得た。米国特
許３２６５７６５号明細書に記された方法によって得た
ポリスチレンーポリィソブレンーポリスチレンブロツク
共重合体（スチレン含量１４％、ポリスチレンを標準と
するＧＰＣ測定による数平均分子量は２２５０００）４
ｋ９、フマル酸ジーｎーオクチルｌｋ９、液状ｌｄ２−
ポリブタジェン〔日本曹達製、ニツソーＰＢ、Ｂ２００
０（商品名）〕７００夕、２４２−ジメトキシフエニル
アセトフエノン１００夕、２８６ージーｔｅｎ−ブチル
ーｐ−クレゾール１０夕をニーダーで泥練した。
混練物ｌｋ９を取りロールミルによって２０夕のラウリ
ルマレィミドを添加混練した。このようにして調製した
ラウリルマレィミドを加えた組成物と加えない組成物と
をそれぞれ１００ｒのポリエステルフィルムではさみ２
柳の厚さのスベーサーの内側に置き、１１０００でプレ
スして各々の感光性ェラストマー組成物のシートを得た
。次いでこのシートの感光性を測定した。まずこのシー
トを５肌×１５弧の大きさに切り取り、その上に６肌×
３地の黒ゴム板５枚をこの感光性ェラストマー組成物シ
ートの全面を覆うように並べた。これを紫外線蛍光灯を
用いた０．７０肌Ｗ′地の強度の光の下に置き、はじめ
に１枚目の黒ゴム板を取り除き、１分後に２枚目の黒ゴ
ム板を取り除いた。１分毎に次々と黒ゴム板を取り除き
、５枚目の黒ゴム板を取り除いてから１分後にこのシー
トを光源のもとから取り除いた。
ルマレィミドを添加混練した。このようにして調製した
ラウリルマレィミドを加えた組成物と加えない組成物と
をそれぞれ１００ｒのポリエステルフィルムではさみ２
柳の厚さのスベーサーの内側に置き、１１０００でプレ
スして各々の感光性ェラストマー組成物のシートを得た
。次いでこのシートの感光性を測定した。まずこのシー
トを５肌×１５弧の大きさに切り取り、その上に６肌×
３地の黒ゴム板５枚をこの感光性ェラストマー組成物シ
ートの全面を覆うように並べた。これを紫外線蛍光灯を
用いた０．７０肌Ｗ′地の強度の光の下に置き、はじめ
に１枚目の黒ゴム板を取り除き、１分後に２枚目の黒ゴ
ム板を取り除いた。１分毎に次々と黒ゴム板を取り除き
、５枚目の黒ゴム板を取り除いてから１分後にこのシー
トを光源のもとから取り除いた。
そして光を照射したのと同じ側のポリエステルフィルム
をはぎとり「１・１０１−トリクロルエタン／イソプロ
パノール（２／１）の混合液でブラシを用いて未硬化部
分の溶出を行い、６０℃で３０分間乾燥後室温に冷却し
た。このようにして硬化に要する露光時間を測定した。
この結果を次表に示す。第１表 実施例 ２ 米国特許第３２６５７７６５号明細書に記された方法に
よって得たポリスチレンーポリブタジヱンーポリスチレ
ンブロック共重合体（スチレン含量３０％、ポリスチレ
ンを標準とするＧＰＣ測定による数平均分子量は２２０
０００）３ｋ９、液状１・２ーポリブタジェン〔日本曹
達社製、ニッソ−ＰＢＢ３０００（商品名）〕ｌｋ９、
液状１・４ーポリブタジェン〔日本ゼオン社製ポィオィ
ル１３０（商品名）〕５００夕、ジラウリルフマレート
５００夕、ベンゾインイソプロピルエール１００夕、２
・６ージーにｒｔ−ブチルーｐークレゾール１０夕をニ
ーダーによって混練した。
をはぎとり「１・１０１−トリクロルエタン／イソプロ
パノール（２／１）の混合液でブラシを用いて未硬化部
分の溶出を行い、６０℃で３０分間乾燥後室温に冷却し
た。このようにして硬化に要する露光時間を測定した。
この結果を次表に示す。第１表 実施例 ２ 米国特許第３２６５７７６５号明細書に記された方法に
よって得たポリスチレンーポリブタジヱンーポリスチレ
ンブロック共重合体（スチレン含量３０％、ポリスチレ
ンを標準とするＧＰＣ測定による数平均分子量は２２０
０００）３ｋ９、液状１・２ーポリブタジェン〔日本曹
達社製、ニッソ−ＰＢＢ３０００（商品名）〕ｌｋ９、
液状１・４ーポリブタジェン〔日本ゼオン社製ポィオィ
ル１３０（商品名）〕５００夕、ジラウリルフマレート
５００夕、ベンゾインイソプロピルエール１００夕、２
・６ージーにｒｔ−ブチルーｐークレゾール１０夕をニ
ーダーによって混練した。
凝練物を５００タ毎に分けロールミルを用いて実施例１
と同様の方法で合成した、第３表に示す種々のマレィミ
ド化合物を加えて濠練した。これを１００仏のポリエス
テルフィルムではさみ、２肌の厚さのスベーサーの内側
に置き１１０ｏｏでプレスして感光性ェラストマー組成
物シートを得た。これらそれぞれのシートについて実施
例１と同じ方法で硬化に要する露光時間を測定した。結
果を第２表示す。第 ２ 表 実施例 ３ ジラウリルフマレートの代りに種々のエチレン性不飽和
化合物を加えた以外は実施例２と同様にして、ニーダー
混練しロールミルを用いてこの混練物の１部にマレィミ
ド化合物を加えて感光性ェラストマー組成物を得た。
と同様の方法で合成した、第３表に示す種々のマレィミ
ド化合物を加えて濠練した。これを１００仏のポリエス
テルフィルムではさみ、２肌の厚さのスベーサーの内側
に置き１１０ｏｏでプレスして感光性ェラストマー組成
物シートを得た。これらそれぞれのシートについて実施
例１と同じ方法で硬化に要する露光時間を測定した。結
果を第２表示す。第 ２ 表 実施例 ３ ジラウリルフマレートの代りに種々のエチレン性不飽和
化合物を加えた以外は実施例２と同様にして、ニーダー
混練しロールミルを用いてこの混練物の１部にマレィミ
ド化合物を加えて感光性ェラストマー組成物を得た。
これらを実施例１と同じ方法でシート化し、硬化に必要
な露光時間を測定した。結果を第３表に示す。第 ３
表 実施例 ４ 結晶性１１２−ポリブタジェン〔日本合成ゴム社製ＰＢ
８１０（商品名）〕２ｋ９、液状ポリブタジェン〔日本
石油化学社製Ｂ２０００（商品名）〕ｌｋｇ、ジーｎ−
オクチルフマレート２５０夕、ベンゾインイソブチルエ
ーテル３０夕、ｏーメトキシフエノール１．５夕とをニ
ーダーで混線した、そしてこれにロールミルでステアリ
ルマレィミドを加え実施例１と同じ方法でシート化した
。
な露光時間を測定した。結果を第３表に示す。第 ３
表 実施例 ４ 結晶性１１２−ポリブタジェン〔日本合成ゴム社製ＰＢ
８１０（商品名）〕２ｋ９、液状ポリブタジェン〔日本
石油化学社製Ｂ２０００（商品名）〕ｌｋｇ、ジーｎ−
オクチルフマレート２５０夕、ベンゾインイソブチルエ
ーテル３０夕、ｏーメトキシフエノール１．５夕とをニ
ーダーで混線した、そしてこれにロールミルでステアリ
ルマレィミドを加え実施例１と同じ方法でシート化した
。
このシートについて実施例１と同じ方法で硬化に必要な
露光時間を測定した結果を第４表に示す。第４ 表 実施例 ５ 結晶性１・２−ポリブタジェンの代りにニトリル含量３
３％のアクリロニトリルブタジヱン共重合体〔日本ゼオ
ン社製、ニポ−ル１４３幻（商品名）〕を用いた以外は
実施例４と全く同じ組成及び方法で、ステアリルマレィ
ミドを含む感光性ェラストマー組成物シートとこれを含
まない感光性ェラストマー組成物シートとを得た。
露光時間を測定した結果を第４表に示す。第４ 表 実施例 ５ 結晶性１・２−ポリブタジェンの代りにニトリル含量３
３％のアクリロニトリルブタジヱン共重合体〔日本ゼオ
ン社製、ニポ−ル１４３幻（商品名）〕を用いた以外は
実施例４と全く同じ組成及び方法で、ステアリルマレィ
ミドを含む感光性ェラストマー組成物シートとこれを含
まない感光性ェラストマー組成物シートとを得た。
これらについて実施例１と同じ方法で硬化に必要な露光
時間を測定した。その結果を第５表に示す。第５ 表 実施例 ６ 第二級ブチルリチゥムを開始剤とするりビング重合によ
って得たポリスチレンーポリブタジェンーポリスチレン
ーポリブタジェンフロツク共重合体（スチレン含量４０
％、ポリスチレソを標準とするＧＰＣ測定による数平均
分子量２０００００）３ｋｇ、液状１，２ーポリブタジ
ェン〔（日本曹達社製ニッソーＰＢＢ３０００）（商品
名）〕７００夕、液状１１４ーポリブタジェン〔（日本
ゼオン社製ポリオィル１３０）（商品名）〕８００夕、
ジーｎーオクチルフマレート５００夕、２１２ージメト
キシフエニルアセトフェノン１５０２及び２・６ージ−
ｔｅｎーブチルーｐークレゾール５２をニーダーで混練
した。
時間を測定した。その結果を第５表に示す。第５ 表 実施例 ６ 第二級ブチルリチゥムを開始剤とするりビング重合によ
って得たポリスチレンーポリブタジェンーポリスチレン
ーポリブタジェンフロツク共重合体（スチレン含量４０
％、ポリスチレソを標準とするＧＰＣ測定による数平均
分子量２０００００）３ｋｇ、液状１，２ーポリブタジ
ェン〔（日本曹達社製ニッソーＰＢＢ３０００）（商品
名）〕７００夕、液状１１４ーポリブタジェン〔（日本
ゼオン社製ポリオィル１３０）（商品名）〕８００夕、
ジーｎーオクチルフマレート５００夕、２１２ージメト
キシフエニルアセトフェノン１５０２及び２・６ージ−
ｔｅｎーブチルーｐークレゾール５２をニーダーで混練
した。
この混練物ｌｋ９を１００ムのポリエステルフィルムで
はさみ厚さ３側のスベーサーの中に置いて１１０００で
プレスして感光性ェラストマー組成物のシートを得た。
次に片側のポリエステルフィルムをはぎとり、ゴムロー
ルを用いて透明画像担体を密着させた。紫外線蛍光灯を
用いた２．５ｍＷ／仇の強度の光の下で１８分間露光し
た。１・１・１−トリクロルェタン／イソプロパノール
（２／１）の混合液を用い、ブラシで洗い出しを行ない
、６０ｑｏで３び分間乾燥後室温に冷却し、後露光を１
び分間行なった。
はさみ厚さ３側のスベーサーの中に置いて１１０００で
プレスして感光性ェラストマー組成物のシートを得た。
次に片側のポリエステルフィルムをはぎとり、ゴムロー
ルを用いて透明画像担体を密着させた。紫外線蛍光灯を
用いた２．５ｍＷ／仇の強度の光の下で１８分間露光し
た。１・１・１−トリクロルェタン／イソプロパノール
（２／１）の混合液を用い、ブラシで洗い出しを行ない
、６０ｑｏで３び分間乾燥後室温に冷却し、後露光を１
び分間行なった。
この版においては１００ライン／ィンチ４％のハイライ
ト部は形成されていなかった。混糠物の残りの中からｌ
ｋｇをとり、ロールミルを用いてラウリルマレィミド２
０夕と混線した。
ト部は形成されていなかった。混糠物の残りの中からｌ
ｋｇをとり、ロールミルを用いてラウリルマレィミド２
０夕と混線した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ （i）少なくとも１種の熱可塑性エラストマー、（
ii）エチレン性不飽和化合物（iii）光重合開始剤及び
（iv）のＮ置換マレイミド化合物からなることを特徴と
する感光性エラストマー組成物。 ２ 熱可塑性エラストマーが一般式 （Ａ−Ｂ）＿ｎ−Ａ （Ｂ−Ａ）＿ｎ＿＋＿１−Ｂ （Ａ−Ｂ）＿ｎ＿＋＿１ 又は（Ａ−Ｂ）＿ｍＸ （ただし、１≦ｎ≦１０、２≦ｍ≦７であり、式中のＡ
は２５℃以上のガラス転移温度をもつ熱可塑性非エラス
トマー状重合体ブロツク、Ｂは１０℃以下のガラス転移
温度をもつエラストマー状重合体ブロツク、Ｘはｍ個の
結合手をもつ多官能性残基を示す）で表わされる熱可塑
性エラストマー状ブロツク共重合体の少なくとも１種で
ある特許請求の範囲第１項記載の感光性エラストマー組
成物。 ３ 熱可塑性エラストマーがポリスチレン−ポリイソプ
レン又はポリブタジエン−ポリスチレン、ポリスチレン
−ポリイソプレン又はポリブタジエン−ポリスチレン−
ポリイソプレン又はポリブタジエン及び（ポリスチレン
−ポリイツプレン又はポリブタジエン）＿４Ｓｉの中か
ら選ばれた少なくとも１種である特許請求の範囲第１項
記載の感光性エラストマー組成物。 ４ エチレン性不飽和化合物がフマル酸ジエステル類で
ある特許請求の範囲第１項、第２項又は第３項記載の感
光性エラストマー組成物。 ５ Ｎ置換マレイミド化合物が炭素原子数６〜２２の直
鎖、枝分れもしくは環状のアルキル基、ベンジル基又は
フエニル基でＮ置換されたマレイミド化合物である特許
請求の範囲第１項、第２項、第３項又は第４項記載の感
光性エラストマー組成物。 ６ Ｎ置換マレイミド化合物が炭素原子数６〜２２の直
鎖、枝分れ又は環状のアルキル基でＮ置換されたマレイ
ミド化合物である特許請求の範囲第１項、第２項、第３
項又は第４項記載の感光性エラストマー組成物。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53121371A JPS607261B2 (ja) | 1978-10-02 | 1978-10-02 | 感光性エラストマ−組成物 |
| GB7933581A GB2033598B (en) | 1978-10-02 | 1979-09-27 | Photosensitive elastomeric composition |
| US06/080,364 US4266005A (en) | 1978-10-02 | 1979-09-28 | Photosensitive elastomeric composition |
| FR7924405A FR2438282A1 (fr) | 1978-10-02 | 1979-10-01 | Composition elastomere photosensible |
| DE2939989A DE2939989C2 (de) | 1978-10-02 | 1979-10-02 | Lichtempfindliches Gemisch und flexographische Druckplatte |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53121371A JPS607261B2 (ja) | 1978-10-02 | 1978-10-02 | 感光性エラストマ−組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5548744A JPS5548744A (en) | 1980-04-08 |
| JPS607261B2 true JPS607261B2 (ja) | 1985-02-23 |
Family
ID=14809571
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53121371A Expired JPS607261B2 (ja) | 1978-10-02 | 1978-10-02 | 感光性エラストマ−組成物 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4266005A (ja) |
| JP (1) | JPS607261B2 (ja) |
| DE (1) | DE2939989C2 (ja) |
| FR (1) | FR2438282A1 (ja) |
| GB (1) | GB2033598B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63154362U (ja) * | 1987-03-31 | 1988-10-11 | ||
| WO2019123597A1 (ja) | 2017-12-21 | 2019-06-27 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェット記録用前処理液、その製造方法、インクジェット記録液セット、印刷物及びインクジェット記録方法 |
Families Citing this family (44)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DK151680A (da) * | 1979-04-10 | 1980-10-11 | Akzo Nv | Uv-haerdbart overtraeksmateriale |
| DE2942183A1 (de) * | 1979-10-18 | 1981-05-07 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Fotopolymerisierbare gemische und elemente daraus |
| JPS57208556A (en) | 1981-06-18 | 1982-12-21 | Nippon Paint Co Ltd | Photosensitive printing plate material |
| DE3267917D1 (en) * | 1982-07-27 | 1986-01-23 | Du Pont | Improved aqueous processable, positive-working photopolymer compositions |
| EP0113313B1 (de) * | 1982-11-04 | 1987-07-15 | Ciba-Geigy Ag | In Gegenwart von Sensibilisatoren unter Lichteinwirkung vernetzbare Stoffgemische und deren Verwendung |
| US4857435A (en) * | 1983-11-01 | 1989-08-15 | Hoechst Celanese Corporation | Positive photoresist thermally stable compositions and elements having deep UV response with maleimide copolymer |
| US5059513A (en) * | 1983-11-01 | 1991-10-22 | Hoechst Celanese Corporation | Photochemical image process of positive photoresist element with maleimide copolymer |
| US4578328A (en) * | 1984-07-09 | 1986-03-25 | General Electric Company | Photopatternable polyimide compositions and method for making |
| DE3600774C1 (de) * | 1986-01-14 | 1987-05-07 | Du Pont Deutschland | Verfahren zum Verkleben von photopolymerisierbaren Druckplatten oder Druckformen fuer den Flexodruck |
| US4720445A (en) * | 1986-02-18 | 1988-01-19 | Allied Corporation | Copolymers from maleimide and aliphatic vinyl ethers and esters used in positive photoresist |
| JPH0772795B2 (ja) * | 1986-03-31 | 1995-08-02 | 日本ゼオン株式会社 | 感光性エラストマ−組成物 |
| US4851454A (en) * | 1986-07-17 | 1989-07-25 | The Dow Chemical Company | Photolytically crosslinkable thermally stable composition |
| JPS6370242A (ja) * | 1986-09-11 | 1988-03-30 | Nippon Zeon Co Ltd | 感光性エラストマ−組成物 |
| US5288571A (en) * | 1986-10-02 | 1994-02-22 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Photoresin printing plate for use in printing a corrugated board |
| DE3706561A1 (de) * | 1987-02-28 | 1988-09-08 | Basf Ag | Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial mit erhoehter flexibilitaet |
| JP2651687B2 (ja) * | 1988-01-22 | 1997-09-10 | コニカ株式会社 | 湿し水不要平版印刷版材料 |
| DE3908764C2 (de) * | 1989-03-17 | 1994-08-11 | Basf Ag | Entwickler für die Herstellung photopolymerisierter flexographischer Reliefdruckformen |
| JP2655351B2 (ja) * | 1989-06-01 | 1997-09-17 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版の製造方法 |
| NZ237919A (en) * | 1990-04-26 | 1994-09-27 | Grace W R & Co | Photocurable element comprising photocurable base layer and a photocurable printing layer which comprises two incompatible elastomeric polymers and a photopolymerisable monomer, base layer comprising elastomer, monomer and photoinitiator; relief printing plates |
| DE4022980C1 (ja) * | 1990-07-19 | 1991-08-08 | Du Pont De Nemours (Deutschland) Gmbh, 6380 Bad Homburg, De | |
| DE4022979C1 (ja) * | 1990-07-19 | 1991-08-08 | Du Pont De Nemours (Deutschland) Gmbh, 6380 Bad Homburg, De | |
| US5250389A (en) * | 1991-02-15 | 1993-10-05 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Photosensitive elastomer composition |
| ES2082466T3 (es) * | 1991-03-25 | 1996-03-16 | Exxon Chemical Patents Inc | Polimeros injertados de una isomonoolefina y un alquilestireno. |
| US5496684A (en) * | 1993-09-17 | 1996-03-05 | Chase Elastomer Corporation | Photosensitive compositions and elements for flexographic printing |
| US5753414A (en) * | 1995-10-02 | 1998-05-19 | Macdermid Imaging Technology, Inc. | Photopolymer plate having a peelable substrate |
| DE19639761A1 (de) * | 1996-09-27 | 1998-04-02 | Du Pont Deutschland | Flexographische Druckformen mit verbesserter Beständigkeit gegenüber UV härtbaren Druckfarben |
| DE19639767A1 (de) * | 1996-09-27 | 1998-04-02 | Du Pont Deutschland | Flexographische Druckformen für UV härtbare Druckfarben |
| IL129342A (en) * | 1996-10-08 | 2004-12-15 | Alan Zamore | Irradiation conversion of thermoplastic to thermoset polymers |
| US6656550B1 (en) | 1996-10-08 | 2003-12-02 | Alan M. Zamore | Dilatation device of uniform outer diameter |
| US7749585B2 (en) * | 1996-10-08 | 2010-07-06 | Alan Zamore | Reduced profile medical balloon element |
| US5900444A (en) * | 1996-10-08 | 1999-05-04 | Zamore; Alan | Irradiation conversion of thermoplastic to thermoset polyurethane |
| US7728049B2 (en) * | 1996-10-08 | 2010-06-01 | Zamore Alan M | Irradiation conversion of thermoplastic to thermoset polymers |
| DE19654103A1 (de) * | 1996-12-23 | 1998-06-25 | Du Pont Deutschland | Verfahren zum Kantenverkleben von photopolymerisierbaren Druckplatten oder Photopolymerdruckformen für den Flexodruck |
| DE19703917A1 (de) * | 1997-02-03 | 1998-08-06 | Du Pont Deutschland | Flexographische Druckformen für den Wellpappendruck |
| ATE333114T1 (de) | 1998-01-30 | 2006-08-15 | Albemarle Corp | Maleimide enthaltende fotopolymerisierbare zusammensetzungen und verfahren zu deren verwendung |
| DE69929087T2 (de) | 1998-12-25 | 2006-08-31 | Asahi Kasei Chemicals Corp. | Flexodruckplatte und deren rohling |
| JP3640149B2 (ja) * | 1999-08-27 | 2005-04-20 | 東亞合成株式会社 | 活性エネルギー線硬化型接着剤組成物 |
| JP4623452B2 (ja) | 2000-02-09 | 2011-02-02 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 赤外線感受性層を形成する為の塗工液 |
| US7012118B2 (en) * | 2002-02-07 | 2006-03-14 | Kraton Polymers U.S. Llc | Photopolymerizable compositions and flexographic plates prepared from controlled distribution block copolymers |
| US7241540B2 (en) * | 2004-04-27 | 2007-07-10 | Kraton Polymers U.S. Llc | Photocurable compositions and flexographic printing plates comprising the same |
| US7704676B2 (en) * | 2007-09-04 | 2010-04-27 | Kraton Polymers U.S. Llc | Block copolymers having distinct isoprene and butadiene midblocks, method for making same, and uses for such block copolymers |
| JP2009214428A (ja) * | 2008-03-11 | 2009-09-24 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
| JP5193276B2 (ja) * | 2010-12-10 | 2013-05-08 | 富士フイルム株式会社 | レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版及びその製造方法、並びに、レリーフ印刷版の製版方法 |
| JP6402628B2 (ja) | 2012-10-04 | 2018-10-10 | 日本ゼオン株式会社 | ゴム組成物の製造方法 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3551160A (en) * | 1967-10-13 | 1970-12-29 | Ibm | Method of preparing photosensitive poly(2-chloro-1,3-butadiene) |
| US3627529A (en) * | 1968-10-11 | 1971-12-14 | Grace W R & Co | Process for preparing a lithographic printing plate |
| GB1278780A (en) * | 1968-12-24 | 1972-06-21 | Agfa Gevaert | Photodimerisation and photopolymerisation of bis-maleimides |
| US3634547A (en) * | 1969-07-17 | 1972-01-11 | Ici Ltd | Thermoplastic compositions |
| GB1312492A (en) * | 1969-12-19 | 1973-04-04 | Mccall Corp | Crosslinked polymers and process therefor |
| DE2112141A1 (de) * | 1971-03-13 | 1972-10-05 | Agfa Gevaert Ag | Photographisches Material |
| CA1099435A (en) * | 1971-04-01 | 1981-04-14 | Gwendyline Y. Y. T. Chen | Photosensitive block copolymer composition and elements |
| DE2130904C3 (de) * | 1971-06-22 | 1974-06-12 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Homogene lichtvernetzbare Schichten liefernde Gemische |
| AU476446B2 (en) * | 1974-04-18 | 1976-09-23 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd | Photosensitive composition |
| US4162919A (en) * | 1974-11-29 | 1979-07-31 | Basf Aktiengesellschaft | Laminates for the manufacture of flexographic printing plates using block copolymers |
| DE2457882B2 (de) * | 1974-12-06 | 1977-06-02 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Waermebestaendige, lichtvernetzbare massen |
| US4045231A (en) * | 1975-03-15 | 1977-08-30 | Tokyo Ohka Kogyo Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition for flexographic printing plates |
| FR2318441A1 (fr) * | 1975-07-17 | 1977-02-11 | Nippon Paint Co Ltd | Composition |
| JPS5946522B2 (ja) * | 1976-12-10 | 1984-11-13 | 日石三菱株式会社 | 水分散性塗膜形成物質の製造方法 |
| JPS53127004A (en) * | 1977-04-11 | 1978-11-06 | Asahi Chemical Ind | Photosensitive elastomer composition |
-
1978
- 1978-10-02 JP JP53121371A patent/JPS607261B2/ja not_active Expired
-
1979
- 1979-09-27 GB GB7933581A patent/GB2033598B/en not_active Expired
- 1979-09-28 US US06/080,364 patent/US4266005A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-10-01 FR FR7924405A patent/FR2438282A1/fr active Granted
- 1979-10-02 DE DE2939989A patent/DE2939989C2/de not_active Expired
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63154362U (ja) * | 1987-03-31 | 1988-10-11 | ||
| WO2019123597A1 (ja) | 2017-12-21 | 2019-06-27 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェット記録用前処理液、その製造方法、インクジェット記録液セット、印刷物及びインクジェット記録方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE2939989A1 (de) | 1980-04-03 |
| US4266005A (en) | 1981-05-05 |
| JPS5548744A (en) | 1980-04-08 |
| DE2939989C2 (de) | 1985-12-19 |
| FR2438282B1 (ja) | 1982-11-12 |
| GB2033598B (en) | 1982-11-10 |
| FR2438282A1 (fr) | 1980-04-30 |
| GB2033598A (en) | 1980-05-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS607261B2 (ja) | 感光性エラストマ−組成物 | |
| US4197130A (en) | Photosensitive elastomeric composition and element | |
| JP3157295B2 (ja) | フレキソグラフイツク印刷用プレートのための感光性エラストマー系ポリマー組成物 | |
| JP4748812B2 (ja) | フレキソ印刷版 | |
| JPH055106B2 (ja) | ||
| WO1992015046A1 (fr) | Composition elastomere photosensible | |
| JPH0743535B2 (ja) | 光重合により架橋可能の混合物 | |
| JP4044687B2 (ja) | 感光性エラストマー組成物 | |
| JPH0627664A (ja) | 凸版印刷版の製版用光硬化性エラストマー混合物およびそれから得られる記録材料 | |
| EP0183552B1 (en) | A photopolymerizable composition | |
| JP4482032B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JP3144870B2 (ja) | 感光性エラストマー組成物 | |
| JPS62172002A (ja) | 光重合により架橋可能な混合物 | |
| JP2017198743A (ja) | フレキソ印刷版用感光性樹脂組成物、フレキソ印刷版用感光性樹脂構成体、及びフレキソ印刷版 | |
| JPS6370242A (ja) | 感光性エラストマ−組成物 | |
| JPH1073921A (ja) | 放射線感受性組成物およびこの組成物を含有する放射線感受性記録材料 | |
| AU596101B2 (en) | Photosensitive elastomeric polymer composition for flexographic printing plate | |
| JPH06186742A (ja) | 光硬化性エラストマー混合物およびそこから得られる、凸版印刷板製造用の記録材料 | |
| JPS62138845A (ja) | 感光性エラストマ−組成物 | |
| CA2081426A1 (en) | Photosensitive elastomer polymer composition for flexographic printing plates processible in aqueous solutions | |
| JP2004246247A (ja) | フレキソ印刷用感光性樹脂組成物 | |
| JPH0513305B2 (ja) | ||
| JP4166957B2 (ja) | 画像形成性が改良されたフレキソ版用感光性樹脂構成体 | |
| JPS6348545A (ja) | 感光性フレキソ版用エラストマ−組成物 | |
| JP2014048517A (ja) | フレキソ印刷版用構成体及びフレキソ印刷版 |