JPH1073921A - 放射線感受性組成物およびこの組成物を含有する放射線感受性記録材料 - Google Patents
放射線感受性組成物およびこの組成物を含有する放射線感受性記録材料Info
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- JPH1073921A JPH1073921A JP9191661A JP19166197A JPH1073921A JP H1073921 A JPH1073921 A JP H1073921A JP 9191661 A JP9191661 A JP 9191661A JP 19166197 A JP19166197 A JP 19166197A JP H1073921 A JPH1073921 A JP H1073921A
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 オゾン耐性が高く、エステル類を含有する印
刷インク中で膨潤する程度が少ないフレキソ印刷方法用
印刷版を提供すること。 【解決手段】 放射線感受性組成物はａ）少なくとも１
種のポリマー性、熱可塑性エラストマーバインダ；ｂ）
エチレン性不飽和末端基を有し付加重合可能な少なくと
も１種の化合物；ｃ）少なくとも１種の光重合開始剤お
よび／または光重合開始系；ｄ）任意的な１種または数
種の助剤とを含む。このバインダは分子中に少なくとも
２つのポリビニルアリール・ブロックＡを含み、多官能
価化合物Ｙに対し、共役ジエンの水素化ポリマー・ブロ
ックＨＤと共役ジエンの未水素化ポリマー・ブロックＵ
Ｄを総数で３〜３０含む。ポリビニルアリール・ブロッ
クＡの総数の重量比は４〜３５％である。
刷インク中で膨潤する程度が少ないフレキソ印刷方法用
印刷版を提供すること。 【解決手段】 放射線感受性組成物はａ）少なくとも１
種のポリマー性、熱可塑性エラストマーバインダ；ｂ）
エチレン性不飽和末端基を有し付加重合可能な少なくと
も１種の化合物；ｃ）少なくとも１種の光重合開始剤お
よび／または光重合開始系；ｄ）任意的な１種または数
種の助剤とを含む。このバインダは分子中に少なくとも
２つのポリビニルアリール・ブロックＡを含み、多官能
価化合物Ｙに対し、共役ジエンの水素化ポリマー・ブロ
ックＨＤと共役ジエンの未水素化ポリマー・ブロックＵ
Ｄを総数で３〜３０含む。ポリビニルアリール・ブロッ
クＡの総数の重量比は４〜３５％である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はフレキソ印刷方法用
の放射線感受性（ｉｒｒａｄｉａｔｉｏｎ−ｓｅｎｓｉ
ｔｉｖｅ）重合可能印刷版の調製に適した放射線感受性
組成物に関する。この方法で調製される印刷版は物理化
学的性質が改善され、特にオゾン耐性が向上し、エステ
ル類および／またはケトン類を含有する印刷インク中で
膨潤度が低い。
の放射線感受性（ｉｒｒａｄｉａｔｉｏｎ−ｓｅｎｓｉ
ｔｉｖｅ）重合可能印刷版の調製に適した放射線感受性
組成物に関する。この方法で調製される印刷版は物理化
学的性質が改善され、特にオゾン耐性が向上し、エステ
ル類および／またはケトン類を含有する印刷インク中で
膨潤度が低い。
【０００２】
【従来の技術】印刷版調製用の放射線感受性記録材料は
例えば欧州特許出願公開公報ＥＰ−Ａ０３２２５８５お
よび米国特許第４，３２３，６３６号公報から公知であ
る。このタイプの記録材料は、ともに例えばプラスチッ
クフォイルであってもよい担体基板およびカバーフォイ
ルと、放射線感受性の介在層のサンドイッチ構造からな
る。この放射線感受性組成物の必須構成要素は通常次の
ものである： ａ）少なくとも１種のバインダ、 ｂ）少なくとも１種の負荷重合可能なエチレン性不飽和
化合物、 ｃ）少なくとも１種の光重合開始剤、および／または光
重合開始系であって、 化学線照射時に負荷重合を開始することができるもの。
この放射線感受性組成物はさらに低分子量ポリマーおよ
び他の助剤を含有していてもよい。
例えば欧州特許出願公開公報ＥＰ−Ａ０３２２５８５お
よび米国特許第４，３２３，６３６号公報から公知であ
る。このタイプの記録材料は、ともに例えばプラスチッ
クフォイルであってもよい担体基板およびカバーフォイ
ルと、放射線感受性の介在層のサンドイッチ構造からな
る。この放射線感受性組成物の必須構成要素は通常次の
ものである： ａ）少なくとも１種のバインダ、 ｂ）少なくとも１種の負荷重合可能なエチレン性不飽和
化合物、 ｃ）少なくとも１種の光重合開始剤、および／または光
重合開始系であって、 化学線照射時に負荷重合を開始することができるもの。
この放射線感受性組成物はさらに低分子量ポリマーおよ
び他の助剤を含有していてもよい。
【０００３】ポリマーバインダとして熱可塑性エラスト
マーブロック共重合体と、付加重合可能なエチレン性不
飽和化合物と、光重合開始剤および／または光重合開始
系とを有する放射線感受性組成物は例えば米国特許第
４，３２３，６３６号公報に開示されている。ここで用
いられているポリマーバインダはポリスチレン−ポリイ
ソプレン−ポリスチレン・ブロック共重合体、水素化お
よび未水素化ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチ
レン・ブロック共重合体である。放射線感受性組成物の
成分としての放射状ブロック共重合体（ｒａｄｉａｌ
ｂｌｏｃｋ ｃｏｐｏｌｙｍｅｒｓ）は例えばＷＯ９５
／０８１３６に記載されている。
マーブロック共重合体と、付加重合可能なエチレン性不
飽和化合物と、光重合開始剤および／または光重合開始
系とを有する放射線感受性組成物は例えば米国特許第
４，３２３，６３６号公報に開示されている。ここで用
いられているポリマーバインダはポリスチレン−ポリイ
ソプレン−ポリスチレン・ブロック共重合体、水素化お
よび未水素化ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチ
レン・ブロック共重合体である。放射線感受性組成物の
成分としての放射状ブロック共重合体（ｒａｄｉａｌ
ｂｌｏｃｋ ｃｏｐｏｌｙｍｅｒｓ）は例えばＷＯ９５
／０８１３６に記載されている。
【０００４】例えば現在市販されている放射線感受性記
録材料から調製されたフレキソ印刷方法用印刷版は、溶
媒および／または他の添加剤、例えばエチルアセテー
ト、ｎ−プロピルアセテート、アセトン、メチルイソブ
チルケトン、２−ブタノン（メチルエチルケトン）およ
び／またはイソプロピルアセテート、を含有する印刷イ
ンクを用いた場合はその使用に限界がある。これらの印
刷インクの例としてはいわゆる二成分インクがあり、溶
媒成分としてエチルアセテート、ｎ−プロピルアセテー
ト、およびイソプロピルアセテートのようなエステル
類、ならびにアセトンおよびメチルエチルケトンのよう
なケトン類を必ず含有している。このタイプの印刷イン
クが用いられるのは、例えば、ＬＤＰＥ（低密度ポリエ
チレン），ＨＤＰＥ（高密度ポリエチレン）、同時押し
出しポリエチレンまたはポリエステルのプラスチックフ
ィルム／フォイル、ＮＣ−ラッカー塗りアルミフォイ
ル、紙およびゼルグラス（Ｚｅｌｌｇｌａｓｓ）ＸＳの
ような基体の印刷である。これらの基体は安定性の要求
が高い包装材の調製、特に食品包装用に用いられる。
録材料から調製されたフレキソ印刷方法用印刷版は、溶
媒および／または他の添加剤、例えばエチルアセテー
ト、ｎ−プロピルアセテート、アセトン、メチルイソブ
チルケトン、２−ブタノン（メチルエチルケトン）およ
び／またはイソプロピルアセテート、を含有する印刷イ
ンクを用いた場合はその使用に限界がある。これらの印
刷インクの例としてはいわゆる二成分インクがあり、溶
媒成分としてエチルアセテート、ｎ−プロピルアセテー
ト、およびイソプロピルアセテートのようなエステル
類、ならびにアセトンおよびメチルエチルケトンのよう
なケトン類を必ず含有している。このタイプの印刷イン
クが用いられるのは、例えば、ＬＤＰＥ（低密度ポリエ
チレン），ＨＤＰＥ（高密度ポリエチレン）、同時押し
出しポリエチレンまたはポリエステルのプラスチックフ
ィルム／フォイル、ＮＣ−ラッカー塗りアルミフォイ
ル、紙およびゼルグラス（Ｚｅｌｌｇｌａｓｓ）ＸＳの
ような基体の印刷である。これらの基体は安定性の要求
が高い包装材の調製、特に食品包装用に用いられる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来の熱可塑性エラス
トマー性ポリマーをバインダとする放射線感受性記録材
料で作製した印刷版をこのタイプのインクを用いた印刷
に使用すると、得られた印刷物の品質が印刷実施中に、
ひどい膨潤のために、劣化する。このため、インク製造
者はそのようなインクを用いるときは必ずゴム印刷ブロ
ックと組み合わせて使用するようにしばしば勧めてい
る。しかし、そのようなゴム印刷ブロックの調製は非常
に高価である。従来の印刷版の他の欠点はオゾン耐性に
限界があることである。この化学剤が形成されるのは、
例えば印刷基体をコロナ放電処理して印刷インクとの濡
れ性（ｗｅｔｔａｂｉｌｉｔｙ）を向上させる過程であ
る。この化学剤は印刷中および貯蔵中に従来の印刷版の
安定性を制限する。別の提案がＥＰ０３２６９７７Ａ２
になされているが、これはエチレン−プロピレン−アル
カジエン三元共重合体（ターポリマー）をこのタイプの
印刷版用のバインダとして用いている。しかしながら、
このバインダを用いた放射線感受性組成物は印刷版に加
工するのが難しく、ひいては限られた解像度しか得られ
ず、耐摩耗性がよくないので、この印刷版は大巻の印刷
物を印刷する間に役に立たなくなり、交換しなければな
らなくなる。
トマー性ポリマーをバインダとする放射線感受性記録材
料で作製した印刷版をこのタイプのインクを用いた印刷
に使用すると、得られた印刷物の品質が印刷実施中に、
ひどい膨潤のために、劣化する。このため、インク製造
者はそのようなインクを用いるときは必ずゴム印刷ブロ
ックと組み合わせて使用するようにしばしば勧めてい
る。しかし、そのようなゴム印刷ブロックの調製は非常
に高価である。従来の印刷版の他の欠点はオゾン耐性に
限界があることである。この化学剤が形成されるのは、
例えば印刷基体をコロナ放電処理して印刷インクとの濡
れ性（ｗｅｔｔａｂｉｌｉｔｙ）を向上させる過程であ
る。この化学剤は印刷中および貯蔵中に従来の印刷版の
安定性を制限する。別の提案がＥＰ０３２６９７７Ａ２
になされているが、これはエチレン−プロピレン−アル
カジエン三元共重合体（ターポリマー）をこのタイプの
印刷版用のバインダとして用いている。しかしながら、
このバインダを用いた放射線感受性組成物は印刷版に加
工するのが難しく、ひいては限られた解像度しか得られ
ず、耐摩耗性がよくないので、この印刷版は大巻の印刷
物を印刷する間に役に立たなくなり、交換しなければな
らなくなる。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、オゾン
耐性が高く、エステル類を含有する印刷インク中で膨潤
する程度が少ないことで特徴づけられるフレキソ印刷方
法用印刷版を提供することである。
耐性が高く、エステル類を含有する印刷インク中で膨潤
する程度が少ないことで特徴づけられるフレキソ印刷方
法用印刷版を提供することである。
【０００７】この目的は、本発明に従えば、下記により
達成される。
達成される。
【０００８】すなわち、請求項１に記載の放射線感受性
組成物は、 ａ）少なくとも１種のポリマー性、熱可塑性エラストマ
ーバインダ、 ｂ）エチレン性不飽和末端基を有し、付加重合可能な少
なくとも１種の化合物、 ｃ）少なくとも１種の光重合開始剤および／または光重
合開始系、および ｄ）任意的な１種または数種の助剤 であって、前記ポリマー性、熱可塑性エラストマーバイ
ンダは式（Ｉ）
組成物は、 ａ）少なくとも１種のポリマー性、熱可塑性エラストマ
ーバインダ、 ｂ）エチレン性不飽和末端基を有し、付加重合可能な少
なくとも１種の化合物、 ｃ）少なくとも１種の光重合開始剤および／または光重
合開始系、および ｄ）任意的な１種または数種の助剤 であって、前記ポリマー性、熱可塑性エラストマーバイ
ンダは式（Ｉ）
【０００９】
【化３】 （（Ａ）n −（ＨＤ））x −Ｙ−（（ＵＤ）−（Ａ）m ）z （Ｉ） 式中、Ａは重量平均分子量４０００〜２００００のポリ
ビニルアリール・ブロックであり、ｍおよびｎはそれぞ
れ０または１であり、かつ、少なくとも２つのポリビニ
ルアリール・ブロックＡが分子中に存在しなければなら
ず、ＨＤは重量平均分子量１００００〜１０００００共
役ジエンの水素化ポリマー・ブロックであり、Ｙは多官
能価化合物であり、ＵＤは重量平均分子量１０００〜８
００００の共役ジエンの未水素化ポリマー・ブロックで
あり、ｘは２〜２０の整数、ｚは１〜１０の整数であ
り、ｘとｚの和は３〜３０であり、ポリビニルアリール
・ブロックの総数の重量比は４〜３５％であることを特
徴とする。
ビニルアリール・ブロックであり、ｍおよびｎはそれぞ
れ０または１であり、かつ、少なくとも２つのポリビニ
ルアリール・ブロックＡが分子中に存在しなければなら
ず、ＨＤは重量平均分子量１００００〜１０００００共
役ジエンの水素化ポリマー・ブロックであり、Ｙは多官
能価化合物であり、ＵＤは重量平均分子量１０００〜８
００００の共役ジエンの未水素化ポリマー・ブロックで
あり、ｘは２〜２０の整数、ｚは１〜１０の整数であ
り、ｘとｚの和は３〜３０であり、ポリビニルアリール
・ブロックの総数の重量比は４〜３５％であることを特
徴とする。
【００１０】請求項２記載の放射線感受性組成物は、請
求項１記載の放射線感受性組成物において、前記式
（Ｉ）において、ｘが２，３または４に等しく、ｚが
１，２，３または４に等しく、ｘとｚの和が３，４，５
または６に等しいことを特徴とする。
求項１記載の放射線感受性組成物において、前記式
（Ｉ）において、ｘが２，３または４に等しく、ｚが
１，２，３または４に等しく、ｘとｚの和が３，４，５
または６に等しいことを特徴とする。
【００１１】請求項３記載の放射線感受性組成物は、請
求項１記載の放射線感受性組成物において、前記ポリマ
ー性、熱可塑性エラストマーバインダは式（ＩＩ）
求項１記載の放射線感受性組成物において、前記ポリマ
ー性、熱可塑性エラストマーバインダは式（ＩＩ）
【００１２】
【化４】 （Ａ−（ＨＤ））x −Ｙ−（ＵＤ）z （ＩＩ） 式中、Ａは重量平均分子量４０００〜２００００のポリ
ビニルアリール・ブロックであり、少なくとも２つのポ
リビニルアリール・ブロックが存在しなければならず、
ＨＤは重量平均分子量１００００〜１０００００共役ジ
エンの水素化ポリマー・ブロックであり、Ｙは多官能価
化合物であり、ＵＤは重量平均分子量１０００〜８００
００の共役ジエンの未水素化ポリマー・ブロックであ
り、ｘは２〜２０の整数、ｚは１〜１０の整数であり、
ｘとｚの和は３〜３０であり、ポリビニルアリール・ブ
ロックの総数の重量比は４〜３５％である）で表される
放射状ブロック共重合体であることを特徴とする。
ビニルアリール・ブロックであり、少なくとも２つのポ
リビニルアリール・ブロックが存在しなければならず、
ＨＤは重量平均分子量１００００〜１０００００共役ジ
エンの水素化ポリマー・ブロックであり、Ｙは多官能価
化合物であり、ＵＤは重量平均分子量１０００〜８００
００の共役ジエンの未水素化ポリマー・ブロックであ
り、ｘは２〜２０の整数、ｚは１〜１０の整数であり、
ｘとｚの和は３〜３０であり、ポリビニルアリール・ブ
ロックの総数の重量比は４〜３５％である）で表される
放射状ブロック共重合体であることを特徴とする。
【００１３】請求項４記載の放射線感受性組成物は、請
求項３記載の放射線感受性組成物において、前記式（Ｉ
Ｉ）において、ｘは２，３または４に等しく、ｚは１，
２，３または４に等しく、かつ、ｘとｚの和は３，４，
５または６に等しいことを特徴とする。
求項３記載の放射線感受性組成物において、前記式（Ｉ
Ｉ）において、ｘは２，３または４に等しく、ｚは１，
２，３または４に等しく、かつ、ｘとｚの和は３，４，
５または６に等しいことを特徴とする。
【００１４】請求項５記載の放射線感受性記録材料は、
担体と、カバーホイルと、少なくとも１つの介在する光
重合性層と、該担体とカバーホイルとの間の任意的な追
加層とを備え、前記光重合性層の少なくとも１層が請求
項１記載の放射線感受性組成物からなることを特徴とす
る。 〔発明の詳細な説明〕
担体と、カバーホイルと、少なくとも１つの介在する光
重合性層と、該担体とカバーホイルとの間の任意的な追
加層とを備え、前記光重合性層の少なくとも１層が請求
項１記載の放射線感受性組成物からなることを特徴とす
る。 〔発明の詳細な説明〕
【００１５】
【発明の属する技術分野】本発明はフレキソ印刷方法用
の放射線感受性重合可能印刷版の調製に適した放射線感
受性組成物に関する。この方法で調製される印刷版は物
理化学的性質が改善され、特にオゾン耐性が向上し、エ
ステル類および／またはケトン類を含有する印刷インク
中で膨潤度が低い。
の放射線感受性重合可能印刷版の調製に適した放射線感
受性組成物に関する。この方法で調製される印刷版は物
理化学的性質が改善され、特にオゾン耐性が向上し、エ
ステル類および／またはケトン類を含有する印刷インク
中で膨潤度が低い。
【００１６】
【発明の実施の形態】好適なポリマー性、熱可塑性かつ
エラストマー性バインダは式（Ｉ）の放射状ブロック共
重合体である。
エラストマー性バインダは式（Ｉ）の放射状ブロック共
重合体である。
【００１７】
【化５】 （（Ａ）n −（ＨＤ））x −Ｙ−（（ＵＤ）−（Ａ）m ）z （Ｉ） （式中、Ａは重量平均分子量４，０００〜２０，０００
のポリビニルアリール・ブロックであり、ｍおよびｎは
それぞれ０または１であり、かつ分子は少なくとも２つ
のポリビニルアリール・ブロックＡを含有し、ＨＤは重
量平均分子量１０，０００〜１００，０００の共役ジエ
ンの水素化ポリマー・ブロックであり、Ｙは多官能化合
物であり、ＵＤは重量平均分子量１０００〜８０，００
０の共役ジエンの未水素化ポリマー・ブロックであり、
ｘは１〜２０、好ましくは２〜４、の整数であり、ｚは
１〜１０、好ましくは１ないし４、の整数であり、ｘと
ｚの和は３〜３０、好ましくは３〜６であり、ポリビニ
ルアリール・ブロックの重量比は４〜３５％である）。
のポリビニルアリール・ブロックであり、ｍおよびｎは
それぞれ０または１であり、かつ分子は少なくとも２つ
のポリビニルアリール・ブロックＡを含有し、ＨＤは重
量平均分子量１０，０００〜１００，０００の共役ジエ
ンの水素化ポリマー・ブロックであり、Ｙは多官能化合
物であり、ＵＤは重量平均分子量１０００〜８０，００
０の共役ジエンの未水素化ポリマー・ブロックであり、
ｘは１〜２０、好ましくは２〜４、の整数であり、ｚは
１〜１０、好ましくは１ないし４、の整数であり、ｘと
ｚの和は３〜３０、好ましくは３〜６であり、ポリビニ
ルアリール・ブロックの重量比は４〜３５％である）。
【００１８】ポリマー性、熱可塑性エラストマーバイン
ダのうち、好適なものとしては、式（ＩＩ）
ダのうち、好適なものとしては、式（ＩＩ）
【００１９】
【化６】 （Ａ−（ＨＤ））x −Ｙ−（ＵＤ）z （ＩＩ） （式中、Ａ、ＨＤ、ＵＤ、Ｙ、ｘおよびｚは上記と同じ
である）で示されるものがある。
である）で示されるものがある。
【００２０】使用に好ましいのは、式（Ｉ）のブロック
共重合体の内、ｘが２，３または４に等しく、ｚが１，
２，３または４に等しく、ｘとｚの和が３，４，５また
は６に等しいものである。これらのうち特に好ましいの
は、式（Ｉ）においてｘとｚがそれぞれ２である化合物
である。
共重合体の内、ｘが２，３または４に等しく、ｚが１，
２，３または４に等しく、ｘとｚの和が３，４，５また
は６に等しいものである。これらのうち特に好ましいの
は、式（Ｉ）においてｘとｚがそれぞれ２である化合物
である。
【００２１】式（Ｉ）のビニルアリール・ブロックＡは
例えばスチレン、α−メチルスチレン、他のアルキル置
換スチレン類、アルコキシ置換スチレン類またはビニル
ナフタレンの重合した形態を含有していてもよい。好ま
しくは、式（Ｉ）のビニルアリール・ブロックＡは本質
的にポリスチレンから成る。
例えばスチレン、α−メチルスチレン、他のアルキル置
換スチレン類、アルコキシ置換スチレン類またはビニル
ナフタレンの重合した形態を含有していてもよい。好ま
しくは、式（Ｉ）のビニルアリール・ブロックＡは本質
的にポリスチレンから成る。
【００２２】好ましくは、ＨＤは本質的に水素化ポリブ
タジエンから成る。
タジエンから成る。
【００２３】式（Ｉ）のＵＤを形成するための好適なジ
エン類としては、例えば、２−メチル−１，３−ペンタ
ジエン、イソプレン、フェニルブタジエン、３，４−ジ
メチル−１，３−ヘキサジエン、および４，５−ジエチ
ル−１，３−オクタジエンが挙げられる。好ましいのは
炭素数が８以下のジエン類である。特に好適な実施の形
態においては、ＵＤは本質的にポリイソプレンからな
る。異なる共役ジエン類はＵＤブロックの調製に使用す
るよりもＨＤブロックの調製に使用する方が好ましい。
エン類としては、例えば、２−メチル−１，３−ペンタ
ジエン、イソプレン、フェニルブタジエン、３，４−ジ
メチル−１，３−ヘキサジエン、および４，５−ジエチ
ル−１，３−オクタジエンが挙げられる。好ましいのは
炭素数が８以下のジエン類である。特に好適な実施の形
態においては、ＵＤは本質的にポリイソプレンからな
る。異なる共役ジエン類はＵＤブロックの調製に使用す
るよりもＨＤブロックの調製に使用する方が好ましい。
【００２４】一般に、多官能化合物Ｙは現在技術に知ら
れているいずれのカップリング剤によっても導入するこ
とができ、個々のポリマー鎖のアニオン末端と反応する
ことができる少なくとも３つの部位を持つ。例として
は、ＳｉＸ4 、ＲＳｉＸ3 、ＨＳｉＸ3 、Ｘ3 Ｓｉ−Ｓ
ｉＸ3 、Ｒ−Ｃ（ＳｉＸ3 ）3 、およびＣ（ＣＨ2 Ｓｉ
Ｘ3 ）4 が挙げられる。ここに、Ｘはフッ素、塩素、臭
素、ヨウ素、アルコキシ基、カルボキシレート基、およ
び／または水素原子、Ｒは炭素数１〜１０、好ましくは
１〜６、の直鎖または分岐鎖炭化水素基を表す。
れているいずれのカップリング剤によっても導入するこ
とができ、個々のポリマー鎖のアニオン末端と反応する
ことができる少なくとも３つの部位を持つ。例として
は、ＳｉＸ4 、ＲＳｉＸ3 、ＨＳｉＸ3 、Ｘ3 Ｓｉ−Ｓ
ｉＸ3 、Ｒ−Ｃ（ＳｉＸ3 ）3 、およびＣ（ＣＨ2 Ｓｉ
Ｘ3 ）4 が挙げられる。ここに、Ｘはフッ素、塩素、臭
素、ヨウ素、アルコキシ基、カルボキシレート基、およ
び／または水素原子、Ｒは炭素数１〜１０、好ましくは
１〜６、の直鎖または分岐鎖炭化水素基を表す。
【００２５】このタイプのブロック共重合体、それらの
調製およびそれらの重量平均分子量の決定方法が、例え
ば米国特許第５，３９３，８４１号公報に記載されてお
り、そして該特許に引用されている文献にそれらのブロ
ック共重合体の接着剤および封止剤（シーラント）とし
ての用途が記載されている。
調製およびそれらの重量平均分子量の決定方法が、例え
ば米国特許第５，３９３，８４１号公報に記載されてお
り、そして該特許に引用されている文献にそれらのブロ
ック共重合体の接着剤および封止剤（シーラント）とし
ての用途が記載されている。
【００２６】本発明の放射線感受性組成物はポリマーバ
インダを２０〜９５重量％、好ましくは３０〜９０重量
％、特に好ましくは４０〜８０重量％、の量で含有す
る。
インダを２０〜９５重量％、好ましくは３０〜９０重量
％、特に好ましくは４０〜８０重量％、の量で含有す
る。
【００２７】エチレン性不飽和を有する化合物は付加重
合することができ、本発明の放射線感受性組成物に用い
るのに適しているが、それらの化合物は一般に沸点が大
気圧において約１００℃であり、分子量が３０００以
下、特に２０００以下である。これらの付加重合性を持
つエチレン性不飽和化合物は、一般に、アクリル酸およ
びメタアクリル酸のエステル類、スチレンおよびその誘
導体類、アクリルアミド類およびメタアクリルアミド
類、並びにアリル化合物類である。これらの付加重合性
を持つエチレン性不飽和化合物は１または２以上の付加
重合可能なエチレン性二重結合を含有していてもよい。
使用するのに好適なのは、付加重合性を持つエチレン性
不飽和化合物であり、これらの化合物は放射線感受性組
成物中のポリマーバインダと相溶性がある。「相溶性が
ある」（ｃｏｍｐａｔｉｂｌｅ）という用語は個々の成
分が放射線感受性組成物中に分子分散することができる
か、または同じ屈折率をもつため濁らないこと、かつ時
間が経つと分離する傾向がないことを意味する。
合することができ、本発明の放射線感受性組成物に用い
るのに適しているが、それらの化合物は一般に沸点が大
気圧において約１００℃であり、分子量が３０００以
下、特に２０００以下である。これらの付加重合性を持
つエチレン性不飽和化合物は、一般に、アクリル酸およ
びメタアクリル酸のエステル類、スチレンおよびその誘
導体類、アクリルアミド類およびメタアクリルアミド
類、並びにアリル化合物類である。これらの付加重合性
を持つエチレン性不飽和化合物は１または２以上の付加
重合可能なエチレン性二重結合を含有していてもよい。
使用するのに好適なのは、付加重合性を持つエチレン性
不飽和化合物であり、これらの化合物は放射線感受性組
成物中のポリマーバインダと相溶性がある。「相溶性が
ある」（ｃｏｍｐａｔｉｂｌｅ）という用語は個々の成
分が放射線感受性組成物中に分子分散することができる
か、または同じ屈折率をもつため濁らないこと、かつ時
間が経つと分離する傾向がないことを意味する。
【００２８】本発明の放射線感受性組成物は、末端エチ
レン性不飽和基を有し、かつ付加重合性を有する単一の
化合物を含んで成るものであってもよいし、あるいは末
端エチレン性不飽和基を有し、かつ付加重合性を有する
そのような化合物を二種以上組み合わせてもよい。使用
に好適なのはアクリル酸およびメタアクリル酸のエステ
ル類である。
レン性不飽和基を有し、かつ付加重合性を有する単一の
化合物を含んで成るものであってもよいし、あるいは末
端エチレン性不飽和基を有し、かつ付加重合性を有する
そのような化合物を二種以上組み合わせてもよい。使用
に好適なのはアクリル酸およびメタアクリル酸のエステ
ル類である。
【００２９】本発明の放射線感受性組成物のうち、付加
重合性を有するエチレン性不飽和化合物の合計の重量比
は０．５〜５０重量％、好ましくは０．５〜３０重量
％、さらに好ましくは１〜２５重量％、特に好ましくは
２〜２０重量％の範囲内である。
重合性を有するエチレン性不飽和化合物の合計の重量比
は０．５〜５０重量％、好ましくは０．５〜３０重量
％、さらに好ましくは１〜２５重量％、特に好ましくは
２〜２０重量％の範囲内である。
【００３０】末端エチレン性不飽和基を有し、かつ付加
重合性を有する好適な化合物としては、例えば、アリル
メタアクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメ
タアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート、ビ
スフェノールＡジメタアクリレート、１，４−ブタンジ
オールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジメタ
アクリレート、１，４−ブタンジオールジメタアクリレ
ート、ｔ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルアミノエチ
ルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレー
ト、デカメチレングリコールジアクリレート、ジアリル
フタレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジ
ヒドロキシシクロペンタジエニルアクリレート、ジヒド
ロキシシクロペンタジエニルメタアクリレート、ジヒド
ロキシリモネンジアクリレート、ジヒドロキシシクロペ
ンタジエニルメタアクリレート、ジヒドロキシリモネン
ジメタアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルア
クリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタアクリ
レート、２，２−ジメチロールプロパンジアクリレー
ト、ジメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペン
タエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、
ジプロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベン
ゼン、ドデカンジオールジアクリレート、ドデカンジオ
ールジメタアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタアクリレート、ジ−
ｎ−ブチルフマレート、ジ−ｎ−オクチルフマレート、
グリセリルプロポキシトリアクリレート、ヘキサン−
１，６−ジオールジアクリレート、ヘキサン−１，６−
ジオールジメタアクリレート、ヘキサ−１−エン−６−
オールアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、
ヒドロキシエチルメタアクリレート、イソデシルアクリ
レート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタ
アクリレート、イソオクチルアクリレート、イタコン酸
ビスアリルエステル、ラウリル アクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジメタアクリレート、２−フェノキシエチルアクリ
レート、ステアリルメタアクリレート、トリアリルシア
ヌレート、トリデシルアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ
メタアクリレート、またはトリプロピレンジアクリレー
トが挙げられる。
重合性を有する好適な化合物としては、例えば、アリル
メタアクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメ
タアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート、ビ
スフェノールＡジメタアクリレート、１，４−ブタンジ
オールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジメタ
アクリレート、１，４−ブタンジオールジメタアクリレ
ート、ｔ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルアミノエチ
ルメタアクリレート、シクロヘキシルメタアクリレー
ト、デカメチレングリコールジアクリレート、ジアリル
フタレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ジ
ヒドロキシシクロペンタジエニルアクリレート、ジヒド
ロキシシクロペンタジエニルメタアクリレート、ジヒド
ロキシリモネンジアクリレート、ジヒドロキシシクロペ
ンタジエニルメタアクリレート、ジヒドロキシリモネン
ジメタアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルア
クリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタアクリ
レート、２，２−ジメチロールプロパンジアクリレー
ト、ジメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペン
タエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、
ジプロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベン
ゼン、ドデカンジオールジアクリレート、ドデカンジオ
ールジメタアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート、エチレングリコールジメタアクリレート、ジ−
ｎ−ブチルフマレート、ジ−ｎ−オクチルフマレート、
グリセリルプロポキシトリアクリレート、ヘキサン−
１，６−ジオールジアクリレート、ヘキサン−１，６−
ジオールジメタアクリレート、ヘキサ−１−エン−６−
オールアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、
ヒドロキシエチルメタアクリレート、イソデシルアクリ
レート、イソボルニルアクリレート、イソボルニルメタ
アクリレート、イソオクチルアクリレート、イタコン酸
ビスアリルエステル、ラウリル アクリレート、ネオペ
ンチルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジメタアクリレート、２−フェノキシエチルアクリ
レート、ステアリルメタアクリレート、トリアリルシア
ヌレート、トリデシルアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ
メタアクリレート、またはトリプロピレンジアクリレー
トが挙げられる。
【００３１】本発明の放射線感受性組成物の好適な実施
の形態には、少なくとも１種の一官能性または二官能性
アクリレートもしくはメタアクリレートおよび少なくと
も１種のオリゴ官能性アクリレートもしくはメタアクリ
レートの組み合わせが含まれる。オリゴ官能性アクリレ
ートもしくはメタアクリレートは２または３以上のアク
リレート基またはメタアクリレート基を含有する化合物
である。
の形態には、少なくとも１種の一官能性または二官能性
アクリレートもしくはメタアクリレートおよび少なくと
も１種のオリゴ官能性アクリレートもしくはメタアクリ
レートの組み合わせが含まれる。オリゴ官能性アクリレ
ートもしくはメタアクリレートは２または３以上のアク
リレート基またはメタアクリレート基を含有する化合物
である。
【００３２】本発明で特に好適なのは、イソボルニル
アクリレートとジペンタエリスリトールアクリレートの
組み合わせである。本発明の放射線感受性組成物用にも
っとも好ましいのはイソボルニルアクリレートと、オリ
ゴ官能性アクリレートまたはメタアクリレートと、ホモ
ポリマーのガラス転移温度が―４０℃より低い、追加の
一官能性アクリレートまたはメタアクリレートとの組み
合わせである。
アクリレートとジペンタエリスリトールアクリレートの
組み合わせである。本発明の放射線感受性組成物用にも
っとも好ましいのはイソボルニルアクリレートと、オリ
ゴ官能性アクリレートまたはメタアクリレートと、ホモ
ポリマーのガラス転移温度が―４０℃より低い、追加の
一官能性アクリレートまたはメタアクリレートとの組み
合わせである。
【００３３】ホモポリマーのガラス転移温度が−４０℃
より低い、追加の一官能性アクリレートまたはメタアク
リレートとしては、例えば、メトキシアクリレート、イ
ソオクチルアクリレート、メタアクリル酸エステル１３
Ｃ、エチルトリグリコールメタアクリレート、トリデシ
ルアクリレートおよびラウリルアクリレートが挙げられ
る。本発明の放射線感受性組成物中にはこれらのアクリ
レート類およびメタアクリレート類の１種またはおそら
く数種が好ましくは０．５〜１２重量％の量で存在して
いる。
より低い、追加の一官能性アクリレートまたはメタアク
リレートとしては、例えば、メトキシアクリレート、イ
ソオクチルアクリレート、メタアクリル酸エステル１３
Ｃ、エチルトリグリコールメタアクリレート、トリデシ
ルアクリレートおよびラウリルアクリレートが挙げられ
る。本発明の放射線感受性組成物中にはこれらのアクリ
レート類およびメタアクリレート類の１種またはおそら
く数種が好ましくは０．５〜１２重量％の量で存在して
いる。
【００３４】化学線照射すると付加重合を開始すること
ができる光重合開始剤または光重合開始系は本発明の放
射線感受性組成物中に０．００１〜１０重量％、好まし
くは０．１〜７重量％、さらに好ましくは０．２〜５重
量％、特に０．３〜４重量％の量で導入される。もっと
も好適な量は放射線感受性組成物の他の成分によっても
影響を受けるので、この分野の専門家が一連の実験を行
って決定するのがもっともよい。
ができる光重合開始剤または光重合開始系は本発明の放
射線感受性組成物中に０．００１〜１０重量％、好まし
くは０．１〜７重量％、さらに好ましくは０．２〜５重
量％、特に０．３〜４重量％の量で導入される。もっと
も好適な量は放射線感受性組成物の他の成分によっても
影響を受けるので、この分野の専門家が一連の実験を行
って決定するのがもっともよい。
【００３５】そのような光重合開始剤または光重合開始
系の例としては、ベンゾインまたはベンゾイン誘導体、
例えばそのメチル−、イソプロピル−、ｎ−ブチル−ま
たはイソブチル−エーテル、対称または非対称置換ベン
ジルアセタール類、例えばベンジルジメチルアセタール
およびベンジル−１−メチル−１−エチルアセタール、
あるいはアシルアリールホスフィンオキサイド類、例え
ば２−メトキシベンゾイルジフェニルホスフィンオキサ
イド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホ
スフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイ
ルフェニル−ホスフィン酸エチルエステル、あるいは
２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィン
酸Ｎａ塩、あるいは置換および無置換キノン類、例えば
エチルアントラキノン、ベンゾアントラキノン、ベンゾ
フェノンまたは４，４′−ビス−（ジメチルアミノ）ベ
ンゾフェノンが挙げられる。これらの化合物は個別にま
たは混合して、および／または重合開始助剤と一緒に、
例えばエチルアントラキノンと４，４′−ビス−（ジメ
チルアミノ）ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテ
ルとトリフェニルホスフィン、ジアシルホスフィンオキ
サイドとターシャリーアミン類、およびアシルアリール
ホスフィンオキサイドとベンジルジメチルアセタールの
ような組み合わせを用いることができる。
系の例としては、ベンゾインまたはベンゾイン誘導体、
例えばそのメチル−、イソプロピル−、ｎ−ブチル−ま
たはイソブチル−エーテル、対称または非対称置換ベン
ジルアセタール類、例えばベンジルジメチルアセタール
およびベンジル−１−メチル−１−エチルアセタール、
あるいはアシルアリールホスフィンオキサイド類、例え
ば２−メトキシベンゾイルジフェニルホスフィンオキサ
イド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホ
スフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイ
ルフェニル−ホスフィン酸エチルエステル、あるいは
２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィン
酸Ｎａ塩、あるいは置換および無置換キノン類、例えば
エチルアントラキノン、ベンゾアントラキノン、ベンゾ
フェノンまたは４，４′−ビス−（ジメチルアミノ）ベ
ンゾフェノンが挙げられる。これらの化合物は個別にま
たは混合して、および／または重合開始助剤と一緒に、
例えばエチルアントラキノンと４，４′−ビス−（ジメ
チルアミノ）ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテ
ルとトリフェニルホスフィン、ジアシルホスフィンオキ
サイドとターシャリーアミン類、およびアシルアリール
ホスフィンオキサイドとベンジルジメチルアセタールの
ような組み合わせを用いることができる。
【００３６】本発明の放射線感受性組成物は１種または
２種以上の助剤を含有して放射線感受性記録材料の特性
プロフィル、従ってこの材料から製造されるフレキソ印
刷用印刷版の特性プロフィルを特定の用途に適したもの
に変えてもよい。これらの添加剤は、主に、可塑剤、熱
重合阻害剤、色剤、光互変添加剤、レリーフ構造改良
剤、架橋剤、酸化防止剤、オゾン劣化防止剤、充填剤、
フラックス剤、または離型剤である。それらの量は放射
線感受性組成物の４０重量％を超えてはならない。
２種以上の助剤を含有して放射線感受性記録材料の特性
プロフィル、従ってこの材料から製造されるフレキソ印
刷用印刷版の特性プロフィルを特定の用途に適したもの
に変えてもよい。これらの添加剤は、主に、可塑剤、熱
重合阻害剤、色剤、光互変添加剤、レリーフ構造改良
剤、架橋剤、酸化防止剤、オゾン劣化防止剤、充填剤、
フラックス剤、または離型剤である。それらの量は放射
線感受性組成物の４０重量％を超えてはならない。
【００３７】可塑剤を使用するのは、例えば放射線感受
性記録材料のある性質、例えば放射線感受性および加工
性、および印刷版を調製した後のそれらの特性、例えば
硬度および可撓性、を調整するためである。よく適して
いるのはポリマーバインダと相溶性の可塑剤である。そ
のような可塑剤の例としては、合成オリゴマー類または
樹脂類、例えばオリゴ−スチレン、スチレン−ブタジエ
ンのオリゴマー性共重合体類、ポリイソブチレン、ポリ
ブテン−１、１，２−および１，４−オリゴブタジエ
ン、オリゴペンタジエン類、およびオリゴブテン−１、
重量平均分子量３００〜２５０００のエチレン−プロピ
レン−ジエン・エラストマー類がある。ポリイソブテン
を放射線感受性組成物に可塑剤として適用することは例
えばＷＯ９３／１５４４１に記載されている。これらの
可塑剤は本発明の放射線感受性組成物に個別にまたは１
種または２種以上の異なる可塑剤と組み合わせて用いる
ことができる。
性記録材料のある性質、例えば放射線感受性および加工
性、および印刷版を調製した後のそれらの特性、例えば
硬度および可撓性、を調整するためである。よく適して
いるのはポリマーバインダと相溶性の可塑剤である。そ
のような可塑剤の例としては、合成オリゴマー類または
樹脂類、例えばオリゴ−スチレン、スチレン−ブタジエ
ンのオリゴマー性共重合体類、ポリイソブチレン、ポリ
ブテン−１、１，２−および１，４−オリゴブタジエ
ン、オリゴペンタジエン類、およびオリゴブテン−１、
重量平均分子量３００〜２５０００のエチレン−プロピ
レン−ジエン・エラストマー類がある。ポリイソブテン
を放射線感受性組成物に可塑剤として適用することは例
えばＷＯ９３／１５４４１に記載されている。これらの
可塑剤は本発明の放射線感受性組成物に個別にまたは１
種または２種以上の異なる可塑剤と組み合わせて用いる
ことができる。
【００３８】一つの好適な実施の形態においては、重量
平均分子量５００〜２５０００のエチレン−プロピレン
−ジエン・エラストマーが用いられるが、他の好適な実
施の形態においては、重量平均分子量３００〜１０００
０のポリブテン−１と重量平均分子量３００〜１０００
０のポリブタジエン−１，２の５：１〜１：５の比率の
組み合わせが用いられる。放射線感受性組成物に基づい
て５〜３０重量％の量が可塑剤として好ましい。
平均分子量５００〜２５０００のエチレン−プロピレン
−ジエン・エラストマーが用いられるが、他の好適な実
施の形態においては、重量平均分子量３００〜１０００
０のポリブテン−１と重量平均分子量３００〜１０００
０のポリブタジエン−１，２の５：１〜１：５の比率の
組み合わせが用いられる。放射線感受性組成物に基づい
て５〜３０重量％の量が可塑剤として好ましい。
【００３９】熱重合阻害剤は一般に本発明の放射線感受
性組成物に０．００１〜３重量％の量で添加される。熱
重合阻害剤自体は一般に化学線をほとんど吸収しない
が、光重合開始剤および／または光重合開始系が吸収す
る。そのような阻害剤の例としては、ヒドロキノン、ｐ
−メトキシフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−
クレゾール、β−ナフトール、フェノチアジンおよびニ
トロベンゼンが挙げられる。
性組成物に０．００１〜３重量％の量で添加される。熱
重合阻害剤自体は一般に化学線をほとんど吸収しない
が、光重合開始剤および／または光重合開始系が吸収す
る。そのような阻害剤の例としては、ヒドロキノン、ｐ
−メトキシフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−
クレゾール、β−ナフトール、フェノチアジンおよびニ
トロベンゼンが挙げられる。
【００４０】色剤、顔料および／または光互変材料を本
発明の放射線感受性組成物に２重量％以下の量で添加し
てもよい。それらは露光の際の特性の調整、同定、露光
結果の直接制御または美観上の目的で作用する。そのよ
うな添加剤並びに熱重合剤の阻害剤についてのタイプと
量の選択における前提要件は組成物全体の重合にすこし
も干渉しないということである。本発明に適している材
料の例としては、フェナジニウム−、フェノキサジニウ
ム−、アクリジニウム−およびフェノチアジニウムのク
ラスの可溶性染料である。
発明の放射線感受性組成物に２重量％以下の量で添加し
てもよい。それらは露光の際の特性の調整、同定、露光
結果の直接制御または美観上の目的で作用する。そのよ
うな添加剤並びに熱重合剤の阻害剤についてのタイプと
量の選択における前提要件は組成物全体の重合にすこし
も干渉しないということである。本発明に適している材
料の例としては、フェナジニウム−、フェノキサジニウ
ム−、アクリジニウム−およびフェノチアジニウムのク
ラスの可溶性染料である。
【００４１】放射線感受性材料は、本発明の放射線感受
性組成物を含有する少なくとも１つの層を、該層用の担
体、すなわち支持体とカバーフィルムとの間に備えて成
る。
性組成物を含有する少なくとも１つの層を、該層用の担
体、すなわち支持体とカバーフィルムとの間に備えて成
る。
【００４２】担体とカバーフィルムは市販のプラスチッ
クフィルムから成っていてもよい。これらのプラスチッ
クフィルムは例えばポリエチレンテレフタレートのよう
なポリエステルでできていてもよく、着色または無色で
もよく、化学線に透明または不透明でもよい。上述の担
体基板は例えば薄いアルミニウム板のようなシート材料
であってもよい。
クフィルムから成っていてもよい。これらのプラスチッ
クフィルムは例えばポリエチレンテレフタレートのよう
なポリエステルでできていてもよく、着色または無色で
もよく、化学線に透明または不透明でもよい。上述の担
体基板は例えば薄いアルミニウム板のようなシート材料
であってもよい。
【００４３】放射線感受性記録材料は放射線に感受性で
ある層を１層または２層以上含有していてもよい。放射
線感受性層を２層持つ放射線感受性記録材料の例が米国
特許第５，３７０，９６８号公報に記載されている。異
なるバインダを放射線感受性記録材料の他の層に使用し
てもよく、これらの他の層も任意的に放射線感受性であ
ってもよい。本発明のバインダも放射線感受性記録材料
の他の層にも使用することができる。
ある層を１層または２層以上含有していてもよい。放射
線感受性層を２層持つ放射線感受性記録材料の例が米国
特許第５，３７０，９６８号公報に記載されている。異
なるバインダを放射線感受性記録材料の他の層に使用し
てもよく、これらの他の層も任意的に放射線感受性であ
ってもよい。本発明のバインダも放射線感受性記録材料
の他の層にも使用することができる。
【００４４】本発明の放射線感受性記録材料はいわゆる
「二成分インク」と組み合わせて使用するのが好まし
い。
「二成分インク」と組み合わせて使用するのが好まし
い。
【００４５】本発明の放射線感受性記録材料から印刷版
を調製するには一般に下記の工程を包含する。
を調製するには一般に下記の工程を包含する。
【００４６】ａ）適当であるならば、２３０〜４５０ｎ
ｍ、特に３００〜４５０ｎｍの波長の化学線で背面側に
全面露光および／またはイメージ露光し； ｂ）２３０〜４５０ｎｍ、特に３００〜４５０ｎｍの波
長の化学線で前面側にイメージ領域の主露光（イメージ
露光）をし； ｃ）イメージ露光した放射線感受性層の未露光領域の洗
い落とし（現像）を適当な有機現像剤により行い、もし
も存在するならば、カバー層をもこの工程で洗い落と
し、 ｄ）乾燥し； ｅ）任意的に最終露光をし；そして ｆ）任意的にこのようにして得られた印刷版の後露光を
する。
ｍ、特に３００〜４５０ｎｍの波長の化学線で背面側に
全面露光および／またはイメージ露光し； ｂ）２３０〜４５０ｎｍ、特に３００〜４５０ｎｍの波
長の化学線で前面側にイメージ領域の主露光（イメージ
露光）をし； ｃ）イメージ露光した放射線感受性層の未露光領域の洗
い落とし（現像）を適当な有機現像剤により行い、もし
も存在するならば、カバー層をもこの工程で洗い落と
し、 ｄ）乾燥し； ｅ）任意的に最終露光をし；そして ｆ）任意的にこのようにして得られた印刷版の後露光を
する。
【００４７】適当な有機現像剤の例としては、脂肪族ま
たは芳香族炭化水素類、例えば、ｎ−ヘキサン、オクタ
ン、石油エーテル、リグロイン、リモネンその他のテル
ペン類、トルエン、キシレン、エチルベンゼンまたはイ
ソプロピルベンゼンあるいはそれらの溶剤の混合物；ケ
トン類、例えば、アセトンまたはメチルエチルケトン；
エ−テル類、例えば、ジ−ｎ−ブチルエーテル；エステ
ル類、例えば、エチルアセテート、エチルアセトアセテ
ート；ハロゲン化脂肪族炭化水素類、例えば、メチレン
クロライド、クロロホルム、トリクロロエタン、テトラ
クロロエチレン、ジクロロジフルオロエタン、またはこ
れらの溶剤の一種または数種を含有する混合物が挙げら
れる。これらの溶剤または溶剤混合物はさらに添加剤、
例えば界面活性剤およびエタノール、ｎ−ブタノール、
イソプロパノール、ｎ−ペンタノール、ベンジルアルコ
ール、メタノールなどのアルコール類を含有していても
よい。
たは芳香族炭化水素類、例えば、ｎ−ヘキサン、オクタ
ン、石油エーテル、リグロイン、リモネンその他のテル
ペン類、トルエン、キシレン、エチルベンゼンまたはイ
ソプロピルベンゼンあるいはそれらの溶剤の混合物；ケ
トン類、例えば、アセトンまたはメチルエチルケトン；
エ−テル類、例えば、ジ−ｎ−ブチルエーテル；エステ
ル類、例えば、エチルアセテート、エチルアセトアセテ
ート；ハロゲン化脂肪族炭化水素類、例えば、メチレン
クロライド、クロロホルム、トリクロロエタン、テトラ
クロロエチレン、ジクロロジフルオロエタン、またはこ
れらの溶剤の一種または数種を含有する混合物が挙げら
れる。これらの溶剤または溶剤混合物はさらに添加剤、
例えば界面活性剤およびエタノール、ｎ−ブタノール、
イソプロパノール、ｎ−ペンタノール、ベンジルアルコ
ール、メタノールなどのアルコール類を含有していても
よい。
【００４８】一般に用いられている、印刷版の後処理方
法には１８０〜４５０ｎｍの化学線への全面露光、可視
光での後露光、またはハロゲン含有溶剤での処理があ
る。
法には１８０〜４５０ｎｍの化学線への全面露光、可視
光での後露光、またはハロゲン含有溶剤での処理があ
る。
【００４９】工程ａ）およびｂ）に対する化学線の適当
な量（ドース）は文献記載の公知の方法を用いて決定す
ることができる（例えば、“Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏ
ｆＦｌｅｘｏｐｒｉｎｔｉｎｇ”， ＣＯＡＴＩＮＧ
Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ Ｔｈｏｍａｓ ＆ Ｃｏ．，
ＣＨ−９００１ Ｓｔ． Ｇａｌｌｅｎ， ３ｒｄｅｄ
ｉｔ． １９９１および“Ｆｌｅｘｏｇｒａｐｈｙ，
Ｐｒｉｎｃｉｐｌｅｓ ａｎｄ Ｐｒａｃｔｉｃｅ
ｓ”，ｂｙ ｔｈｅ ｆｏｕｎｄａｔｉｏｎｏｆ Ｆｌ
ｅｘｏｇｒａｐｈｉ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ａｓｓｏｃ
ｉａｔｉｏｎＩｎｃ．， Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ， Ｆｏｕ
ｒｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ， １９９５ 参照）。この量
は一般に露光ユニットが決まれば特異的露光時間により
調節する。
な量（ドース）は文献記載の公知の方法を用いて決定す
ることができる（例えば、“Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏ
ｆＦｌｅｘｏｐｒｉｎｔｉｎｇ”， ＣＯＡＴＩＮＧ
Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ Ｔｈｏｍａｓ ＆ Ｃｏ．，
ＣＨ−９００１ Ｓｔ． Ｇａｌｌｅｎ， ３ｒｄｅｄ
ｉｔ． １９９１および“Ｆｌｅｘｏｇｒａｐｈｙ，
Ｐｒｉｎｃｉｐｌｅｓ ａｎｄ Ｐｒａｃｔｉｃｅ
ｓ”，ｂｙ ｔｈｅ ｆｏｕｎｄａｔｉｏｎｏｆ Ｆｌ
ｅｘｏｇｒａｐｈｉ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ａｓｓｏｃ
ｉａｔｉｏｎＩｎｃ．， Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ， Ｆｏｕ
ｒｔｈ Ｅｄｉｔｉｏｎ， １９９５ 参照）。この量
は一般に露光ユニットが決まれば特異的露光時間により
調節する。
【００５０】一般にフレキソ印刷に用いる印刷版はレリ
ーフ深さが０．１〜７ｍｍである。印刷版と放射線感受
性記録媒体を用いたフレキソ印刷技術は、例えば、“Ｔ
ｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ Ｆｌｅｘｏｐｒｉｎｔｉｎ
ｇ”， ＣＯＡＴＩＮＧ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ Ｔｈ
ｏｍａｓ ＆ Ｃｏ．， ＣＨ−９００１ Ｓｔ．Ｇａ
ｌｌｅｎ， ３ｒｄ ｅｄｉｔ． １９９１および“Ｆ
ｌｅｘｏｇｒａｐｈｙ， Ｐｒｉｎｃｉｐｌｅｓ ａｎ
ｄ Ｐｒａｃｔｉｃｅｓ”，ｂｙ ｔｈｅｆｏｕｎｄａ
ｔｉｏｎ ｏｆ Ｆｌｅｘｏｇｒａｐｈｉｃ Ｔｅｃｈ
ｎｉｃａｌＡｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ Ｉｎｃ．， Ｎｅ
ｗ Ｙｏｒｋ， ＦｏｕｒｔｈＥｄｉｔｉｏｎ， １９
９５に記載されている。
ーフ深さが０．１〜７ｍｍである。印刷版と放射線感受
性記録媒体を用いたフレキソ印刷技術は、例えば、“Ｔ
ｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ Ｆｌｅｘｏｐｒｉｎｔｉｎ
ｇ”， ＣＯＡＴＩＮＧ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ Ｔｈ
ｏｍａｓ ＆ Ｃｏ．， ＣＨ−９００１ Ｓｔ．Ｇａ
ｌｌｅｎ， ３ｒｄ ｅｄｉｔ． １９９１および“Ｆ
ｌｅｘｏｇｒａｐｈｙ， Ｐｒｉｎｃｉｐｌｅｓ ａｎ
ｄ Ｐｒａｃｔｉｃｅｓ”，ｂｙ ｔｈｅｆｏｕｎｄａ
ｔｉｏｎ ｏｆ Ｆｌｅｘｏｇｒａｐｈｉｃ Ｔｅｃｈ
ｎｉｃａｌＡｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ Ｉｎｃ．， Ｎｅ
ｗ Ｙｏｒｋ， ＦｏｕｒｔｈＥｄｉｔｉｏｎ， １９
９５に記載されている。
【００５１】本発明の放射線感受性組成物の利点は、該
組成物から放射線感受性記録材料が任意の所望の厚さ
で、かつ任意の所望のレリーフ深さで調製できることで
ある。
組成物から放射線感受性記録材料が任意の所望の厚さ
で、かつ任意の所望のレリーフ深さで調製できることで
ある。
【００５２】本発明のさらなる利点は、該組成物から調
製した印刷版はＵＶ−Ｃを用いた後処理露光に対して露
光寛容度が高いことである。この後処理は一般に表面の
粘着性を除去するために適用される。
製した印刷版はＵＶ−Ｃを用いた後処理露光に対して露
光寛容度が高いことである。この後処理は一般に表面の
粘着性を除去するために適用される。
【００５３】
（実施例１）ブラベンダーミキサーを用いて、本発明の
式（Ｉ）のポリマーバインダ６０重量部を１４０℃で可
塑化した。ここで、式（Ｉ）において、ｎ＝１，ｍ＝
０，ｘ＝２，ｚ＝２であり、重量平均分子量は９４００
０、Ａ＝ポリスチレン、全量１８重量％；ＵＤ＝ポリイ
ソプレン、全量３４重量％、およびＨＤ＝ポリエチレン
−ブチレン、全量４８重量％である。このバインダはシ
ェルケミカル社よりクラトン（Ｋｒａｔｏｎ（登録商
標））ＴＫＧ １０１として市販されている。次いで、
１６重量部のポリブテン−１（分子量＝９５０）および
６重量部のポリブタジエン−１，２（分子量＝１００
０）を添加し、ポリマーバインダとともに混練りを上述
の温度で続け、均質なメルトとした。引き続き、イソボ
ルニルアクリレート１３．４部、２，４，６−トリ−ｔ
−ブチルフェノール０．６部、ベンジル−α，α−ジメ
チルケタール３部、ペンタエリスリチルトリアクリレー
ト１部、ザホン−レッド（Ｚａｐｈｏｎ−Ｒｅｄ）３３
５ ０．００５部からなる式中の残りの成分の混合物を
添加、混練りを３０分間続けた。溶融した均質な混合物
を放冷して放射線感受性組成物ＥＺ１を得た。個々の成
分の割合はすべて重量部である。
式（Ｉ）のポリマーバインダ６０重量部を１４０℃で可
塑化した。ここで、式（Ｉ）において、ｎ＝１，ｍ＝
０，ｘ＝２，ｚ＝２であり、重量平均分子量は９４００
０、Ａ＝ポリスチレン、全量１８重量％；ＵＤ＝ポリイ
ソプレン、全量３４重量％、およびＨＤ＝ポリエチレン
−ブチレン、全量４８重量％である。このバインダはシ
ェルケミカル社よりクラトン（Ｋｒａｔｏｎ（登録商
標））ＴＫＧ １０１として市販されている。次いで、
１６重量部のポリブテン−１（分子量＝９５０）および
６重量部のポリブタジエン−１，２（分子量＝１００
０）を添加し、ポリマーバインダとともに混練りを上述
の温度で続け、均質なメルトとした。引き続き、イソボ
ルニルアクリレート１３．４部、２，４，６−トリ−ｔ
−ブチルフェノール０．６部、ベンジル−α，α−ジメ
チルケタール３部、ペンタエリスリチルトリアクリレー
ト１部、ザホン−レッド（Ｚａｐｈｏｎ−Ｒｅｄ）３３
５ ０．００５部からなる式中の残りの成分の混合物を
添加、混練りを３０分間続けた。溶融した均質な混合物
を放冷して放射線感受性組成物ＥＺ１を得た。個々の成
分の割合はすべて重量部である。
【００５４】この放射線感受性組成物を０．１２５ｍｍ
厚のポリエステル箔とポリアミド塗布ポリエステル箔
（カバー層）の間に挟み、１４０℃の加熱されたプラテ
ンプレスにおいて２ｍｍのスペーサを置いて、外圧を加
えないで２分間圧縮する。引き続き、２８ｋｇ／ｃｍ2
の圧力を４分間加え、次いでサンプルをプレス内で上述
の圧力で約５５℃に冷却した。本発明の放射線感受性記
録材料ＥＡ１はいつでも取り外しできる状態になった。
厚のポリエステル箔とポリアミド塗布ポリエステル箔
（カバー層）の間に挟み、１４０℃の加熱されたプラテ
ンプレスにおいて２ｍｍのスペーサを置いて、外圧を加
えないで２分間圧縮する。引き続き、２８ｋｇ／ｃｍ2
の圧力を４分間加え、次いでサンプルをプレス内で上述
の圧力で約５５℃に冷却した。本発明の放射線感受性記
録材料ＥＡ１はいつでも取り外しできる状態になった。
【００５５】放射線感受性記録材料ＶＡ１を比較のため
に調製した。これは、本発明のバインダの代わりに市販
のポリスチレン−ポリブタジエンーポリスチレンブロッ
ク共重合体（クラトン（Ｋｒａｔｏｎ（登録商標））Ｄ
１１０７、シェルケミカル社製）をバインダとして用い
た以外はＥＡ１と類似の手順で行った。
に調製した。これは、本発明のバインダの代わりに市販
のポリスチレン−ポリブタジエンーポリスチレンブロッ
ク共重合体（クラトン（Ｋｒａｔｏｎ（登録商標））Ｄ
１１０７、シェルケミカル社製）をバインダとして用い
た以外はＥＡ１と類似の手順で行った。
【００５６】（実施例２）背面側露光と主露光の正確な
時間を決定し、次いで実施例１からの放射線記録材料Ｅ
Ａ１およびＶＡ１の全面露光に用いた。これらのサンプ
ルをさらに処理し、約３×３ｃｍのサイズの小片をそれ
ぞれから切り取り、秤量してからエステル含有印刷イン
ク（ジークヴェルク ドルックファルベン社（Ｓｉｇｗ
ｅｒｋ Ｄｒｕｃｋｆａｒｂｅｎ ＧｍｂＨ ＆ Ｃ
ｏ． ＫＧ； Ｓｉｅｇｂｕｒｇ）製カラー シリーズ
ＰＶ７７）に６時間浸漬した。このインクをサンプルか
ら吸着布で拭き取り、エチルアセテートで湿らせた布で
残存する痕跡量を除去した。このサンプルをふたたび秤
量し、相対的な重量増加を計算した。放射線感受性記録
材料ＥＡ１から調製したサンプルは相対的膨潤度１１％
を示した。これに対して、適当な方法で、同じ層厚の印
刷版を調製するための従来の市販の放射線感受性記録材
料と同等の厚さに調製したサンプルでは相対膨潤度が２
３〜３１％であることが観察された。同様の方法で放射
線感受性記録材料ＶＡＩから作製された対応するサンプ
ルは相対重量増加が２８％であった。
時間を決定し、次いで実施例１からの放射線記録材料Ｅ
Ａ１およびＶＡ１の全面露光に用いた。これらのサンプ
ルをさらに処理し、約３×３ｃｍのサイズの小片をそれ
ぞれから切り取り、秤量してからエステル含有印刷イン
ク（ジークヴェルク ドルックファルベン社（Ｓｉｇｗ
ｅｒｋ Ｄｒｕｃｋｆａｒｂｅｎ ＧｍｂＨ ＆ Ｃ
ｏ． ＫＧ； Ｓｉｅｇｂｕｒｇ）製カラー シリーズ
ＰＶ７７）に６時間浸漬した。このインクをサンプルか
ら吸着布で拭き取り、エチルアセテートで湿らせた布で
残存する痕跡量を除去した。このサンプルをふたたび秤
量し、相対的な重量増加を計算した。放射線感受性記録
材料ＥＡ１から調製したサンプルは相対的膨潤度１１％
を示した。これに対して、適当な方法で、同じ層厚の印
刷版を調製するための従来の市販の放射線感受性記録材
料と同等の厚さに調製したサンプルでは相対膨潤度が２
３〜３１％であることが観察された。同様の方法で放射
線感受性記録材料ＶＡＩから作製された対応するサンプ
ルは相対重量増加が２８％であった。
【００５７】（実施例３）（放射線感受性層＋支持体
の）層厚が２．８４ｍｍの印刷版を本発明の放射線記録
材料ＥＡＩから調製し、市販のフレキソ印刷機を使用し
てエステル含有フレキソ印刷インク（ジークヴェルク
ドルックファルベン社（Ｓｉｇｗｅｒｋ Ｄｒｕｃｋｆ
ａｒｂｅｎ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ． ＫＧ； Ｓｉｅｇ
ｂｕｒｇ）製カラー シリーズＰＶ７７）で印刷するの
に用いた。ポリエステルフィルムを６００００メートル
印刷する間、印刷されたイメージの品質に悪い変化は起
きなかった。従来の市販の印刷版は、膨潤度が大きすぎ
るため、相当する印刷インクで使用することができな
い。
の）層厚が２．８４ｍｍの印刷版を本発明の放射線記録
材料ＥＡＩから調製し、市販のフレキソ印刷機を使用し
てエステル含有フレキソ印刷インク（ジークヴェルク
ドルックファルベン社（Ｓｉｇｗｅｒｋ Ｄｒｕｃｋｆ
ａｒｂｅｎ ＧｍｂＨ ＆ Ｃｏ． ＫＧ； Ｓｉｅｇ
ｂｕｒｇ）製カラー シリーズＰＶ７７）で印刷するの
に用いた。ポリエステルフィルムを６００００メートル
印刷する間、印刷されたイメージの品質に悪い変化は起
きなかった。従来の市販の印刷版は、膨潤度が大きすぎ
るため、相当する印刷インクで使用することができな
い。
【００５８】（実施例４）実施例１に記載されたとおり
に放射線感受性記録材料ＥＡ２を調製した。ただし、放
射線感受性組成物にはイソボルニルアクリレート１２．
７部のみを導入し、トリデシルアクリレート０．７部を
補充添加した（ホモポリマーのＴｇ＝−７５℃）。これ
により、この記録材料から調製された印刷版の可撓性
は、他の物理的、化学的性質に何ら悪い変化をもたらす
ことなく、所望の向上をみせる。
に放射線感受性記録材料ＥＡ２を調製した。ただし、放
射線感受性組成物にはイソボルニルアクリレート１２．
７部のみを導入し、トリデシルアクリレート０．７部を
補充添加した（ホモポリマーのＴｇ＝−７５℃）。これ
により、この記録材料から調製された印刷版の可撓性
は、他の物理的、化学的性質に何ら悪い変化をもたらす
ことなく、所望の向上をみせる。
【００５９】
【発明の効果】本発明によれば、オゾン耐性が高く、エ
ステル類を含有する印刷インク中で膨潤する程度が少な
いことで特徴づけられるフレキソ印刷方法用印刷版が提
供される。
ステル類を含有する印刷インク中で膨潤する程度が少な
いことで特徴づけられるフレキソ印刷方法用印刷版が提
供される。
Claims (5)
- 【請求項１】 下記を含有することを特徴とする放射線
感受性組成物： ａ）少なくとも１種のポリマー性、熱可塑性エラストマ
ーバインダ、 ｂ）エチレン性不飽和末端基を有し、付加重合可能な少
なくとも１種の化合物、 ｃ）少なくとも１種の光重合開始剤および／または光重
合開始系、および ｄ）任意的な１種または数種の助剤 であって、前記ポリマー性、熱可塑性エラストマーバイ
ンダは式（Ｉ） 【化１】 （（Ａ）n −（ＨＤ））x −Ｙ−（（ＵＤ）−（Ａ）m ）z （Ｉ） 式中、Ａは重量平均分子量４０００〜２００００のポリ
ビニルアリール・ブロックであり、 ｍおよびｎはそれぞれ０または１であり、かつ、少なく
とも２つのポリビニルアリール・ブロックＡが分子中に
存在しなければならず、 ＨＤは重量平均分子量１００００〜１０００００共役ジ
エンの水素化ポリマー・ブロックであり、Ｙは多官能価
化合物であり、 ＵＤは重量平均分子量１０００〜８００００の共役ジエ
ンの未水素化ポリマー・ブロックであり、 ｘは２〜２０の整数、ｚは１〜１０の整数であり、ｘと
ｚの和は３〜３０であり、ポリビニルアリール・ブロッ
クの総数の重量比は４〜３５％である。 - 【請求項２】 前記式（Ｉ）において、ｘが２，３また
は４に等しく、ｚが１，２，３または４に等しく、ｘと
ｚの和が３，４，５または６に等しいことを特徴とする
請求項１記載の放射線感受性組成物。 - 【請求項３】 前記ポリマー性熱可塑性エラストマーバ
インダは式（ＩＩ） 【化２】 （Ａ−（ＨＤ））x −Ｙ−（ＵＤ）z （ＩＩ） 式中、Ａは重量平均分子量４０００〜２００００のポリ
ビニルアリール・ブロックであり、少なくとも２つのポ
リビニルアリール・ブロックが存在しなければならず、 ＨＤは重量平均分子量１００００〜１０００００共役ジ
エンの水素化ポリマー・ブロックであり、Ｙは多官能価
化合物であり、 ＵＤは重量平均分子量１０００〜８００００の共役ジエ
ンの未水素化ポリマー・ブロックであり、 ｘは２〜２０の整数、ｚは１〜１０の整数であり、ｘと
ｚの和は３〜３０であり、ポリビニルアリール・ブロッ
クの総数の重量比は４〜３５％である）で表される放射
状ブロック共重合体であることを特徴とする請求項１記
載の放射線感受性組成物。 - 【請求項４】 前記式（ＩＩ）において、ｘは２，３ま
たは４に等しく、ｚは１，２，３または４に等しく、か
つ、ｘとｚの和は３，４，５または６に等しいことを特
徴とする請求項３記載の放射線感受性組成物。 - 【請求項５】 担体と、カバーホイルと、少なくとも１
つの介在する光重合性層と、該担体とカバーホイルとの
間の任意的な追加層とを備え、前記光重合性層の少なく
とも１層が請求項１記載の放射線感受性組成物からなる
ことを特徴とする放射線感受性記録材料。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19628541.0 | 1996-07-16 | ||
| DE19628541A DE19628541A1 (de) | 1996-07-16 | 1996-07-16 | Strahlungsempfindliche Zusammensetzung und ein diese enthaltendes strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1073921A true JPH1073921A (ja) | 1998-03-17 |
Family
ID=7799897
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9191661A Pending JPH1073921A (ja) | 1996-07-16 | 1997-07-16 | 放射線感受性組成物およびこの組成物を含有する放射線感受性記録材料 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0819984B1 (ja) |
| JP (1) | JPH1073921A (ja) |
| DE (2) | DE19628541A1 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6373592B1 (en) | 1997-07-08 | 2002-04-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method and apparatus for generating image file |
| WO2005031459A1 (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-07 | Zeon Corporation | 感光性フレキソ版用ブロック共重合体組成物 |
| WO2005121896A1 (ja) * | 2004-06-11 | 2005-12-22 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | フレキソ印刷版用感光性樹脂 |
| JP2006528268A (ja) * | 2004-04-27 | 2006-12-14 | クレイトン・ポリマーズ・リサーチ・ベー・ベー | 光硬化性組成物および光硬化性組成物含むフレキソ印刷版 |
| US7785765B2 (en) | 2005-05-11 | 2010-08-31 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Photosensitive resin composition |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6326127B1 (en) * | 1998-12-31 | 2001-12-04 | Kraton Polymers U.S. Llc | Photo-curable polymer composition and flexographic printing plates containing the same |
| DE10100514A1 (de) | 2001-01-08 | 2002-07-11 | Basf Drucksysteme Gmbh | Verfahren zur Herstellung von thermisch vernetzten, lasergravierbaren Flexodruckelementen |
| DE10118987A1 (de) | 2001-04-18 | 2002-10-24 | Basf Drucksysteme Gmbh | Lasergravierbare Flexodruckelemente mit reliefbildenden elastomeren Schichten enthaltend syndiotaktisches 1,2,-Polybutadien |
| DE102007046641A1 (de) * | 2007-09-27 | 2009-04-09 | Carl Freudenberg Kg | Strahlungs-härtbare Elastomermischung |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3803457A1 (de) * | 1988-02-05 | 1989-08-17 | Basf Ag | Flaechenfoermiges lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial |
| US5496684A (en) * | 1993-09-17 | 1996-03-05 | Chase Elastomer Corporation | Photosensitive compositions and elements for flexographic printing |
| US5393841A (en) * | 1993-11-09 | 1995-02-28 | Shell Oil Company | Dissimilar arm asymmetric radial or star block copolymers for adhesives and sealants |
| KR960008405A (ko) * | 1994-08-10 | 1996-03-22 | 알베르투스 빌헬무스·요아네스 째스트라텐 | 광경화가능한 탄성중합체 조성물로부터의 플렉서 인쇄판 |
-
1996
- 1996-07-16 DE DE19628541A patent/DE19628541A1/de not_active Withdrawn
-
1997
- 1997-07-11 DE DE59707195T patent/DE59707195D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1997-07-11 EP EP97111787A patent/EP0819984B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-07-16 JP JP9191661A patent/JPH1073921A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6373592B1 (en) | 1997-07-08 | 2002-04-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method and apparatus for generating image file |
| JPWO2005031459A1 (ja) * | 2003-09-25 | 2007-11-15 | 日本ゼオン株式会社 | 感光性フレキソ版用ブロック共重合体組成物 |
| WO2005031459A1 (ja) * | 2003-09-25 | 2005-04-07 | Zeon Corporation | 感光性フレキソ版用ブロック共重合体組成物 |
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| US7318985B2 (en) | 2003-09-25 | 2008-01-15 | Zeon Corporation | Block copolymer composition for photosensitive flexographic plate |
| JP2006528268A (ja) * | 2004-04-27 | 2006-12-14 | クレイトン・ポリマーズ・リサーチ・ベー・ベー | 光硬化性組成物および光硬化性組成物含むフレキソ印刷版 |
| US7241540B2 (en) * | 2004-04-27 | 2007-07-10 | Kraton Polymers U.S. Llc | Photocurable compositions and flexographic printing plates comprising the same |
| JPWO2005121896A1 (ja) * | 2004-06-11 | 2008-04-10 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | フレキソ印刷版用感光性樹脂 |
| KR100833743B1 (ko) | 2004-06-11 | 2008-05-29 | 아사히 가세이 케미칼즈 가부시키가이샤 | 플렉소 인쇄판용 감광성 수지 |
| WO2005121896A1 (ja) * | 2004-06-11 | 2005-12-22 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | フレキソ印刷版用感光性樹脂 |
| JP4651037B2 (ja) * | 2004-06-11 | 2011-03-16 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | フレキソ印刷版用感光性樹脂 |
| US7960088B2 (en) | 2004-06-11 | 2011-06-14 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Photosensitive resin for flexographic printing plate |
| US7785765B2 (en) | 2005-05-11 | 2010-08-31 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Photosensitive resin composition |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0819984A1 (de) | 1998-01-21 |
| DE59707195D1 (de) | 2002-06-13 |
| DE19628541A1 (de) | 1998-01-22 |
| EP0819984B1 (de) | 2002-05-08 |
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