JPS6061011A - 脱気・消泡装置 - Google Patents
脱気・消泡装置Info
- Publication number
- JPS6061011A JPS6061011A JP16818983A JP16818983A JPS6061011A JP S6061011 A JPS6061011 A JP S6061011A JP 16818983 A JP16818983 A JP 16818983A JP 16818983 A JP16818983 A JP 16818983A JP S6061011 A JPS6061011 A JP S6061011A
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- JP
- Japan
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- pressure vessel
- pressure
- pure water
- vessel
- sample liquid
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- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D19/00—Degasification of liquids
- B01D19/0063—Regulation, control including valves and floats
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は試料液中に含まれる微小な気泡を除去する技術
に関し1%に試料液の微粒子計測装置に付設して計測の
信頼性を向上することができる技・術に関するものであ
る。
に関し1%に試料液の微粒子計測装置に付設して計測の
信頼性を向上することができる技・術に関するものであ
る。
一般に半導体装置の製造プロセスでは、エツチングやそ
の他の化学処理、水洗・洗浄等の処理液として種々の薬
液や純水が使用される。しかしながら、これらの薬液や
純水(以下、試料液と称する)中に微粒子、つまり微細
な異物が存在していると、液処理によってこれらの微粒
子が半導体基板表面に付着し、その部分の液処理効果が
低下されて半導体素子の性能が劣化され、更には半導体
素子としての機能を果さなくなることもある。したがっ
て、半導体装置を安定KfJす9高信頼度で製造するた
めKは、試料液の純度が高いことも必要であるが、その
液中に含まれる微粒子が少ないことあるいは絶無である
ことが要求される。
の他の化学処理、水洗・洗浄等の処理液として種々の薬
液や純水が使用される。しかしながら、これらの薬液や
純水(以下、試料液と称する)中に微粒子、つまり微細
な異物が存在していると、液処理によってこれらの微粒
子が半導体基板表面に付着し、その部分の液処理効果が
低下されて半導体素子の性能が劣化され、更には半導体
素子としての機能を果さなくなることもある。したがっ
て、半導体装置を安定KfJす9高信頼度で製造するた
めKは、試料液の純度が高いことも必要であるが、その
液中に含まれる微粒子が少ないことあるいは絶無である
ことが要求される。
このため試料液中に含まれる微粒子を計測してこれな管
理することが必要となっている。そのため、レーザ光を
試料液に投射させ試料液中に含まれている微粒子による
レーザ光の散乱光を検出することKより微粒子の計測を
行なう装置が考えられる。しかしながら、この装置では
試料液中に気泡が含まれているとこの気泡がレーザ光を
散乱させてしまい、これt微粒子として誤検出するおそ
れがある。この気泡は試料液の僅かな移動、例えば試料
液の容郡移し換えや容器の振動によって簡単に発生する
ため、この気泡は多数でこれを無視することはできない
。したがって、前述した装置をそのまま使用したのでは
微粒子と気泡を区別なく計測してしま〜・、正確な計測
を行なうことができず、ひ(・ては高信頼性の半導体装
置を製造することができなくなるという問題がある。
理することが必要となっている。そのため、レーザ光を
試料液に投射させ試料液中に含まれている微粒子による
レーザ光の散乱光を検出することKより微粒子の計測を
行なう装置が考えられる。しかしながら、この装置では
試料液中に気泡が含まれているとこの気泡がレーザ光を
散乱させてしまい、これt微粒子として誤検出するおそ
れがある。この気泡は試料液の僅かな移動、例えば試料
液の容郡移し換えや容器の振動によって簡単に発生する
ため、この気泡は多数でこれを無視することはできない
。したがって、前述した装置をそのまま使用したのでは
微粒子と気泡を区別なく計測してしま〜・、正確な計測
を行なうことができず、ひ(・ては高信頼性の半導体装
置を製造することができなくなるという問題がある。
本発明の目的は試料液中の気泡を効果的に除去し、これ
により微粒子計測装置における微粒子の計測を迅速かつ
高精度に行なうことを可能にした脱気・消泡装置を提供
することにある。
により微粒子計測装置における微粒子の計測を迅速かつ
高精度に行なうことを可能にした脱気・消泡装置を提供
することにある。
本発明め前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。
本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであ
ろう。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
すなわち、試料液の通路一部に試料液を一時的に貯える
圧力容器を設けると共に、この圧力容器内の気圧を減圧
および加圧する圧力制御手段を付設することにより、圧
力容器内の試料液は減圧により脱気され、加圧により消
泡されて内部の気泡を確実に除去でき、これにより微粒
子計測装置においても微粒子のみを高精度に計測するこ
とができ、半導体装置の製造においてもその信頼性を向
上することができるものである。
圧力容器を設けると共に、この圧力容器内の気圧を減圧
および加圧する圧力制御手段を付設することにより、圧
力容器内の試料液は減圧により脱気され、加圧により消
泡されて内部の気泡を確実に除去でき、これにより微粒
子計測装置においても微粒子のみを高精度に計測するこ
とができ、半導体装置の製造においてもその信頼性を向
上することができるものである。
図は本発明の一実施例装置を示し、試料液として半導体
装置の製造工程における洗浄用の純水を使用した例であ
る。この純水1は図外の供給源から吸水容器2に一坦入
れられ、脱気・消泡装置3によって気泡が除去された後
に、必要に応じて一体に付設された微粒子計測装置4に
て微粒子が計測され、その後排水容器5に入れられる。
装置の製造工程における洗浄用の純水を使用した例であ
る。この純水1は図外の供給源から吸水容器2に一坦入
れられ、脱気・消泡装置3によって気泡が除去された後
に、必要に応じて一体に付設された微粒子計測装置4に
て微粒子が計測され、その後排水容器5に入れられる。
前記脱気嗜消泡装置3は、密封状の圧力容器6を有する
と共に、この圧力容器6内の気圧を増減する圧力制御手
段7とを有している。圧力容器6はその底部と前記吸水
容器2とを管路8にて接続し、その管路8には開閉弁9
と圧力センサ10を介装する。この圧力センナ10は圧
力容器6内の純水の有無を検出し、この検出に基づいて
微粒子計測装置4をコントロールする。一方、圧力容器
6内と前記排水容器5とを管路11にて接続し。
と共に、この圧力容器6内の気圧を増減する圧力制御手
段7とを有している。圧力容器6はその底部と前記吸水
容器2とを管路8にて接続し、その管路8には開閉弁9
と圧力センサ10を介装する。この圧力センナ10は圧
力容器6内の純水の有無を検出し、この検出に基づいて
微粒子計測装置4をコントロールする。一方、圧力容器
6内と前記排水容器5とを管路11にて接続し。
この管路11には開閉弁12.ニードルバルブ13を介
装しかつ前記微粒子計測装置4(特にセンサ部)を配置
している。更に圧力容器6は超音波洗浄機14の水槽1
5内に配置され、超音波洗浄機14によって容器全体が
超音波振動される。図中、16は゛レベルセンサでアル
。
装しかつ前記微粒子計測装置4(特にセンサ部)を配置
している。更に圧力容器6は超音波洗浄機14の水槽1
5内に配置され、超音波洗浄機14によって容器全体が
超音波振動される。図中、16は゛レベルセンサでアル
。
他方、前記圧力容器6には上部に管路17が連通され圧
力制御手段7に接続される。即ち、管路17の先端には
閉管路18が接続され、この閉管路18にバキュームコ
ンプレッサポンプ19およびその両側に切換弁20と2
1が介装される。また、管路17には圧力計22.圧力
スイッチ23と24が介装され、閉管路18にはフィル
タ25が介装される。更に、閉管路18の一部には開放
管路26が接続されると共に、この開放管路26には開
閉弁27および互に逆方向に接続した絞り弁28.29
’&介装している。なお、前記開閉弁9.12.27や
切換弁20.21には電磁弁を使用している。
力制御手段7に接続される。即ち、管路17の先端には
閉管路18が接続され、この閉管路18にバキュームコ
ンプレッサポンプ19およびその両側に切換弁20と2
1が介装される。また、管路17には圧力計22.圧力
スイッチ23と24が介装され、閉管路18にはフィル
タ25が介装される。更に、閉管路18の一部には開放
管路26が接続されると共に、この開放管路26には開
閉弁27および互に逆方向に接続した絞り弁28.29
’&介装している。なお、前記開閉弁9.12.27や
切換弁20.21には電磁弁を使用している。
次に以上の構成の脱気・消泡装置の作用を説明する。
(1)吸水
切換弁20を連通位置に切換える一方(切換弁21は開
放状態)開閉弁9を開き、バキュームコンプレッサポン
プ19を作動させる。これにより、管路17と閉管路1
8な通して圧力容器内は減圧され差圧によって吸水容器
2内の純水が管路8を通して圧力容器6内に吸水される
。吸水量はレベルセンサ161Cより検出されコントロ
ールされる。
放状態)開閉弁9を開き、バキュームコンプレッサポン
プ19を作動させる。これにより、管路17と閉管路1
8な通して圧力容器内は減圧され差圧によって吸水容器
2内の純水が管路8を通して圧力容器6内に吸水される
。吸水量はレベルセンサ161Cより検出されコントロ
ールされる。
(2)脱気
圧力容器6内に所定量の純水を入れた後、開閉弁9を閉
じる一方、バキュームコンプレッサポンプ19を継続し
て作動することにより圧力容器6内を減圧する。この圧
力(負圧)は予の設定しである圧力となるように圧力ス
イッチ23で検知かつコントロールし、一定時間その負
圧に保つ。この間超音波洗浄機14を作動させて圧力容
器6、つまり純水を超音波振動させる。この減圧と振動
により純水中の気泡は純水から取り除かれ、所謂脱気が
行なわれる。
じる一方、バキュームコンプレッサポンプ19を継続し
て作動することにより圧力容器6内を減圧する。この圧
力(負圧)は予の設定しである圧力となるように圧力ス
イッチ23で検知かつコントロールし、一定時間その負
圧に保つ。この間超音波洗浄機14を作動させて圧力容
器6、つまり純水を超音波振動させる。この減圧と振動
により純水中の気泡は純水から取り除かれ、所謂脱気が
行なわれる。
(3)消泡
脱気後1、切換弁20と21を夫々逆方向に作動すれば
、バキュームコンプレッサポンプ19の吐出側が管路1
7に連通し、これにより圧力容器6内は加圧される。こ
の圧力は大気圧以上に予め設定しており、圧力スイッチ
24でこれを検出かつコントロールしてこの状態を一定
時間保つ。コレにより、純水中の超微粒気泡は純水中に
溶は偽書せられ、気泡としては存在しなくなり所謂消泡
が行なわれる。
、バキュームコンプレッサポンプ19の吐出側が管路1
7に連通し、これにより圧力容器6内は加圧される。こ
の圧力は大気圧以上に予め設定しており、圧力スイッチ
24でこれを検出かつコントロールしてこの状態を一定
時間保つ。コレにより、純水中の超微粒気泡は純水中に
溶は偽書せられ、気泡としては存在しなくなり所謂消泡
が行なわれる。
(4)送水
以上のようにして脱気、消泡された純水は、開閉弁12
を開くことにより管路11を通して排水容器5に送水さ
れる。そして、この送水の途中で微粒子計測装置4によ
り純水中の微粒子が計測されるが、このとき純水中の気
泡は全て除去されているために誤計測が生じることはな
い。圧力容器6から純水が完全に排水されたか否かは、
センサによって検知される。
を開くことにより管路11を通して排水容器5に送水さ
れる。そして、この送水の途中で微粒子計測装置4によ
り純水中の微粒子が計測されるが、このとき純水中の気
泡は全て除去されているために誤計測が生じることはな
い。圧力容器6から純水が完全に排水されたか否かは、
センサによって検知される。
なお、絞り弁28.29は、圧力容器6が負圧から正圧
あるいは正゛圧から負圧に変化される際に急激な圧力変
化を防いで容器内の純水中に気泡が生じないようにする
ダンパとして作用する。
あるいは正゛圧から負圧に変化される際に急激な圧力変
化を防いで容器内の純水中に気泡が生じないようにする
ダンパとして作用する。
(1)試料液としての純水な圧力容器内に入れた上で容
器内を減圧し、次いで加圧しているので、減圧によって
脱気を行ない、加圧によって気泡を溶は込ませて消泡な
行なうことができ、これにより純水中の気泡を微細気泡
に到るまで有効に除去することができる。
器内を減圧し、次いで加圧しているので、減圧によって
脱気を行ない、加圧によって気泡を溶は込ませて消泡な
行なうことができ、これにより純水中の気泡を微細気泡
に到るまで有効に除去することができる。
(2)試料液中の気泡を確実に除去できるので、試料液
を微粒子計測装置におい℃微粒子計測を行なう前に脱気
、消泡な行なえば、気泡による計測誤差を確実に防止で
き、計測精度を向上できる。したがって、これを半導体
装置の製造工程に適用すれば、高信頼性の半導体装置を
製造できる。
を微粒子計測装置におい℃微粒子計測を行なう前に脱気
、消泡な行なえば、気泡による計測誤差を確実に防止で
き、計測精度を向上できる。したがって、これを半導体
装置の製造工程に適用すれば、高信頼性の半導体装置を
製造できる。
(3)圧力制御手段をバキュームコンプレッサポンプと
一対の切換弁とで構成しているので、切換弁の切換動作
だけで容易に圧力容器内の圧力を減圧。
一対の切換弁とで構成しているので、切換弁の切換動作
だけで容易に圧力容器内の圧力を減圧。
加圧制御できる。
(4)減圧時に圧力容器内の試料液を超音波振動させて
いるので、脱気を効果的に行なうことができる。
いるので、脱気を効果的に行なうことができる。
(5ン 絞り弁により圧力容器内の圧力変化スピードを
低減しているので、急激な圧力変化に伴なう新たな気泡
の発生を防止することもできる。
低減しているので、急激な圧力変化に伴なう新たな気泡
の発生を防止することもできる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例にもとづき
具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。たとえば、試料液はエ
ツチング液やその他の薬液であっ℃も同様に脱気、消泡
できる。また、開閉弁、切換弁や管路の構成はその組合
せや接続系統を適宜変化させることもできる。
具体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。たとえば、試料液はエ
ツチング液やその他の薬液であっ℃も同様に脱気、消泡
できる。また、開閉弁、切換弁や管路の構成はその組合
せや接続系統を適宜変化させることもできる。
以上の説明では主とじ℃本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である半導体装置製造工程
における処理薬液や洗浄水の脱気。
をその背景となった利用分野である半導体装置製造工程
における処理薬液や洗浄水の脱気。
消泡に適用した場合について説明したが、それに限定さ
れるものではなく種々の分野における薬液や水の脱気、
消泡にも同様にして適用することができる。
れるものではなく種々の分野における薬液や水の脱気、
消泡にも同様にして適用することができる。
図は本発明の一実施例装置の全体構成図である。
1・・・試料液(純水)、2・・・吸水容器、3・・・
脱気・消泡装置、4・・・微粒子計測装置、5・・・排
水容器、6・・・圧力容器、7・・・圧力制御手段、9
・・・開閉弁、12・・・開閉弁、14・・・超音波振
動機、19・・・バキュームコンプレッサポンプ、20
.21・・・切換弁。 27・・・開閉弁、28.29・・・絞り弁。 代理人 弁理士 高 橋 明 夫 第1頁の続き ■Int、CI、’ 識別記号 // C30B 33700 @発明者山1)邦夫 @発明者 物化 洋− 庁内整理番号 神奈川県足柄上郡中井町久所30幡地 日立電子エンジ
ニアリング株式会社内 小平市上水木町145幡地 株式会社日立製作所デバイ
ス開発センタ内
脱気・消泡装置、4・・・微粒子計測装置、5・・・排
水容器、6・・・圧力容器、7・・・圧力制御手段、9
・・・開閉弁、12・・・開閉弁、14・・・超音波振
動機、19・・・バキュームコンプレッサポンプ、20
.21・・・切換弁。 27・・・開閉弁、28.29・・・絞り弁。 代理人 弁理士 高 橋 明 夫 第1頁の続き ■Int、CI、’ 識別記号 // C30B 33700 @発明者山1)邦夫 @発明者 物化 洋− 庁内整理番号 神奈川県足柄上郡中井町久所30幡地 日立電子エンジ
ニアリング株式会社内 小平市上水木町145幡地 株式会社日立製作所デバイ
ス開発センタ内
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、気泡を含んだ試料液の通路一部に設は工試料液を一
時的に停留させる密封状の圧力容器と、この圧力容器内
の気圧を減圧しかつ次いで加圧する圧力制御手段とを備
えることを特徴とする脱気・消泡装置。 2、圧力制御手段は、圧力容器に連通する管路の先に設
けた閉管路に介装したバキュームコンプレッサポンプと
、このポンプの両側において前記閉管路を選択的に開放
或いは連通ずる切換弁とを有する特許請求の範囲第1項
記載の脱気・消泡装置。 3、圧力容器は超音波振動機を付設してなる特許請求の
範囲第1項又は第2項記載の脱気・消泡装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16818983A JPS6061011A (ja) | 1983-09-14 | 1983-09-14 | 脱気・消泡装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16818983A JPS6061011A (ja) | 1983-09-14 | 1983-09-14 | 脱気・消泡装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6061011A true JPS6061011A (ja) | 1985-04-08 |
Family
ID=15863430
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16818983A Pending JPS6061011A (ja) | 1983-09-14 | 1983-09-14 | 脱気・消泡装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6061011A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62211920A (ja) * | 1986-03-12 | 1987-09-17 | Toshiba Corp | レジスト液供給装置 |
JPS63264107A (ja) * | 1987-04-17 | 1988-11-01 | Brother Ind Ltd | 脱気装置 |
JPH01136339A (ja) * | 1987-11-24 | 1989-05-29 | Kurita Water Ind Ltd | 洗浄装置 |
JPH0685001U (ja) * | 1993-05-18 | 1994-12-06 | 佳英 柴野 | 脱気装置 |
US5900045A (en) * | 1997-04-18 | 1999-05-04 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.Ltd. | Method and apparatus for eliminating air bubbles from a liquid dispensing line |
KR100841846B1 (ko) | 2006-11-03 | 2008-06-27 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 임플란트 공정용 쿨링 챔버 |
JP2019006626A (ja) * | 2017-06-23 | 2019-01-17 | 株式会社ダイセル | ナノダイヤモンド分散液製造方法およびナノダイヤモンド分散液 |
-
1983
- 1983-09-14 JP JP16818983A patent/JPS6061011A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62211920A (ja) * | 1986-03-12 | 1987-09-17 | Toshiba Corp | レジスト液供給装置 |
JPH0248137B2 (ja) * | 1986-03-12 | 1990-10-24 | Toshiba Kk | |
JPS63264107A (ja) * | 1987-04-17 | 1988-11-01 | Brother Ind Ltd | 脱気装置 |
JPH01136339A (ja) * | 1987-11-24 | 1989-05-29 | Kurita Water Ind Ltd | 洗浄装置 |
JPH0685001U (ja) * | 1993-05-18 | 1994-12-06 | 佳英 柴野 | 脱気装置 |
US5900045A (en) * | 1997-04-18 | 1999-05-04 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.Ltd. | Method and apparatus for eliminating air bubbles from a liquid dispensing line |
KR100841846B1 (ko) | 2006-11-03 | 2008-06-27 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 임플란트 공정용 쿨링 챔버 |
JP2019006626A (ja) * | 2017-06-23 | 2019-01-17 | 株式会社ダイセル | ナノダイヤモンド分散液製造方法およびナノダイヤモンド分散液 |
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