JPS6059508A - 磁気ヘツドの製法 - Google Patents
磁気ヘツドの製法Info
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- JPS6059508A JPS6059508A JP16788683A JP16788683A JPS6059508A JP S6059508 A JPS6059508 A JP S6059508A JP 16788683 A JP16788683 A JP 16788683A JP 16788683 A JP16788683 A JP 16788683A JP S6059508 A JPS6059508 A JP S6059508A
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- magnetic
- heat treatment
- core
- amorphous
- magnetic field
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/147—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive with cores being composed of metal sheets, i.e. laminated cores with cores composed of isolated magnetic layers, e.g. sheets
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は非晶質磁性コアの磁気コアより成る磁気ヘッド
の製法に係わる。
の製法に係わる。
背景技術とその問題点
液体急冷法、スパッタリング法、めっき法尋で作成した
非晶質薄膜磁性材料は、碍否が回避されること、耐摩耗
性にすぐれていることなどの利点を有することから、磁
気ヘッドの８気コア材として脚光を浴びるに至っている
。
非晶質薄膜磁性材料は、碍否が回避されること、耐摩耗
性にすぐれていることなどの利点を有することから、磁
気ヘッドの８気コア材として脚光を浴びるに至っている
。
この非晶質磁性材料を、磁気ヘッドのロア材として適用
する場合には、高い飽和磁束密度Ｂｓと、透磁率μが特
に重要となる。飽和磁束密度Ｂｓは、材料固有の量であ
るが、透磁率μに関しては、この薄膜状に形成された非
晶質磁性材料における誘導磁気異方性を除去して等方的
にすることによって、透磁率μを大幅に改善できること
が知られている。
する場合には、高い飽和磁束密度Ｂｓと、透磁率μが特
に重要となる。飽和磁束密度Ｂｓは、材料固有の量であ
るが、透磁率μに関しては、この薄膜状に形成された非
晶質磁性材料における誘導磁気異方性を除去して等方的
にすることによって、透磁率μを大幅に改善できること
が知られている。
一方、磁気ヘッドのコア材としての非晶質磁性材料とし
ては、遷移金属、例えばＦｅ、Ｃｏと、非晶質化のため
の金属、例えばメタロイドのＢ 、 Ｔａとの合金、Ｆ
ｅ −Ｃｏ −Ｂ −Ｔａ合金が挙げられるが、この場
合、その遷移金属のＦｅ及びＣｏの含有量によって、そ
の結晶化温度Ｔｘと、キュリ一温度Ｔｃとの大小関係が
相違する。すなわち、上述のＦｅ −Ｃｏ −Ｂ −Ｔ
ａ合金においてそのＦｅ及びＣＯが７６原子％未満では
、Ｔｘ ） Ｔｃとなるが、ｉ”ｅ及びＣＯが７６原子
％以上となると、Ｔｘ（Ｔｃとなる。
ては、遷移金属、例えばＦｅ、Ｃｏと、非晶質化のため
の金属、例えばメタロイドのＢ 、 Ｔａとの合金、Ｆ
ｅ −Ｃｏ −Ｂ −Ｔａ合金が挙げられるが、この場
合、その遷移金属のＦｅ及びＣｏの含有量によって、そ
の結晶化温度Ｔｘと、キュリ一温度Ｔｃとの大小関係が
相違する。すなわち、上述のＦｅ −Ｃｏ −Ｂ −Ｔ
ａ合金においてそのＦｅ及びＣＯが７６原子％未満では
、Ｔｘ ） Ｔｃとなるが、ｉ”ｅ及びＣＯが７６原子
％以上となると、Ｔｘ（Ｔｃとなる。
非晶質磁性合金において、その誘導１磁気異方性を除去
する方法としては、その結晶化温度とキュリ一温度Ｔｃ
とがＴｘ ） ＴｃＯものについては、この非晶質磁性
コアなＴｃ以上でＴｘ以下での加熱温度から例えば水中
急冷する方法が知られている。
する方法としては、その結晶化温度とキュリ一温度Ｔｃ
とがＴｘ ） ＴｃＯものについては、この非晶質磁性
コアなＴｃ以上でＴｘ以下での加熱温度から例えば水中
急冷する方法が知られている。
しかしながら、この方法はＴｘ （Ｔｃの場合に適用す
ることはできない。
ることはできない。
磁気ヘッドの磁気コア材としての非晶質磁性材料は、上
述したＴｘ ） Ｔｃを呈する組成のものが用いられる
場合に限られず、例えばその飽和磁束密度Ｂｓを高める
べく、Ｆｅ及びＣＯが８０原子％以上の例えばＦｅ４５
Ｃ０７５５Ｂ１８ Ｔａ２の組成を有し、Ｔｘ（Ｔｃ
の非晶質磁性材料が用いられる場合があり、この場合、
上述した水中急冷法による誘導磁気異方性の除去の方法
は適用できな゛い。
述したＴｘ ） Ｔｃを呈する組成のものが用いられる
場合に限られず、例えばその飽和磁束密度Ｂｓを高める
べく、Ｆｅ及びＣＯが８０原子％以上の例えばＦｅ４５
Ｃ０７５５Ｂ１８ Ｔａ２の組成を有し、Ｔｘ（Ｔｃ
の非晶質磁性材料が用いられる場合があり、この場合、
上述した水中急冷法による誘導磁気異方性の除去の方法
は適用できな゛い。
そして、Ｔｘ （ＴｃであるかＴｘ ） Ｔｃであるか
に係わりなく、その誘導磁気異方性を消失させて透磁率
μの向上をはかる処理方法として磁場中熱処理が提案さ
れている。
に係わりなく、その誘導磁気異方性を消失させて透磁率
μの向上をはかる処理方法として磁場中熱処理が提案さ
れている。
このａ場中熱処理として知られているものには、回転磁
場中での熱処理法（以下ＲＦＡ法という）がある。この
ＲＦＡ法は非晶質＄性薄膜の面にほぼ沿５ｆｆｉ内で磁
場と非晶質磁性薄膜とが相対的に回転する出湯中で熱処
理を行うものである。また他の方法としては、互いに直
交する磁場中での熱処理法（以下ＣＦＡ法という）があ
る。このＣＦＡ法は、非晶質磁性薄膜の面にほぼ沿う一
方向の磁界中で熱処理を施し、一方向の磁化をなし、そ
の後これと直交する方向の所要の強さの磁界中での熱処
理によって結果的に等磁化１〜て異方性の消失を行うも
のである。
場中での熱処理法（以下ＲＦＡ法という）がある。この
ＲＦＡ法は非晶質＄性薄膜の面にほぼ沿５ｆｆｉ内で磁
場と非晶質磁性薄膜とが相対的に回転する出湯中で熱処
理を行うものである。また他の方法としては、互いに直
交する磁場中での熱処理法（以下ＣＦＡ法という）があ
る。このＣＦＡ法は、非晶質磁性薄膜の面にほぼ沿う一
方向の磁界中で熱処理を施し、一方向の磁化をなし、そ
の後これと直交する方向の所要の強さの磁界中での熱処
理によって結果的に等磁化１〜て異方性の消失を行うも
のである。
したがって、非晶質磁性材料を磁気コア材とした磁気ヘ
ッドを製造する場合、予めこの非晶質磁性コアに対して
上述した水中急冷法、ＲＦＡ法、ＣＦＡ法等による異方
性除去の処理を行っておき、この処理のなされた磁気コ
ア材を用いて磁気ヘッドの製造を行うことが考えられる
。ところが、実際の出猟ヘッドの製造工程においては、
その非晶質磁性コア劇とガードコア材との接合、またコ
アに対する５ｉ０２等のギャップスペーサ−のスパッタ
リング、更にはこのギャップスペーサ−を挟んでコア間
を接合するギャップ形成の接合等の各工程が、熱処理を
伴うものであり、この熱処理によって再び透磁率を低下
させてしまう恐れがある。したがってこれら各工程にお
ける加熱温度は透磁率低下を招来することのない例えば
２００℃以下に選定されねばならない。ところが、この
ような低い温度で非晶質磁性コアとガードコアとを無機
接着剤で接合することは充分高い接着強度が得られず、
またギャップスペーサ−のスパッタリングにおける基体
温度としても不充分であって被着強度が充分得られない
という欠点が生じてくる。
ッドを製造する場合、予めこの非晶質磁性コアに対して
上述した水中急冷法、ＲＦＡ法、ＣＦＡ法等による異方
性除去の処理を行っておき、この処理のなされた磁気コ
ア材を用いて磁気ヘッドの製造を行うことが考えられる
。ところが、実際の出猟ヘッドの製造工程においては、
その非晶質磁性コア劇とガードコア材との接合、またコ
アに対する５ｉ０２等のギャップスペーサ−のスパッタ
リング、更にはこのギャップスペーサ−を挟んでコア間
を接合するギャップ形成の接合等の各工程が、熱処理を
伴うものであり、この熱処理によって再び透磁率を低下
させてしまう恐れがある。したがってこれら各工程にお
ける加熱温度は透磁率低下を招来することのない例えば
２００℃以下に選定されねばならない。ところが、この
ような低い温度で非晶質磁性コアとガードコアとを無機
接着剤で接合することは充分高い接着強度が得られず、
またギャップスペーサ−のスパッタリングにおける基体
温度としても不充分であって被着強度が充分得られない
という欠点が生じてくる。
発明の目的
本発明は、非晶質コアが用いられた磁気ヘッドを製造す
るに当り、その各工程の熱処理を夫々充分高めて信頼性
の高い磁気ヘッドを得ることができ、しかも最終的に透
磁率が高く再生出力特性にすぐれた磁気ヘッドを得るこ
とのできる磁気ヘッドの製法を提供するものである。
るに当り、その各工程の熱処理を夫々充分高めて信頼性
の高い磁気ヘッドを得ることができ、しかも最終的に透
磁率が高く再生出力特性にすぐれた磁気ヘッドを得るこ
とのできる磁気ヘッドの製法を提供するものである。
発明の概要
本発明においては、非晶質磁性材料をコアに用いる磁気
ヘッドの製法において、非晶質磁性コアとガードコアと
の接合、ギャップスペーサ−の被着、ギャップ形成の接
合等の熱処理を行って後に、或いは該熱処理のうちの最
終の熱処理中において、特に磁場中熱処理を施して再生
出力を改善する。
ヘッドの製法において、非晶質磁性コアとガードコアと
の接合、ギャップスペーサ−の被着、ギャップ形成の接
合等の熱処理を行って後に、或いは該熱処理のうちの最
終の熱処理中において、特に磁場中熱処理を施して再生
出力を改善する。
すなわち本発明においては、この種の磁気ヘッドを製造
するに当り、その製造工程中の熱処理によってその非晶
質磁性コア拐に熱が掛けられる場合においても、その加
熱温度が結晶化温度Ｔｘ以下で且つキュリ一温度Ｔｃ以
下である場合には、これが高温であっても最終的に磁場
中熱処理を施こすことによって透磁率μを高めることが
できることを見出し、これに基いた磁気ヘッドの製造方
法を採るものである。
するに当り、その製造工程中の熱処理によってその非晶
質磁性コア拐に熱が掛けられる場合においても、その加
熱温度が結晶化温度Ｔｘ以下で且つキュリ一温度Ｔｃ以
下である場合には、これが高温であっても最終的に磁場
中熱処理を施こすことによって透磁率μを高めることが
できることを見出し、これに基いた磁気ヘッドの製造方
法を採るものである。
すなわち、本発明においては、非晶質コア材の結晶化温
度Ｔｘ （例えばＴｘ＝４５０℃）以下で且つキュリ一
温度Ｔｃ以下で、できるだけ高い温度の３００℃以上で
ガードコアとの接合、磁気ギャップ形成等の接合を、例
えばガラス融着によって行って充分高い接合強度が得ら
れるようにし、同様に温度Ｔｘ及びＴｃ以下での基体温
度でギャップスペーサーの被着、例えばＳ ｔ Ｏ２の
スパッタリングを行うことによって、その被着強度を高
めることができるようにするものである。
度Ｔｘ （例えばＴｘ＝４５０℃）以下で且つキュリ一
温度Ｔｃ以下で、できるだけ高い温度の３００℃以上で
ガードコアとの接合、磁気ギャップ形成等の接合を、例
えばガラス融着によって行って充分高い接合強度が得ら
れるようにし、同様に温度Ｔｘ及びＴｃ以下での基体温
度でギャップスペーサーの被着、例えばＳ ｔ Ｏ２の
スパッタリングを行うことによって、その被着強度を高
めることができるようにするものである。
そして、本発明においてはこれら磁気ヘッドの製造工程
に伴う加熱処理後に、或いはその最終の加熱処理の工程
中でコア材の作成時に生じた誘導磁気異方性の実質的排
除の作業を行うものであるが、この作業を、非晶質磁性
コア材の組成が、Ｔｘ ＞ Ｔｃのものであっても、磁
場中熱処理を採るのである。すなわち、コア材の作成時
に生ずる誘４、磁気１４方性の除去を、Ｔｘ）ＴｃＯも
のについては前述Ｉ７た水中急冷法を適用することも考
えられるが、この場合はＴｃ以上の加熱を必要とするこ
とから、すでにほぼ完成状態にある磁気ヘッドの、例え
ば各接合部における接合強度等の特性に劣化を生じさせ
ることがないようにこのような高温を伴う水中急冷法は
、これを用いずに比較的低温で処理される磁場中熱処理
によったことに１つの特徴があるのである。
に伴う加熱処理後に、或いはその最終の加熱処理の工程
中でコア材の作成時に生じた誘導磁気異方性の実質的排
除の作業を行うものであるが、この作業を、非晶質磁性
コア材の組成が、Ｔｘ ＞ Ｔｃのものであっても、磁
場中熱処理を採るのである。すなわち、コア材の作成時
に生ずる誘４、磁気１４方性の除去を、Ｔｘ）ＴｃＯも
のについては前述Ｉ７た水中急冷法を適用することも考
えられるが、この場合はＴｃ以上の加熱を必要とするこ
とから、すでにほぼ完成状態にある磁気ヘッドの、例え
ば各接合部における接合強度等の特性に劣化を生じさせ
ることがないようにこのような高温を伴う水中急冷法は
、これを用いずに比較的低温で処理される磁場中熱処理
によったことに１つの特徴があるのである。
そして、このようにほぼ完成された磁気ヘッドに関して
、例えばＲＦＡ法を適用することは、磁気ヘッド本来が
磁気ギャップを通る閉回路を形成することから、これに
回転磁場を与えても、この閉回路に沿って磁束の通路、
云い換えれば磁化がなされるに過ぎず、異方性の解消は
なされないと考えられるものである。ところがこのＲＦ
Ａ法によっても異方性の排除ができることを見出したも
のであり、ここにも本発明の特徴が存するのである。
、例えばＲＦＡ法を適用することは、磁気ヘッド本来が
磁気ギャップを通る閉回路を形成することから、これに
回転磁場を与えても、この閉回路に沿って磁束の通路、
云い換えれば磁化がなされるに過ぎず、異方性の解消は
なされないと考えられるものである。ところがこのＲＦ
Ａ法によっても異方性の排除ができることを見出したも
のであり、ここにも本発明の特徴が存するのである。
実施例
図面を参照して本発明による磁気ヘッドの一例を詳細に
Ｈ９，明する。
Ｈ９，明する。
第１図に示すように例えば厚さ２０μｍの例えばＦｅ４
５ Ｃｏ７５５ＢＩＢ ’Ｉ”ａ２ （Ｔｘ ＝ ４５
０°Ｃ）の組成を有する薄膜状非晶質磁性コア（１１を
複数枚用意し、これらをガードコア（２１を介在させて
順次交互に積層接合する。ガードコア（２１は例えばＺ
ｎフェライトよりなる非磁性ガードコア部（２ａ）と、
例えばＭｎ −Ｚｎフェライトよりなる磁性ガードコア
部（２ｂ）とが接合されてなる。ガードコア部（２１と
コア＋１１との積層体の両側には、さらに同様に例えば
Ｚｎフェライトよりなる非磁性ガード部材（３ａ）及び
（３ｂ）が接合されて積層ブロック（４）が構成される
。これらコア（１１と、ガードコア＋２１と、非磁性ガ
ード部材（３ａ）及び（３ｂ）との接合は夫々３００℃
以上で、且つ結晶化温度Ｔｘ、すなわち４５０℃以下の
高い温度での加熱によるガラス融着によって行う。ガー
ドコア（２）のコア部（２ａ）は非晶質コア（１）の−
側縁に沿って配置される。
５ Ｃｏ７５５ＢＩＢ ’Ｉ”ａ２ （Ｔｘ ＝ ４５
０°Ｃ）の組成を有する薄膜状非晶質磁性コア（１１を
複数枚用意し、これらをガードコア（２１を介在させて
順次交互に積層接合する。ガードコア（２１は例えばＺ
ｎフェライトよりなる非磁性ガードコア部（２ａ）と、
例えばＭｎ −Ｚｎフェライトよりなる磁性ガードコア
部（２ｂ）とが接合されてなる。ガードコア部（２１と
コア＋１１との積層体の両側には、さらに同様に例えば
Ｚｎフェライトよりなる非磁性ガード部材（３ａ）及び
（３ｂ）が接合されて積層ブロック（４）が構成される
。これらコア（１１と、ガードコア＋２１と、非磁性ガ
ード部材（３ａ）及び（３ｂ）との接合は夫々３００℃
以上で、且つ結晶化温度Ｔｘ、すなわち４５０℃以下の
高い温度での加熱によるガラス融着によって行う。ガー
ドコア（２）のコア部（２ａ）は非晶質コア（１）の−
側縁に沿って配置される。
このようにして形成した積層ブロック（４１を、第１図
中鎖線ａｔ ＊ ａｇ Ｉ ａｇ・・・に示すように、
非晶質コア（１）と直交する面に沿って所要の厚さに切
り出して、第２図に示すようにコア半休ブロック（５）
を形成する。
中鎖線ａｔ ＊ ａｇ Ｉ ａｇ・・・に示すように、
非晶質コア（１）と直交する面に沿って所要の厚さに切
り出して、第２図に示すようにコア半休ブロック（５）
を形成する。
第３図に示すようにコア半休ブロック（５）のコア（１
）及び（２１の積層方向に沿う一側面にガード材（６）
を接合する。この接合は同様に３００℃以上で、且つ結
晶化温度Ｔｘ以下の高い加熱温度によるガラス融着によ
って行う。また、ブロック（５）のガード材（６１の接
合側とは反対側の側面にコア（２１及び（１１の積層方
向に巻線溝（７）を切り込む。
）及び（２１の積層方向に沿う一側面にガード材（６）
を接合する。この接合は同様に３００℃以上で、且つ結
晶化温度Ｔｘ以下の高い加熱温度によるガラス融着によ
って行う。また、ブロック（５）のガード材（６１の接
合側とは反対側の側面にコア（２１及び（１１の積層方
向に巻線溝（７）を切り込む。
第４図に示すようにこのようにして構成した対のブロッ
ク（５）を、ガード材（６）の接合側とは反対側の側面
において、各ブロック（５）の互いに対応する各非晶質
磁性コア（１）の端面が突き合せられるように接合合体
してヘッドブロック（８）を構成する。この場合、一方
のブロック（５］にのみ巻線溝（７）を形成しお（よう
になし得る。また両ブロック（５）の互いの接合面の少
くとも一方には、図示しないが予めギャップスペーサ−
例えば８１０２層をスパッタリングしておき、両ブロッ
ク（５）の互いに突き合せられたコア（１１の端面間に
、ギャップスペーサ−の厚さによってギャップ長が規定
された磁気ギャップｇを形成する。この５ｉ０２層のス
パッタリングに際しての基体温度、すなわちブロック（
５１の加熱温度もまた３００℃以上で且つ結晶化温度Ｔ
ｘ以下の高い加熱温度とする。また対のブロック（５）
の接合は同様に３００℃以上で且つ結晶化温度Ｔｘ以下
の高い温度とする。
ク（５）を、ガード材（６）の接合側とは反対側の側面
において、各ブロック（５）の互いに対応する各非晶質
磁性コア（１）の端面が突き合せられるように接合合体
してヘッドブロック（８）を構成する。この場合、一方
のブロック（５］にのみ巻線溝（７）を形成しお（よう
になし得る。また両ブロック（５）の互いの接合面の少
くとも一方には、図示しないが予めギャップスペーサ−
例えば８１０２層をスパッタリングしておき、両ブロッ
ク（５）の互いに突き合せられたコア（１１の端面間に
、ギャップスペーサ−の厚さによってギャップ長が規定
された磁気ギャップｇを形成する。この５ｉ０２層のス
パッタリングに際しての基体温度、すなわちブロック（
５１の加熱温度もまた３００℃以上で且つ結晶化温度Ｔ
ｘ以下の高い加熱温度とする。また対のブロック（５）
の接合は同様に３００℃以上で且つ結晶化温度Ｔｘ以下
の高い温度とする。
このようにして得たヘッドブロック（８）を、第５図に
示すように、磁界発生手段、例えば電磁石、或いは永久
磁石（９）によって形成した磁場内に配し、このブロッ
ク（８）のコア（１１の面方向に沿って手段（９）より
の磁界が与えられるようにして、ブロック（８）をコア
（１）の面方向に沿う面内において回転させ、且つこれ
をヒーター（１０１によって加熱することによってコア
（１１に対して回転磁場中の熱処理を施す。
示すように、磁界発生手段、例えば電磁石、或いは永久
磁石（９）によって形成した磁場内に配し、このブロッ
ク（８）のコア（１１の面方向に沿って手段（９）より
の磁界が与えられるようにして、ブロック（８）をコア
（１）の面方向に沿う面内において回転させ、且つこれ
をヒーター（１０１によって加熱することによってコア
（１１に対して回転磁場中の熱処理を施す。
この場合、その磁場の強さは２．４ ｋＯｅ 、回転数
は１００ ｒｐｍとした。加熱温度は、夫々コア１１１
のＴｃ及びＴｘの両温度以下の例えば２５０℃、３００
℃、３５０℃とし、昇温速度は１５３倍とした。
は１００ ｒｐｍとした。加熱温度は、夫々コア１１１
のＴｃ及びＴｘの両温度以下の例えば２５０℃、３００
℃、３５０℃とし、昇温速度は１５３倍とした。
その後若しくはそれ以前に第６図に示すようにブロック
（８１の前方面を研磨して磁気記録媒体との対接面Ｓを
形成する。
（８１の前方面を研磨して磁気記録媒体との対接面Ｓを
形成する。
その後、このブロック（８）を各コア（１１に関して切
り出し、第７図に示すようにヘッドチップを得、その巻
線溝（７）に巻線０１１を施して目的とする磁気ヘッド
０２＋を得る。
り出し、第７図に示すようにヘッドチップを得、その巻
線溝（７）に巻線０１１を施して目的とする磁気ヘッド
０２＋を得る。
このようにして得た磁気ヘッドａｚはその再生出力が向
上した。
上した。
第８図中曲線ａ３は回転磁場中熱処理を施した磁気ヘッ
ドの再生出力の周波数特性曲線図で、第８図中曲線（１
４１は回転磁場中熱処理を施さない場合の同様の曲線で
ある。この場合トラック幅は２５μｍギャップ長は０．
５μｍで金属蒸着テープを用いてそのテープ速度を３．
７５ ｍｌ＄−とじた場合である。またこの場合の回転
磁場中熱処理は室温から３３０℃に３時間かけて加熱し
、５ｋＯｅで２０Ｏｒｐｍの回転磁場中で熱処理を行い
、その後空気中で放冷した場合である。このように回転
磁場中熱処理を施したものにおいてはその出力が格段的
に向上していることがわかる。
ドの再生出力の周波数特性曲線図で、第８図中曲線（１
４１は回転磁場中熱処理を施さない場合の同様の曲線で
ある。この場合トラック幅は２５μｍギャップ長は０．
５μｍで金属蒸着テープを用いてそのテープ速度を３．
７５ ｍｌ＄−とじた場合である。またこの場合の回転
磁場中熱処理は室温から３３０℃に３時間かけて加熱し
、５ｋＯｅで２０Ｏｒｐｍの回転磁場中で熱処理を行い
、その後空気中で放冷した場合である。このように回転
磁場中熱処理を施したものにおいてはその出力が格段的
に向上していることがわかる。
尚、上述した例においては、回転磁場中熱処理（ＲＦＡ
）法を適用した場合であるが、冒頭に述べたＣＦＡ法を
適用することもできる。また、磁場中熱処理としては、
これらの例に限らず互いに直交する磁場をコア（１１０
面方向に関ｌ、て繰り返し交互に印加する磁場中熱処理
法（以下５ＣＦＡ法という）を適用することもできる。
）法を適用した場合であるが、冒頭に述べたＣＦＡ法を
適用することもできる。また、磁場中熱処理としては、
これらの例に限らず互いに直交する磁場をコア（１１０
面方向に関ｌ、て繰り返し交互に印加する磁場中熱処理
法（以下５ＣＦＡ法という）を適用することもできる。
この５ＣＦＡ法は、同様にＴｃ及びＴｘ以下の温度での
熱処理により、特にコア１１１に対する磁界を、夫々コ
ア１１１の面方向に沿うも、互いに直交する２方向Ｘ及
びＹに交互に互に同じ時間ずつ与える。このようにして
コア１１＋の作成時の誘導磁気異方性を消失させ、両Ｘ
及びＹの方向の誘導磁気異方性ＫＸ及びＫＹを、Ｋ）（
＝Ｋｙで得て、実質的に面方向の異方性を排除するので
ある。
熱処理により、特にコア１１１に対する磁界を、夫々コ
ア１１１の面方向に沿うも、互いに直交する２方向Ｘ及
びＹに交互に互に同じ時間ずつ与える。このようにして
コア１１＋の作成時の誘導磁気異方性を消失させ、両Ｘ
及びＹの方向の誘導磁気異方性ＫＸ及びＫＹを、Ｋ）（
＝Ｋｙで得て、実質的に面方向の異方性を排除するので
ある。
また、上述したＲＦＡ法、ＣＦＡ法、５ＣＦＡ法による
磁場中熱処理に加えてコア（１１に対する膜厚方向に関
して小さい一軸異方性をもたしめて実質的にその面方向
に関する異方性を除去する処理（以下ＮＦＡ法という）
を適用することもできる。このＮＦＡ法は先に行った、
例えばＲＦＡ法における熱処理温度に比し５０〜６０℃
低い温度での熱処理とする。そして、とのＮＦＡにおい
ては、コア（１１の厚さ方向に磁界を与えて、この厚さ
方向に小さい一軸異方性を形成するのである。
磁場中熱処理に加えてコア（１１に対する膜厚方向に関
して小さい一軸異方性をもたしめて実質的にその面方向
に関する異方性を除去する処理（以下ＮＦＡ法という）
を適用することもできる。このＮＦＡ法は先に行った、
例えばＲＦＡ法における熱処理温度に比し５０〜６０℃
低い温度での熱処理とする。そして、とのＮＦＡにおい
ては、コア（１１の厚さ方向に磁界を与えて、この厚さ
方向に小さい一軸異方性を形成するのである。
また、上述した例においては、磁気ヘッドの製造に伴う
熱処理工程を全【経た後に、別工程で磁場中熱処理を行
った場合であるが、ある場合は磁気ヘッドの製造工程に
おける最終の熱処理工程、例えば上述した例においては
対のコア半体ブロック（５）の接合工程における熱処理
に際してすなわちガラス融着に際１７て所要の外部磁場
を与えて前述したＲＦＡ法、ＣＦＡ法、５ＣＦＡ法、さ
らに成る場合はこれらいずれかの処理の後にＮＦＡ法を
行うようにすることもできる。
熱処理工程を全【経た後に、別工程で磁場中熱処理を行
った場合であるが、ある場合は磁気ヘッドの製造工程に
おける最終の熱処理工程、例えば上述した例においては
対のコア半体ブロック（５）の接合工程における熱処理
に際してすなわちガラス融着に際１７て所要の外部磁場
を与えて前述したＲＦＡ法、ＣＦＡ法、５ＣＦＡ法、さ
らに成る場合はこれらいずれかの処理の後にＮＦＡ法を
行うようにすることもできる。
発明の効果
上述ｌ−たよりに本発明によれば、磁場中熱処理によっ
て誘導磁気異方性の除去を行うことによって透磁率の向
上、したがって杓生出力の改善を図るものであって、こ
のようにすることによって非晶質磁性合金の組成による
結晶化温度Ｔｘとキュリ一温度Ｔｃの関係によることな
く確実に誘導磁気異方性の排除、したがって出方向上を
図ることができると共にこの磁場中熱処理を磁気ヘッド
の製造工程の各熱処理工程の後に或いは最終の熱処理工
程で行うようにしたので磁気ヘッドの製造工程の各熱処
理工程例えはコア（１１及び（２１の接合、ガード劇（
６）の接合、対のブロック（５）の接合、さらニハキャ
ップスペーサーのスパッタリング等における加熱を３０
０℃以上に高め得たことによって七の接合強度、被着強
度を向上させることができ、信頼性の高い磁気ヘッドを
得ることができるものである。
て誘導磁気異方性の除去を行うことによって透磁率の向
上、したがって杓生出力の改善を図るものであって、こ
のようにすることによって非晶質磁性合金の組成による
結晶化温度Ｔｘとキュリ一温度Ｔｃの関係によることな
く確実に誘導磁気異方性の排除、したがって出方向上を
図ることができると共にこの磁場中熱処理を磁気ヘッド
の製造工程の各熱処理工程の後に或いは最終の熱処理工
程で行うようにしたので磁気ヘッドの製造工程の各熱処
理工程例えはコア（１１及び（２１の接合、ガード劇（
６）の接合、対のブロック（５）の接合、さらニハキャ
ップスペーサーのスパッタリング等における加熱を３０
０℃以上に高め得たことによって七の接合強度、被着強
度を向上させることができ、信頼性の高い磁気ヘッドを
得ることができるものである。
第１図、第２図、第３図、第４図、第６図及び第７図は
夫々本発明による磁気ヘッドの一例の製法の工程図、第
５図は磁場中熱処理の説明図、第８図は出力特性曲線図
である。 （１１は非晶ＩＪｉｉ出性コア、（２）はガードコア、
（５１はコア半休ブロック、（８）はヘッドブロック、
Ｑ２は磁気ヘッドである。
夫々本発明による磁気ヘッドの一例の製法の工程図、第
５図は磁場中熱処理の説明図、第８図は出力特性曲線図
である。 （１１は非晶ＩＪｉｉ出性コア、（２）はガードコア、
（５１はコア半休ブロック、（８）はヘッドブロック、
Ｑ２は磁気ヘッドである。
Claims (1)
- 非晶質磁性材料をコアに用いる磁気ヘッドの製法におい
て、非晶質磁性コアとガードコアとの接合、ギャップス
ペーサ−の被着、ギャップ形成の接合等の熱処理を行っ
て後に、或いは該熱処理のうちの最終の熱処理中に８場
中熱処理を施して再生出力を改善する磁気ヘッドの製法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16788683A JPS6059508A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 磁気ヘツドの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16788683A JPS6059508A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 磁気ヘツドの製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6059508A true JPS6059508A (ja) | 1985-04-05 |
Family
ID=15857892
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16788683A Pending JPS6059508A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 磁気ヘツドの製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6059508A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6246408A (ja) * | 1985-08-23 | 1987-02-28 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気ヘツドの製造方法 |
| JPS62119709A (ja) * | 1985-11-19 | 1987-06-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 高周波用磁気ヘツドコアの製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5447616A (en) * | 1977-09-22 | 1979-04-14 | Hitachi Ltd | Amorphous alloy magnetic head core |
| JPS58137129A (ja) * | 1982-02-05 | 1983-08-15 | Canon Electronics Inc | 磁気ヘツドコアの製造方法 |
-
1983
- 1983-09-12 JP JP16788683A patent/JPS6059508A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5447616A (en) * | 1977-09-22 | 1979-04-14 | Hitachi Ltd | Amorphous alloy magnetic head core |
| JPS58137129A (ja) * | 1982-02-05 | 1983-08-15 | Canon Electronics Inc | 磁気ヘツドコアの製造方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6246408A (ja) * | 1985-08-23 | 1987-02-28 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気ヘツドの製造方法 |
| JPS62119709A (ja) * | 1985-11-19 | 1987-06-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 高周波用磁気ヘツドコアの製造方法 |
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