JPS6051147A - 液晶物質及び液晶組成物 - Google Patents
液晶物質及び液晶組成物Info
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- JPS6051147A JPS6051147A JP13814883A JP13814883A JPS6051147A JP S6051147 A JPS6051147 A JP S6051147A JP 13814883 A JP13814883 A JP 13814883A JP 13814883 A JP13814883 A JP 13814883A JP S6051147 A JPS6051147 A JP S6051147A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な液晶物質及び該液晶物質を含有する液晶
組成物に関し、更に詳しくは光学活性基を有するカイラ
ル液晶物質及びそれらを含有するカイラル液晶組成物に
関する。
組成物に関し、更に詳しくは光学活性基を有するカイラ
ル液晶物質及びそれらを含有するカイラル液晶組成物に
関する。
現在、液晶表示素子としてはT N (Twisted
Nematic )型表示方式が最も広く用いられてい
るが、応答速度の点に於て発光型表示素子(エレクトロ
ルミネッセンス、プラズマティスフレイ等)と比較して
劣ってお9、この点に於ける改善は種々試みられている
にも抱らず、大巾な改善の可能性はあまシ残っていない
様である。
Nematic )型表示方式が最も広く用いられてい
るが、応答速度の点に於て発光型表示素子(エレクトロ
ルミネッセンス、プラズマティスフレイ等)と比較して
劣ってお9、この点に於ける改善は種々試みられている
にも抱らず、大巾な改善の可能性はあまシ残っていない
様である。
そのためTN型表示素子に代わる別の原理による液晶表
示装置が種々試みられているが、その(1980))。
示装置が種々試みられているが、その(1980))。
この方式は強誘電性液晶のカイラルスメクチックC相(
以下SC*相と略称する)或はカイラルスメクチックH
相(以下SH*相と略称する)を利用するもので、それ
が室温付近にあるのが望ましい。本発明者らは、この表
示方式に利用されるに適した液晶物質の開発を主たる目
的として、光学活性基金含む液晶物質を種々探索して本
発明に到達した。
以下SC*相と略称する)或はカイラルスメクチックH
相(以下SH*相と略称する)を利用するもので、それ
が室温付近にあるのが望ましい。本発明者らは、この表
示方式に利用されるに適した液晶物質の開発を主たる目
的として、光学活性基金含む液晶物質を種々探索して本
発明に到達した。
即ち、本発明は一般式
(但し、上式に於いて、Xは炭素数1〜18のアルキル
基又は、アルキルオキシ基であシ、tは0又は1 、
nlは0又は1.nは0又は1である。又*は光学活性
炭素原子を示す。)で表わされる化合物、及びそれを含
有する液晶組成物である。
基又は、アルキルオキシ基であシ、tは0又は1 、
nlは0又は1.nは0又は1である。又*は光学活性
炭素原子を示す。)で表わされる化合物、及びそれを含
有する液晶組成物である。
(1)式の化合物は、あるものは限られた温度範囲に於
いてコレステリック相及びスメクチック相を呈し、又あ
るものはコレステリック相を呈さす、スメクチック相の
みを呈する。しかしいずれにしても、そのスメクチック
相のなかにSC*相があることに主たる%徴を有する。
いてコレステリック相及びスメクチック相を呈し、又あ
るものはコレステリック相を呈さす、スメクチック相の
みを呈する。しかしいずれにしても、そのスメクチック
相のなかにSC*相があることに主たる%徴を有する。
SC*相の光スイツチング効果を表示素子として応用す
る場合TN表示方式にくらべて3つのすぐれた特徴があ
る。第1の特徴は非常に高速で応答し、その応答時間は
通常のTN表示方式の素子と比較すると、応答速度は1
/1oO以下である。第2の特徴はメモリー効果がある
ことであシ、上記の高速応答性とあいまって、時分割駆
動が容易である。第8の特徴はTN表示方式で濃淡の階
調をとるには、印加電圧を調節して行なうが、しきい値
電圧の温度依存性や応答速度の電圧依存性などの難問が
ある。しかしSC*相の光スイツチング効果を応用する
場合には極性の反転時間を調節することによシ、容易に
階調を得ることができ、グ2クイック表示に非常に適し
ている。
る場合TN表示方式にくらべて3つのすぐれた特徴があ
る。第1の特徴は非常に高速で応答し、その応答時間は
通常のTN表示方式の素子と比較すると、応答速度は1
/1oO以下である。第2の特徴はメモリー効果がある
ことであシ、上記の高速応答性とあいまって、時分割駆
動が容易である。第8の特徴はTN表示方式で濃淡の階
調をとるには、印加電圧を調節して行なうが、しきい値
電圧の温度依存性や応答速度の電圧依存性などの難問が
ある。しかしSC*相の光スイツチング効果を応用する
場合には極性の反転時間を調節することによシ、容易に
階調を得ることができ、グ2クイック表示に非常に適し
ている。
表示方法としては、2つの方式が考えられ、1つの方法
は2枚の偏光子を使用する複屈折型、他の1つの方法は
二色性色素を使用するゲストホスト型である。SC*相
は自発分極をもつため、印加電圧の極性を反転すること
によシ、らせん軸を回転軸として分子が反転する。SC
*相を有する液晶組成物を液晶分子が電極面に平行にな
らぶように配向処理を施した液晶表示セルに注入し、液
晶分子のグイレフターと一方の偏光面を平行になるよう
に配置した2枚の偏光子の間に該液晶セルをはさみ、電
圧を印加して、極性を反転することにより、明視野およ
び暗視野(偏光子の対向角度によシ決まる)が得られる
。
は2枚の偏光子を使用する複屈折型、他の1つの方法は
二色性色素を使用するゲストホスト型である。SC*相
は自発分極をもつため、印加電圧の極性を反転すること
によシ、らせん軸を回転軸として分子が反転する。SC
*相を有する液晶組成物を液晶分子が電極面に平行にな
らぶように配向処理を施した液晶表示セルに注入し、液
晶分子のグイレフターと一方の偏光面を平行になるよう
に配置した2枚の偏光子の間に該液晶セルをはさみ、電
圧を印加して、極性を反転することにより、明視野およ
び暗視野(偏光子の対向角度によシ決まる)が得られる
。
一方ゲスト・ホスト型で動作する場合には、印加電圧の
極性を反転することによシリ]視野及び着色視野(偏光
板の配置によシ決まる)を得ることができる。
極性を反転することによシリ]視野及び着色視野(偏光
板の配置によシ決まる)を得ることができる。
一般にスメクチック状態で液晶分子をガラス壁面に平行
に配向させることは難かしく、数十キロガウス以上の磁
場中で等方性液体から非常にゆつくシと冷却する(1℃
〜2°C/hr)ことによシ、液晶分子を配向させてい
るが、コレステリック相を有する液晶物質では磁場の代
わシに50V〜100Vの直流電圧全印加しながら1℃
/minの冷却速度で冷却することにより、容易に均一
に配向したモノドメイン状態を得ることができる。
に配向させることは難かしく、数十キロガウス以上の磁
場中で等方性液体から非常にゆつくシと冷却する(1℃
〜2°C/hr)ことによシ、液晶分子を配向させてい
るが、コレステリック相を有する液晶物質では磁場の代
わシに50V〜100Vの直流電圧全印加しながら1℃
/minの冷却速度で冷却することにより、容易に均一
に配向したモノドメイン状態を得ることができる。
(I)式の化合物は4−ヒドロキシ−4′−置換ビフェ
ニルに、ピリジンのような塩基性溶媒中でそれぞれ相当
する、光学活性なカルボン酸クロライド、あるいはクロ
ルギ酸アルキルを作用させることによシ、最も好適に製
造される。
ニルに、ピリジンのような塩基性溶媒中でそれぞれ相当
する、光学活性なカルボン酸クロライド、あるいはクロ
ルギ酸アルキルを作用させることによシ、最も好適に製
造される。
原料の一つである4−ヒドロキシ−41−置換ビフェニ
ルのうち4−アルキルオキシ−4′−ヒドロキシビフェ
ニル(la)は以下の様な工程によシ製造することがで
きる。
ルのうち4−アルキルオキシ−4′−ヒドロキシビフェ
ニル(la)は以下の様な工程によシ製造することがで
きる。
@−@−0H
HO−@−@−OR(…a)
(上図においてRは炭素数1〜18のアルキル基を示す
。) 月IJチ、ヒドロキシビフェニルに2倍モルノ無水塩化
アルミニウム存在下に塩化アセチルを作用させて、4−
アセチルオキシ−4′−アセチルビフェニルが合成され
る。これに水酸化カリウムの存在下にアルキルブロマイ
ドを作用させると、4−アセチル−4′−アルキルオキ
シビフェニルが合成される。
。) 月IJチ、ヒドロキシビフェニルに2倍モルノ無水塩化
アルミニウム存在下に塩化アセチルを作用させて、4−
アセチルオキシ−4′−アセチルビフェニルが合成され
る。これに水酸化カリウムの存在下にアルキルブロマイ
ドを作用させると、4−アセチル−4′−アルキルオキ
シビフェニルが合成される。
さらにこの化合物にギ酸中、過酸化水素を作用させるこ
とによシ、4−アセチルオキシ−4′−アルキルオキシ
ビフエニルが合成される。
とによシ、4−アセチルオキシ−4′−アルキルオキシ
ビフエニルが合成される。
これをアルカリで加水分解して、酸ヲ加えることによシ
目的の4−アルキルオキシ−4′−ヒドロキシビフェニ
ル(Ia)が合成される。
目的の4−アルキルオキシ−4′−ヒドロキシビフェニ
ル(Ia)が合成される。
4−ヒドロキシ−47−置換ビフェニルの5もの4−ア
ルキル−4′−ヒドロキシビフェニル(lb) tよ以
下のような工程によシ合成することができる。
ルキル−4′−ヒドロキシビフェニル(lb) tよ以
下のような工程によシ合成することができる。
r−to−@@
HO知’)−@−CH2R< u b )(上図におい
てRは炭素数1〜17のアルキル基を示す。) 即ち、ヒドロキシビフェニルに無水塩化アルミニウムの
存在下にアルキルカルボン酸クロライドを作用させて4
−アシル−4′−アシルオキシヒフエニ” ’a: 貧
成し、これtウォルフーキシユナー還元し、次いでアル
カリ中で加水分解することによシイ−アルキル−4′−
ヒドロキシピフエニル(lb)が合成される。
てRは炭素数1〜17のアルキル基を示す。) 即ち、ヒドロキシビフェニルに無水塩化アルミニウムの
存在下にアルキルカルボン酸クロライドを作用させて4
−アシル−4′−アシルオキシヒフエニ” ’a: 貧
成し、これtウォルフーキシユナー還元し、次いでアル
カリ中で加水分解することによシイ−アルキル−4′−
ヒドロキシピフエニル(lb)が合成される。
また、もう−力の原料である、光学活性なカルボン酸ク
ロライド、あるいは光学活性なりロルギ酸アルキルには
以下のようなものがある。
ロライド、あるいは光学活性なりロルギ酸アルキルには
以下のようなものがある。
CI■3
■
CLCH2CHCOCt (α−メチルブタノイルクロ
ライド)*(I[a) CH3 CHgCI(2cHcH2cOct (β−メチルペン
タノイルクロライ* ド) (li[b) CH。
ライド)*(I[a) CH3 CHgCI(2cHcH2cOct (β−メチルペン
タノイルクロライ* ド) (li[b) CH。
CH,0
11
CH,O
I Il
(上図において*は光学活性炭素?6られす。
以下同様)
上6己の光♀l占性a−メチルブタノイルクロライド
CH。
CH3CH2CliCH20H
*
CH3
Cl↓3 C I−12 C )i C 0 0 H*
CH3
■
CHsCH+CHCOCt (Il[a)*
即ち、光字活性2−メチルブチルアルコール金過マンガ
ン酵カリウムで酸化して光学活性2−メチルブタン酸と
し、これに塩化チオニルを作用させて、光学活性−α−
メチルブタノイルクロライド(nla)が合成される。
ン酵カリウムで酸化して光学活性2−メチルブタン酸と
し、これに塩化チオニルを作用させて、光学活性−α−
メチルブタノイルクロライド(nla)が合成される。
又、光学活性−β−メチルペンタメイルクロライド(’
I[lb)は次のような工程で合成される。
I[lb)は次のような工程で合成される。
?1−13
CHlC)lzcHcH2Br
*
H3
CH3CH2CHCH,+COOH
*
Hs
CH,CH2CHCH2COCt( Illb)★
即ち、光学活性1−ブ目モー2ーメチルブタンにマグネ
シウムを作用させ、グリニヤー試薬を調製し、と九にド
ライアイスを作用させることにより、ブC学活性βーメ
チルペンタン醒が合成される。これに塩化チオニルを作
用させて光学活性−β−メチルペンタニルクロライド(
Il[b)が合成笛れる。
シウムを作用させ、グリニヤー試薬を調製し、と九にド
ライアイスを作用させることにより、ブC学活性βーメ
チルペンタン醒が合成される。これに塩化チオニルを作
用させて光学活性−β−メチルペンタニルクロライド(
Il[b)が合成笛れる。
又、光学活性p−(1−メチルプロピルオキシ)ベンゾ
イルクロライド(Illc)は、次のような工程で合成
される。
イルクロライド(Illc)は、次のような工程で合成
される。
CH3CH20H (JI3
H
CL C)b
■
?1″
CH3CH2CH−0(DCOCt(lie)*
即ち、市販の光学活性2−ブタノールを塩化物として、
これを市販のp−ヒドロキシ安息香酸と反応させ光学活
性p−(1−メチルプロピルオキシ)安息香酸とし、こ
れを塩化チオニルと反応させることによル、光学活性p
−( 1−メチルプロピルオキシ)ベンゾイルクロライ
ド(jlc)が合成される。
これを市販のp−ヒドロキシ安息香酸と反応させ光学活
性p−(1−メチルプロピルオキシ)安息香酸とし、こ
れを塩化チオニルと反応させることによル、光学活性p
−( 1−メチルプロピルオキシ)ベンゾイルクロライ
ド(jlc)が合成される。
又、光学活性p−(2−メチルブチルオキシ)ベンゾイ
ルクロライド(Id)は次のような工程で合成される。
ルクロライド(Id)は次のような工程で合成される。
HO−@−COOH
?■(3
即ち、市販のヒドロキシ安息香酸にアルカリ中、市販の
光学活性1−ブロモ−2−メチルブタンを作用させ、光
学活性p−2−メチルブチルオキシ安息香酸が合成され
る。これにチオニルクロライドを作用させることによっ
て光学活性p−(2−メチルブチルオキシ)ベンゾイル
クロンイド(Id)が合成される。
光学活性1−ブロモ−2−メチルブタンを作用させ、光
学活性p−2−メチルブチルオキシ安息香酸が合成され
る。これにチオニルクロライドを作用させることによっ
て光学活性p−(2−メチルブチルオキシ)ベンゾイル
クロンイド(Id)が合成される。
又、光学活性p−(1−メチルグロビル)ベンゾイルク
ロライド(me)は次のような工程で合成できる。
ロライド(me)は次のような工程で合成できる。
(±)p−(1−メチルグロビル)安息香酸を公知の方
法によシキニン塩を用いて光学分割して(−) −p
−(1−メチルグロビル)安息香酸を得る( C,S、
Marvetら+ J* Amer、 Chem、
Soc。
法によシキニン塩を用いて光学分割して(−) −p
−(1−メチルグロビル)安息香酸を得る( C,S、
Marvetら+ J* Amer、 Chem、
Soc。
斜、1647(1948)(α〕δニー28.5゜mp
89°)。
89°)。
これを塩化チオニルと加熱還流して、光学活性p−”(
1−メチルグロビル)ベンゾイルクロライド(me)を
イ0る。
1−メチルグロビル)ベンゾイルクロライド(me)を
イ0る。
又、光学活性p−(2−メチルブチル)ベンゾイルクロ
ライド(If)は市販のEASTMAN社製の(ト)−
2−メチルブチルベンゾイルクロライドを使用した。
ライド(If)は市販のEASTMAN社製の(ト)−
2−メチルブチルベンゾイルクロライドを使用した。
又、光学活性クロルギ酸−1−メチルグロビル(Ig)
は以下のような工程にょシ合成される。
は以下のような工程にょシ合成される。
CH3CH2CHOf:1
*
(il’H。
即ち光学活性2−ブタノールにホスゲンヲ作用させるこ
とにより合成される。
とにより合成される。
又、光学活性クロルギ酸−2−メチルブチル(lh)は
以下のような工程にょシ合成される。
以下のような工程にょシ合成される。
CH3
CH3CHzCHCH20H
*
CH3
即ち、光学活性2−メチル−1−ブタノールにホスゲン
を作用させることによシ合成される。
を作用させることによシ合成される。
以上の2種の(It)式の化合物と各種の@)式の化金
物を組み合せてエステル化することにより(1)式の化
合物を得ることが出来る。
物を組み合せてエステル化することにより(1)式の化
合物を得ることが出来る。
即ち、化合物(H&)と化合物(la)あるいは(Il
b)をエステル化することによって次の化合物((I)
式でt=m=n−0の化合物)を合成することかできる
。(実施例1,5〜7)4−アルキル−4′−α−メチ
ルブタノイルオキシビフェニル。
b)をエステル化することによって次の化合物((I)
式でt=m=n−0の化合物)を合成することかできる
。(実施例1,5〜7)4−アルキル−4′−α−メチ
ルブタノイルオキシビフェニル。
4−アルキルオキシ−4′−α−メチルブタノイルオキ
シビフェニル。
シビフェニル。
化合物(Wb)と化合物(la) するイハ(lb)を
エステル化することによって次の化合物((I)式でt
=m=o、Hxlの化合物)を合成することができる。
エステル化することによって次の化合物((I)式でt
=m=o、Hxlの化合物)を合成することができる。
(実施例3,11〜13)4−7にキル−41−β−メ
チルペンタノイルオキシビフェニル。
チルペンタノイルオキシビフェニル。
4−アルキルオキシ−4′−β−メチルペンタノイルオ
キシビフェニル。
キシビフェニル。
化合’mcFAc)と化合物(la)8るいは(’Mb
)をエステル化することによって次の化合物((I)式
でL=m= 1.n=Oのもの)を合成することができ
る。
)をエステル化することによって次の化合物((I)式
でL=m= 1.n=Oのもの)を合成することができ
る。
4−アルキル−4’−(p−(1−メチルプロピルオキ
シ)ベンゾイルオキシ)ビフェニル。
シ)ベンゾイルオキシ)ビフェニル。
4−アルキルオキシ−4’−(p−(1−メチルプロピ
ルオキシ)ペンツイルオキシビフェニル。
ルオキシ)ペンツイルオキシビフェニル。
化合物(Jild)と化合物(Ila)あるいは(lb
)をエステル化することによシ以下の化合物((■)式
で7=rn=n=1のもの)を合成することができる。
)をエステル化することによシ以下の化合物((■)式
で7=rn=n=1のもの)を合成することができる。
(実施例4.15〜16)
4−アルキル−4’−(p−(2−メチルブチルオキシ
)ベンゾイルオキシ)ビフェニル。
)ベンゾイルオキシ)ビフェニル。
4−アルキルオキシ−4’−(p−(2−メチルブチル
オキシ)ベンゾイルオキシ)ビフェニル。
オキシ)ベンゾイルオキシ)ビフェニル。
化合物(Ie)と化合物(la)あるいは(fib)を
エステル化することによシ以下の化合物((I)式でt
=1.m=n−0のもの)を合成することができる。
エステル化することによシ以下の化合物((I)式でt
=1.m=n−0のもの)を合成することができる。
4−アルキル−4’−(p−(1−メチルグロビル)ベ
ンゾイルオキシ)ビフェニル。
ンゾイルオキシ)ビフェニル。
4−アルキルオキシ−4’−(p−(1−メチルグロビ
ル)ベンゾイルオキシ)ビフェニル。
ル)ベンゾイルオキシ)ビフェニル。
化合物(II[f)と化合物(Ila) hるいは(l
b)をエステル化することによシ以下の化合物((1)
式でt耽1.m=0.n=1のもの)を合成することが
できる。(実施例2.8〜10)−4−アルキル−4’
−(p−(2−メチルブチル)ペンツイルオキシ)ビフ
ェニル。
b)をエステル化することによシ以下の化合物((1)
式でt耽1.m=0.n=1のもの)を合成することが
できる。(実施例2.8〜10)−4−アルキル−4’
−(p−(2−メチルブチル)ペンツイルオキシ)ビフ
ェニル。
4−アルキルオキシ−4’−(p−(2−メチルブチル
)ベンゾイルオキシ)ビフェニル。
)ベンゾイルオキシ)ビフェニル。
又、化合物(、IIg)と化合物(Ila) mるいは
(Ilb)をエステル化することにより以下の化合物(
(■)式でt=o、m=1.n=oのもの)を合成する
ことができる。
(Ilb)をエステル化することにより以下の化合物(
(■)式でt=o、m=1.n=oのもの)を合成する
ことができる。
4−アルキル−4′−ビフェニリル(1−メチルグロビ
ル)カルボナート。
ル)カルボナート。
4−フルキルオキシ−4′−ビフェニリル(1−メチル
グロビル)カルボナート。
グロビル)カルボナート。
又、化合物(Ih)と化合物(Ila)あるいは(fi
b)をエステル化することにより以下の化合物((I)
式でt=01m=n−1のもの)を合成することができ
る。
b)をエステル化することにより以下の化合物((I)
式でt=01m=n−1のもの)を合成することができ
る。
4−フルキル−4′−ビフェニリル(2−メチルブチル
)カルボナート。
)カルボナート。
4−アルキルオキシ−4′−ビフェニリル(2−メチル
ブチル)カルボナート。
ブチル)カルボナート。
これら本発明の(1)式の化合物の代表的なものの相転
移温度を表1に示す。
移温度を表1に示す。
上表に於てCは結晶相を、SXは素性が不明なスメクチ
ック相をchはコレステリック相を■は等方性液体相を
夫々表わし、各相の欄の・及びその右側の数字は、その
相から右側の相への相転移温度を示し、−はその相を示
さないことを示す、、()はモノトロピック相転移温度
であることを示す。
ック相をchはコレステリック相を■は等方性液体相を
夫々表わし、各相の欄の・及びその右側の数字は、その
相から右側の相への相転移温度を示し、−はその相を示
さないことを示す、、()はモノトロピック相転移温度
であることを示す。
表1から1」」るように(I)式で1=0の化合物は、
一般的に低目の融点を有し、室温付近で液晶状態を呈す
る液晶組成物の成分として好適であシ、例えばZ ’=
Or m = 0 + n −0+ X ” C1o
Hz+。
一般的に低目の融点を有し、室温付近で液晶状態を呈す
る液晶組成物の成分として好適であシ、例えばZ ’=
Or m = 0 + n −0+ X ” C1o
Hz+。
の化合物は、74.8°Cで融解して、S II”相と
なシ、つづいて75.8°CでSC*相へ転移して、さ
らに79.8 ”CでSA相となシ、83.2°Cで等
方性液体となる。又(I)式でt−1の物質はt==0
のものに比較して、高い透明点を有するので、液晶組成
物の温度範囲の上限を拡張するのに好適である。
なシ、つづいて75.8°CでSC*相へ転移して、さ
らに79.8 ”CでSA相となシ、83.2°Cで等
方性液体となる。又(I)式でt−1の物質はt==0
のものに比較して、高い透明点を有するので、液晶組成
物の温度範囲の上限を拡張するのに好適である。
液晶組成物を構成する場合、(1)式の複数の化合物の
みよ多構成することも可能であシ、又(I)式の化合物
と他のスメクチック液晶と混合してSC*相を呈する液
晶組成物を製造することも可能である。
みよ多構成することも可能であシ、又(I)式の化合物
と他のスメクチック液晶と混合してSC*相を呈する液
晶組成物を製造することも可能である。
更に(1)式で7−1のものはコレステリック相を有す
るものがあるので、これらを適当に混合することによっ
てスメクチック相の高温側に、コレステリック相をもち
、室温付近でSC*相を示す液晶組成物を容易に得るこ
とができる。
るものがあるので、これらを適当に混合することによっ
てスメクチック相の高温側に、コレステリック相をもち
、室温付近でSC*相を示す液晶組成物を容易に得るこ
とができる。
(1)式の化合物は、又、光学活性炭素原子を有するた
め、これをネマチック液晶に添加することによって捩れ
た構造を銹起する能力を肩する。
め、これをネマチック液晶に添加することによって捩れ
た構造を銹起する能力を肩する。
捩れた構造を有するイ・マチック液晶、即ちカイラルネ
マチック液晶はTN型表示素子のいわゆるリバース・ド
メイン(reverse domain、しま桓様)を
生成することがないので(1)式の化合物hvパース・
ドメイン生成の防止剤として使用できる。
マチック液晶はTN型表示素子のいわゆるリバース・ド
メイン(reverse domain、しま桓様)を
生成することがないので(1)式の化合物hvパース・
ドメイン生成の防止剤として使用できる。
(I)式に対応するラセミ体は上記の合成においてl[
a〜llhに対応するラセミ体を用いることによって同
様に製造できる。又、(1)式とほぼ同じかわりにそれ
ぞれ5H44J、 SCaを示し、光学活性体(INK
添加して、カイラルスメクチックピッチの訴訟に使用で
きる。
a〜llhに対応するラセミ体を用いることによって同
様に製造できる。又、(1)式とほぼ同じかわりにそれ
ぞれ5H44J、 SCaを示し、光学活性体(INK
添加して、カイラルスメクチックピッチの訴訟に使用で
きる。
以下、実施例によシ、本発明の液晶化合物及び液晶組成
物につき、更に詳細に説明する。
物につき、更に詳細に説明する。
実施例1
〔4−n−オクチルオキシ−4′−8−α−メチルブタ
ノイルオキシピフェニル((1)式に於いて1 ” 0
+ m = O、n = Or X −CgH170
のもの)の合成〕 (+)4−(アセチルオキシ)−47−アセチルビフェ
ニルの合成 ヒドロキシビフェニル501Gf/C2,96mol
)を、1.2−ジクロルエタン21に懸濁させ、これに
塩化アセチル27BIC3,54rnol )を滴下し
、50°Cで2時間加熱攪拌した。
ノイルオキシピフェニル((1)式に於いて1 ” 0
+ m = O、n = Or X −CgH170
のもの)の合成〕 (+)4−(アセチルオキシ)−47−アセチルビフェ
ニルの合成 ヒドロキシビフェニル501Gf/C2,96mol
)を、1.2−ジクロルエタン21に懸濁させ、これに
塩化アセチル27BIC3,54rnol )を滴下し
、50°Cで2時間加熱攪拌した。
液が透明となったので、10°Cまで冷却して、無水塩
化アルミニウム850 f (6,87mot)を粉砕
、小分けして1時間で投入した。10’C〜15°Cに
保持して、塩化アセチル278g(8,54mat )
を1時間で滴下し、2時間室温でPi拌、50°Cで2
時間攪拌した。冷却して、6規定塩酸約81に反応?t
¥、を注き゛、よくかきませた。生成した固体を吸引潮
過して集め、よく水洗、乾燥して、エタノール31から
再結晶すると、4−(アセチルオキシ)−41−アセチ
ルビフェニル581.6fが(4)られた。収率77.
4%、 rnp、 127.5℃。
化アルミニウム850 f (6,87mot)を粉砕
、小分けして1時間で投入した。10’C〜15°Cに
保持して、塩化アセチル278g(8,54mat )
を1時間で滴下し、2時間室温でPi拌、50°Cで2
時間攪拌した。冷却して、6規定塩酸約81に反応?t
¥、を注き゛、よくかきませた。生成した固体を吸引潮
過して集め、よく水洗、乾燥して、エタノール31から
再結晶すると、4−(アセチルオキシ)−41−アセチ
ルビフェニル581.6fが(4)られた。収率77.
4%、 rnp、 127.5℃。
(if) 4− n−オクチルオキシ−4′−アセチル
ビフェニルの合成 4−アセチルオキシ−4′−アセチルビフェニル80.
09 (0,315mot)をエチレングリコールモノ
エチルエーテル800 wlVcQ:Elすぜ、加熱攪
拌した。均一になったところへ、水酸化カリウム50%
水溶液7017を注入し、80分間加熱還流した。ここ
へ1−ブロモ−n−オクタン62,7 f (0,32
5rnot)を滴下して5時間加熱還流した。窒冷して
、液をll!の氷中へあけ、トルエン21で抽出し、ト
ルエン層を酸洗い、アルカリ洗いして、水洗、中性にし
た。
ビフェニルの合成 4−アセチルオキシ−4′−アセチルビフェニル80.
09 (0,315mot)をエチレングリコールモノ
エチルエーテル800 wlVcQ:Elすぜ、加熱攪
拌した。均一になったところへ、水酸化カリウム50%
水溶液7017を注入し、80分間加熱還流した。ここ
へ1−ブロモ−n−オクタン62,7 f (0,32
5rnot)を滴下して5時間加熱還流した。窒冷して
、液をll!の氷中へあけ、トルエン21で抽出し、ト
ルエン層を酸洗い、アルカリ洗いして、水洗、中性にし
た。
これをトルエン留去して固化させ、トルエン14と活性
炭でi!:S 1F” 3a、再結晶して、4−n−オ
クチルオキシ−4′−アセチルビフェニル77.51を
得た。収率75.71%。このものはスメクチックB液
晶相(SB) ’(r示し、そのc −SB点は92.
5’C,SB −I点は1829°Cであった。
炭でi!:S 1F” 3a、再結晶して、4−n−オ
クチルオキシ−4′−アセチルビフェニル77.51を
得た。収率75.71%。このものはスメクチックB液
晶相(SB) ’(r示し、そのc −SB点は92.
5’C,SB −I点は1829°Cであった。
(fit) 4−ヒドロキシ−4′−n−オクチルオキ
シビフェニルの合成 4−n−オクチルオキシ−4′−アセチルビフェニル8
8.59 (0,119+not)とギ酸2389 (
5,17mot) + トルエン200 weを60℃
に加熱し、ここへ35%H2O2水溶故160.7F(
104n1ot)を70〜75°Cに液温を保ちながら
、1.5時間で滴下した。こののち60〜70°(3で
311.1間加熱攪拌してから室温に冷却し、トルエン
1.51で抽出し、中住寸で水σ己して、乾燥した。ト
ルエン除去後、エタノール200yneを加え加熱還流
させ、少し冷却し40%水酸化す11ウム水浴液80y
xJを加え再ひ2時間、加熱還流した。この液を6N塩
酸11に注ぎよくかきまぜた。生成した固体を吸引沖過
して集め、トルエン30Gvttを加えて、水を抜いて
、7Jj結晶して、4−ヒドロキシ−4′−n−オクチ
ルオキシビフェニル18.51 ’t??4Dj。収率
50.6%+ mp、 158.6 ’C。
シビフェニルの合成 4−n−オクチルオキシ−4′−アセチルビフェニル8
8.59 (0,119+not)とギ酸2389 (
5,17mot) + トルエン200 weを60℃
に加熱し、ここへ35%H2O2水溶故160.7F(
104n1ot)を70〜75°Cに液温を保ちながら
、1.5時間で滴下した。こののち60〜70°(3で
311.1間加熱攪拌してから室温に冷却し、トルエン
1.51で抽出し、中住寸で水σ己して、乾燥した。ト
ルエン除去後、エタノール200yneを加え加熱還流
させ、少し冷却し40%水酸化す11ウム水浴液80y
xJを加え再ひ2時間、加熱還流した。この液を6N塩
酸11に注ぎよくかきまぜた。生成した固体を吸引沖過
して集め、トルエン30Gvttを加えて、水を抜いて
、7Jj結晶して、4−ヒドロキシ−4′−n−オクチ
ルオキシビフェニル18.51 ’t??4Dj。収率
50.6%+ mp、 158.6 ’C。
0V)(ト)−8−a−メチルブタノイルクロライドの
合成 S −(−) −2−メチル−1−ブタノール167g
に水360 mlを加えさらに炭酸ナトリウム41.3
yを加えて、室温で攪拌した。ここにあら力、じめ約8
1の水に浴しておいた過マンガン酸カリウム862gを
15〜20°Cで1時間30分でi’l:’iJ下した
。これを室温で6時間i’i、M拌し、つづけて45〜
55°Cの水浴で2111.間加熱攪拌した。その後吸
引沖過して、p過を酸性とし、トルエン24て抽出して
、常圧で蒸留して、(ト)−8−0−メチルブタン目ノ
を倚た。
合成 S −(−) −2−メチル−1−ブタノール167g
に水360 mlを加えさらに炭酸ナトリウム41.3
yを加えて、室温で攪拌した。ここにあら力、じめ約8
1の水に浴しておいた過マンガン酸カリウム862gを
15〜20°Cで1時間30分でi’l:’iJ下した
。これを室温で6時間i’i、M拌し、つづけて45〜
55°Cの水浴で2111.間加熱攪拌した。その後吸
引沖過して、p過を酸性とし、トルエン24て抽出して
、常圧で蒸留して、(ト)−8−0−メチルブタン目ノ
を倚た。
収量73.5y(収率38.0%)、bp、173〜1
74℃、〔α):ffJ 17.6 。
74℃、〔α):ffJ 17.6 。
これを170gの塩化チオニルと4時間加熱還流させ、
その後減圧下に過剰の塩化チオニルを留去して粗製物を
得た。これを精留して(ト)−8−α−メチルブクノイ
ルタロライドt4々Jた。
その後減圧下に過剰の塩化チオニルを留去して粗製物を
得た。これを精留して(ト)−8−α−メチルブクノイ
ルタロライドt4々Jた。
収量75.1y(収率865%)、bp、l14〜11
6°C,(α〕B+17.2゜ (V)4− n−オクチルオキシ−4′−8−α−メチ
ルブタノイルオキシビンエニルの合M 4−ヒドロキシ−4’−(n−Aクチルオギシ)とンエ
ニル2.Of (6,71mmot )を乾燥ピリジン
15m1に溶解しくIV)で合成した住戸S−α−メチ
ルブタノイルクロライ)’ 0.99 (7,47mm
at )の乾燥トルエン溶液10mJを滴下した。
6°C,(α〕B+17.2゜ (V)4− n−オクチルオキシ−4′−8−α−メチ
ルブタノイルオキシビンエニルの合M 4−ヒドロキシ−4’−(n−Aクチルオギシ)とンエ
ニル2.Of (6,71mmot )を乾燥ピリジン
15m1に溶解しくIV)で合成した住戸S−α−メチ
ルブタノイルクロライ)’ 0.99 (7,47mm
at )の乾燥トルエン溶液10mJを滴下した。
室温でよく振とうし、60’Cの水浴上で4時間加熱し
た。これにトルエン50 mlを加えて酸洗、アルカリ
洗、水洗を経た後、硫酸ナトリウム上で乾燥した。トル
エン除去後エタノール60 mlと活性炭から熱沖過し
、更にエタノール50m1から母結晶して目的Llhで
ある4−n−オクチル、dl’シー4−8−α−メチル
ブタノイルオキシビフェニル0.81/ ’c得た。こ
のものはsc*相を示し、その相転移点は表1に示す通
りである。
た。これにトルエン50 mlを加えて酸洗、アルカリ
洗、水洗を経た後、硫酸ナトリウム上で乾燥した。トル
エン除去後エタノール60 mlと活性炭から熱沖過し
、更にエタノール50m1から母結晶して目的Llhで
ある4−n−オクチル、dl’シー4−8−α−メチル
ブタノイルオキシビフェニル0.81/ ’c得た。こ
のものはsc*相を示し、その相転移点は表1に示す通
りである。
又その元素分析値は次の如く理論値と11は一致した。
分析値 理論値(C25H3503として)C78,4
% 78.29% H9,1% 9.20% 実施例1と同様にして表1の実施例5〜7の化合物を得
た。
% 78.29% H9,1% 9.20% 実施例1と同様にして表1の実施例5〜7の化合物を得
た。
実施例2
〔4−n−デシルオキシ−4’−(p−(2−メチルフ
チル)ヘンソイルオキシ)ビフェニル((I)式におい
てt−19m塁0.nな1でX=n Cl0H180の
もの)の合成〕 まず、実施例1(1)〜011)で合成した4−ヒドロ
キシ−4′−n−オクチルオキシビフェニルト同様な方
法で4−ヒドロキシ−4’−n−デシルオキシビフェニ
ルを合成した。
チル)ヘンソイルオキシ)ビフェニル((I)式におい
てt−19m塁0.nな1でX=n Cl0H180の
もの)の合成〕 まず、実施例1(1)〜011)で合成した4−ヒドロ
キシ−4′−n−オクチルオキシビフェニルト同様な方
法で4−ヒドロキシ−4’−n−デシルオキシビフェニ
ルを合成した。
4−アセチル−4′−n−デシルオキシビフェニル
C−8B点117.8°C,5B−I点1B1.8°C
4−ヒドロキシ−4′−n−デシルオキシビフェニル mp、149.0 この4−ヒドロキシ−4’−n−デシルオキシ。
4−ヒドロキシ−4′−n−デシルオキシビフェニル mp、149.0 この4−ヒドロキシ−4’−n−デシルオキシ。
ビフェニル0.51を乾燥ピリジン20*eに溶解して
、これに市販の(ト)−p−(2−メチルブチル)ベン
ゾイルクロライド0.41を滴下、さらに乾燥トルエン
15sr、i!を注入して、室温でよく振とうし、さら
に60°Cの水浴上で8時間加熱した。これを室温まで
冷却、トルエン50+tを加えて、6N塩酸100m/
で2度洗浄、さらに2Nアルカリ水で2度洗浄した後、
飽和食塩水で数回洗浄して中性とし、それを硫酸ナトリ
ウム上で乾燥した。これをトルエン留去してから、エタ
ノール20vtlと酢酸エチル2C)xlの混合溶媒を
用いて活性炭で熱沖過、再結晶した。冷凍庫中で生成し
た結晶を沖過し、乾燥し、目的の4−n〜デシルオキシ
−4’−(p−(2−メチ、11/〕−y−ル)ヘンジ
イルオキシ)ビフェニル0.81を得た。相転移点は表
1に示す通ルである。
、これに市販の(ト)−p−(2−メチルブチル)ベン
ゾイルクロライド0.41を滴下、さらに乾燥トルエン
15sr、i!を注入して、室温でよく振とうし、さら
に60°Cの水浴上で8時間加熱した。これを室温まで
冷却、トルエン50+tを加えて、6N塩酸100m/
で2度洗浄、さらに2Nアルカリ水で2度洗浄した後、
飽和食塩水で数回洗浄して中性とし、それを硫酸ナトリ
ウム上で乾燥した。これをトルエン留去してから、エタ
ノール20vtlと酢酸エチル2C)xlの混合溶媒を
用いて活性炭で熱沖過、再結晶した。冷凍庫中で生成し
た結晶を沖過し、乾燥し、目的の4−n〜デシルオキシ
−4’−(p−(2−メチ、11/〕−y−ル)ヘンジ
イルオキシ)ビフェニル0.81を得た。相転移点は表
1に示す通ルである。
又、その元素分析値は次の如く理論値とほぼ一致した。
分析値 理論値(C34H4403として)C81,7
% 81.56% H8,7% 8,86% 実施例2と同様にして表1の実施例8〜1゜の化合物を
得た。
% 81.56% H8,7% 8,86% 実施例2と同様にして表1の実施例8〜1゜の化合物を
得た。
実施例8
〔4−n−テトラデシルオキシ−4′−β−メチルペン
タノイルオキシピフエニルl)式ft−0+ m =
o + n = tでX、−C,、H2,0のもの)の
合成〕 (+)4−ヒドロキシ−4′−n−テトラデシルオキシ
ビフェニルの合成 実施例1(1)〜(in)で合成した4−ヒドロキシ−
4′−n−オクチルオキシビフェニルと同様な方法で4
−ヒドロキシ−4′−計テトラデシルオキシヒフェニル
を合成した。
タノイルオキシピフエニルl)式ft−0+ m =
o + n = tでX、−C,、H2,0のもの)の
合成〕 (+)4−ヒドロキシ−4′−n−テトラデシルオキシ
ビフェニルの合成 実施例1(1)〜(in)で合成した4−ヒドロキシ−
4′−n−オクチルオキシビフェニルと同様な方法で4
−ヒドロキシ−4′−計テトラデシルオキシヒフェニル
を合成した。
4−アセチル−4’−n−テトラデシルオキシビフェニ
ル C−SB点112.1°C,5B−I点12B、2°C
4−ヒドロキシ−4′−n−テトラデシルオキシビフェ
ニル mp、 144 (11)(ト)−8−β−メチルペンタノイルクロライ
ドの合成 フラスコに金属マグネシウムリボン12.1’を入れ攪
拌し、乾燥した。これを冷却して乾燥エーテル50WI
/を入れて、ヨウ化エチルを少量添加し、温めて、市販
の←)−8−1−ブロモ−2−メチルブタン70fを冷
却しながら加えた。
ル C−SB点112.1°C,5B−I点12B、2°C
4−ヒドロキシ−4′−n−テトラデシルオキシビフェ
ニル mp、 144 (11)(ト)−8−β−メチルペンタノイルクロライ
ドの合成 フラスコに金属マグネシウムリボン12.1’を入れ攪
拌し、乾燥した。これを冷却して乾燥エーテル50WI
/を入れて、ヨウ化エチルを少量添加し、温めて、市販
の←)−8−1−ブロモ−2−メチルブタン70fを冷
却しながら加えた。
その後1.5時間室温で攪拌した。別にドライアイスを
粉砕しておき、ここに上記のものを注入した。これを6
N塩酸で酸性として、トルエン20(lr/で抽出し、
水洗してトルエンを留去した。
粉砕しておき、ここに上記のものを注入した。これを6
N塩酸で酸性として、トルエン20(lr/で抽出し、
水洗してトルエンを留去した。
これを過剰の塩化チオニルと8時間加熱還流してその後
、減圧下に塩化チオニルを留去し、減圧蒸留することに
よ)、←)−8−β−メチルペンタノイルクロライドを
得た。
、減圧下に塩化チオニルを留去し、減圧蒸留することに
よ)、←)−8−β−メチルペンタノイルクロライドを
得た。
収量25.8IC収率48.6%) 、 b、p、 1
97〜198°c、 cα〕i + 5.4°。
97〜198°c、 cα〕i + 5.4°。
仙)エステル化
(+)ノ4−ヒドロキシー4′−n−テトラデシルオキ
シビフェニル0.51を乾燥ピリジン2(Jtlに溶ブ
!1′7シて、これに(11)で合成した(ト)−8−
β−メチルペンタノイルクロライド0.2Fを滴下、さ
らに乾燥トルエン15g1を注入して、室温でよく振と
うし、更に60°Cの水浴上で3時間、加熱した。これ
を室温に冷却、トルエン5(1+/を加えて、6N塩酸
100ttttで2度洗浄、さらに2Nアルカリ水で2
度洗浄した後、飽和食塩水で数回洗浄して中性とし、硫
酸ナトリウム上で乾燥した。これをトルエン留去して、
エタノール40m1を用いて熱p過、再結晶して、目的
の(S)−4−テトラデシルオキシ−4′−β−メチル
ペンタノイルオキシビフェニル0.2fk4%た。
シビフェニル0.51を乾燥ピリジン2(Jtlに溶ブ
!1′7シて、これに(11)で合成した(ト)−8−
β−メチルペンタノイルクロライド0.2Fを滴下、さ
らに乾燥トルエン15g1を注入して、室温でよく振と
うし、更に60°Cの水浴上で3時間、加熱した。これ
を室温に冷却、トルエン5(1+/を加えて、6N塩酸
100ttttで2度洗浄、さらに2Nアルカリ水で2
度洗浄した後、飽和食塩水で数回洗浄して中性とし、硫
酸ナトリウム上で乾燥した。これをトルエン留去して、
エタノール40m1を用いて熱p過、再結晶して、目的
の(S)−4−テトラデシルオキシ−4′−β−メチル
ペンタノイルオキシビフェニル0.2fk4%た。
相転移点は表1に示した通シである。又、その元素分析
値は次の如く理論値とはは一致した。
値は次の如く理論値とはは一致した。
分析値 理論値(C4゜H4803として)C8B、5
% 88.28% H8,2% 8.39% 実施例3と同イ゛佼にして表1の実施例11〜13の化
合物を得た。
% 88.28% H8,2% 8.39% 実施例3と同イ゛佼にして表1の実施例11〜13の化
合物を得た。
実施例4
t=m=n= 1 、 X=C5l■170のもの)の
合成〕(1)(S)−p −(2−メチルブチルオキシ
)ベンゾイルクロライドの合成 フラスコ中に水酸化カリウム86.8tiと水52、4
tttlを入れ、撹拌して、溶解させた。ここに冷却
しながらエタノール350ゴを加え、さらにp−ヒドロ
キシ安息香e45.81を入れた。
合成〕(1)(S)−p −(2−メチルブチルオキシ
)ベンゾイルクロライドの合成 フラスコ中に水酸化カリウム86.8tiと水52、4
tttlを入れ、撹拌して、溶解させた。ここに冷却
しながらエタノール350ゴを加え、さらにp−ヒドロ
キシ安息香e45.81を入れた。
ここへ市販の←)−s 、−i−プロモー2−メチルブ
タンを加え、12時間加熱還流を行った。その後水温上
でエタノールを留去した。これに濃塩酸を加えて、反応
物を析出させた。これをベンゼンで抽出して浩媒を留去
し、さらにベンゼンから再結晶して但)−p−C2−メ
チルブチルオキシ)安息香酸(状景12.2y、収率1
468%)を得た。m、p、 108〜112°C0こ
れを過剰の塩化チオニルと6時間、加熱還流した。この
後、減圧下に過剰の塩化チオニルを留去し蒸留して(S
)−P−(2−メチルブチル(1リエステル化 実施例1 (m)で合成した4−ヒドロキシ−4′−n
−オクチルオキシビフェニルa、OgtE燥ピリジン5
0vtlに溶解し、これに(1)で合成した5−(p−
(2−メチルブチルオキシ))ベンゾイルクロライド1
.81を滴下し、さらに、乾燥トルエン80ttttを
注入して、室温でよく振とうし、更に60°Cの水浴上
で3時間加熱した。これを室温に冷却し、トルエンL
00 wttを加えて、酸洗沖、アルカリ洗浄し、さら
に飽和食塩水で洗浄して中性とし、硫aρナトリウム上
で乾燥した。これ全トルエン留去して、エタノール80
m1を用いて熱濾過、再結晶して目的の4−オクチルオ
キシ−4’−(p−(2−メチルブチルオキシ)ベンゾ
イルオキシ)ビフェニル2.31が得られた。その相転
移点は表1に示した通シである。又、その元素分析値は
次の如く理論値とほぼ一致した。
タンを加え、12時間加熱還流を行った。その後水温上
でエタノールを留去した。これに濃塩酸を加えて、反応
物を析出させた。これをベンゼンで抽出して浩媒を留去
し、さらにベンゼンから再結晶して但)−p−C2−メ
チルブチルオキシ)安息香酸(状景12.2y、収率1
468%)を得た。m、p、 108〜112°C0こ
れを過剰の塩化チオニルと6時間、加熱還流した。この
後、減圧下に過剰の塩化チオニルを留去し蒸留して(S
)−P−(2−メチルブチル(1リエステル化 実施例1 (m)で合成した4−ヒドロキシ−4′−n
−オクチルオキシビフェニルa、OgtE燥ピリジン5
0vtlに溶解し、これに(1)で合成した5−(p−
(2−メチルブチルオキシ))ベンゾイルクロライド1
.81を滴下し、さらに、乾燥トルエン80ttttを
注入して、室温でよく振とうし、更に60°Cの水浴上
で3時間加熱した。これを室温に冷却し、トルエンL
00 wttを加えて、酸洗沖、アルカリ洗浄し、さら
に飽和食塩水で洗浄して中性とし、硫aρナトリウム上
で乾燥した。これ全トルエン留去して、エタノール80
m1を用いて熱濾過、再結晶して目的の4−オクチルオ
キシ−4’−(p−(2−メチルブチルオキシ)ベンゾ
イルオキシ)ビフェニル2.31が得られた。その相転
移点は表1に示した通シである。又、その元素分析値は
次の如く理論値とほぼ一致した。
分析値 理論値(C32H4QOAとして)C78,8
% 78.65% H8,1% 8.25% 実施例4と同様にして表1の実施例14〜16の化合物
を得た。
% 78.65% H8,1% 8.25% 実施例4と同様にして表1の実施例14〜16の化合物
を得た。
実施例17(使用例1)
4−エチル−4′−シアノビフェニル 200ti4−
ペンチルー4′−7アメビフエニル 40M量%4−オ
クチルオキシー4′−シアノビフェニル 25iii[
1%4−ベンチルー47−ジアツターフエニル 155
tiからなるネマチック液晶組成物をポリビニルアルコ
ール(PVA)f:塗布し、その表面をラビングして平
行配向処理を施した透明電極からなるセル(電極間隔1
0μm)に注入してTN型表示セルとし、これを偏光顕
微鏡下で観察したところ、リバース・ドメインを生じて
いるのが観察された。
ペンチルー4′−7アメビフエニル 40M量%4−オ
クチルオキシー4′−シアノビフェニル 25iii[
1%4−ベンチルー47−ジアツターフエニル 155
tiからなるネマチック液晶組成物をポリビニルアルコ
ール(PVA)f:塗布し、その表面をラビングして平
行配向処理を施した透明電極からなるセル(電極間隔1
0μm)に注入してTN型表示セルとし、これを偏光顕
微鏡下で観察したところ、リバース・ドメインを生じて
いるのが観察された。
上記のネマチック液晶組成物に本願の実施例8の化合物
を0.1重上1%添加したものを使用して同様にTNセ
ルとして観察したところリノ(−ス・ドメインは解消さ
れ、均一なネマチック相が観察された。
を0.1重上1%添加したものを使用して同様にTNセ
ルとして観察したところリノ(−ス・ドメインは解消さ
れ、均一なネマチック相が観察された。
実施例18(使用例2)
化学式
(3
(但し、*は光学活性炭素を示す)
で表わされる化合物80重県%1本願災施例5の化合物
及び実施例11の化合物各1ON、m%からなる混合物
は、44°CまでSC*相全示し、それ以上の温度でS
A相を示し、69°Cで等方性液体となる。
及び実施例11の化合物各1ON、m%からなる混合物
は、44°CまでSC*相全示し、それ以上の温度でS
A相を示し、69°Cで等方性液体となる。
この混合?I全、pVAを塗布し、表面をラビングして
平行配向処理を施した透明電極を備えたセルに注入し、
50vの直流電圧を印加しなから、SC*相になるまで
徐冷したところ均一なモノドメインセルが得られた。こ
の液晶セルを直交ニコル状態に配置した2枚の偏光子の
間にはさみ15 V 、 0.5 Hzの低周波数の交
流を印加したところ、明瞭なスイッチング動作が観察さ
れ、非常にコントラストも良く、応答速度が速い(2m
sec)液晶表示素子が得られた。
平行配向処理を施した透明電極を備えたセルに注入し、
50vの直流電圧を印加しなから、SC*相になるまで
徐冷したところ均一なモノドメインセルが得られた。こ
の液晶セルを直交ニコル状態に配置した2枚の偏光子の
間にはさみ15 V 、 0.5 Hzの低周波数の交
流を印加したところ、明瞭なスイッチング動作が観察さ
れ、非常にコントラストも良く、応答速度が速い(2m
sec)液晶表示素子が得られた。
尚、この液晶組成物の自発分極の値Psは4.5n c
/clであった。
/clであった。
実施例19(使用例3)
本願実施例1.実施例6.実施例12.実施例3の化合
物各々20M量%及び実施例2.実施例14の化合物各
々10重量%からなる混合物は86°atでSC*相を
示し、それ以上の温度でSA相を示し、101 ℃で等
方性液体となる。
物各々20M量%及び実施例2.実施例14の化合物各
々10重量%からなる混合物は86°atでSC*相を
示し、それ以上の温度でSA相を示し、101 ℃で等
方性液体となる。
この混合物にアントラキノン系色素のD−16(BDH
社製品)を8重量%添加していわゆるゲスト・ホスト型
にしたものを使用例2と同様なセルに注入し、1枚の偏
光子を偏光面が分子軸に垂直になるように配置し、0.
5Hz、15Vの低周波数の交流を印加したところ、明
瞭なスイッチング動作か観察され、非常にコントラスト
が良く、応答速度が速い(27)2sec)カラー液晶
表示素子が得られた。
社製品)を8重量%添加していわゆるゲスト・ホスト型
にしたものを使用例2と同様なセルに注入し、1枚の偏
光子を偏光面が分子軸に垂直になるように配置し、0.
5Hz、15Vの低周波数の交流を印加したところ、明
瞭なスイッチング動作か観察され、非常にコントラスト
が良く、応答速度が速い(27)2sec)カラー液晶
表示素子が得られた。
尚、この液晶組成物の自発分極の値Psは3.6nc/
cdでイうった。
cdでイうった。
以上
手続補正書
昭和59年10月7日
特許庁長官 志 賀 学 殿
1、事件の表示
昭和58年特許H第138,148号
2、発明の名称
液晶物質及び液晶組成物
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
大阪府大阪市北区中之島三丁目6番32号(〒530)
(207)チッソ株式会社 代表者 舒 木 貞 雄 4、代理人 東京都新宿区新宿2丁目8番1号(〒160)6、補正
により増加する発明の数 な し 7、補正の対象 明細書の特許請求の範囲の欄及び発明の詳細な説明の欄 8、補正の内容 (1)明細書の特許請求の範囲の欄を別紙のとおりに補
正する。
(207)チッソ株式会社 代表者 舒 木 貞 雄 4、代理人 東京都新宿区新宿2丁目8番1号(〒160)6、補正
により増加する発明の数 な し 7、補正の対象 明細書の特許請求の範囲の欄及び発明の詳細な説明の欄 8、補正の内容 (1)明細書の特許請求の範囲の欄を別紙のとおりに補
正する。
(2)明細書第5頁3行目「応答速度」を「応答時間」
に訂正する。
に訂正する。
(3)明細書第10頁の下部に示されている5つの化学
式のうち3番目の([c)式の化学式及び化合物名を削
除する。
式のうち3番目の([c)式の化学式及び化合物名を削
除する。
(4)明細書247t3頁8行目から第14頁8行目(
但し化学式は1行と数えて)「合成される。」までを削
除する。
但し化学式は1行と数えて)「合成される。」までを削
除する。
(5)明細#第18頁9行目から17行目までの記載を
削除する。
削除する。
9、添付書類の目録
別紙(特許請求の範囲) 1通
以上
別紙
特許請求の範囲
(1)一般式
(1)
(但し、上式に於いて、XFJ、炭素数1〜18のアル
キル基又は、アルキルオキシ基を示し、れかは店である
。又、*は光学活性炭素原子を示す。) で表わされる化合物。
キル基又は、アルキルオキシ基を示し、れかは店である
。又、*は光学活性炭素原子を示す。) で表わされる化合物。
(2)一般式
(1)
(但し、上式に於いて、Xは炭素数1〜18のアルキル
基又は、アルキルオキシ基ケ示し、しnがOであるとき
は少くともt、mのいずれかは0である。又、*は光学
活性炭素原子を示す。) で表わされる化合物を少なくとも1種含有することを特
徴とするカイラルスメクチック液晶組成物。
基又は、アルキルオキシ基ケ示し、しnがOであるとき
は少くともt、mのいずれかは0である。又、*は光学
活性炭素原子を示す。) で表わされる化合物を少なくとも1種含有することを特
徴とするカイラルスメクチック液晶組成物。
(3)複数の(1)式の化合物からなる!1”、r?f
請求の範囲第2項記載の液晶組成物。
請求の範囲第2項記載の液晶組成物。
(4)一般式
(1)
(但し、上式((於いて、Xは炭素数1〜18のアルギ
ル基又は、アルキルオキシ基を示し、れかは0である。
ル基又は、アルキルオキシ基を示し、れかは0である。
又、*は光学活性炭素原子を示す、、、)
で表わされる化合物を少なくとも1種含有する、カイラ
ルスメクチックC相(SC*相)を呈する液晶組成物を
使用して構成された光スイツチング素子。
ルスメクチックC相(SC*相)を呈する液晶組成物を
使用して構成された光スイツチング素子。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)一般式 (1) (但し、上式に於いて、Xは炭素数1〜18のアルキル
基又は、アルキルオキシ基であシ、tは0又は1+mは
0又は1.nは0又は1である。又、*は光学活性炭素
原子を示す。)で表わされる化合物。 (2)一般式 (1) (但し、上式に於いて、Xは炭素数1〜18のアルキル
基又は、アルキルオキシ基であシ、tは0又は1+mは
0又はInnは0又は1である。又、*は光学活性炭素
原子を示す。)で表わされる化合物を少なくとも1種含
′有することを特徴とするカイラルスメクチック液晶組
成物。 (3)複数の(1)式の化合物からなる特許請求の範囲
第2項記載の液晶組成物。 (4)一般式 (1) (但し、上式に於いて、Xは炭素数1〜18のアルキル
基又は、アルキルオキシ基であシ、tはO又は11mは
0又は1 + n Fi O又は1である。又、*は光
学活性炭素原子を示す。)で表わされる化合物を少なく
とも1種含有する、カイラルスメクチックC相(SC*
相)を呈する液晶組成物を使用して構成された光スイツ
チング素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13814883A JPS6051147A (ja) | 1983-07-28 | 1983-07-28 | 液晶物質及び液晶組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13814883A JPS6051147A (ja) | 1983-07-28 | 1983-07-28 | 液晶物質及び液晶組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6051147A true JPS6051147A (ja) | 1985-03-22 |
JPH0564134B2 JPH0564134B2 (ja) | 1993-09-14 |
Family
ID=15215128
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13814883A Granted JPS6051147A (ja) | 1983-07-28 | 1983-07-28 | 液晶物質及び液晶組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6051147A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60218358A (ja) * | 1984-04-13 | 1985-11-01 | Ajinomoto Co Inc | 液晶 |
EP0164814A2 (en) * | 1984-06-11 | 1985-12-18 | Chisso Corporation | Liquid crystalline ester compounds and mixtures thereof |
JPS61255988A (ja) * | 1985-05-09 | 1986-11-13 | Asahi Glass Co Ltd | 液晶組成物 |
JPS63165345A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-07-08 | Chisso Corp | 光学活性−2−メチル−アルカナ−ト類およびその利用物 |
US5397504A (en) * | 1987-05-29 | 1995-03-14 | Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha | Biphenyl compound |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5219641A (en) * | 1975-08-06 | 1977-02-15 | Merck Patent Gmbh | Biphenyl esters |
-
1983
- 1983-07-28 JP JP13814883A patent/JPS6051147A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5219641A (en) * | 1975-08-06 | 1977-02-15 | Merck Patent Gmbh | Biphenyl esters |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS60218358A (ja) * | 1984-04-13 | 1985-11-01 | Ajinomoto Co Inc | 液晶 |
JPH0455185B2 (ja) * | 1984-04-13 | 1992-09-02 | Ajinomoto Kk | |
EP0164814A2 (en) * | 1984-06-11 | 1985-12-18 | Chisso Corporation | Liquid crystalline ester compounds and mixtures thereof |
EP0164814A3 (en) * | 1984-06-11 | 1986-06-11 | Chisso Corporation | Liquid crystalline ester compounds and mixtures thereof |
JPS61255988A (ja) * | 1985-05-09 | 1986-11-13 | Asahi Glass Co Ltd | 液晶組成物 |
JPS63165345A (ja) * | 1986-12-26 | 1988-07-08 | Chisso Corp | 光学活性−2−メチル−アルカナ−ト類およびその利用物 |
US5397504A (en) * | 1987-05-29 | 1995-03-14 | Kanto Kagaku Kabushiki Kaisha | Biphenyl compound |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0564134B2 (ja) | 1993-09-14 |
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