JPS6050797A - 半導体記憶装置 - Google Patents
半導体記憶装置Info
- Publication number
- JPS6050797A JPS6050797A JP58159313A JP15931383A JPS6050797A JP S6050797 A JPS6050797 A JP S6050797A JP 58159313 A JP58159313 A JP 58159313A JP 15931383 A JP15931383 A JP 15931383A JP S6050797 A JPS6050797 A JP S6050797A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- data line
- section
- line
- word line
- decoder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 14
- TVZRAEYQIKYCPH-UHFFFAOYSA-N 3-(trimethylsilyl)propane-1-sulfonic acid Chemical compound C[Si](C)(C)CCCS(O)(=O)=O TVZRAEYQIKYCPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000004044 response Effects 0.000 description 3
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 210000004907 gland Anatomy 0.000 description 1
- 230000002747 voluntary effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C7/00—Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
- G11C7/10—Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C8/00—Arrangements for selecting an address in a digital store
- G11C8/12—Group selection circuits, e.g. for memory block selection, chip selection, array selection
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C8/00—Arrangements for selecting an address in a digital store
- G11C8/14—Word line organisation; Word line lay-out
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Dram (AREA)
- Static Random-Access Memory (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、高速動作が可能な半導体記憶装置に関する
。
。
近年、半導体技術が進歩するに伴って半導体記憶装置の
高速化が望まれている。このような半導体記憶装置の高
速化を実現する一つの手段として、本出願人による特願
昭57−138573号にワード線の遅延時間を短縮し
てアクセスタイムを高速化する「半導体記憶装置」が提
案されている。第1図はその構成を示すもので、図にお
いて、11,11.・・・はメモリセル、IWLi11
wLi’は1行目の第1ワード線、2WLi は1行目
の第2ワード線、RDiは同じく1行目のローデコーダ
、BL、 、 BL、 〜BLn t BLnおよびB
L、’pp、’〜BLri、 BLn’けビット線、S
Si 、 SSiは1行目の第1ワードm1WLiあル
イ1tlWLi’i選択するためのセレクトスイッチ、
SD、Sがは上記セレクトスイッチSSi、SSi’を
制御するためのセクションデコーダ、S Wle 8
J 〜S W n +i口およびsw、’、swフ〜5
Wrf、SViワはカラムデコーダ(図示しない)の出
力によって制御されビット線を選択するためのスイッチ
、D。
高速化が望まれている。このような半導体記憶装置の高
速化を実現する一つの手段として、本出願人による特願
昭57−138573号にワード線の遅延時間を短縮し
てアクセスタイムを高速化する「半導体記憶装置」が提
案されている。第1図はその構成を示すもので、図にお
いて、11,11.・・・はメモリセル、IWLi11
wLi’は1行目の第1ワード線、2WLi は1行目
の第2ワード線、RDiは同じく1行目のローデコーダ
、BL、 、 BL、 〜BLn t BLnおよびB
L、’pp、’〜BLri、 BLn’けビット線、S
Si 、 SSiは1行目の第1ワードm1WLiあル
イ1tlWLi’i選択するためのセレクトスイッチ、
SD、Sがは上記セレクトスイッチSSi、SSi’を
制御するためのセクションデコーダ、S Wle 8
J 〜S W n +i口およびsw、’、swフ〜5
Wrf、SViワはカラムデコーダ(図示しない)の出
力によって制御されビット線を選択するためのスイッチ
、D。
Dはデータ線、S八はセンスアンプ、WRは書き込み信
号、OUTは出力信号である。
号、OUTは出力信号である。
上記のような構成では、アクセス時にはローデコーダR
DとセクションデコーダSD(あるいは8D′)とによ
って1つの第1ワード線IWL(あるいはIWL’)に
接続されたメモリセル群しか活性化されない。従って、
1つのローデコーダRDで駆動すべきメモリセルの数を
減少でき、ワード線部において従来の2〜3倍の高速化
が達成されている。
DとセクションデコーダSD(あるいは8D′)とによ
って1つの第1ワード線IWL(あるいはIWL’)に
接続されたメモリセル群しか活性化されない。従って、
1つのローデコーダRDで駆動すべきメモリセルの数を
減少でき、ワード線部において従来の2〜3倍の高速化
が達成されている。
第2図(a)〜(d)は、前記スイッチsw1.sw、
〜SWn 、 SWnおよびSW、 # SW、′〜
SWd# SWn’の構成例を示している。(a)図に
おいては、ビット線B L (BL)とデータ線D (
D)間に挿接されたNチャネル形のMO8FETQtを
カラムデコーダCDの出力によって導通制御する例を示
し、(b)図においては、MOS PET O2,Q、
をトランスミッションゲート構成にした例を示し、(C
)図、(d)図にはセクションセンスアンプSSA、セ
クションライトランプSw人を用いた例をそれぞれ示し
ている。ここで、(C)図および(d)図はインバータ
形のものであシ、カラムデコーダCDによって選択され
たピットのデータ線りとビット線BLとを選択的に接続
する。これらの回路は適切に組み合わせて配置しても良
く、例えば(c)図に示した回路はビット線BLからデ
ータ線りヘ一方向に信号を伝達するものであり、(d)
図に示した回路はその逆に信号を伝達するものであるの
で、他の回路との組合せが必要である。
〜SWn 、 SWnおよびSW、 # SW、′〜
SWd# SWn’の構成例を示している。(a)図に
おいては、ビット線B L (BL)とデータ線D (
D)間に挿接されたNチャネル形のMO8FETQtを
カラムデコーダCDの出力によって導通制御する例を示
し、(b)図においては、MOS PET O2,Q、
をトランスミッションゲート構成にした例を示し、(C
)図、(d)図にはセクションセンスアンプSSA、セ
クションライトランプSw人を用いた例をそれぞれ示し
ている。ここで、(C)図および(d)図はインバータ
形のものであシ、カラムデコーダCDによって選択され
たピットのデータ線りとビット線BLとを選択的に接続
する。これらの回路は適切に組み合わせて配置しても良
く、例えば(c)図に示した回路はビット線BLからデ
ータ線りヘ一方向に信号を伝達するものであり、(d)
図に示した回路はその逆に信号を伝達するものであるの
で、他の回路との組合せが必要である。
第3図は、前記第1図の半導体記憶装置におけるメモリ
セル11の構成例を示している。図において、04eQ
5はセル選択用のM○SFE’17゜O6、Q?および
Q、、Q、はそれぞれCMOSインバータ12.13f
、構成するl、(O8Flli:Tで、上記インバータ
12.13の入出力端がそれぞれ接続されてラッチ回路
が構成され、上記インバータ12の出力端およびインバ
ータ12の入力端が上記選択用のblOB FET O
4の一端に接続され、上記インバータ13の出力端およ
びインバータ120入力端が上記選択用のlJO8Fg
TQ、の一端に接続されて構成されている。
セル11の構成例を示している。図において、04eQ
5はセル選択用のM○SFE’17゜O6、Q?および
Q、、Q、はそれぞれCMOSインバータ12.13f
、構成するl、(O8Flli:Tで、上記インバータ
12.13の入出力端がそれぞれ接続されてラッチ回路
が構成され、上記インバータ12の出力端およびインバ
ータ12の入力端が上記選択用のblOB FET O
4の一端に接続され、上記インバータ13の出力端およ
びインバータ120入力端が上記選択用のlJO8Fg
TQ、の一端に接続されて構成されている。
ところで、上記第1図のような構成においては、データ
線り、Dにスイッチsw、 、 sw、〜SWn 、
8WnあるいはF3W、’ 、 SW、’ N5Wn’
ri7の一端がそれぞれ接続されており、たとえスイ
ッチがオン状態でなくても各スイッチを構成するMOS
FETのソース、ドレインあるいはゲート容量が付随
することになる。このため、データ線り、■の寄生容量
が大きくなり、データ線による信号遅延が大きくこれに
ついては改良の余地がある。す力わち、第4図のタイミ
ングチャートに示すように、時刻t。においてローデコ
ーダRDによって第2ワード線2WLが選択されるとこ
の第2ワード線2WLの電位は高速にハイ(%H“)レ
ベルとなり、選択されたセクションの第1ワード線IW
L(あるいはIWL’)もこれに応じて高速に立ち上が
る(時刻tx)。しかし、ビット線BL、 BLの電位
はゆっくりと変化する。これは、スイッチ5W11sW
1〜SWn。
線り、Dにスイッチsw、 、 sw、〜SWn 、
8WnあるいはF3W、’ 、 SW、’ N5Wn’
ri7の一端がそれぞれ接続されており、たとえスイ
ッチがオン状態でなくても各スイッチを構成するMOS
FETのソース、ドレインあるいはゲート容量が付随
することになる。このため、データ線り、■の寄生容量
が大きくなり、データ線による信号遅延が大きくこれに
ついては改良の余地がある。す力わち、第4図のタイミ
ングチャートに示すように、時刻t。においてローデコ
ーダRDによって第2ワード線2WLが選択されるとこ
の第2ワード線2WLの電位は高速にハイ(%H“)レ
ベルとなり、選択されたセクションの第1ワード線IW
L(あるいはIWL’)もこれに応じて高速に立ち上が
る(時刻tx)。しかし、ビット線BL、 BLの電位
はゆっくりと変化する。これは、スイッチ5W11sW
1〜SWn。
iあるいはSW1’、 SWl”%’ SWn’ +
SWn’が選択されるとビット線13L、BI、とデー
タ線り、Dが接続(これらのスイッチとして第2図(a
) 、 (b)に示す回路を用いた場合)されて寄生容
量が増加−するためである。このためデータ線り、Dの
電位変化もゆっくりとなり、時刻t、においてセンスア
ンプSAの出力OUTが設定される。なお、上記スイッ
チBW1 、 SW、 〜SWn 、 8Wnおよびス
イッチSW1’t BW1’ ”−’ SWn′* S
Mとして第2図(C)。
SWn’が選択されるとビット線13L、BI、とデー
タ線り、Dが接続(これらのスイッチとして第2図(a
) 、 (b)に示す回路を用いた場合)されて寄生容
量が増加−するためである。このためデータ線り、Dの
電位変化もゆっくりとなり、時刻t、においてセンスア
ンプSAの出力OUTが設定される。なお、上記スイッ
チBW1 、 SW、 〜SWn 、 8Wnおよびス
イッチSW1’t BW1’ ”−’ SWn′* S
Mとして第2図(C)。
(d)に示したセクションセンスアンプS8A および
セクションライトアンプIEIWA i用いればビット
線BL、BLとデータ線り、Dとを電気的に分離できる
ので、ビット線BLの宵1位変化は破線で示すように比
較的速くできるが、データ線り、Dに寄生する容量が大
きいためデータ1線り。
セクションライトアンプIEIWA i用いればビット
線BL、BLとデータ線り、Dとを電気的に分離できる
ので、ビット線BLの宵1位変化は破線で示すように比
較的速くできるが、データ線り、Dに寄生する容量が大
きいためデータ1線り。
五の電位変化がゆっくりと行なわれ、大幅な高速化は望
めない。
めない。
今、256にビットのスタティックRAIJを前記第1
図に示す回路構成で形成したとすると、データ線り、五
の容量は3T)F程度で、データ線での遅延時間は8n
S程度となる(アクセスタイムを40 ns とする)
。一方、ワード線による遅延時間は、ワード線を2重化
していないものが15 ns程度であるのに対し、7n
S程度に短縮される。
図に示す回路構成で形成したとすると、データ線り、五
の容量は3T)F程度で、データ線での遅延時間は8n
S程度となる(アクセスタイムを40 ns とする)
。一方、ワード線による遅延時間は、ワード線を2重化
していないものが15 ns程度であるのに対し、7n
S程度に短縮される。
この発明は上記のような事情に鑑みてなされたもので、
その目的とするところは、データ線による信号遅延時間
を短縮できさらに高速化が可能な半導体記憶装置を提供
することである。
その目的とするところは、データ線による信号遅延時間
を短縮できさらに高速化が可能な半導体記憶装置を提供
することである。
すなわち、この発明においては、前記第1図におけるデ
ータ線り、Dをメモリセル群の各セクション毎に分割設
定し、上記分割設定したデータ線をそれぞれ接続する第
2ワード線を配設することにより、ビット線に接続され
るデータ線の容量を低減し、データ線での信号遅延時間
を短縮するように構成したものである。
ータ線り、Dをメモリセル群の各セクション毎に分割設
定し、上記分割設定したデータ線をそれぞれ接続する第
2ワード線を配設することにより、ビット線に接続され
るデータ線の容量を低減し、データ線での信号遅延時間
を短縮するように構成したものである。
以下、この発明の一実施例について図面を参照して説明
する。第5図において前記第1図と同一構成部には同じ
符号を付し、説明を簡単化するためにメモリセル群を2
つのセクションに分割した場合について説明する。ビッ
ト線B L +BL お、1:びBL’、BL’ と第
17− )’線IWL、IWL’との各交差位置にはメ
モリセル11,11゜・・・がそれぞれ対応して配設さ
れており、上記第1ワード線IWL、IWL’はそれぞ
れセクションスイッチS8,88’を介して第2ワード
線2WL に接続される。上記セクションスイッチss
、ss’はセクションデコーダSD、SD’によって制
御され、上記第2ワード線2WLには口7− デコーダRDの出力が供給される。このローデコーダR
Dにはアドレス信号へ、〜へnが供給されている。上記
ビット線BL、IB−〜BLn+設されており、これら
スイッチSW1〜SWnの他端は第1データ線IDに、
S W、 % S W nの他端は第1データ線iに、
sw、’ 〜SWn’ の他端は第1データ線ID’に
、蒔?〜面7の他端は第1データ線i′にそれぞれ接続
されている。上記第1データ線IDは、セクションデコ
ーダSDによって制御されるデータ線選択スイッチDS
Sを介して第2データ線2Dに接続され、第1データ線
toは、セクションデコーダSDによって制御されるデ
ータ線選択スイッチmを介して第2データmlに接続さ
れる。また、上記第1データ線ID’は、セクションデ
コーダSD’によって制御されるデータ線選択スイッチ
DSS’を介して第2データ線2Dに接続され、第1デ
8− 一夕線ID’はセクションデコーダSD’によって制御
されるデータ線選択スイッチDSS’を介して第2デー
タ線2Dに接続される。
する。第5図において前記第1図と同一構成部には同じ
符号を付し、説明を簡単化するためにメモリセル群を2
つのセクションに分割した場合について説明する。ビッ
ト線B L +BL お、1:びBL’、BL’ と第
17− )’線IWL、IWL’との各交差位置にはメ
モリセル11,11゜・・・がそれぞれ対応して配設さ
れており、上記第1ワード線IWL、IWL’はそれぞ
れセクションスイッチS8,88’を介して第2ワード
線2WL に接続される。上記セクションスイッチss
、ss’はセクションデコーダSD、SD’によって制
御され、上記第2ワード線2WLには口7− デコーダRDの出力が供給される。このローデコーダR
Dにはアドレス信号へ、〜へnが供給されている。上記
ビット線BL、IB−〜BLn+設されており、これら
スイッチSW1〜SWnの他端は第1データ線IDに、
S W、 % S W nの他端は第1データ線iに、
sw、’ 〜SWn’ の他端は第1データ線ID’に
、蒔?〜面7の他端は第1データ線i′にそれぞれ接続
されている。上記第1データ線IDは、セクションデコ
ーダSDによって制御されるデータ線選択スイッチDS
Sを介して第2データ線2Dに接続され、第1データ線
toは、セクションデコーダSDによって制御されるデ
ータ線選択スイッチmを介して第2データmlに接続さ
れる。また、上記第1データ線ID’は、セクションデ
コーダSD’によって制御されるデータ線選択スイッチ
DSS’を介して第2データ線2Dに接続され、第1デ
8− 一夕線ID’はセクションデコーダSD’によって制御
されるデータ線選択スイッチDSS’を介して第2デー
タ線2Dに接続される。
第6図(a)〜(d)は、上記データ線選択スイッチD
SB 、引38 、 DSEI’およびDSS’の構成
レリを示している。この回路は前記第2図(a)〜(d
)に示しヨンデコーダSD(あるいはS D’ )の出
力によって制御される点のみが異なる。
SB 、引38 、 DSEI’およびDSS’の構成
レリを示している。この回路は前記第2図(a)〜(d
)に示しヨンデコーダSD(あるいはS D’ )の出
力によって制御される点のみが異なる。
次に、上記のような構成において、第7図のタイミング
チャートを参照して動作を説明する。
チャートを参照して動作を説明する。
データの読み出し動作は、アドレス信号A1〜へnがロ
ーデコーダRDに供給されると選択されたローのローデ
コーダRDi(i行が選択されたとする)がハイ(%H
“)レベルとなり、第2ワード線2WLiの電位が高速
に1H“レベルに立ちあがる(時刻t。)。次に、セク
ションデコーダ8Dあるいは8D’によってセクション
スイッチ88およびss’が制御され、第1ワード線I
WLあるいはIWL’ が選択される。今i行目が選択
されているので第1ワード線xwLi (あるいは1w
Lt’)の電位が第2ワード線2WLiの上昇に応じて
′H“レベルに立ち上がる(時刻11)。
ーデコーダRDに供給されると選択されたローのローデ
コーダRDi(i行が選択されたとする)がハイ(%H
“)レベルとなり、第2ワード線2WLiの電位が高速
に1H“レベルに立ちあがる(時刻t。)。次に、セク
ションデコーダ8Dあるいは8D’によってセクション
スイッチ88およびss’が制御され、第1ワード線I
WLあるいはIWL’ が選択される。今i行目が選択
されているので第1ワード線xwLi (あるいは1w
Lt’)の電位が第2ワード線2WLiの上昇に応じて
′H“レベルに立ち上がる(時刻11)。
カラムデコーダCD(図示しない)の出力によってスイ
ッチSW、 t SWI 〜SWn 、 SWn (あ
るいはSWI’ 、 BW、’〜SWn’ 、 SWn
)が選択的にオン/オフ制御されると、選択されたビ
ット線BLj 。
ッチSW、 t SWI 〜SWn 、 SWn (あ
るいはSWI’ 、 BW、’〜SWn’ 、 SWn
)が選択的にオン/オフ制御されると、選択されたビ
ット線BLj 。
泊コの電位が時刻t2において高速に変化する。
これは、ビット線BLj 、 BLjの容量がこのビッ
ト線BLj 、 BLjと分割設定された第1データ線
ID、IDとのそれぞれの和となって低減されるためで
ある。この時、セクションデコーダSD(あるいはSD
’)によってデータ線選択スイッチDS S r Di
s (アルイl DSS’ 、DS 8’ ) カオン
状態となっているので、選択されたメモリセルから読み
出された信号は、第2データ線2D。
ト線BLj 、 BLjと分割設定された第1データ線
ID、IDとのそれぞれの和となって低減されるためで
ある。この時、セクションデコーダSD(あるいはSD
’)によってデータ線選択スイッチDS S r Di
s (アルイl DSS’ 、DS 8’ ) カオン
状態となっているので、選択されたメモリセルから読み
出された信号は、第2データ線2D。
2Di介してセンスアンプSAに供給され、時刻t3
にセンスアンプSへがセンス動作を開始して出力信号O
UT ’i得る(時刻t4)。ここで、第2データ腺2
D 、 2 Dには、データ線選択スイ続されていな
いためその寄生容量は小さいので、ピッl−線BL、B
Lのレベル変化に対応して、第1データ線ID、IDお
よび第2データ線2D 。
にセンスアンプSへがセンス動作を開始して出力信号O
UT ’i得る(時刻t4)。ここで、第2データ腺2
D 、 2 Dには、データ線選択スイ続されていな
いためその寄生容量は小さいので、ピッl−線BL、B
Lのレベル変化に対応して、第1データ線ID、IDお
よび第2データ線2D 。
1の電位も時刻t2から高速に変化する。従って出力信
号OUTもアドレスが設定されてから短時間の時刻t4
において設定される。
号OUTもアドレスが設定されてから短時間の時刻t4
において設定される。
一方、書き込み時においては、上述した逆の動作で書き
込み信号WR、WR’iローデコーダRDとカラムデコ
ーダCDとによって選択されたメモリセル11へ書き込
めば良い。すなわち、セクションデコーダSD(あるい
はSD’)によってセクションスイッチS S (S
S’)およびデータ線選択スイッチDSS、 DSS
(DSぎ、 DSS’ )全制御しでメ・モリセル群の
セクションを選択しローデコーダRDによって第2ワー
ド線2WLを選択すると、選択された第2ワード線に接
続されかつ選択されたメモリセル群のセクションの第1
ワード線が選択され、この第1ワード線に接続されたメ
モリセル群が活性化される。また、カラムデコーダCD
によってスイッチSW、。
込み信号WR、WR’iローデコーダRDとカラムデコ
ーダCDとによって選択されたメモリセル11へ書き込
めば良い。すなわち、セクションデコーダSD(あるい
はSD’)によってセクションスイッチS S (S
S’)およびデータ線選択スイッチDSS、 DSS
(DSぎ、 DSS’ )全制御しでメ・モリセル群の
セクションを選択しローデコーダRDによって第2ワー
ド線2WLを選択すると、選択された第2ワード線に接
続されかつ選択されたメモリセル群のセクションの第1
ワード線が選択され、この第1ワード線に接続されたメ
モリセル群が活性化される。また、カラムデコーダCD
によってスイッチSW、。
SWI 〜SWn、SWn (SWI’、SW、’ 〜
SWn、SWn’)がオン/オフ制御されビットmBL
、wr、が選択される。そして、上記選択された第1ワ
ード線と選択された第2ワード線との交差位置に配設さ
れたメモリセルへのデータの書き込みが行なわれる。
SWn、SWn’)がオン/オフ制御されビットmBL
、wr、が選択される。そして、上記選択された第1ワ
ード線と選択された第2ワード線との交差位置に配設さ
れたメモリセルへのデータの書き込みが行なわれる。
上記のような構成において、例えば256にビットのス
タティックRへMでは、第2データ線2Dの容量が1p
F、第1データ線IDが2 2pHX = 0.13T)Fとなり、その和は1.1
3pHl’となる。そして、データ線の遅延時間は4n
S程度となる。なお、ここでは、第1データ線IDを3
2ビツトおきに配置した場合について説明した。
タティックRへMでは、第2データ線2Dの容量が1p
F、第1データ線IDが2 2pHX = 0.13T)Fとなり、その和は1.1
3pHl’となる。そして、データ線の遅延時間は4n
S程度となる。なお、ここでは、第1データ線IDを3
2ビツトおきに配置した場合について説明した。
以上説明したようにこの発明によれば、データ線による
信号遅延時間を短縮でき、高速化が可能々半導体記憶装
置が得られる。
信号遅延時間を短縮でき、高速化が可能々半導体記憶装
置が得られる。
第1図は従来の半導体記憶装置を説明するための構成図
、第2図は上記第1図におけるスイッチの構成例を示す
図、第3図は上記第1図におけるメモリセルの回路構成
例を示す図、第4図は上記第1図の半導体記憶装置の動
作を説明するためのタイミングチャート、第5図はこの
発明の一実施例に係る半導体記憶装置を説明するための
構成図、第6図は同実施例におけるデータ線選択スイッ
チの構成例を示す図、第7図は同実施例の動作を説明す
るためのタイミングチャートである。 11.11.・・・メモリセル、iwr、・・・第1ワ
ード線、BL、BL・・・ビット線、2WL・・・第2
ワードf’、SD 、 SD’・・・セクションデコー
ダ、SS・・・セレクトスイッチ、CD・・・カラムデ
コーダ、SW。 sw 、 sw’ 、 sw’−スイッチ、ID 、I
D 、 ID’eI D’ ・・・第1データ線、2D
、 2D−・・第2データ線、T)EIIS 、 D
SS 、 DSS’ 、i丁・・・データ線選択スイッ
チ。 手続補正書 昭和58年1・、、)月5 日 特許庁長官 若杉和夫 殿 1、事件の表示 特願昭58−159313号 2、 発明の名称 半導体記憶装置 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 (307)東京芝浦電気株式会社 4、代理人 5、自発補正 7、補正の内容 明細書の9古(内容に変更なし)
、第2図は上記第1図におけるスイッチの構成例を示す
図、第3図は上記第1図におけるメモリセルの回路構成
例を示す図、第4図は上記第1図の半導体記憶装置の動
作を説明するためのタイミングチャート、第5図はこの
発明の一実施例に係る半導体記憶装置を説明するための
構成図、第6図は同実施例におけるデータ線選択スイッ
チの構成例を示す図、第7図は同実施例の動作を説明す
るためのタイミングチャートである。 11.11.・・・メモリセル、iwr、・・・第1ワ
ード線、BL、BL・・・ビット線、2WL・・・第2
ワードf’、SD 、 SD’・・・セクションデコー
ダ、SS・・・セレクトスイッチ、CD・・・カラムデ
コーダ、SW。 sw 、 sw’ 、 sw’−スイッチ、ID 、I
D 、 ID’eI D’ ・・・第1データ線、2D
、 2D−・・第2データ線、T)EIIS 、 D
SS 、 DSS’ 、i丁・・・データ線選択スイッ
チ。 手続補正書 昭和58年1・、、)月5 日 特許庁長官 若杉和夫 殿 1、事件の表示 特願昭58−159313号 2、 発明の名称 半導体記憶装置 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 (307)東京芝浦電気株式会社 4、代理人 5、自発補正 7、補正の内容 明細書の9古(内容に変更なし)
Claims (1)
- 複数のセクションに分割設定されたメモリセル群と、こ
れらメモリセル群の各セクションにそれぞれ対応して設
けられる複数に分割設定された第1ワード線と、この第
1ワード線と交差するように各メモリセルに対応して設
けられるビット線と、上記複数の第1ワード線に対応し
て設けられる第2ワード線と、上記複数の第1ワード線
と第2ワード線との間にそれぞれ°配設されセクション
デコーダの出力に応じてメモリセル群のセクションを選
択するセレクトスイッチと、上記ビット線の一端にそれ
ぞれ一端が接続されカラムデコーダの出力によって選択
的に開閉制御されるスイッチと、これらスイッチの他端
がメモリセル群の各セクションに対応して接続される複
数に分割設定された第1データ線と、これら第1データ
線に対応して設けられる第2データ線と、上記複数の第
1データ線と第2データ線間に挿接され上記セクション
デコーダの出力によって制御されるデータ線選択スイッ
チとを具備したことを特徴とする半導体記憶装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58159313A JPS6050797A (ja) | 1983-08-31 | 1983-08-31 | 半導体記憶装置 |
US06/636,220 US4555778A (en) | 1983-08-31 | 1984-07-31 | Semiconductor memory device |
DE19843430734 DE3430734A1 (de) | 1983-08-31 | 1984-08-21 | Halbleiterspeichervorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58159313A JPS6050797A (ja) | 1983-08-31 | 1983-08-31 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6050797A true JPS6050797A (ja) | 1985-03-20 |
Family
ID=15691066
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58159313A Pending JPS6050797A (ja) | 1983-08-31 | 1983-08-31 | 半導体記憶装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4555778A (ja) |
JP (1) | JPS6050797A (ja) |
DE (1) | DE3430734A1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6120292A (ja) * | 1984-07-05 | 1986-01-29 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
JPS62231495A (ja) * | 1986-03-31 | 1987-10-12 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
JPH01245489A (ja) * | 1988-03-25 | 1989-09-29 | Hitachi Ltd | 半導体記憶装置 |
JPH0321986A (ja) * | 1989-06-19 | 1991-01-30 | Nec Corp | 液晶駆動回路 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100213602B1 (ko) * | 1988-05-13 | 1999-08-02 | 가나이 쓰도무 | 다이나믹형 반도체 기억장치 |
JPH07114077B2 (ja) * | 1989-06-01 | 1995-12-06 | 三菱電機株式会社 | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP4039532B2 (ja) * | 1997-10-02 | 2008-01-30 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体集積回路装置 |
JP4721776B2 (ja) * | 2004-07-13 | 2011-07-13 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体記憶装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59155954A (ja) * | 1983-02-24 | 1984-09-05 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体メモリ装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4368523A (en) * | 1979-12-20 | 1983-01-11 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device having redundant pairs of address buses |
JPS5766587A (en) * | 1980-10-09 | 1982-04-22 | Fujitsu Ltd | Static semiconductor storage device |
JPS57150190A (en) * | 1981-02-27 | 1982-09-16 | Hitachi Ltd | Monolithic storage device |
-
1983
- 1983-08-31 JP JP58159313A patent/JPS6050797A/ja active Pending
-
1984
- 1984-07-31 US US06/636,220 patent/US4555778A/en not_active Expired - Lifetime
- 1984-08-21 DE DE19843430734 patent/DE3430734A1/de active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59155954A (ja) * | 1983-02-24 | 1984-09-05 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体メモリ装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6120292A (ja) * | 1984-07-05 | 1986-01-29 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
JPS62231495A (ja) * | 1986-03-31 | 1987-10-12 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
JPH0522997B2 (ja) * | 1986-03-31 | 1993-03-31 | Tokyo Shibaura Electric Co | |
JPH01245489A (ja) * | 1988-03-25 | 1989-09-29 | Hitachi Ltd | 半導体記憶装置 |
JPH0321986A (ja) * | 1989-06-19 | 1991-01-30 | Nec Corp | 液晶駆動回路 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4555778A (en) | 1985-11-26 |
DE3430734C2 (ja) | 1992-05-27 |
DE3430734A1 (de) | 1985-03-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0196586B1 (en) | Static semiconductor memory device | |
JP3575490B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
JPH03154287A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JPH11126491A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JPH04298892A (ja) | 書込みサイクル期間中のデータ変化における列平衡化を有する半導体メモリ | |
JPH05266668A (ja) | メモリ行ライン選択用の改良したラッチ型リピータを持った半導体メモリ | |
JPS5873095A (ja) | ダイナミツク型メモリ装置 | |
JP2000011639A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JPH11317078A (ja) | 半導体メモリ装置 | |
JPS6050797A (ja) | 半導体記憶装置 | |
US6160746A (en) | Semiconductor memory with auto-tracking bit line precharge scheme | |
US6909644B2 (en) | Semiconductor memory device | |
JPH0529990B2 (ja) | ||
JP2006527902A (ja) | メモリデータ線のための双方向バッファリング | |
JPH04298891A (ja) | 列デコード型ビットライン平衡を有する半導体メモリ | |
US5303183A (en) | Semiconductor memory device | |
US6603692B2 (en) | Semiconductor memory device improving data read-out access | |
JPS6318279B2 (ja) | ||
JP3953681B2 (ja) | カラムデコーダ | |
JPH08138378A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JP2606088B2 (ja) | 半導体記憶装置 | |
US5890186A (en) | Memory circuit with built-in cache memory | |
JPS6145314B2 (ja) | ||
JPH01155589A (ja) | 半導体記憶装置 | |
JPS62150588A (ja) | 半導体記憶装置 |