JPS604821B2 - ピラゾ−ル誘導体の製造法 - Google Patents

ピラゾ−ル誘導体の製造法

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JPS604821B2
JPS604821B2 JP54041671A JP4167179A JPS604821B2 JP S604821 B2 JPS604821 B2 JP S604821B2 JP 54041671 A JP54041671 A JP 54041671A JP 4167179 A JP4167179 A JP 4167179A JP S604821 B2 JPS604821 B2 JP S604821B2
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JP
Japan
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formula
reaction
compound
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pyrazole derivatives
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JP54041671A
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卓男 此常
克彦 川久保
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Sankyo Co Ltd
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Sankyo Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、一般式 (式中、R,およびR2は低級アルキル基を示し、Xは
ハロゲン原子を示す。
)を有する新規な4−ペンゾィルピラゾール譲導体の製
法に関するものでる。前記一般式(1)において、低級
アルキル基とはメチル、エチル、n−プロピルまたはイ
ソプロピルのような炭素数1乃至3個を有する直鎖状ま
たは分枝鎖状の低級アルキル基を示し、ハロゲン原子と
は塩素、臭素または沃素を示す。
本発明の方法によって得られる前記一般式(1)を有す
る化合物は、優れた除草活性を有するピラゾール系化合
物を製造する場合の中間体として重要な化合物である。
例えば前記一般式(1)を有する化合物を水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物あ
るいは水流化ナトリウムのようなアルカリ金属水硫化物
と加熱することによって除草剤として有用な式(式中、
R,およびR2は前述したものと同意義Zを有し、Yは
酸素原子または硫黄原子を示す。
)を有する化合物を得ることができる。本発明の方法に
よれば前記一般式(1)を有する化合物は次のようにし
て製造することができる。
即ち一般式 Z(式中、
R,,R2およびXは前述したものと同意義を有する。
)を有する5−ハロゲノピラゾ−ル誘導体をルイス酸触
媒の存在下で一般式を有する安息香酸の反応性誘導体と
反応させることによって得ることができる。
本発明の方法を実施するにあたり、反応は前記一般式(
m)を有する化合物を適当な不活性溶剤中もしくは溶剤
を使用することなくルイス酸の存在下で安息香酸の反応
性議導体と接触させることによって容易に遂行される。
反応に使用される不活性溶剤としては本反応に不活性な
溶剤であれば特に限定はなく、例えばモノクロルベンゼ
ン、ジクロルエタンまたはテトラクロルエタンのような
ハロゲン化炭化水素類;ニトロベンゼンのような芳香族
炭化水素類等があげられるが、通常ハロゲン化炭化水素
類が使用される。本反応に使用されるルイス酸触媒とし
ては塩化アルミニウムまたは塩化亜塩にようなルイス酸
があげられる。使用されるルイス酸の量は前記式(皿)
および式(W)の化合物1モルに対して等モル以上、好
ましくは約1.2〜3当量が使用される。また、前記式
(m)および式(W)の化合物並びにルイス酸を加える
順序は特に限定はなく、通常前記式(m)および式(W
)の化合物を混和し、加熱反応させながらルイス酸を加
えればよい。反応に使用される安息香酸の反応性誘導体
としては一般に酸ハロゲン化物例えば塩化物、臭化物、
弗化物または酸無水物などが用いられる。
特に酸塩化物の使用はその反応性、経済性より好適であ
る。反応温度は特に限定はなく通常反応は室温乃至溶剤
の還流温度で行なわれ、特に好適には60〜12030
に加温または加熱して行なわれる。反応時間は主に反応
温度、使用される試薬の種類によって異なるが約1〜1
畑時間である。反応終了後、目的化合物は常法によって
反応混合物から採取される。
例えば反応終了後、反応混合物を水および希アルカリ水
溶液で洗総し、有機層を分取し乾燥した後溶液より溶剤
を蟹去することによって得ることができる。このものは
更にカラムクロマトグラフイー等の常法によって精製し
てその純品を得ることができる。なお、前記式(m)の
原料化合物は、ベリヒテ(氏r.)50,737(19
17)に記載の方法に準じて製造される。
次に実施例をあげて本発明の方法を更に具体的に説明す
るが本発明はこれによって限定されるものではない。
実施例 1 5−クoo−4−(2,4ージクロロベンゾイル)−1
,3ージメチルピラゾール5ークロロ−1,3−ジメチ
ルピラゾール1.0夕、無水塩化アルミニウム1.05
夕および2,4−ジクロルベンゾイルク‐〇ライド1.
66夕をテトラクロルェタン6の‘に溶解した後、8時
間加熱還流した。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1およびR_2は低級アルキル基を示し
    、Xはハロゲン原子を示す。 )を有する化合物をルイス酸触媒の存在下で式▲数式、
    化学式、表等があります▼ を有する安息香酸の反応性誘導体と反応させることを特
    徴とする式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1,R_2およびXは前述したものと同
    意義を示す。 )を有するピラゾール誘導体の製造法。
JP54041671A 1979-04-06 1979-04-06 ピラゾ−ル誘導体の製造法 Expired JPS604821B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5029477A (ja) * 1973-03-09 1975-03-25

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