JPS60237631A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁気
記録層とする磁気記録媒体に関するものである。

従来例の構成とその問題点 磁気記録の高密度化に重要な役割を果たす、強磁性金属
薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒体は長手記録用と垂
直記録用とに大別される。

いずれの媒体も１μｍ以下の記録波長で用いることを前
提として開発されているため、分離損失の面から表面が
より平滑になり、磁気ヘッドとの高速摺接に対する抵抗
力が弱まり、実用化のための大きな課題になっている。

そのため各方面で保護膜の検討が進められ、多くの提案
がなされている。しがしスパッタリング法により得られ
る酸化物薄膜、窒化物薄膜、テフロン膜、イオンブレー
ティング法により得られる金膜、　Ｍ　ｏ　Ｓ　２膜湿
式塗布法により得られる脂肪酸。

脂肪酸アミド、脂肪酸エステル、フッ素化合物環ノ薄ｇ
　、　７’ラズマ重合法により得られるシラｙ（Ｄ重合
膜等の単−又は複合系のいずれも、１μｍ以下の記録波
長では分離損失が犬きくなる厚みである０、０５μｍ　
以上を必要とするため、本来の高密度磁気記録が達成さ
れない問題点がある。

発明の目的 本発明は上記事情に鑑みなされたもので、磁気ヘッドと
の高速摺接に対する抵抗力の改良された高密度磁気記録
媒体を提供することを目的とする。

発明の構成 本発明の磁気記録媒体は、磁気記録層を構成する強磁性
金属薄膜が、重合被膜で被覆された、強磁性金属柱状結
晶から成ることを特徴とする特許ヘッドとの高速摺接に
対して優れた耐久力を有するものである。

実施例の説明 以下図面を参照しながら本発明の詳細な説明する。第１
図は本発明の磁気記録媒体の拡大断面図、第２図は強磁
性金属薄膜の模式図である。

第１図に於て１は高分子基板、２は軟磁性層、３は垂直
磁化膜である。第２図に於て、４は強磁性金属柱状結晶
で、これは、表面が重合膜６で被覆されている。

本発明に用いることの出来る高分子基板は、ポリエチレ
ンテレフタレート等のポリエステル類。

ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルローストリ
アセテート、ニトロセルロース等のセルロース誘導体、
ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリパラパニック酸、
ポリイミド等が挙げられる。

本発明に用いることの出来る強磁性金属薄膜としては、
電子ビーム蒸着法、スノくツタリング法。

イオンブレーティング法９等で形成した、Ｃｏ。

Ｆｅ　、Ｎｉ　、Ｃｏ−Ｎｉ　、Ｃｏ−Ｆｅ　、Ｃｏ　
−Ｃｅ　、Ｃｏ−Ｃｒ　。

Ｃｏ　−Ｃｕ　、Ｃｏ　−Ｂ　、Ｃｏ−Ｂ１　、Ｃｏ　
−Ｇｏ　、Ｃｏ−Ｌａ　。

Ｃｏ　−Ｍｇ　、Ｃｏ　−Ｍｎ　、Ｇｏ　−Ｍｏ　、Ｃ
ｏ　−Ｐ　、Ｃｏ　−Ｐ　ｔ　。

Ｃｏ−Ｒｕ、Ｃｏ−Ｒｈ、Ｃｏ−８ｎ　、Ｃｏ−８ｍ、
Ｃｏ−８ｉ　。

Ｃｏ−Ｔｉ　、Ｃｏ−Ｔａ　、Ｃｏ−Ｖ、Ｃｏ−Ｗ、Ｃ
ｏ−Ｎｉ　−Ｃｒ　。

Ｃｏ−０ｒ−Ｒｈ、Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ及びそれらの部分酸
化膜１部分窒化膜等で磁化容易軸の方向とは無関係であ
る。

これらの薄膜を構成する柱状結晶の表面は重合膜で被覆
されているが、重合膜の中に磁性粒子が分散している状
態とは違うものである。

重合膜を得るのに用いられるモノマーとしてはポリテト
ラフルオロエチレン、弗素化ポリエチレンの如きフルオ
ロカーボン類、ポリクロロトリフルオロエチレン等のク
ロロフルオロハイドロカーボン類、ポリ弗化ビニリデン
、ポリ弗化ビニル等のフルオロハイドロカーボン類、ポ
リアミド類。

ポリイミド類、ポリカーボネート類、ポリフェニレンオ
キ、サイド類、ポリエチレンのような炭化水素類、了り
ルアミン、アクリルアミド類、ピリジン、エチレンオキ
サイド等のへテロ原子を含む環状有機化合物、テトラア
ルキルシラン、トリアルキルシラン等のシラン類９等の
単−又は混合物で、材料に限定はない。

重合膜の厚みは１０人から３００人、好ま１〜くけ６０
人から１００八で、重合膜の形成は、蒸着。

イオンブレーティング、スパッタリングによる強磁性薄
膜の形成と同時過程であることは勿論で、明解にはなっ
て々いが、この製造プロセスによっても本発明の効果が
でているものと思われる。

即ち、従来より極めて薄い１００八程度で、必要な耐久
性が得られるのは、表面に保護層として層状に構成した
ものでは得られない付着強度があり、それは恐らく、相
互拡散層が存在するだめと考えられる。

又耐久性の他に、耐食性が著しく改良され、垂直磁化膜
９面内磁化膜のいずれでも磁気特性が改良され、特に抗
磁力が大きくなるのも、個々の柱状結晶が重合膜で被覆
されているためである。

以下、更に具体的な一実施例で本発明の詳細な説明する
。

厚さ１２μｍのポリアミド基板上に高周波スパッタリン
グ法でパーマロイ薄膜を０．４６μｍ形成しその上に、
同じく高周波スパッタリング法で垂直磁化膜を形成した
。用いたターゲットはＣｏ　−Ｖ（Ｖ　１９．８　ｗｔ
％）で、高周波電源は１３．６６Ｍ１４−大出力１．ｅ
ＫＷを用いた。導入ガスを変化させて、Ｃｏ−Ｖ　膜を
０．１５μｍ形成し、８１１１１１幅の磁気テープを得
た。夫々のテープをＣｏ−Ｂ系の非晶質合金ヘッドで０
．６μｍの記録再生を行った。

スチル状態で再生出力が初期から３ｄＢ低下するまでの
時間で耐久性を比較した。

以下余白 本発明品の出力が比較例より高いのは、抗磁力が大きく
なった効果であり、垂直抗磁力が比較例が８００　（Ｏ
ｅ　）なのに比して本発明品は９００〜１０００　（Ｏ
ｅ　）であった。

又、６０℃９０％ＲＨで１ケ月放存後の磁束の減少率を
比較したが、本発明品は、測定誤差内で変化は認められ
なかったが、比較例は、２０％近い減少がみられた。

以上のように本発明の実施例によれば、強磁性金属柱状
結晶の表面を重合膜で被覆することで磁気ヘッドとの高
速摺接での耐久性が、従来品の１０倍以上に改良され、
同時に出力も大きく、かつ耐食性も良好である磁気記録
媒体が得られる。

なお、本実施例以外の前述の材料の組み合わせでも同様
の効果を確認し、磁気テープ以外のディスク、シートの
形態でもその効果を確認した。

発明の効果 以上のように、本発明は強磁性金属薄膜からなる磁気記
録層を重合被膜で被覆した柱状結晶で構成することによ
り、磁気ヘッドとの高速据接による記録再生での耐久性
が改良され、その実用的効果は大きい。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気記録媒体の拡大断面図、第２図は
本発明の磁気記録層の模式図である。 １・・・・・高分子基板、４・・・・・・強磁性金属柱
状結晶、６　・・・重合被膜。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名第１
図 第２図 、り

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 強磁性金属柱状結晶の表面が重合被膜で被覆されたこと
   を特徴とする強磁性金属薄膜からなる磁気記録媒体。