JPH02132625A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁気
記録層とする磁気記録媒体に関するものである。

従来の技術 記録、再生機器の小型化、高性能化のために記録密度向
上の努力は継続的に行なわれており、最近では強磁性金
属薄膜を磁気記録層として実用化することが待望される
に至っている（ＩＥＥＥＴＲＡＮＳ−ＡＣＴＩＯＮＳ　
　ＯＮ　ＭＡＧＮＥＴＩＣＳ　Ｖｏｌ，ＭＡＧ−２１　
，Ｎｏ−３　．Ｐ．Ｐ．１２１７〜１２２０　（１９８
５　）　）。

強磁性金属薄膜は材料としての組み合わせは多数考えら
れるが、現実的な可能性が示されているものは少（　、
Ｃｏ−Ｃｒなとの垂直磁化膜〔特公昭５８−９１号公報
，特開昭６１−１２０３３１号公報〕やＣｏ−Ｎｉ，Ｃ
ｏ　−Ｎｉ−０なとの斜め蒸着膜や湿式めっき膜〔特公
昭４１−１９３８９号公報，特開昭５３−４２０１０号
公報〕などで、実用化の目的で最近ではもっぱら、保護
潤滑層の開発が検討の中心となっている。現状ではポリ
エチレンテレフタレートフイルムなどの高分子フイルム
上に直接あるいは微粒子などの下塗りを行なった後、電
子ビーム蒸着法やスパッタリング法で強磁性金属薄膜を
配し、その面に直接溶剤に脂肪酸やパーフルオ口ポリエ
ーテルなどの潤滑剤を溶かした溶液を塗布乾燥する方法
〔特開昭５７−１７９９４８号公報，特開昭６１−１７
８７１８号公報〕や、酸化膜を介して潤滑剤を配する〔
特開昭６１−１５１８３０号公報〕ことや、炭素膜とフ
ロロカーボン系の組み合わせ〔特開昭６１−Ｉ４２５２
５号公報〕などが提案され、磁気ディスクではまだ炭素
膜が厚いとはいうものの一部実用化され、炭素質につい
ても検討が進み、硬度を高めることの有用性〔米国特許
第４７１７６２２号公報〕も知られるに至っている。

発明が解決しようとする課題 しかしながら上記した構成では、シリンダの直径が小型
になったときに広い環境条件での実用性、特にスチル特
性が十分ではないといった課題があり、改善が望まれて
いた。

本発明はこのような問題を解決するもので、スチル耐久
性に優れた磁気記録媒体を提供することを目的とするも
のである。

課題を解決するための手段 この課題を解決するために本発明は、粒状突起部を有す
る強磁性金属薄膜上に酸化膜、炭化膜、窒化膜の何れか
の薄膜を配する際、この薄膜の極表面を金属過剰状態と
し、その上に潤滑剤を配したものである。

作用 この構成により、潤滑剤が磁気ヘッドと高速摺接しても
その内側の薄膜に強固に付着して良好な潤滑作用を保つ
ことができ、薄膜の保護効果が持続するので、スチル状
態でも強磁性金属薄膜が保護され、スチル耐久性を向上
させることができる。

実施例 以下、本発明の一実施例について、図面に基づいて説明
する。

図において、１はポリエチレンテレフタレート、ポリエ
チレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポ
リエーテルサルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、
ポリアミド、ポリイミドなどの高分子フィルム、２はＡ
ＩｔＯ，、ＣａＯ　，　Ｔｉｅ，、ＳｎＯ，、ＺｎＯ、
カーホンなどの無機微粒子またはポリエチレン、ポリス
ルフオン、ポリカーボネート、ポリイミドなどの有機徽
粒子を配するか、微粒子とミミズ状凹凸を組み合わせて
なる微粒子塗布層で、高分子フィルム１上に設けられて
いる。３は微粒子塗布層２上に設けられたＣｏ，　Ｃｏ
−Ｎｉ，　Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｍｏ、Ｃｏ−Ｓｂ％Ｃｏ
−Ｃｒ，　Ｃｏ−０％Ｃｏ−Ｐ，　Ｃｏ　−Ｎｉ−Ｃｒ
％Ｃｏ−Ｃｒ−Ｎｂ１Ｃｏ　−Ｎｉ−０などの強磁性金
属薄膜で、電子ビーム蒸着法、イオンプレーテイング法
、スパッタリング法などで形成される。４は強磁性金属
薄膜３の上に設けられたＡＩ，Ｏ，、ＣｒｔＯ，、Ｈｆ
Ｏ，　、ＭｇＯ，　Ｎｉｐ．　Ｎｂ，Ｏ，、Ｓｔ．ｔ，
　Ｔａ２０ｓ　、ＴｉＯｔ　ｓ　％０５、Ｙ！０３など
の酸化物、ＴｉＣ，　ＺｒＣ，　Ｂ，Ｃ，　ＳｉＣなど
の炭化物、ＴｉＮ，　ＺｒＮ，　ＮｂＮ％ＨｆＮ，　Ａ
ＩＮ，　ＢＮ、Ｓｉ，Ｎ４などの窒化物の薄膜で、膜厚
１００Ａから２００Ａが好ましく、極表面の５チ〜１０
％相当の厚み域５は夫々化学量論的にみて化合物膜とし
て不完全で、かつ金属過剰状態で化学量論的にみての金
属元素量に対して５〜２０％多く含むのが好ましい。５
チ以下では潤滑剤の付着が弱くなり、２０４以上では膜
質が硬化低下を起こし、耐久性が確保できなくなるため
である。製造はスパッタリング法、化学蒸着法、反応性
蒸着法などで行なえるが、条件的には成膜域を基板の移
動方向にゾーン分割して個別に制御するのがよい。６は
脂肪酸、脂肪酸アミド、高級アルコール、パーフルオ口
カルボン酸、パーフルオロスルフオン酸、脂肪酸の金属
塩などの１種または複数種の組み合わせからなり前記厚
み域５を覆う潤滑剤で、過剰な金属と反応するものを含
有する、のが好ましい。なお、本発明実施例の磁気記録
媒体は磁気ディスク、磁気テープの何れで実施してもよ
く、テープの場合は必要に応じてバックコート層を配し
、ディスクの場合は上記した構成を両面に配してもよい
。

以下、さらに具体例について比較例と対比して説明する
。

具体例１ 厚み９μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に
直径１３０ＡのＳｉｎ，微粒子を２０’ｙ／（　μｍ）
２配Ｌ／、その上に直径ＩＷＬの円筒キャンに沿わせて
最小入射角蕊度、酸素分圧４Ｘ１０−５（Ｔｏｒｒ）で
Ｃｏ−Ｎｉ（Ｃｏ：８０Ｗｔチ）を１６５０入電子ビー
ム蒸着し、引き続き直径５０ｃｒＩＬの円筒キャンに沿
わせてＳｉターゲットを３枚配置し、酸素分圧を５×１
０″’　（　Ｔｏｒｒ　）にし、ターゲットに投入する
１３．５６　（ＭＨｚ　）の電力を調節して、１５０Ａ
のＳｉＯｔ膜を配し、極表面の約ｕＡに相当する部分は
Ｓ　ｉ　０１，Ｂ３となるように構成した。さらにその
上にステアリン酸とステアリン酸のＮｉ塩を重量で３：
１混合した潤滑剤を９〔■／ｍ２〕塗布し、バツクコー
ト層としてポリエステル樹脂とカーボン（　１５００　
Ａ直径）を重量で等量混合したものを０．５μｍ塗布し
、８ミリテーブとした。

具体例２ 具体例１におけるＳｉｎ，膜を設ける代りに、Ｂをター
ゲットにしてＣＨ，分圧８Ｘ１（ｒ３（Ｔｏｒｒ）とし
、同じく高周波パワーを調節して、膜厚１６０人のＢＣ
膜を配し、その内、極表面の約１２　Ａに相当する部分
がＢ　Ｃ０．９１となるように構成し、その上にパーフ
ルオロアラキン酸とパーフルオロポリエーテル〔モンテ
フルオスｌ＃：製１フォンプリンー１　２５　１　）を
重量でｌ：２混合した潤滑剤を１１Ｃｍ９７ｍ２）塗布
し、バツクコートして８ミリテープとした。

具体例３ 具体例２におけるＢＣ膜を設ける代りに、Ｂをターゲッ
トにしてＮＨ，分圧を７Ｘ１０’（Ｔｏｒｒ）　トＬ／
、高周波パワーを調節して、ＢＮ膜を１４ＯＡ、その内
、極表面の約８Ａに相当する部分がＢＮＯＪ３となるよ
うに構成した以外は具体例２と同じ構成で８ミリテーブ
を得た。

具体例４ 具体例３におけるＣｏ　−Ｎｉ−０膜を設ける代りに、
直径５０ｃｒｒＬの円筒キャン（表面７０’Ｏ）に沿わ
せて、Ｃｏ　−　Ｃｔをターゲットにして高周波スパッ
タリング法で形成した１８００人ｃ７）　Ｃｏ　−Ｃｒ
　（　Ｃｏ　：　ａｏｗｔ％　）垂直磁化膜を設け、他
は具体例３と同じ構成の８ミリテーブを得た。

比較例１ 具体例３におけるＢＮ膜の極表面をＢ　Ｎｏ，７とし、
他は具体例３と同じ構成で８ミリテーブを得た。

比較例２ 具体例３における１４０Ａを全てＢＮ膜で構成し、他は
具体例３と同じ構成で８ミリテーブを得た。

比較例３ 具体例３におけるＢＮ膜を設ける代りに、グラファイト
をターゲットにしてＡｒ　＋｝｛，　＝　０．１　（　
Ｔｏｒ　ｒ　）Ａｒ　：　Ｈ！＝１　：　３、１３．５
６　（ＭＨｚ　）、８００　（　Ｗ　）でダイヤモ同じ
構成で８ミリテーブを得た。

上記した各テープをシリンダ直径２５．７　ｍｍの８ミ
リビデオに用いてスチル特性を調べた。使用ヘッドはセ
ンダストスパッタ膜をギャップ近くに配しタメタルイン
ギャップ型ヘッドで、スチル特性ハ出力が３　（ｄＢ）
低下するまでの時間で、５回任意の場所で測定した最短
時間の値を次表に示した。

表 着して良好な潤滑作用を保つことができ、薄膜の保護効
果が持続するので、スチル状態でも強磁性金属薄膜が保
護され、スチル耐久性を向上させることができる。その
結果、小径のシリンダで小型化を進めた録画機器でも十
分なメチル特性を持たせることができる。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の一実施例の磁気記録媒体の拡大断面図で
ある。 １・・・高分子フイルム、２・・・微粒子塗布層、３・
・・強磁性金属薄膜、４・・・薄膜、５・・・厚み域、
６・・・潤滑剤。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、粒状突起部を有する強磁性金属薄膜上に酸化膜、炭
   化膜、窒化膜の何れかの薄膜を配し、その上に潤滑剤を
   配した磁気記録媒体であつて、酸化膜、炭化膜、窒化膜
   の何れかの薄膜の極表面が金属過剰状態である磁気記録
   媒体。