JPS6378321A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高密度磁気記録に適する例えばディスク状磁気
記録媒体のような磁気記録媒体に係るものである。

従来の技術 最近の記録技術の進歩により、単位面積当りの記録密度
が著しく向上し、磁気記録媒体は、表面が極めて平滑な
強磁性金属薄膜を磁気記録層とする蒸着テープ等の実用
化が強く望まれてきている。

従って今後の高密度化は、磁気ヘッドと磁気記録媒体の
摺動下で起る摩擦、摩耗等の理解に関するトライポロジ
ーの課題の現実的な解決を前提とするとの認識が深まっ
ている〔テレビジョン学会誌、　ＶＯＬ、４０．Ｎ（Ｌ
６　（１９８６）　４７２頁〕。

第３図は従来の磁気記録媒体の拡大断面図である。第３
図に於て、１はポリエステルフィルム。

Ｊ合金等の非磁性基板で、２はｃｏ−Ｎｉ−０斜め蒸着
膜、Ｇｏ−Ｏｒ垂直磁化膜等の磁気記録層で、３はトッ
プコート層で、４が保護層、５が潤滑層である。

従来、トップコート層は保護層の役割に期待するものと
して特開昭６４−１１３３０３号公報に開示されている
脂肪酸金属塩の蒸着膜による耐摩耗性の改善、特開昭５
７−１１６７７１号公報に開示されているイミド基を有
する高分子のスバ・ツタ膜、特開昭５８−７７０３１号
公報に開示されている高分子化合物をターゲットとして
スパッタする例、カーボンやＢＮ　、　ＭｏＳ２．　Ｓ
工０２等をスパッタや蒸着により薄膜化する例、ダイア
モンド状硬質炭素膜を用いる例（日本応用磁気学会、第
４６回研究会資料）等が知られている。

まだ、潤滑目的の層として蒸着法、湿式塗布法等で、脂
肪酸、脂肪酸アミド等を被着する（例えば特公昭５６−
３０６０９号公報）ものは、数多く試みられている。

しかしながら上記した例は、耐摩耗性、走行性。

防食効果等を十分満足できないため、積層化し、夫々の
役割分担で対策する考え方が増大している。

脂肪酸金属塩の吸着層上にフルオロカーボン系の潤滑層
を設けたもの（特開昭６１−１２０３３１号公報）、硬
質カーボン層の上に含フツ素潤滑油層を配したもの（特
開昭６１−１２６６２７号公報）、５ｉ−Ｎ−０系薄膜
上に潤滑層を形成したもの（特開昭６１−１３１２３１
号公報）等があげられる。

発明が解決しようとする問題点 しかしながら、上記した構成をフロッピーディスクに適
用し、かつ記録波長が０．５μｍ以下になると、十分な
再生出力対雑音比（Ｓ／Ｎ）が得られなくなり、改善が
望まれていた。本発明は上記した事情に鑑みなされたも
ので、磁気ヘッドとの接触状態を良好に保つことの出来
る磁気ディスク状磁気記録媒体を提供するものである。

問題点を解決するための手段 上記した問題点を解決するため、本発明の磁気記録媒体
は、高分子フィルム上に、磁気ヘッドと摺接する側の一
部以外は亀裂が周方向に沿って入っている強磁性金属薄
膜を磁気記録層とするものである。

作用 本発明の磁気記録媒体は、上記した構成によ焦高い剛゛
性を有する強磁性金属薄膜、下地層（軟磁性層も含む）
等があるために、磁気ヘッドとの接触が良好な状態に保
たれなかった従来の磁気記録媒体と異なり、実効的に亀
裂により、剛性の高い薄膜は薄いものとして作用するの
で良好なヘッドとの接触が保たれるだめ（短波長で問題
となるスペーシング損失が小さくできるのと、周方向に
沿った亀裂のため亀裂からの漏れ磁束による雑音成分は
、記録波長が短かくなっても無視できるので、良好なＳ
／Ｎが得られることになる。

実施例 以下、図面を参照しながら本発明の実施例の磁気記録媒
体について説明する。

第１図は本発明の第１の実施例の磁気記録媒体の拡大断
面図である。同図において、６は厚み２８　ｔｔｍのポ
リエチレンテレフタレートフィルムで、７は平均粒子径
１２０人のチタニア微粒子を１０８ケ／ｃ７１！、ポリ
エステル樹脂（等価膜厚４６人）にて分散固定した微粒
子塗布層で、８はＣｒスパッタ膜で高周波スパッタ法で
、０．１　　μｍ形成したもので、９は第１強磁性金属
薄膜で、高周波スパッタ法で形成した膜厚０．０６μｍ
のＧｏ　−Ｎ１（Ｇｏ、８０Ｗｔ係）膜で、８，９を配
したのち円周方向に亀裂が入るように、半径方向に、８
゜°Ｃの恒温槽中で張力をかけて、約３．８　％変位さ
せた。３．５インチのディスクで使用部分は半径方向の
単位長あたり、平均２７０本亀裂が入るようにした。そ
の上に更に、ＣｏＮｉ　（Ｃｏ　、　８０ｗｔ％）膜を
高周波スパッタ法で第２強磁性金属薄膜１゜として０．
０７１ｔｍ形成した。１１は真空蒸着法で形成した膜厚
４６人のステアリン酸のニッケル塩膜から成る潤滑膜で
ある。

この媒体を用い、ギヤツプ長０．１８μｍのフェライト
ヘッドで、トラ、ツク幅１６μｍ、記録波長０．４１１
ｍを記録した時のＳ／Ｎは４９（ｄＢ）であった。

比較のために、ＣｏＮ１（Ｇｏ　、　ｓｏ　ｗｔ　％　
）膜をｏ、１３μｍ　、　Ｏｒ膜０．１μｍの上に形成
した以外は同じ構成の磁気ディスクを準備した。ここで
使用した薄膜は亀裂のないものである。同一記録条件そ
の再生Ｓ／Ｎは４４．５　（ｄＢ）で本発明のＳ／Ｎは
良好である。

第２図は本発明の第２の実施例の磁気記録媒体の拡大断
面図である。同図において、１２は厚み２６μｍのポリ
アミドイミドフィルムで、１３は平均粒子径１００人の
シリカ微粒子を平均２×１ｏ９ケ／ｄ　、ポリイミド樹
脂（等膜厚み３６八）で分散固定した微粒子塗布層で、
１４は電子ビーム蒸着法で形成した０、０８μｍのチタ
ン薄膜、１５は電子ビーム蒸着法で形成したＣｏ　−Ｏ
ｒ垂首謀化膜〔膜厚０．０８　ｐｍ　、　　Ｃｒ　：　
２０．９　ｗｔ　％＋垂直抗磁力６４０（Ｏθ）〕で、
５５インチディスの使用部分に、周方向に沿−って亀裂
を入れた。

１４．１５に入ってる亀裂は半径方向に１４５°Ｃ中で
張力をかけ、６．５係変位させて、半径方向の単位長さ
当り平均４２０本である。

この上に更に電子ビーム蒸着法で０．０４μｍＧｏ　−
Ｏｒ　（ｃｒ　：　２０．９　ｗｔ　％　）垂直磁化膜
１６を形成し、その上に、膜厚４０人のミリスチン酸の
Ｃｏ塩を真空蒸着して潤滑層１７を形成し媒体を完成さ
せた。この媒体を使用し、ビット長０．１４μｍの短形
波を０．１８μｍのギャップ長のアモルファスヘッドで
記録再生し、比較例との相対比較をした。比較別人は、
亀裂のない薄膜で同一厚みで構成したもので、比較例Ｂ
は、亀裂はあるが、半径方向にもランダムに入っている
もので、亀裂のないＣｏ−０ｒは同じ条件としたもので
ある。

相対出力は、本発明がｏ（ｄＢ）で、比較例Ａ。

Ｂは夫々、−４，６（ｄＢ）　　、　−０，９（ｄＢ）
で、Ｓ／Ｎは本発明をｏ（ｄＢ）とすると、比較例Ａ、
Ｂは夫夫、−４，７（ｄＢ）　、　−５，６（ｄＢ）で
あり、本発明の高密度記録性能が証明されている。

上記した実施例で、高分子フィルムはポリエチレンテレ
フタレートとポリアミドイミドとしたが、他ニ、ポリエ
チレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポ
リイミド等でもよい。

磁気記録層は、Ｇｏ−Ｎｉ　、　Ｇｏ−Ｏｒ　（７）他
にＧｏ−Ｔｉ。

Ｇｏ−Ｍｏ　、　Ｃｏ　−Ｗ　、　Ｃｏ−Ｒｕ　、　Ｇ
ｏ−Ｐｔ　、　Ｇｏ−Ｎｉ　−Ｐ　。

Ｇｏ−Ｏｒ−Ｎｂ等が用いられ、面内磁化、垂直磁化い
ずれ゛であってもよい。

下地層、軟磁性層との積層化は必要に応じてなされるも
ので、潤滑層、保獲膜についても適宜選択すればよい。

発明の効果 以上のように本発明によれば、磁気へウドとの接触状態
が良好に保たれるので、短波長記録でのスペーシング損
失が小さくでき、雑音も大きくならないので、高密度磁
気記録を良好なＳ／Ｎで実現できるというすぐれた効果
がある。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図は本発明の実施例の磁気記録媒体の拡大
断面図、第３図は従来の磁気記録媒体の拡大断面図であ
る。 ６．１２・・・・・・高分子フィルム、７．１３・・・
・・微粒子塗布層、８・・・・・・Ｏｒスパッタ膜（亀
裂あり）、９・・・・・・第１強磁性膜（亀裂あり）、
１０・・・・・・第２強磁性膜、１４・・・・・・チタ
ン薄膜（亀裂あり）、１６・・・・・・第１垂直磁化膜
（亀裂あり）、１６・・・・・・第２垂直磁化膜。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名Ｃ一
本分）フィルム ９−−−す１３！毎λ１積（・　　２ イＯ−６哨＝２！号ｔミーば１→←１−アブ（ｊＱ　−
−−ｉ分与７Ｉｌル４ １Ｓ−−一才１争Ｊ＊／Ｃ暎（命　　）＋６−−一つ１
２噸【］［在ｉイとλ」１第　　３　　図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 高分子フィルム上に磁気記録層として強磁性金属薄膜を
   配し、かつ、磁気ヘッドと摺接する側の一部の薄膜以外
   に、ほぼ周方向に沿って亀裂を設けたことを特徴とする
   磁気記録媒体。