JPH03296919A - 磁気記録媒体 - Google Patents

磁気記録媒体

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JPH03296919A
JPH03296919A JP10068090A JP10068090A JPH03296919A JP H03296919 A JPH03296919 A JP H03296919A JP 10068090 A JP10068090 A JP 10068090A JP 10068090 A JP10068090 A JP 10068090A JP H03296919 A JPH03296919 A JP H03296919A
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JP
Japan
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film
magnetic recording
layer
recording medium
metal thin
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Pending
Application number
JP10068090A
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English (en)
Inventor
Osamu Kohama
修 小浜
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録
媒体に関するものである。特にディジタル記録あるいは
高密度記録に適する磁気記録媒体に関するものである。
[従来の技術] 強磁性金属薄膜を記録層とする磁気記録媒体は、従来の
磁性層塗布型磁気記録媒体に比べ、磁気記録特性に優れ
ているため、近年、デジタル記録や高密度記録媒体用と
して有望視されてきている。
しかしながら、強磁性金属薄膜を記録層とする磁気記録
媒体においては、スチル耐久性、耐蝕性、走行性が必ず
しも十分ではないという欠点があり、様々な方法により
スチル耐久性、耐蝕性、走行性の向上のための努力が続
けられてきた。
例えば、 八 磁性層上にカルボン酸系、リン系等の潤滑層を設け
る。
(B)  チタン、クロム、シリコン、ジルコニウム等
の非磁性金属の保護を設ける。
(C)Si02膜等を設ける。
■)磁性層上に微細な突起を均一に設ける。
等を上げることができる。
「発明が解決しようとする課題] しかし、これらの方法では今−歩スチル耐久性、耐蝕性
、走行性がバランス良く改善されないのが現状であり、
ディジタル記録あるいは高密度記録において、今まで以
上にスチル耐久性、耐蝕性、走行性が要求されてきてい
る。
すなわち上記への場合には走行性は改善されるが、スチ
ル耐久性、耐蝕性の点はほとんど改善されない。03>
の場合ならびに(C)の場合とも、スチル耐久性、耐蝕
性の点で不満足である。また0の場合は走行性は改善さ
れるが、耐蝕性の点で極めて不満足な結果しか得られな
い。
本発明は上記に鑑み、スチル耐久性、耐蝕性、走行性が
ともに優れた磁気記録媒体を提供せんとするものである
[課題を解決するための手段] すなわち本発明は、強磁性金属薄膜上にRa(中心線表
面粗さ)が5〜10nmの表面粗さから成るダイヤモン
ド状硬質炭素膜を形成したことを特徴とする磁気記録媒
体である。
また、本発明はダイヤモンド状硬質炭素膜の膜厚が10
〜20nmである上記の磁気記録媒体である。
更に本発明はダイヤモンド状硬質炭素膜上に潤滑層が形
成されてなる上記の磁気記録媒体に関するものである。
[作用] 本発明においては、磁気記録媒体の表面にRa=5〜1
0nmの表面粗さから成るダイヤモンド状硬質炭素膜(
以降DLC膜と記す)が形成されていることによって、
ビデオデツキ等のヘッドとの摺動に於いて、実効的な硬
さが太き(なり、耐久性が向上し、かつ、DLC膜の外
気や湿気の浸透を防ぐ保護膜性能により、耐蝕性も向上
し、更に、DLC膜の最適な表面粗さにより、走行性も
改善され、従来技術の磁気記録媒体に比べ、耐久性、耐
蝕性、走行性が飛躍的に向上する。
[実施例] 以下本発明の実施例の磁気記録媒体について図面を参照
しながら説明する。
第1図は、本発明の磁気記録媒体の実施例の構成図を示
すものである。
第1図において4はプラスチックフィルムやステンレス
、アルミニウム等の非磁性材料で構成された基体であり
、この基体上に磁性層として強磁性金属薄膜層3が形成
され、強磁性金属薄膜層3の上にRaが5〜10nmの
表面粗さを有するDLC膜2が形成され、更にDLC膜
の上に通常必要に応じて潤滑層1が塗布される。一方、
前記基体4の下面には通常必要に応じて走行性改良のた
めバックコート層5が形成される。
上記構成は磁気記録テープの場合の代表的構成であるが
、必ずしもこれに限定されるものではない。フロッピー
ディスク等の磁気記録媒体においてもほぼ同様であるが
、用途に応じて不必要な層が削除されたり、別の層が加
わったり、置き変えられたりすることもある。
基体としては前述したもののうち、通常プラスチックフ
ィルムが好ましく用いられ、例えば、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステ
ル、ポリアミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリイ
ミド等が挙げられる。
熱可塑性プラスチックフィルムの如く、延伸、配向処理
が容易なフィルムの場合には通常2軸に配向したフィル
ムが好ましく用いられる。
これらのプラスチックフィルム基体は磁気テープとして
使用する場合には比較的薄いものが用いられ、フロッピ
ーディスク等として用いられる場合には比較的厚いもの
が用いられる。
通常厚みにして4μm〜100μmのものが用いられる
がこれに限定されるものではない。
例えば、8ミリビデオ用の場合には4〜12μmの如く
比較的薄いものが使用される。
基体の上に形成される強磁性金属薄膜は特に限定される
ものではないが、代表的な例としては、CoXCrXN
iあるいはこれらの合金等が挙げられる。
強磁性金属薄膜層の厚みは通常500〜5000人であ
る。
これら強磁性金属薄膜は真空蒸着、スパッタリング、イ
オンブレーティング等適宜の公知の方法で形成すること
ができる。
強磁性金属薄膜層上にDLC膜を形成するにはグラファ
イトをターゲットにして例えば0.1〜1QTorrの
Ar、H2等の雰囲気下でスパッタリングにより形成す
るか、メタン、プロパン、ベンゼン、イソオクタン系等
の炭化水素気体ないし蒸気の放電分離(グロー放電処理
やプラズマ放電処理等)を利用して突起形状を有するD
LC膜を形成する。
DLC膜の厚さは通常10〜20nmにするのが好まし
い。あまり薄いとスチル耐久性や耐蝕性が不十分になる
。また、あまり厚すぎるとスペーシングがそれだけ大き
くなるので電磁変換特性が不十分になる。
DLC膜の表面粗さRaは5〜10nmである事が必要
であり、Raが5nmより小さい場合には走行性が低下
し、またRaが10nmより大きい場合にはなじみ特性
が低下し、出力が悪くなり好ましくない。
DLC膜の厚さは通常DLC膜形成時の処理のスピード
やパワーによってコントロールできる。
本発明においてDLC膜を形成する場合に、通常微細な
孔の開いたスリット板を通して基体上にDLC膜を形成
するが、その孔の大きさを適当な範囲にしたり、あるい
は更にDLC膜形成時の処理のスピードやパワーにより
その表面粗さを調整することができる。
好ましくは、DLC膜を形成後、その上に潤滑層が塗布
される。潤滑層の形成は、更に耐久性、走行性を向上さ
せることができ好ましい。潤滑層としては、公知の各種
のものが使用される。代表的な例としてはパーフルオロ
カーボンやステアリン酸エステル、ミリスチン酸エステ
ル等の高級脂肪酸エステル等が挙げられる。
また通常は走行性を更に改善するため、基体のDLC膜
が設けられた面とは反対の面にバックコート層が設けら
れる。
バックコート層としては、代表的な例として、カーボン
ブラックや微細無機粒子をポリウレタン系やポリエステ
ル系バインダー中に混入したものが用いられる。
バックコート層の厚みは特に制限されないが、通常0.
3〜0.6μmのものが用いられる。
以下、更に具体的に本発明の実施例について説明する。
厚み10μmの平滑なポリエチレンチルフタレート2軸
配向フイルムの一方の面に真空蒸着法により酸素を導入
しながらCo−Ni (Co:Niの重量比80:20
)の強磁性金属薄膜を2000A形成した後、その反対
面にカーボンブラ・ツクをポリウレタン系バインダーを
用い周知のコーティング手法により塗布してバックコー
ト層を形成したものを準備し、夫々の実施例、比較例に
用いた。
実施例1 強磁性金属薄膜層上に、グラファイトをターゲットにし
0. 1〜10TorrのArとH2ガス(Ar:H2
の体積比1:3)の雰囲気下で、13゜56MHz、0
.5〜2.5KWのグロー放電を発生させ、強磁性金属
薄膜層上に、φ=0. 01nm、20ケ/μdの孔付
きスリット板を設け、表面粗さRa=5nm、10nm
から成るDLC膜を膜厚10nm、15nm、20nm
夫々形成し、その上に潤滑層としてパーフロロカーボン
を10nm塗布し、8mm幅に裁断した。
比較例1 実施例1と同様であるがDLC膜の表面粗さを変えたも
のを作成し、Ra=2nm、4nm、llnm、15n
mのものを比較例1とした。
比較例2 強磁性金属薄膜層上に、スパッタリング法を用いて、S
iO2膜を15nm形成し、その上に潤滑層としてパー
フロロカーボンを10nm塗布し、8mm幅に裁断した
比較例3 強磁性金属薄膜層上に、潤滑層としてパーフロロカーボ
ンを10nm塗布し、8mm幅に裁断した。
このようにして作成された実施例1と比較例1.2.3
の夫々の8ミリビデオ用金属薄膜型テープを市販の8ミ
リビデオデツキ(AV−300,ソニー(株)製)を用
いて、スチル耐久性、電磁変換特性を評価した。
スチル耐久性評価は、加速するためにテープテンション
を20gとし、温度25℃、湿度5%の特殊環境でスチ
ル再生を行ない、その時の再生出力が初期値より6dB
低下した時間を測定した。
また、電磁変換特性(以降電特と記す)については、温
度25℃、湿度60%の一般環境で、周波数5MHzの
単一周波数の記録再生を行ない、その出力を初期値とし
、その後に60分間そのテープを走行させ、再度そのテ
ープの記録再生を行ない、初期の再生出力と60分間テ
ープを走行させた後の再生出力の差をなじみ特性として
表現した。
走行性については、ポスト−φ4nnn(SUS−42
0J2)、パックテンション20gの摩擦テスターを用
いて、温度25℃、湿度60%の環境で200パスの繰
り返し走行の動摩擦係数の測定を行なった。耐蝕性につ
いては、温度60℃、湿度90%の環境で錆が発生する
までの時間を表現した。錆は光学顕微鏡で確認した。
その結果を表1に示す。
表1に示すように、スチル耐久性は、実施例1と比較例
1.2.3を夫々比較すると、比較例1の場合は、実施
例と表面粗さRaは異なるが、同一のDLC膜の保護膜
があるため、テープ表面の実効的な硬さが得られ、スチ
ル耐久性は実施例と同等のレベルである。それに比べ、
比較例2.3の場合は、テープ表面の実効的な硬さが得
られず、実施例に比べ数倍悪いことがわかる。
耐蝕性も比較例1は実施例と同等のレベルであるが、比
較例2.3と実施例を比較すると、実施例は2〜5倍以
上の耐蝕性が得られ、実施例の優れた保護膜特性により
、優れたスチル耐久性、耐蝕性を確認することができた
またなじみ特性、走行性も比較例1.2.3に比べ実施
例が優れていることが確認することができた。
特に比較例1と比較した場合、DLC膜の表面粗さRa
に極めて特定された最適値があり、DLC膜の表面粗さ
Raを粗くすると、なじみ特性が悪(なることがわかる
走行性は、DLC膜の表面粗さRaを細かくすると、ポ
ストとテープの真接触面積が大きくなり走行性が悪くな
り、逆に表面粗さを粗くすると、ポストとテープの真接
触面積が小さくなり走行性は良くなる。
また、なじみ特性は、表面粗さを粗くすると、ビデオデ
ツキの記録再生ヘッドに傷やヘッドのギャップ部に段差
が発生し、テープと記録再生ヘッドとのスペーシングが
大きくなり、記録再生時にロスが発生し、初期の記録再
生出力に比べ、出力が劣化し、なじみ特性が悪くなる。
これらのことから特定の表面粗さを有するDLC膜が形
成された磁気記録媒体が、高記録密度媒体として有用で
あることがわかる。
[発明の効果] 以上、本発明は強磁性金属薄膜層の上に特定のDLC膜
が形成されているので、スチル耐久性が著しく向上し、
かつ耐蝕性も飛躍的に改良され、また、走行性、なじみ
特性も優れたバランスの良い高密度記録に好適な磁気記
録媒体を提供し得たものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による磁気記録媒体の概略的な断面図で
ある。 ・・・潤滑層 ・・・ダイヤモンド状硬質炭素膜 ・・・強磁性金属薄膜層 ・・・基体 ・・・バックコート層 1・・・潤滑層 第1図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)強磁性金属薄膜上にRaが5〜10nmの表面粗
    さから成るダイヤモンド状硬質炭素膜を形成したことを
    特徴とする磁気記録媒体。
  2. (2)ダイヤモンド状硬質炭素膜の膜厚が10〜20n
    mである請求項1記載の磁気記録媒体。
  3. (3)ダイヤモンド状硬質炭素膜上に潤滑層が形成され
    てなる請求項1記載の磁気記録媒体。
JP10068090A 1990-04-16 1990-04-16 磁気記録媒体 Pending JPH03296919A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6623836B1 (en) 1992-11-19 2003-09-23 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Magnetic recording medium
US6805941B1 (en) 1992-11-19 2004-10-19 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Magnetic recording medium
EP2444520A4 (en) * 2009-06-19 2013-08-28 Jtekt Corp DLC-FILM-EDUCATION PROCESS AND DLC-FILM
CN106011762A (zh) * 2016-05-13 2016-10-12 宁波中骏上原汽车零部件有限公司 一种汽车装饰件及其表面涂层制备方法

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