JPS60214424A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS60214424A JPS60214424A JP7198384A JP7198384A JPS60214424A JP S60214424 A JPS60214424 A JP S60214424A JP 7198384 A JP7198384 A JP 7198384A JP 7198384 A JP7198384 A JP 7198384A JP S60214424 A JPS60214424 A JP S60214424A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lubricant
- angle
- columnar structure
- magnetic recording
- evaporation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度磁気記録に有用な強磁性金属薄膜を磁気
記録層とする磁気記録媒体の製造方法に関するものであ
る。
記録層とする磁気記録媒体の製造方法に関するものであ
る。
従来例の構成とその問題点
回転磁気へノドによるヘリカル走査方式による音声９画
像の記録再生を行う技術は磁気記録の中でも最も高密度
記録化が進んでいる。
像の記録再生を行う技術は磁気記録の中でも最も高密度
記録化が進んでいる。
一方、磁気記録媒体は、基板面と平行な面内、又は基板
面と直交する厚み方向に磁化可能な強磁性金属薄膜を磁
気記録層とするものが注目され、かかる媒体の実用化に
より一段と記録密度が向上するものとして期待を集めて
いる。
面と直交する厚み方向に磁化可能な強磁性金属薄膜を磁
気記録層とするものが注目され、かかる媒体の実用化に
より一段と記録密度が向上するものとして期待を集めて
いる。
ところが短波長記録においては、磁化方向の如何にかか
わらずスペーシング損失が極めて重要で、そのため安定
な磁気ヘッドと磁気テープの摺接がめられている。
わらずスペーシング損失が極めて重要で、そのため安定
な磁気ヘッドと磁気テープの摺接がめられている。
第１図は磁気記録媒体の拡大断面図で、磁気記録媒体１
は、基板２上に形成された強磁性金属薄膜磁気記録層３
と、その上に形成された滑剤層４からなっている。
は、基板２上に形成された強磁性金属薄膜磁気記録層３
と、その上に形成された滑剤層４からなっている。
滑剤層の形成法は、溶剤に溶かした滑剤を湿式塗布して
乾燥するものと、真空中で滑剤を蒸着するもの、真空中
でグロー放電によるアシス）ｋ受けての薄膜形成による
もの等があるが、滑剤として表面に局在できる量は、前
記したスペーシング損失の面からも制約を受ける。従っ
て、柱状構造体の集合体で強磁性薄膜が形成されている
場合は、滑剤の効果を持続させるため、柱状構造体のす
き間に滑剤をうめる方法か、基板の強磁性金属薄膜のな
い側に滑剤を含有したバンクコーティング層を配し巻回
した時に転写により強磁性金属薄膜表面に滑剤を付与す
る方法が提案されているが、短波長記録を進める上で有
用なＣＯ系のアモルファスヘッドとの間の摺接状況は必
ずしも満足したものになっていない。
乾燥するものと、真空中で滑剤を蒸着するもの、真空中
でグロー放電によるアシス）ｋ受けての薄膜形成による
もの等があるが、滑剤として表面に局在できる量は、前
記したスペーシング損失の面からも制約を受ける。従っ
て、柱状構造体の集合体で強磁性薄膜が形成されている
場合は、滑剤の効果を持続させるため、柱状構造体のす
き間に滑剤をうめる方法か、基板の強磁性金属薄膜のな
い側に滑剤を含有したバンクコーティング層を配し巻回
した時に転写により強磁性金属薄膜表面に滑剤を付与す
る方法が提案されているが、短波長記録を進める上で有
用なＣＯ系のアモルファスヘッドとの間の摺接状況は必
ずしも満足したものになっていない。
即ち従来方法で得られた磁気記録媒体では、０．６μｍ
から０．３μｍの極短波長域での出力変動が大きい点は
改良が望唸れている。
から０．３μｍの極短波長域での出力変動が大きい点は
改良が望唸れている。
発明の目的
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、短波長記録再
生時、出力変動の少々い磁気記録媒体を得ることのでき
る磁気記録媒体の製造方法を提供するものである。
生時、出力変動の少々い磁気記録媒体を得ることのでき
る磁気記録媒体の製造方法を提供するものである。
発明の構成
本発明は、構成元素の一部が表面偏析した柱状構造体よ
りなる強磁性金属薄膜上に滑剤層の形成を真空蒸着法に
て行う際、前記柱状構造体の結晶成長方向の軸と滑剤蒸
気の入射方向の々す角が３ｏ０以上であることを特徴と
し、回転磁気ヘッドとの摺接が安定になり短波長出力変
動の少ない磁気記録媒体を大量に製造できるものである
。
りなる強磁性金属薄膜上に滑剤層の形成を真空蒸着法に
て行う際、前記柱状構造体の結晶成長方向の軸と滑剤蒸
気の入射方向の々す角が３ｏ０以上であることを特徴と
し、回転磁気ヘッドとの摺接が安定になり短波長出力変
動の少ない磁気記録媒体を大量に製造できるものである
。
実施例の説明
以下本発明の実施例を図面を参照しながら説明する。
第２図は本発明の製造方法により得られる磁気記録媒体
の拡大断面の模式図である。
の拡大断面の模式図である。
基板２上に柱状構造体６が傾斜して配列されている。こ
の柱状構造体５は、構成元素の一部が表面偏析したもの
で、表面偏析により柱状構造体が明瞭に々るのと、滑剤
が反応により強く付着する原因を生むことから本発明の
実施上必要な条件となる。
の柱状構造体５は、構成元素の一部が表面偏析したもの
で、表面偏析により柱状構造体が明瞭に々るのと、滑剤
が反応により強く付着する原因を生むことから本発明の
実施上必要な条件となる。
磁気ヘッドは矢印Ａの方向の運動状態で通常用いられる
ので、滑剤７は、第２図のようにヘッドの運動方向に減
少するように柱状構造体６の上部表面に局在化したよう
に構成されると想像される。
ので、滑剤７は、第２図のようにヘッドの運動方向に減
少するように柱状構造体６の上部表面に局在化したよう
に構成されると想像される。
この状態が本発明の効果を生む理由については明らかで
はないが、柱状構造体が基板面に垂直であっても同様の
効果があることから、磁気ヘッドの運動方向と滑剤のつ
もり方に関係していることが想像されるがくり返し使用
でこの状態が保持されることは想像しにくいので、媒体
構成として特定化できないが、本発明により得られる媒
体は後述する多くの組み合わせで確実に効果のあるもの
である。
はないが、柱状構造体が基板面に垂直であっても同様の
効果があることから、磁気ヘッドの運動方向と滑剤のつ
もり方に関係していることが想像されるがくり返し使用
でこの状態が保持されることは想像しにくいので、媒体
構成として特定化できないが、本発明により得られる媒
体は後述する多くの組み合わせで確実に効果のあるもの
である。
第３図は本発明を実施するのに用いた製造装置の要部構
成図で、第４図は第３図のＢ部の拡大模式図である。
成図で、第４図は第３図のＢ部の拡大模式図である。
基板上に柱状構造体の配されたフィルム８は、送り出し
軸９から巻取り軸１０へ移動する。移動方向に限定され
ないし、必要に応じて冷却支持体（図示せず）に沿わせ
てもよい。滑剤の蒸発源１１は容器１２と蒸着用滑剤１
３とからなり、加熱源は公知のいずれを用いてもよい。
軸９から巻取り軸１０へ移動する。移動方向に限定され
ないし、必要に応じて冷却支持体（図示せず）に沿わせ
てもよい。滑剤の蒸発源１１は容器１２と蒸着用滑剤１
３とからなり、加熱源は公知のいずれを用いてもよい。
滑剤蒸気流１４は、マスク１５の一部の開孔部１６を通
り、移動するフィルム上に向う。
り、移動するフィルム上に向う。
この時の条件限定が本発明に関するもので、第４図に示
したように、柱状構造体５の結晶の成長方向の軸ｑ１（
ｑｌはこの場合、基板の垂線とαの角度をもつ）と蒸気
流１４の入射方向（１１）とのなす角が３０’以上（上
限ははっきりはないが、好ましくは９０°までである。
したように、柱状構造体５の結晶の成長方向の軸ｑ１（
ｑｌはこの場合、基板の垂線とαの角度をもつ）と蒸気
流１４の入射方向（１１）とのなす角が３０’以上（上
限ははっきりはないが、好ましくは９０°までである。
それ以上になると効果が不安定になる。）となる条件で
滑剤蒸着を行うことが要旨である。３０°以上の臨界的
意義は、出方変動を許容できる実用レベルが±１ ｄＢ
としたためで、３０°以下になると構成材料の条件で
±１ ｄＢ以上の出力変動が起る場合があるからである
。
滑剤蒸着を行うことが要旨である。３０°以上の臨界的
意義は、出方変動を許容できる実用レベルが±１ ｄＢ
としたためで、３０°以下になると構成材料の条件で
±１ ｄＢ以上の出力変動が起る場合があるからである
。
々おｑｌ の定義は、第４図のように柱状構造体がスト
レートの場合は明瞭であるが、わん曲している場合は、
厚み方向の最上部から１ ／３の部分をみて、近似的に
柱状構造を単純化した時の結晶の軸で代表させればよい
。” 本発明で用いられる基板はポリエチレンテレフタレート
などのポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフ
ィン類、セルロースジアセテート。
レートの場合は明瞭であるが、わん曲している場合は、
厚み方向の最上部から１ ／３の部分をみて、近似的に
柱状構造を単純化した時の結晶の軸で代表させればよい
。” 本発明で用いられる基板はポリエチレンテレフタレート
などのポリエステル類、ポリプロピレン等のポリオレフ
ィン類、セルロースジアセテート。
ニトロセルロース等のセルロース誘導体、ポリヵーボネ
ート、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイミド等があ
げられ、下塗り層、下地層、軟磁性層を配したものも用
いることができる。
ート、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイミド等があ
げられ、下塗り層、下地層、軟磁性層を配したものも用
いることができる。
本発明に用いられる強磁性金属薄膜は、Ｇｏ。
Ｆｅ 、Ｎｉ 、Ｃｏ−Ｆｅ 、Ｃｏ −Ｎｉ 、Ｃｏ
−Ｂ 、Ｃｏ −Ｃｕ 、Ｃｏ−Ｇｅ 、Ｃｏ−Ｍｎ
、Ｃｏ−Ｍｇ 、Ｃｏ−Ｍｏ 、Ｃｏ −Ｐ ｔ 、
Ｃｏ−Ｒｕ 、Ｇｏ−Ｒｈ 、Ｃｏ −３ｉ 。
−Ｂ 、Ｃｏ −Ｃｕ 、Ｃｏ−Ｇｅ 、Ｃｏ−Ｍｎ
、Ｃｏ−Ｍｇ 、Ｃｏ−Ｍｏ 、Ｃｏ −Ｐ ｔ 、
Ｃｏ−Ｒｕ 、Ｇｏ−Ｒｈ 、Ｃｏ −３ｉ 。
Ｃｏ −８ｍ 、 Ｃｏ−８ｎ 、Ｃｏ−Ｇｄ 、Ｇｏ
−Ｔａ 、Ｃｏ−Ｖ 、Ｃｏ−Ｗ、Ｃｏ −Ｙ 。
−Ｔａ 、Ｃｏ−Ｖ 、Ｃｏ−Ｗ、Ｃｏ −Ｙ 。
Ｃｏ−Ｚｎ 、Ｃｏ −Ｃｒ 、Ｃｏ −Ｃｅ 、Ｃｏ
−Ｔ ｉ 、Ｃｏ−Ｎｉ −Ｃｒ 、Ｃｏ −Ｎｉ−
Ｍｇ 等及びそれらの部分酸化膜９部分窒化膜。
−Ｔ ｉ 、Ｃｏ−Ｎｉ −Ｃｒ 、Ｃｏ −Ｎｉ−
Ｍｇ 等及びそれらの部分酸化膜９部分窒化膜。
部分炭化膜等で磁化容易軸の方向には依存しないが、構
成元素の一部が柱状構造体の表面に偏析していることが
必要で、製法としても電子ビーム蒸着法、イオンブレー
ティング法、スパッタリング法、無電解めっき法等から
適宜選択できるものである。
成元素の一部が柱状構造体の表面に偏析していることが
必要で、製法としても電子ビーム蒸着法、イオンブレー
ティング法、スパッタリング法、無電解めっき法等から
適宜選択できるものである。
滑剤として本発明に用いることのできるものは、脂肪酸
、脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、鉱油。
、脂肪酸エステル、脂肪酸アミド、鉱油。
牛脂等の動植物油、高級アルコール、金属石けん。
常温で液体の不飽和脂肪族炭化水素、フルオロカーボン
類、ポリエチレン、ポリテトラフルオロエチレン等のプ
ラスチック微粉末、α−オレフィン重合物など及びこれ
らの混合物があげられる。
類、ポリエチレン、ポリテトラフルオロエチレン等のプ
ラスチック微粉末、α−オレフィン重合物など及びこれ
らの混合物があげられる。
以下に本発明のさらに具体的な一実施例を説明する。
滑剤を蒸着するフィルムとして、厚み１２μｍのポリエ
チレンテレフタレート上にＩ Ｘ １０−”Ｔｏｒｒの
酸素中で、入射角６０’以上で電子ビーム蒸着法を用い
斜め蒸着しＣｏ−Ｎｉ−０（Ｎｉ １９．５％）膜０．
１５μｍ’５形成した（ｑｌ はα−４７°であった）
ものと、高周波マグネトロンスパッタ（周波数１３．５
６計）法によりＣｏ−０ｒ（Ｃｒ２Ｏ，６チ）垂直磁化
膜を０．２μｍ 、１５μｍのポリイミド上に形成した
もの（ｑｌ はα埃０６）を準備した。それぞれに、滑
剤としてベヘン酸アミドを蒸着した。その条件は次の第
１表のようにした。ベヘン酸アミドは、水晶振動子を用
いた膜厚計測で、等膜厚みが６０八になるように制御し
た。
チレンテレフタレート上にＩ Ｘ １０−”Ｔｏｒｒの
酸素中で、入射角６０’以上で電子ビーム蒸着法を用い
斜め蒸着しＣｏ−Ｎｉ−０（Ｎｉ １９．５％）膜０．
１５μｍ’５形成した（ｑｌ はα−４７°であった）
ものと、高周波マグネトロンスパッタ（周波数１３．５
６計）法によりＣｏ−０ｒ（Ｃｒ２Ｏ，６チ）垂直磁化
膜を０．２μｍ 、１５μｍのポリイミド上に形成した
もの（ｑｌ はα埃０６）を準備した。それぞれに、滑
剤としてベヘン酸アミドを蒸着した。その条件は次の第
１表のようにした。ベヘン酸アミドは、水晶振動子を用
いた膜厚計測で、等膜厚みが６０八になるように制御し
た。
以下余白
第１表
Ｃｏ −Ｎｉ −０、Ｃｏ−Ｃｒの両者の上に、上表の
条件で滑剤を蒸着したものをテープ化して、Ｇｏ−Ｂ系
のアモルファスヘッドとフェライトヘッド（夫々ギャッ
プ長は０．２１ μｍ）を用いて、記録再生してテープ
長８０ｍの範囲でそれぞれ再生出力の変動を調べた。そ
の結果を第２表に示す。比較は相対比較（ｄＢ青表示で
ある。
条件で滑剤を蒸着したものをテープ化して、Ｇｏ−Ｂ系
のアモルファスヘッドとフェライトヘッド（夫々ギャッ
プ長は０．２１ μｍ）を用いて、記録再生してテープ
長８０ｍの範囲でそれぞれ再生出力の変動を調べた。そ
の結果を第２表に示す。比較は相対比較（ｄＢ青表示で
ある。
以下余白
龍
σ
測定環境は３５℃８３％ＲＨで、トラック幅は１３μｍ
一定とした。
一定とした。
以上のように本実施例に、よれば、滑剤蒸気の入射方向
全柱状構造体の結晶成長方向との関係で選択することで
、記録波長０．４μｍ、）ラック幅１／１ｍの高密度記
録を３００回行っても、出力変動が±１ｄＢ以内に抑え
ることができる。
全柱状構造体の結晶成長方向との関係で選択することで
、記録波長０．４μｍ、）ラック幅１／１ｍの高密度記
録を３００回行っても、出力変動が±１ｄＢ以内に抑え
ることができる。
本発明の製法で得られた磁気記録媒体は、スチル寿命も
従来法で得られるものと比較して倍以上に伸ばせるし、
摩擦係数の安定性もよく、実用性の優れた磁気記録媒体
を大量に得ることのできるものである。
従来法で得られるものと比較して倍以上に伸ばせるし、
摩擦係数の安定性もよく、実用性の優れた磁気記録媒体
を大量に得ることのできるものである。
なお本実施例では、２種類の試料について具体的に効果
を示したが、本発明に適用できる他の材材料の組み合わ
せにおいても同様の効果を有することを確認した。
を示したが、本発明に適用できる他の材材料の組み合わ
せにおいても同様の効果を有することを確認した。
発明の効果
以上のように本発明は、柱状構造体の結晶成長方向に対
して蒸気の入射角ｉ ３０’以上に選んで滑ｉｌｌを蒸
着することで、短波長出力変動の少々い、磁気記録媒体
が得られる製法でありその実用的効果は大きい。
して蒸気の入射角ｉ ３０’以上に選んで滑ｉｌｌを蒸
着することで、短波長出力変動の少々い、磁気記録媒体
が得られる製法でありその実用的効果は大きい。
第１図は磁気記録媒体の拡大断面図、第２図は３ 本発
明で得られる磁気記録媒体の拡大断面の模式図、第３図
は本発明を実施するための滑剤蒸着装置の要部構成図、
第４図は第３図のＢ部の拡大図である。 ２・・・・・・基板、６・・・・・・柱状構造体、７・
・・・・・滑剤、１１・・・・・・滑剤蒸発源、１４・
・・・・・滑剤蒸気流。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名７ｊ
Ｓ１図 第２図 第３図
明で得られる磁気記録媒体の拡大断面の模式図、第３図
は本発明を実施するための滑剤蒸着装置の要部構成図、
第４図は第３図のＢ部の拡大図である。 ２・・・・・・基板、６・・・・・・柱状構造体、７・
・・・・・滑剤、１１・・・・・・滑剤蒸発源、１４・
・・・・・滑剤蒸気流。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名７ｊ
Ｓ１図 第２図 第３図
Claims (1)
- 構成元素の一部が表面偏析した柱状構造体よりなる強磁
性金属薄膜上に滑剤層の形成を、真空蒸着法にて行う際
、前記柱状構造体の結晶成長方向の軸と滑剤蒸気の入射
方向のなす角がｓｏ’９上であることを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7198384A JPS60214424A (ja) | 1984-04-11 | 1984-04-11 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7198384A JPS60214424A (ja) | 1984-04-11 | 1984-04-11 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60214424A true JPS60214424A (ja) | 1985-10-26 |
Family
ID=13476202
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7198384A Pending JPS60214424A (ja) | 1984-04-11 | 1984-04-11 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60214424A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006028273A (ja) * | 2004-07-13 | 2006-02-02 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 炭化水素系有機薄膜からなる潤滑剤及び潤滑方法 |
-
1984
- 1984-04-11 JP JP7198384A patent/JPS60214424A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006028273A (ja) * | 2004-07-13 | 2006-02-02 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 炭化水素系有機薄膜からなる潤滑剤及び潤滑方法 |
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