JPS6014302A - Pi制御パラメ−タの自動調整方法 - Google Patents

Pi制御パラメ−タの自動調整方法

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JPS6014302A
JPS6014302A JP12102383A JP12102383A JPS6014302A JP S6014302 A JPS6014302 A JP S6014302A JP 12102383 A JP12102383 A JP 12102383A JP 12102383 A JP12102383 A JP 12102383A JP S6014302 A JPS6014302 A JP S6014302A
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JP
Japan
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control
response
gain
time
controlled system
Prior art date
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Pending
Application number
JP12102383A
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English (en)
Inventor
Akira Inoue
章 井上
Shuichiro Kobayashi
小林 主一郎
Shuichi Wakabayashi
修一 若林
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Publication of JPS6014302A publication Critical patent/JPS6014302A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B13/00Adaptive control systems, i.e. systems automatically adjusting themselves to have a performance which is optimum according to some preassigned criterion
    • G05B13/02Adaptive control systems, i.e. systems automatically adjusting themselves to have a performance which is optimum according to some preassigned criterion electric

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
  • Evolutionary Computation (AREA)
  • Medical Informatics (AREA)
  • Software Systems (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Feedback Control In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、比例・積分(PI)制御方式を用いた制御系
(−おいて、−次遅れ系で近似される非線形の制御対象
の特性変化に追従してPI制御パラメータを自動的(;
調整するPI制御パラメータの自動調整方法に関するも
のである。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
目標値と測定値との偏差及びその微分(二対してろる定
数を乗じ、その和をもって操作量の出力とするいわゆる
比例・積分(1)I)制御(二よシ非線形な制御対象を
制御する場合、PI制御定数を固定して制御すると常(
=望ましい制御応答を得ることは不可能である。
このような場合、非線形な1ttlJ *対象を微小変
化内で線形化し、−次遅れ系として定式化し、−次遅れ
系のゲイン及び時定数を他のプロセス量よ請求め、その
値の変動(′″一対して制御定数を自動的に調整する制
御が従来から行なわれている。
第1図(二このような制御方法の従来例として、下水処
理プロセスにおける曝気槽内溶存酸素濃度制御系を示し
た。
第1図において送風機1よシ供給された空気は管路2、
風量制御弁3を通り、曝気槽4に送られ、散気管5(二
よυ曝気槽内の汚濁水中に放出される。
曝気槽4内に設置された曝気槽4内の溶存酸素を測定す
る美検出器6および風量制御弁30入口、側(=設置さ
れた曝気槽4へ流入する風量を測定する風量検出器7(
二よシ測定されたプロセス量は制御装置8へ入力される
ここで制御装置8に予め内蔵されている機能(−より演
算が実施され、その結果、制御装置f8から風量fli
制御弁3じ対し開度制御指令が出力される。
制御装置δ8の機能は大別して入出力インタフェース部
9、Do制御部10、風量制御部]]、制御対象同定1
1(12、PI制御パラメータ調整部13から構成され
ている。
入出力インタフェース部9はDO検出器6及び風量検出
器70より測定された信号x、uを入力し、風量ft1
lJ御弁3に対する開度制御指令Zを出力する機能を備
えている。
DO制御部]0はDO検出器6により測定されたDlt
ll定値Xが予め設定されたDO目標値X、に一致する
ように、送風量目標値U、を演算する機能を持つ。
また風量制御部11は風量検出器7にょシ測定された風
景測定値UがI)O制御部1oにて演算された送風量目
標値u、iニ一致するように風量制御弁3(二対する開
度制御信号Zを演算する機能を備えている。
DO制御部10ではDo測定値XとDo目標値Xrがら
下記PI演算式(1) 、 +21 、 (3)を用い
て送風量目標値u、を演算する。
ur(n)”’△u、+u市−重)・・・・・・(1)
Δur =Kp ((an en−t) +娃e、)”
”” (2)r eI!= X、 −x l・…・(31但し ur(nl ”今回送風量目標値 ur(n−1) ’前回送風量目標値 △ur:送風盪目標値変分 KP:比例ゲイン T!:積分時間 e+ :今回偏差 en−1’前回偏差 △t =制御周期 制御対象同定部12は非線形な制御対象を微小変化内で
線形化し、−次遅れ系として定式化した場合の一次遅れ
系のゲインにおよび時定数Tを他のプロセス量より算出
する機能を持っている。
この例では、送風量UとDo値Xの関係式である下記(
4)式を平衡点の近傍で線形化して(5)式をめ、(5
)式のΔR,を外乱として取り扱い、△Uと△Xの関係
を二次遅れ系として表現し、−次遅れ系のゲインK及び
時定数Tを(6)、(力式にてめる。
”−= a−u”(x−x) R1・−−−−−(4)
t j(ハ)σ=a・狗0・△x+a・n・げ−1(マー励
△U−ΔR1・・・(5)t K = −L(x xo) −−ft3)O T −一1− ・・−・・(7) a’u♂ ここ(二、 x:DO値 −d−二時間微分 t U :送風量 マ :飽和1)O値 Rr:酸素消費速度 a、Hニブラント固有の定数 xO: プロセスがある平衡点にあった時のDO値uo
: プロセスがある平衡点にあった時の送風量△X :
 プロセスがある平衡点にあった時のDO値からの偏差 Δ11: プロセスがある平衡点C二あった時の送風量
からの偏差 ΔR,ニア’ロセスがある平衡点にあった時の酸素消費
速度かちの偏差 PI制御パラメータ調整部13では制御対象同定部12
により演算された一次遅れ系のゲインK、時定数T及び
設定値である行過ぎ時間tP、減衰係数ζよシ第2図の
フローチャート(=示すアルゴリズム(二従って、PI
制御器の比例ゲインKP s積分時間T工を演算する。
すなわち第2図(−おいて、ブロック14にて行過ぎ時
間tp、減衰係数この設定値を入力し、プロッり15に
て制御対象同定部12にて演算された一次遅れ系のダイ
ンK、時定数Tを入力する。
ブロック16(二て後述のブロック1.8.19にて使
用する係数C8を下記(8)式(−で演算する。
Co= 106.5ζ2−175.5ζ+73.9 ・
−・−+8)但し ζ〈1.0 ブロック17では後述のブロックかにて使用する係数C
+ 、 Ctを下記(9)、H)式(:て演算する。
C,=−0,83ζ+2.83 ・凹・(9)C2=0
.7ζ−0,05・四−QO)但し ζ<1.0 ブロック18.19+ユて一巡伝達関数の周波数応答(
二おけるゲイン特性を望テしい特性とするため、行過ぎ
時間tPと一次遅れ系の時定数T(1)関係(二制限を
設ける。
またブロック2Ilにて行過ぎ時間tpが一定となるよ
うL(=ω、T)と−π−の関係を下記19式で示す回
帰式にて表わし、Lを演算する。
L = C1−X+ C2・・・・・・Ip 但し、L=ωnT ω4:固有周波数 C,、C2:前記(9)、 (Hl)式に示す係数そし
てブロック21(′″−てPI制御器の比例ゲインKP
、積分時間Txをそれぞれ下記uL(13)式にて演規
:する。
2ζL−1 心=−K−一 ・・・・・・02) T、=m躬(1)工 ・・曲9り 上記従来のアルゴリズムにおいて、減衰係数ζはζ〈1
,0の範囲でのみ設定可能でアク、ζ≧1.0の範囲の
設定は不可能であった。
ところで減衰係数ζは制御系の連応性及び安定性(′″
−大きな影響を与えるパラメータであシ、この値が小さ
いということは目標値のステップ状変化に対する制御応
答におけるオーバーシュートカ大きく、また外乱に対す
る制御応答が速い事を意味し、逆(二この値が大きいと
いうことは、目標値のステップ状変化に対する制御応答
におけるオーバーシュートが小さく、また外乱に対する
制御応答が遅い事を意味する。
従って減衰係数この設定範囲が広いほど、制御応答の指
定が多様(二なるわけであシ、従来アルゴリズムではζ
≧1.0の範囲の設定が不可能であるため、特に制御応
答におけるオーバーシュートを押さえてゆるやかな応答
にしたいという妥求に対して満足な結果が得られなかっ
た。
〔発明の目的〕
本発明は上記従来技術の持つ欠点を除去するため(二な
されたもので、制御応答特性を指定するパラメータであ
る減衰係数の値を1.0以下及び1,0以上の全ての範
囲にわたシ、指定できる調整範囲の広いPI制御パラメ
ータの自動調整方法を提供することを目的とする。
〔発明の概要〕
不発明は、特性の変化する制御対象をPI制御するPI
制御装置において、制御対象を部分的に一次遅れ系(二
近似してそのゲインにおよび時定iTを同定し、指定し
た目標制御応答特性(1応じてニュートン法(二よる数
値計算によってPI制御の比例ゲインKPおよび積分時
間TIを算出し、これによって目標減衰係数ことしてζ
〈1およびζ≧1の全範囲で所望の制御応答が得られる
ようにしたPI制御パラメータの自動調整方法である。
〔発明の実施例〕
以下、本発明によるPI制御パラメータの自動調整方法
(二おける演算アルゴリズム(二ついて説明する。
一次遅れ系の制御対象にPI制御を施した場合のブロッ
ク線図を第3図に示す。
一例としてΔx、は溶存酸素濃度偏差△Xの目標値テア
シ、I(F・Tt ハp工制御パラメータ、Sは2プラ
ス演算子である。
F(S) = fof(t) e dt ・・・・・・
 If(t) :時間領域の関数 F(S) :周波数領域の関数 第3図は2個の極と1個の零点を持つ系であ択閉ループ
伝達関数W(S)は下記(1つ式であたえられる。
ここで Zl: 苓 点 ”s二Tr ++++++ 118)
本対象系の場合、減衰係数ζがζ〈1.0の場合は2個
の共役複素極と1個の零点を持つ系となシ、その場合の
インデイシャル応答は下記tl1式で表わされる。
+1−二−e−”n1sinCJ1−ζ2ω、t)−曲
(19)21%+1−(2 また、ζ≧1.0の場合は2個の実極と1個の零点を持
つ系となシ、その場合のインディシャル応答は下記(至
)式で宍わされる。
但し λ、−(−ζ+Jr−1)ω。 ・叩・(2I)
λ2−(−ζ−4で])ω。 ・・曲(栖本発明のアル
ゴリズムではfl?lJ御応答を指定する指針として、
ζり1.oの場合は目標値のステップ状変化(一対する
応答のイテ過ぎ時間(time to peak) t
pを設け、ζ≧1.0の場合は、目標値のステップ状変
化(二対し制御応答が最終値の90%に達する時間t、
。を設ける。
ζ〈10において行過ぎ時間tpはα[有]式を微分し
た関数がOとなるt′??あるから、時代よシ下記(2
3)式%式% またζ≧1.0(=おいて、ステップ応答の最終値の9
0φ(二速する時間t。0を(2I力式にあてはめれば
下記2つ式が得られる。
1 λ1λ2 スと町(λ2ε早tλ1ε121町+Z県写(ε’I’
QG−81両’)+0.1=O・・・Q→ここでU6)
す′7)0均り1)99式を(・Le4)式(二代入す
れば、(23)、C24)式の方程式(=おいて、ζ、
 ’r + K+ jp+ t9゜が既知であればPI
 ’tBIJ 1iI41パラメータKp、TIをニュ
ートン法による数1111針Qt二でめることができる
すなわちζ〈1,0の場合は(2り式の左辺を(25)
式の関数F= (KP)で表わし、ζ、T、に、tpが
与えられるのでKPの初期値KPOを第0次近似として
ニュートン法(二よる数値計算でKPの最終解をめる。
R(Kp)−8(1−静5InFω、tp)士cog(
JT”?’w、tp)・・個1 またζ≧1.0の場合はC24)式の左辺を(26)式
の関数Fb(&)で表わし、ζ、T、に−tooが与え
られるのでζ〈1.0の場合と同様(二ニュートン法(
=よる数値計算でKpの最終解をめる。
Fh(Kp)−へ(λ、♂1にλ1t12町債1弱がε
111丸ε12鴇刊、1・・・し0比例ゲインKPがま
れば(17)式を変形した(27)式よシ積分時間TI
がまる。
以上、説明してきた本発明のPI制御パラメータの自動
調整方法のアルゴリズムを第4図の概略フローチャート
(=示す。
また第4図におけるブロック26.28のニュートン法
による数値計算の詳細・とそれぞれ第5図、第6図f二
示す。
第5図のブロック32(二おける関数P−は(ハ)式で
表わされ、工ξはFt微分を示す。
同様に第6図のブロック38(=おける関数凡はI2゜
式で表わされ、F:は凡の微分を示す。
また第5図のブロックお、第6図のブロック39(=お
ける△んは、微小量を示す。
以上のアルゴリズムによ〕、−次遅れ系の制御対象の特
性変化に追従して、PI制御パラメータを自動調整する
ことができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明(=よれば、制御対象の特性
変化に追従してI)I制御パラメータを自動調整するP
I制御パラメータの自動調整方法において制御対象の1
1制御応答特性を指定する指標である減衰係数を10以
下及び1.0以上の全ての範囲(二わた9指定できるた
め、例えば制御応答におけるオーバーシュートを神、え
てゆるやかな応答にしたいという要求から、オーバーシ
ュートが多少多くても、速い応答(ニしたいという安水
まで柔軟に対応することができる適正なPI制御パラメ
ータが得られる。
なお、上記実施例では下水処理プロセス(−おける曝気
槽内溶存酸素濃度制御系について記述したが、本発明は
一次遅れ系のパラメータを制御対象の非線形関数を線形
近似した関数式にて演算できるプロセス(二ついては全
て適用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明が適用されるPI制御系の一例を示す系
統図、第2図は従来のPI制御パラメータの自M aa
 fi方法の一例を示すフローチャート、第3図は一次
遅れ系(二対するPI市[j御の基本的なブロック図、
第4図は本発明の一失施例を示す70−チャート、第5
図および第6図はそれぞれ第4図のフローチャートにお
ける谷パラメータ演算の詳細を示すフローチャートであ
る。 1 送風機 3 風量制御弁 4 曝気槽 5 散気管 6 Do検出器 7 風量検出器 8 制御装置 10 Do i制御部 11 風量制御部 12 制御対象同定部 13 PI制御卸パラメータθM整部 (8733)代理人 弁理士 猪 股 祥 晃(ほか1
名)第 1 図 第 3 図 第 4 図 第5図 第 6

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)%性の変化する制御対象をPI制御するPI制御
    装置(二おいて、上記制御対象を部分的(ニー次遅れ系
    に近似してそのゲインにおよび時定数Tを同定し、指定
    した目標制御応答特性に応じてニュートン法による数値
    計算(二よってPI制御の比例ゲインKPおよび積分時
    間TIを算出することを%徴とするPI制御パラメータ
    の自動調整方法。
  2. (2)上記制御応答特性として、減衰係数ζおよびζ〈
    1.0のときはステップ変化(二対する行過ぎ時間tp
    、ζ≧1.0のときはステップ変化口封する最終値の9
    0%ζ;達する時間tψを指定するよう口した特許請求
    の範囲第1項記載のPI・制御)(ラメータの自動調整
    方法。
JP12102383A 1983-07-05 1983-07-05 Pi制御パラメ−タの自動調整方法 Pending JPS6014302A (ja)

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