JPS59128604A - 蒸気圧力制御装置 - Google Patents
蒸気圧力制御装置Info
- Publication number
- JPS59128604A JPS59128604A JP442483A JP442483A JPS59128604A JP S59128604 A JPS59128604 A JP S59128604A JP 442483 A JP442483 A JP 442483A JP 442483 A JP442483 A JP 442483A JP S59128604 A JPS59128604 A JP S59128604A
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- Japan
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- steam
- pressure
- flow rate
- steam source
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-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B11/00—Automatic controllers
- G05B11/01—Automatic controllers electric
- G05B11/32—Automatic controllers electric with inputs from more than one sensing element; with outputs to more than one correcting element
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Feedback Control In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は蒸気圧力制御方式に係り、特にエジェクタ供給
蒸気圧力制御系等に適用し得る蒸気圧力制御方式に関す
る。
蒸気圧力制御系等に適用し得る蒸気圧力制御方式に関す
る。
従来の蒸気圧力制御方式を第１図に示す蒸気圧力制御系
の概略ブロック線図について説明する。第１図において
１は蒸気源、２は制御弁、３は供給蒸気圧力、４はエノ
エクタ、５は設定圧力、６は加減算器、７は比ｒｌｌ・
積分・微分制御器である。
の概略ブロック線図について説明する。第１図において
１は蒸気源、２は制御弁、３は供給蒸気圧力、４はエノ
エクタ、５は設定圧力、６は加減算器、７は比ｒｌｌ・
積分・微分制御器である。
第１図において蒸気源１の蒸気を匍ｊ ｎｉ＋弁２でエ
ノエクタ４への供給蒸気圧力３を制御するようになされ
ている。この制御系は設定圧力５と蒸気圧力３とを加減
算器６により加減算し、比例・積分・微分制御器７によ
り制御弁２を制御し、蒸気圧力を設定圧力に保つもので
ある。
ノエクタ４への供給蒸気圧力３を制御するようになされ
ている。この制御系は設定圧力５と蒸気圧力３とを加減
算器６により加減算し、比例・積分・微分制御器７によ
り制御弁２を制御し、蒸気圧力を設定圧力に保つもので
ある。
上記従来の方式では蒸気源圧力および必要蒸気流量が広
範囲にわたる場合、次の２つの理由で高性能の制御性が
得られない欠点がある。
範囲にわたる場合、次の２つの理由で高性能の制御性が
得られない欠点がある。
（ｉ）蒸気源圧力が高い場合は、制御弁のわずかな開度
変化に対して通過蒸気流量が大幅に変化し、蒸気流量と
ほぼ比例関係にあるエノエクタ供給圧力は、大幅に変化
する。逆に蒸気源圧力がエノエクタ供給圧力よりわずか
に高い程度にまで低下すると制御弁の開度を犬きく変化
させてもさほどエノエクタ供給圧力は変化しないという
性質がある。つまり制御対象のｒイン（制御弁開度変化
に対する供給圧変化の割合）が蒸気源圧力に依存して大
幅に変わる。そのため制御器を蒸気源圧力が高い場合に
良く制御できるように制御器のダインを落して調整する
と蒸気源圧力が低下した場合には応答の悪い制御結果と
なり、逆に蒸気源圧力が低い場合に良く制御できるよう
に制御ディンを上げて調整すると蒸気源圧力が上昇した
場合には閉ループダインが高くなりすぎて制御系が発振
してしまう。
変化に対して通過蒸気流量が大幅に変化し、蒸気流量と
ほぼ比例関係にあるエノエクタ供給圧力は、大幅に変化
する。逆に蒸気源圧力がエノエクタ供給圧力よりわずか
に高い程度にまで低下すると制御弁の開度を犬きく変化
させてもさほどエノエクタ供給圧力は変化しないという
性質がある。つまり制御対象のｒイン（制御弁開度変化
に対する供給圧変化の割合）が蒸気源圧力に依存して大
幅に変わる。そのため制御器を蒸気源圧力が高い場合に
良く制御できるように制御器のダインを落して調整する
と蒸気源圧力が低下した場合には応答の悪い制御結果と
なり、逆に蒸気源圧力が低い場合に良く制御できるよう
に制御ディンを上げて調整すると蒸気源圧力が上昇した
場合には閉ループダインが高くなりすぎて制御系が発振
してしまう。
（１１）蒸気源圧力が低く設定圧が高い場合、必要蒸気
流量が大きくなり、逆に蒸気源圧力が高く設定圧が低い
場合、必要蒸気流量は小さくなる。このため、制御弁を
必要蒸気流量が大きい場合に良く制御できるように選ぶ
と必要蒸気流量が小さい場合には、この弁の制御範囲の
下限以下で流量を調節することとなり正確な制御ができ
ない。また弁サイズが大きくなりすぎ応答性が悪くなる
。逆に制御弁を必要蒸気流量が小さい場合に良く制御で
きるように選ぶと必要蒸気流量が大きい場合には弁サイ
ズが小さいためそれだけの蒸気量を流すことができない
。
流量が大きくなり、逆に蒸気源圧力が高く設定圧が低い
場合、必要蒸気流量は小さくなる。このため、制御弁を
必要蒸気流量が大きい場合に良く制御できるように選ぶ
と必要蒸気流量が小さい場合には、この弁の制御範囲の
下限以下で流量を調節することとなり正確な制御ができ
ない。また弁サイズが大きくなりすぎ応答性が悪くなる
。逆に制御弁を必要蒸気流量が小さい場合に良く制御で
きるように選ぶと必要蒸気流量が大きい場合には弁サイ
ズが小さいためそれだけの蒸気量を流すことができない
。
本発明は以上の事情に鑑みてなされたもので、その目的
とするところは蒸気源圧力や必要蒸気流量が広範囲にわ
たって変化する場合でも常に最良の制御性が得られる蒸
気圧力制御方式を提供することにある。
とするところは蒸気源圧力や必要蒸気流量が広範囲にわ
たって変化する場合でも常に最良の制御性が得られる蒸
気圧力制御方式を提供することにある。
本発明による蒸気圧力制御方式は蒸気源と蒸気使用側と
を結ぶラインに複数の制御弁を並列に介装し、蒸気源圧
力と蒸気使用側圧力設定値とから必要蒸気流量を求め、
同必要蒸気流量を各制御弁に一定比率で分配して各制御
弁開度を決定し、蒸気源圧力と蒸気使用側圧力との差が
一定値以下となったとき蒸気使用側圧力の実測値と設定
値とによって前記制御弁のうちの一つの弁開度を修正す
ることを特徴とし、常に最良の制御性が得られるもので
ある。
を結ぶラインに複数の制御弁を並列に介装し、蒸気源圧
力と蒸気使用側圧力設定値とから必要蒸気流量を求め、
同必要蒸気流量を各制御弁に一定比率で分配して各制御
弁開度を決定し、蒸気源圧力と蒸気使用側圧力との差が
一定値以下となったとき蒸気使用側圧力の実測値と設定
値とによって前記制御弁のうちの一つの弁開度を修正す
ることを特徴とし、常に最良の制御性が得られるもので
ある。
本発明の一実施例を図面に基いて詳細に説明する。
第２図は本発明の一実施例の制御系を示す！ロック線図
である。第２図において第１図と同一部分には同一符号
を符して説明する。
である。第２図において第１図と同一部分には同一符号
を符して説明する。
第２図において、１は蒸気源、２．−１，２−２は各制
御弁、３は供給蒸気圧力（工・ゾエクタ圧力）、４はエ
ジェクタ、１０は蒸気源圧力検出器、１１は値≠の係数
器、１２は最大値選択器、１３は演算器、１４は係数器
、１５は乗算器、１６は値ａ！の係数器、１７は値ａｌ
の係数器、１８は乗算器、１９は比例・積分・微分制御
器、２０は加減算器、２１は制御弁２−４の流量特性を
表現する関数発生器、２２は制御弁２−２の流量特性を
表現する関数発生器、２３は値０，７の係数器、２４は
加減算器、２５は加減算器２４の値が負の時１を出力し
、正の時比例・積分・微分制御器１９の値を出力する切
替器である。
御弁、３は供給蒸気圧力（工・ゾエクタ圧力）、４はエ
ジェクタ、１０は蒸気源圧力検出器、１１は値≠の係数
器、１２は最大値選択器、１３は演算器、１４は係数器
、１５は乗算器、１６は値ａ！の係数器、１７は値ａｌ
の係数器、１８は乗算器、１９は比例・積分・微分制御
器、２０は加減算器、２１は制御弁２−４の流量特性を
表現する関数発生器、２２は制御弁２−２の流量特性を
表現する関数発生器、２３は値０，７の係数器、２４は
加減算器、２５は加減算器２４の値が負の時１を出力し
、正の時比例・積分・微分制御器１９の値を出力する切
替器である。
上記の演算器１３は蒸気源圧力検出器１０の出力の２乗
から最大値選択器１２の出力の２乗を差引き、開閉演算
してその逆数をとるものである。
から最大値選択器１２の出力の２乗を差引き、開閉演算
してその逆数をとるものである。
次に第２図図示の制御系の作用について説明する。要求
されるエジェクタ供給圧力Ｐを実現するために必要な弁
流量係数Ｃｖ値＜ ＝Ｃ： ）は（１）５一 式で計算される。
されるエジェクタ供給圧力Ｐを実現するために必要な弁
流量係数Ｃｖ値＜ ＝Ｃ： ）は（１）５一 式で計算される。
ただし
ｐＨ：蒸気源圧力、 Ｐ２：ＭＡＸ （Ｌ１２Ｐ、 ＋
Ｐｓｅｔ ） 。
Ｐｓｅｔ ） 。
Ｐｇｅｔ ’設定圧力、α：定数
乗算器１５の出力は（１）式と一致し、必要Ｃｖ値を計
算する。これを係数器１６および１７の係数でそれぞれ
制御弁２−１と制御弁２−２に分配し、その８２倍を制
御弁２−４で、ａ１倍を制御弁２−２で流すこととする
（ ａ１＋ａｌ ＝１ ）。この分配された必要Ｃｖ値
が、関数発生器２１．２２で、それぞれの制御弁の開度
指令Ｘ、、Ｘ！に換算される。
算する。これを係数器１６および１７の係数でそれぞれ
制御弁２−１と制御弁２−２に分配し、その８２倍を制
御弁２−４で、ａ１倍を制御弁２−２で流すこととする
（ ａ１＋ａｌ ＝１ ）。この分配された必要Ｃｖ値
が、関数発生器２１．２２で、それぞれの制御弁の開度
指令Ｘ、、Ｘ！に換算される。
乗算器１８、比例・積分・微分制御器１９、加減算器２
０、係数器２３、加減算器２４および切替器２５で構成
される部分は微調整用である。
０、係数器２３、加減算器２４および切替器２５で構成
される部分は微調整用である。
供給蒸気圧力（エジェクタ圧力）３のＰが設定圧力５の
Ｐｓｅｔの７割（７（１）に達するまでは切替器２５は
１を出力しているので、この部分は開度指令に影響を与
えない。一旦供給蒸気圧６− 力（工・ゾエクタ圧力）３のＰが設定圧力５のＰｓｅｔ
の７割（７０係）に達すれば、切替器２５は、比例・積
分・微分制御器１９の値を出力し、制御弁２−４を駆動
する。この際、このフィードバック系の閉ルーｆｌ”イ
ンは常に一定に保たれる。なぜなら、この系のプロセス
ゲインは（２）式で求められるため、制御系ゲインＫｃ
を（３）式（すなわち関数発生器２１の出力）のように
定めると、（４）式に示すとおり、閉ルーゾｒインが定
数となるからである。
Ｐｓｅｔの７割（７（１）に達するまでは切替器２５は
１を出力しているので、この部分は開度指令に影響を与
えない。一旦供給蒸気圧６− 力（工・ゾエクタ圧力）３のＰが設定圧力５のＰｓｅｔ
の７割（７０係）に達すれば、切替器２５は、比例・積
分・微分制御器１９の値を出力し、制御弁２−４を駆動
する。この際、このフィードバック系の閉ルーｆｌ”イ
ンは常に一定に保たれる。なぜなら、この系のプロセス
ゲインは（２）式で求められるため、制御系ゲインＫｃ
を（３）式（すなわち関数発生器２１の出力）のように
定めると、（４）式に示すとおり、閉ルーゾｒインが定
数となるからである。
Ｋ、＝利＝ｈハ吾Ｖ乎 ・・・・・・・・・・・・（２
）１簀：弁リフトに対する弁Ｃｖ値の感度Ｋａｌｌ ’
希望する閉ルーシダイン Ｋ ＝ Ｋｐ−Ｋｅ＝Ｋａ１１ （ｅｏｎｓｔａｎｔ
） ・＝−・−”（４）Ｋ：閉ルーグｒイン 以上の如く本発明による制御方式においては蒸気源圧力
Ｐｓと供給蒸気圧力（エジェクタ圧力）Ｐのあらゆる条
件に対して、供給蒸気圧力（エジェクタ圧力）Ｐと設定
圧力Ｐｓｅｔを等しくするために必要なＣｖ値を計算し
てそれを制御弁２−１と制御弁２−２にそれぞれａｌ：
ａｌに割シふり、制御弁２−４と制御弁２−２への開度
信号としている。さらに、制御弁２−１には、上記Ｐａ
” ” ｓｅｔの各圧力と制御弁特性から、プロセス
ゲインを計算しく第２図においては乗算器１５の出力が
プロセスゲインの逆数となっている）、全体としての閉
ルーｆダインが一定となるよう制御ゲインを変化させる
比例・積分・微分制御が施されている。即ち、関数発生
器２１の出力のダインである制御ゲインＫｃｏｎｔは Ｋｃｏｎｔ−に１５×に１９ ここでに、５・・・乗算器１５の出力のダイン、Ｋ１９
・・・比例・積分・微分制御器１９の出力のダイン即ち
、比例定数、 プロセスゲインをに、ｒとすると、 Ｋ、ｒ＝１／に、５ 閉ルーグｒインＫｃ１゜８６は Ｋｃｌｏｓｅ ＝ Ｋｅｏｎｔ ｘＫｐｒ であるの
で・Ｋｃ１ｏｓｅ＝に１５×に１９×１／に１５二に１
． となり一定である。
）１簀：弁リフトに対する弁Ｃｖ値の感度Ｋａｌｌ ’
希望する閉ルーシダイン Ｋ ＝ Ｋｐ−Ｋｅ＝Ｋａ１１ （ｅｏｎｓｔａｎｔ
） ・＝−・−”（４）Ｋ：閉ルーグｒイン 以上の如く本発明による制御方式においては蒸気源圧力
Ｐｓと供給蒸気圧力（エジェクタ圧力）Ｐのあらゆる条
件に対して、供給蒸気圧力（エジェクタ圧力）Ｐと設定
圧力Ｐｓｅｔを等しくするために必要なＣｖ値を計算し
てそれを制御弁２−１と制御弁２−２にそれぞれａｌ：
ａｌに割シふり、制御弁２−４と制御弁２−２への開度
信号としている。さらに、制御弁２−１には、上記Ｐａ
” ” ｓｅｔの各圧力と制御弁特性から、プロセス
ゲインを計算しく第２図においては乗算器１５の出力が
プロセスゲインの逆数となっている）、全体としての閉
ルーｆダインが一定となるよう制御ゲインを変化させる
比例・積分・微分制御が施されている。即ち、関数発生
器２１の出力のダインである制御ゲインＫｃｏｎｔは Ｋｃｏｎｔ−に１５×に１９ ここでに、５・・・乗算器１５の出力のダイン、Ｋ１９
・・・比例・積分・微分制御器１９の出力のダイン即ち
、比例定数、 プロセスゲインをに、ｒとすると、 Ｋ、ｒ＝１／に、５ 閉ルーグｒインＫｃ１゜８６は Ｋｃｌｏｓｅ ＝ Ｋｅｏｎｔ ｘＫｐｒ であるの
で・Ｋｃ１ｏｓｅ＝に１５×に１９×１／に１５二に１
． となり一定である。
従って、乗算器１８での乗算により、比例・積分・微分
制御の比例ゲインを、閉ルーゾｒインを一定にするよう
に修正しながら、フィートノぐツク比例・積分・微分制
御を行なうようになされている。
制御の比例ゲインを、閉ルーゾｒインを一定にするよう
に修正しながら、フィートノぐツク比例・積分・微分制
御を行なうようになされている。
従って蒸気源圧力ｐｓが変化すると、蒸気源圧力検出器
ＺＯによりそれが検出され、演算器１３の出力が乗算器
１５、係数器１６および１７ならびに乗算器１８を介し
て関数発生器２１および２２の出力Ｘｌ” Ｘ 、＊
（弁開度指令）を変化させる。これにより蒸気源圧力Ｐ
、の急激かつ大幅な変化に対してほとんど瞬時に適切な
弁開度を発信し、かつ閉ルーｆダインが常に一定となる
様比例・積分・微分制御のゲインを計算し、フィードパ
、り制御を行なっているので、蒸気源１の圧力が系の応
答を左右するといった前述の９− 不具合が解消される。
ＺＯによりそれが検出され、演算器１３の出力が乗算器
１５、係数器１６および１７ならびに乗算器１８を介し
て関数発生器２１および２２の出力Ｘｌ” Ｘ 、＊
（弁開度指令）を変化させる。これにより蒸気源圧力Ｐ
、の急激かつ大幅な変化に対してほとんど瞬時に適切な
弁開度を発信し、かつ閉ルーｆダインが常に一定となる
様比例・積分・微分制御のゲインを計算し、フィードパ
、り制御を行なっているので、蒸気源１の圧力が系の応
答を左右するといった前述の９− 不具合が解消される。
さらに制御弁２−２を必要蒸気流量が大きい場合に合わ
せて選び制御弁２−１を要求される応答性を満足する様
に選んでおけばａｌ、ａ２の各係数器１６．１７を弁サ
イズに合せて決定することにより、必要蒸気流量の変化
が制御性能に影響を与えるという不具合も解消される優
れた効果が得られる。
せて選び制御弁２−１を要求される応答性を満足する様
に選んでおけばａｌ、ａ２の各係数器１６．１７を弁サ
イズに合せて決定することにより、必要蒸気流量の変化
が制御性能に影響を与えるという不具合も解消される優
れた効果が得られる。
第１図は従来の制御系を示すブロック線図、第２図は本
発明の一実施例の制御系を示すブロック線図である。 １・・・蒸気源、Ｌｌ、２．・・・制御弁、３・・・供
給蒸気圧力（エジェクタ圧力）、４・・・エジェクタ、
５・・・設定圧力、１０・・・蒸気源圧力検出器、ＩＩ
・・・値捧の係数器、１２・・・最大値選択器、１３・
・・演算器、１４・・・係数器、１５・・・乗算器、１
６・・・値ａ１の係数器、１７・・・値ａ！の係数器、
１８・・・乗算器、１９・・・比例・積分・微分制御器
、２０・・・加減算器、２１・・・制御弁２−１の流量
特性を表現する関数発生器、ｌＯ− ２２・・・制御弁２−２の流量特性を表現する関数発生
器、２３・・・値０．７の係数器、２４・・・加減算器
、２５・・・切替器。 出願人復代理人 弁理士 鈴 江 武 彦−１図
発明の一実施例の制御系を示すブロック線図である。 １・・・蒸気源、Ｌｌ、２．・・・制御弁、３・・・供
給蒸気圧力（エジェクタ圧力）、４・・・エジェクタ、
５・・・設定圧力、１０・・・蒸気源圧力検出器、ＩＩ
・・・値捧の係数器、１２・・・最大値選択器、１３・
・・演算器、１４・・・係数器、１５・・・乗算器、１
６・・・値ａ１の係数器、１７・・・値ａ！の係数器、
１８・・・乗算器、１９・・・比例・積分・微分制御器
、２０・・・加減算器、２１・・・制御弁２−１の流量
特性を表現する関数発生器、ｌＯ− ２２・・・制御弁２−２の流量特性を表現する関数発生
器、２３・・・値０．７の係数器、２４・・・加減算器
、２５・・・切替器。 出願人復代理人 弁理士 鈴 江 武 彦−１図
Claims (1)
- 蒸気源と蒸気使用側とを結ぶラインに被数の制御弁を並
列に介装し、蒸気源圧力と蒸気使用側圧力設定値とから
必要蒸気流量を求め、同必要蒸気流量を各制御弁に一定
比率で分配して各制御弁開度を決定し、蒸気源圧力と蒸
気使用側圧力との差が一定値以下となったとき蒸気使用
側圧力の実測値と設定値とによって前記制御弁のうちの
一つの弁開度を修正することを特徴とする蒸気圧力制御
方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP442483A JPS59128604A (ja) | 1983-01-14 | 1983-01-14 | 蒸気圧力制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP442483A JPS59128604A (ja) | 1983-01-14 | 1983-01-14 | 蒸気圧力制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59128604A true JPS59128604A (ja) | 1984-07-24 |
| JPH0338602B2 JPH0338602B2 (ja) | 1991-06-11 |
Family
ID=11583876
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP442483A Granted JPS59128604A (ja) | 1983-01-14 | 1983-01-14 | 蒸気圧力制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59128604A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04124709A (ja) * | 1990-09-14 | 1992-04-24 | Tlv Co Ltd | 自動温度制御弁装置 |
| JP2015166806A (ja) * | 2014-03-04 | 2015-09-24 | 株式会社フジクラ | 光ケーブル及び光ケーブルの製造方法 |
-
1983
- 1983-01-14 JP JP442483A patent/JPS59128604A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04124709A (ja) * | 1990-09-14 | 1992-04-24 | Tlv Co Ltd | 自動温度制御弁装置 |
| JP2015166806A (ja) * | 2014-03-04 | 2015-09-24 | 株式会社フジクラ | 光ケーブル及び光ケーブルの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0338602B2 (ja) | 1991-06-11 |
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