JPS60123453A - １，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼンの製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、１．ろ−ビス（ろ−７ミノフェノキシ）ベン
ゼンの顕現な製造方法に関する。

さらに詳しくは、１．２．６．４−テトラクロロベンゼ
ンオ６よび／またば１．　’２．４．５−テトラクロロ
ベンゼンと６−アミンフェノールを脱塩化水素剤の存在
ドで反応さぜたのち、還元して脱塩素化さぜることにょ
る１、３−ビス（６〜アミノフエノキシ）ベンゼンの製
造方法に関する。

１．３−ビス（３−アミノフェノキシ）べ／ゼン（以下
、Ａ　Ｉｌ　１３と略記する）は、耐熱（ａ高分子単量
体、他にポリアミド、ポリイミドの原ｔ１となる型造゛
な物質である。

例えは、ＡＰ１３．３１３’＋４１４’−ベノゾフェノ
ンテトラカルボン酸二無水物および６−アミノフエニル
アセチレンから製造される−）′七チレン末端ポリイミ
ドは、ポリイミドの中でも最も高い部類の耐熱性を有す
るポリマーであることが知られている（　ＩＪ。

Ｓ、　Ｐ、　３．８４５．０１８、ｕＳ、　ｉ）、　３
．８７９．３４９　）。Ａ、　］、’　１３　ｉ！、従
来、レソルシン、！１１−フロモー３−二トロベンゼン
を縮合させ、還元して製造する方法（ＧｅｒＯｆｒｅｎ
　２．４６２．１１２　）および６−アミンフェノール
と１，６−ンブロモベンゼンを縮合させて製造する方法
（Ｗ　Ｊ’ｉｎｋら、　ｌ１ｃｌｖ、　Ｃｋｉｍ、　Ａ
ｃ１ａ、　５１　９７１（１９６８）、Ｕ、Ｓ、　Ｐ、
　４，２２２．９６２）が知られている。

上記Ａ、　１）　Ｂの製造方法において、レゾルシンと
６−二トロブロモベンゼンとの反応では、まス、レゾル
シンを多量のベンゼン中ですトリウムメトキ／ドと処理
した後、蒸留によりベンゼンを回収しながら脱水操作を
行なって、レゾルシンジナトリウムを生成させ、つぎに
これを多量のビリンン溶媒中、塩化第一銅存在下でろ一
ニトロブロモベンセンとをアルゴン気流下に反応させて
、収率４１％て１，３−ビス（ろ−二トロフェノキシ）
ベンゼンを曲、ついで、この二）・口止合物を硫酸第一
鉄で還元して目的物を製造している。

また、６−アミンフェノールと１．ろ−ジブロモベンセ
ンとを縮合させて製造する方法では、銅粉の存在下、両
者を２０口〜２８０℃で反応させるかル）ルいは多１１
ｉ′のピリジン中、塩化第一銅の、σ右下に反応させて
目的物を製造しているが、収率は４５〜６５％と低い。

このようにノ＼ｌ）　１３の公知の製造法は、ピリジン
のような臭気等から取扱いに！′、ｊｊｉ点のある反応
溶媒を多ＥＩ；に使用し、また、加水分％Ｉ’ｃ等の副
反応を抑制するために、ベンセンのような脱水溶剤を多
゛（１１−に使用してに・１（密な水分の除去の操作が
必要なうえ、銅粉や塩化第−銅等の反応促進剤を使用す
るので、着色や銅イオンの除去等にも注意を払わなけれ
ば！よらず、かつ、不活性ガス下で反応させる等、製造
作業手、廃棄物の無公害化等の観点からも、これらの方
法を実施するのは極めて困か１４である。

本発明者らは、」二記のような欠点のないＡＰＢ３の製
造方去顛ついて鋭意検討した。その結果、１，２゜３、
４−テトラクロロベンゼン７ｔ６よび／または１゜２１
４１　”−テトラクロロベンゼンと６−アミノフェノー
ルを縮合させて得られる１、ろ−ビス（３−アミノフェ
ノキシ）ジクロロベンゼン類を還元することに、より脱
塩素化させてＡＰＢを高収率に製造する方法を見出し、
本発明を完成した。

すなわち、本発明の方法は１，２．ろ、４−テトラ、７
００ベンゼンおよび／または’＋　２＋　４＋　５　ｆ
　ｌ’ラクロロベンゼンと６−アミノフェノールを脱塩
化水素剤の存在下で反応させたのら、還元して脱塩素化
させることを特徴とする１、ろ−ビス（ろ−アミノフェ
ノキシ）ベンゼンの製造方法である。

本発明の方法では、まず、テトラクロロベンゼンとろ−
アミンフェノールを脱塩化水素剤の存在下ゾこ有機溶剤
中て反応さぜ１．ろ−ビス（３−゛アミノフェノール）
ジクロロベンゼンを製造する、ついてこの１，６−ビス
（６−アミノフェノキシ）ジクロロベンゼンを単肉ＩＦ
請製すく）ことなく還元により脱塩素化させてノ＼１）
１３を」ｔソ造する。

本発明の力θ：によ」しは、前コｌＲの１，６−シフロ
モー＼ンセンとろ−−ｒミノフェノールとの反応のよう
ノ ーＡ：　ｌＪ％ｌｎ旧〕反応において、−股に反応促進
剤として？Ｊ４用される銅化合′吻を用（・ることもな
く、ｊｌ：た、簡’！’、１．ａ−水分を除去する操角
に１：す、縮合反１．ｉ；　［；ｌ乙１清相／Ｊ−条イ
′１下で容易ｋＣ’、１Ｌ（−ｒ　Ｌ、ｌ　、　３−　
ヒス（５−）−ミノフーｒノ・＼・シ）ジクロロ−＼ン
セン類が選択的に高収率で製造されるので、こコｔを単
離精製することな（、ｉｌ、；１４几し゛（脱塩−（・
、化に、１、す目的物かイ１１られる１−とか’ｌ’４
＋１′ｊ″（でバりる。

−４−なわ゛１ハ本発明のデー・ラク電−コ［コベンゼ
ンとろ−ｒミノフェノールとの反応−Ｑ　ｉ：ｌ：、い
ずれの場合もメタイλン：　ｊ１′”Ｉ’にある２閘の
り［Ｊル基ガ・それぞれろ−−ｒミノソエノ・＼・ンノ
］（に置換さね−、２．ろ、４−デー・ラクロロベンー
ヒンで［−１：１．３−ヒ゛ス（６−−−〕′ミノフエ
ノキシ）−２，４−ジクロロべ／センが得うれ、１゜２
、４．５−テ、１−　ジクロロベンゼンでは１，５−ヒ
ス（ろ−アミノフェノキシ）−２，４−ジクロロベンゼ
ンが得られる。これらは、いずれも還−元して脱塩素化
さぜることにより１」曲物である７〜Ｊ’Ｂへと導くこ
とかでとる。また、１，２．ろ、４−テトラクロロベン
ゼント１．２．４．５−テトラクロロベンゼンの混合物
でに１２、その混合比に９：Ｊ’　Ｉ心（−た縮合生成
物の混合物かイ（１られずべてＡ、　Ｌ）　１３へと導
くことかできる。３−アミンフェノールは、テトラクロ
ロベンゼンに対し、２〜５倍モルて゛使用し、々ｆまし
くし１２１〜６倍モルで使用する。

不発ｆ！Ｊ）の方法で使用する脱塩化水素剤は、アルレ
ノノリ金属の水酸化物、炭酸］１ｌｔ（、小戻酸塩およ
びアルコへ゛−シト・臼であり、１列えは、７ｋ　：’
ｌ？　（Ｌソノリｌンｊ１．７１（ｆ’＆化すトリウム
、水１俊化リチウム、炭酸ノノリウム、炭酸すトリウム
、炭酸リチウム、−小炭酸カリウム、小炭酸すＩ・リウ
ム、カリウムエトキンド、カリウムイソプロポキシド、
ナトリウムメ）・キシド、ナｌ−’Ｊウムエトキシドお
よＯ・リチウムエ］・キシト等か挙げられる。こＡしら
は単独は勿論、２種ｉ」′遺り十を１ノ［用してもと（
に差し２つかえない。

これら脱塩化水素剤し４−１）ら町４′１のろ−アミノ
フェノールと当）「１以上あれば良く、好ましくは１〜
１５当：［；で１分である。

次に、この力法圧おけろ反応溶剤としてｉｔ、非プ１コ
ドン性極１’ｌ：　溶剤を使用す１０゜この非プロトン
１／トド返１’Ｊ淫４剤どしては、Ｎ−メｆ−）［ホル
ムアミド、Ｎ、　Ｎ−２メチルホルム了ミド゛、Ｎ、　
Ｎ−ツメチルアセト−ｊ′ミド、ジメチルスルホキ７ド
、ジメチルスルポン、スルホシン、Ｎ−メｆ−ルビロリ
ドン、１゜ろ−ジメチルー２−イミダゾリジノンおよび
ＩＪン酸へギザメチルト＋）　−７ミド等が挙げられる
。これら溶剤の使用４１４ば、特に限定されないが、Ｊ
’ｌＴｉ常原イ１に対して１〜１　Ｄ　ｉ１’、邦’、
　（７Ｓで十分である。

以ｊ−の原イ′１および反応剤を用い°Ｃ１，３−ビー
′／、（６−−ｊ”ミノフェノキン）ジクロロベンゼン
をイ４）る反応にオ６ける一般的な実施態様としては、
所定１１１″のろ一了ミノフエノーノＬ脱塩化水素剤お
よび溶剤を装入し、ろ−アミノフエノールをアルカリ金
属塩としたのち、テトラクロロベンゼンを添加して反応
させろか、あるいばあらかじめテトラクロロベンセンを
含む全厚ｔ１を同時に加え、そのまま昇温して反応さぜ
るかいずれであっても良い。勿論、これらに限定される
ものではなく、その他の態様により適宜実施できる。

反応系内に水か生成する場合の除去する方法として、窒
素ガス活な通気さぜイ）ことによって、反応中、徐々に
系外にＪＪｌ出さぜる方法があるが、一般的Ｋ　ｋｔベ
ンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンセン等を少州
使用して共沸により糸外へと取り除く方法が多用される
。

反応温度は、通常、１００〜２４０℃の範囲であるが、
好ましくは１２０〜２００℃の範囲である。

反応終了後、ｄ禦縮したのち、あるいはそのまま水等に
排出して目的物を得る。

この反応の終点は、薄層クロマトグラフィーまたをま高
速液体クロマトグラフィーにより未反応中間体（モノア
ミノフェノキシ体）の減少を見ながら決定することがで
きる。

つぎに得られた１１ろ−ビス（ろ−アミノフエノキシ）
ジクロロベンゼンを説ｊ焦素化１−る。

この悦鳳、・１素化反応は、通常溶剤中で還元触媒σ）
存在下での、 （イ）接触還元による脱塩素化、 （ロ）還元剤を用いる脱塩素化、 の２秤類の方法で実施される。

（イ）の接触還元圧よる方法では、前記反応で得らｆｉ
ｃた１、３−ビス（６−アミノフェノキシ））クロロベ
ンゼンの反応混合物に直接、あるいは濃縮して他の溶剤
Ｋ１１ｆ換する等の操作を加えたのち、ａ元触媒を添加
して、接触還元、脱塩素化反応を°行なうｏこの場合、
脱塩化水素剤があってもな（でも良い。反応はいずれの
場合も容易に進行し、副／ＪＥ′吻もな（、高収率で目
的′吻を製３＜１．ｉ−することが−Ｃきる。

まｌご、（ロ）の還元剤を用いイ）ツノ法では、（イ）
の方”と同様、１，３−ビス（ろ−アミノフエノキシ）
ジクロロべ／センにり・」シて、・くラジウム触媒の存
在下てギ酸：１′６よび／またはギ酸塩、またはヒドラ
ジ／を用いて還元し、脱塩素化反応を行なう。この方法
でも、反応は容易に進行し、副生物もなく、高収率で目
的！１１／＋を製造することがてきる。

（イ）の方法で使用される還元触媒としては、一般に接
触還元に使用されている金）’ｇ　Ｉ（ｉｌｌ！媒、例
えば、ニッケル、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニ
ウム、コバルト、銅等を使用することができる。

工業的にはパラジウム触媒を使用するのが好ましい。（
０）の方法で使用される触媒はノシラジウム触媒である
。

これらの触媒は金属の状態でも使用することかできるが
、浦常は、活性炭、硫［・；ツノくリウム、シリカゲル
、アルミナ等の相体表面に４１１着させて用（・たり、
マタ、ニッケル、コバルト、銅等はライ・−触媒として
用いてもよい。触媒の使用“：ｊ１目、１．ろ−ビス（
３−アミノフェノキシ）ジクロロベンゼンに対して金属
として０．０１〜１０小’ｌｉ：％の範囲であり、通常
、金属の状態で使用する場合は１〜ｉ　ｏ　屯ｊｅｔ％
、４４体に付着さぜた場合では０．０５〜１市ｈ４′％
の範囲である。

（イ）の接触還元反応による方法では、塩化水素が生成
する。この塩化水素を補供する１ヨ１的で脱塩化水素剤
を使用してもよい。

この脱塩化水素剤としては、ｒルカリ金属またはアルカ
リ土類金４・庇の酸化物、水酌化物、炭１・曜車、小戻
（ｉｎ塩、低唐脂肪ｒ唆塩・トたはアンモニアあるいは
通常の有機アミン類である。

例えば、炭酸カルシウム、水酸化すトリウム、酸化マグ
イ・シウム、重炭酸アンモニウム、酸化カルシウム、水
Ｆセ化リチウム、水酸化バリウム、炭酸カリウノ１、水
酸化カリウム、酢ト、・−□、゛すトリウム、プロピオ
ン＋？カリウム、アンモニア、トリエチルアミン、１゛
リ−１１−ブチルアミン、トリエタノールアミン、ピリ
ジンおよびＮ−メチルモルホリン等があげられる。これ
らの塩基に１．必要により、２種゛頑以上を混合し゛（
用いてもよい。

Ｊ７３７を基の使用１１４は、１，６−ビス（ろ−アミ
ノンェノキシ）ジクロロベンゼンに対して２当量以上あ
れば良く、通常Ｇ」、２〜３当−吊添加し、て用（・も
れる。

つぎに、（ロ）の方法における還元削どしては、ギ酸お
よび／またはギ酸塩、またはヒドラジンであり、これら
は水溶液として用いられる。

また、ギ酸塩はギ酸ナトリウムやギ酸カリウム等のギ酸
アルカリ塩、ギ酸エチルアミン等の有機アミン塩および
ギ酸アンモニウムである。

これら脱塩素化反応における反応溶剤としては、反応に
不活性なものであれば市゛に限定されるものでな（、例
えば、メタノール、エタノール、イソプロパツール等の
アルコール顛、エチレンクリコール、フロピレングリコ
ール〆等のグリコール類、エーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、メチルセロソルブ等のエーテル類、ヘ
キサン、シクロヘギザン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸
メチル等のエステル類、クロロホルム、Ｌ２−ジクロロ
エタ７．１．１．２−トリクロロエタン等の・・ロゲン
化炭化水素類、Ｎ、Ｎ’−ジメチルホルムアミド、Ｎ−
メチルピロリドン、１，６−シメチルー２−イミダゾリ
ジノンおよび水等が使用できる。

溶剤の使用借は、特に限定されないが、通常、１゜６−
ビス（３−アミノフェノキシ）ジクロロベンゼンに対し
て０５〜ｉ　Ｑ　、ｉｌ、ｉＦ・：倍で十分である。

この反応の一般的な実ｊｊｌＩ態様として（イ）の方法
では、前記反応における１、３−ビス（６−アミノンエ
ノキシ）ジクロロベンゼンの反応混合物が還元Ｎｉ剤に
ｌｒｉ庁ｒ状態のもと、触媒を加え、そのまま所定の温
１埃で１ｇ：触還元反応を’ｔＪ／、Ｉ−い脱塩素化さ
−１する。

一方、脱Ｊ’ＡＭ化水素剤を用いる１易介も、同様に、
接ｌ１ｌｌｌ！六【元反応を行なうことかできるが、こ
の場合、ｈ）もかしめ説１１ＸＡ化水素剤を添加し、て
反応さ−１」゛るか、あるいしシ１５、反応中逐時添加
す２）かのいずれの方法でもさ［７つかえない。

このＪＮ）、における反１．ＩＳ温度ばｌ昌に限定はな
い。一般的に（土、２０〜２００　”Ｃの「・＋１Σ囲
、！１！ｔに２０〜１００”Ｃが好：ｌ：１〜い。

：Ｅ　／コ、反応圧力は、１ｉｆｌ常、常圧〜５　Ｄ　
Ｋ９／ｃｎｉで、１、い。

反応の７許点は、水素吸収媚な＞ｔ−”［ｊ４すること
に、１：っ゛（決定することかできる。

・した（口）の方法では、（イ）の方法と同様に、還元
溶剤に溶ＩＱｑ状態のもと、ギ鴻？およＵ”／またはギ
酸塩、またはヒドラジンの水溶液と触媒を加え、ついで
（賀拌下、所定の温度で反応を行なう。

反応温度は特に限定はないが、通常、２０〜１３０°Ｃ
の範囲である。

反応の進行は薄層クロマトグラフィーまたは高速液体ク
ロマトグラフィーにより追跡できる。

反応後、（イ）ならびに−）の方法ども、溶解状態にあ
る場合はθヨ過して触媒ｑ−を除き、濃縮、希釈等の方
法で結晶として析出さぜるか、鉱酸の添加如よって鉱酸
塩として析出させ中和してトｌ曲物を得る等の方法があ
る。また、析出状態にある場合は加熱溶解さぜ、熱濾過
によって触ｊ’（ＩＩ：等を除き、冷却後、析出した目
的物の結晶を１１）ることかできる。

以下、本発明を実施例により、更に詳細に説明する。

実施例１ 攪拌装置および水分離器を備えた２００ｍ１！のフラス
コに６−アミンフェノール１２．０ｆ（０，１１モル）
、粒状水酸化カリウム（純度８６％）７ｓｙ（０，１１
５モル）、ジメチルスルホキシド５０ｍ１およびトルエ
ン５ｍｌを装入し、攪拌下に窒素を通気させながら昇温
しで、トルエンの還流状態で反応系内の水分を水分離２
：÷により除去した。

次圧、ジメチルスルホキシド２５ｍ１とＬ　２．４．５
−テトラクロロベンゼン１０８ｇ（０，（３５モル）の
溶液を１時間かけて加え、系内のトルエンを留去させな
がら昇温し、温度１５５〜１６０°Ｇで５時間反応させ
た。

反応終了後、ただちにアスピレータ−を用いて真空度５
０〜７０ｍａｌ１ｇの圧力で溶剤のジメチルスルホキシ
ドを留去させ回収した。ついで、この反応組成物にメタ
ノール７５ｍ１を加え溶Ｍさせ、活性炭０５Ｖを加え濾
過したのち、ガラス製密閉容器に５％Ｐ（１−Ｃ触媒（
日本エンゲルハルト社製）　０．！Ｍ、２８％アンモニ
ア水９．１　ｇ（（］、　１５モル）とともに装入した
。

ただちに、水素を導入して激しく攪拌しながら接触１°
（、°Ｌ元反応を行なった。反応温度２５〜６０℃で８
時間桁／３・二っＣ２１５０ｍｅの水素を吸収し、これ
以上の吸収が認められなくなったので終了した。

つろいて、反応液を（ｊ−・過して触媒Ｙ卜を除き、濃
縮すると淡褐色の結晶ｉｒ−析出した。濾過、洗浄後乾
燥して粗ＡＰＢを得た。　収量１２．２１（収率８ろ５
％　） この粗Ａ、　Ｉ）　Ｂをイソグロノζノールで再結晶す
ることにより無色プリズム晶の純品が得られた。　融点
は１０６〜１０７℃で元素分析値は次の通りである。

ＣＨＮ 計ｑ値％ｉ、　７３．９５　５．５２　９５８実施例２
〜４ 縮合反応におけるＪＩ５ｊ旧、脱塩化水素剤、−溶剤オ
６よび接触還元反応における脱塩化水素剤、触媒、溶剤
を変えて実施例１と同様に反応を行なって目的物のＡＰ
Ｂを得た。　結果を表−１に示す。

実施例５ 実施例１と同様の装置にろ−アミンフェノール１２．０
ｆ（０，１１モル）、粒状水酸化すｉ・リウム（純度９
６％）４．６Ｐ　（０，１１モル）、ベンゼン１　、０
　ｍｅおよびＮ−メチルピロリドン５０ｍ１を装入し、
（ｂ１拌下に窒素を通気させながら昇温しで、ベンゼン
の還流状態で反応系内の水分を水分肉１１Ｊ　ｉ（ｉ、
ｉにより除去した。

次に、Ｎ−メチルビロリド７５０　ｍｅと１．２．３．
４−デトラクロロベンゼン１０．８ｆ（０，０５モル）
の溶液を加え、系内のベンゼンを留去させながら＋１冒
晶し、ｉ、、’、　ｒＬ　１４０〜１６０℃で６５時間
反応させた。反応終了後、ただちにアスピレータ−を用
いて真空度５０〜７０ｍａｌｌｆの圧力で溶ｊ’＋１．
ｌのＮ−メチルピロリドンを留去させ回収した。ついで
、この反応組成物に６０％イソプロパツール水溶液７５
　ｍｅおよび５　％　ｉ’＋Ｉ　−Ｑ触媒０７７を加え
、還流状態でヒドラジン１５ｆ（０，３モル）を１時間
かけて滴下した。ひきつづき還流状態で５時間反応を行
なった。反応終了後、熱静過して触媒等を除き放冷する
と淡褐色の結晶か４１〒出した。

濾過、洗浄後乾燥して粗Ａ　ｉ）　１３を得た。

収寸１２２（収率８２１％） この粗ＡＰＩ３をイノプロパツールで河結晶することに
より無色プリズム品の純品がイ（すられた。融点は１０
６〜１０７　’Ｇで、元素分イノ「値（」、次のとおり
である。

元素分析　Ｃｌ８Ｉ−■１６Ｎ２０゜ ＣＩＩ　Ｎ ル１３つ値％）　７３．９５　５，５２　９．５８実施
例６ ′ノ；施例１と同様の装置に６−゛ノ゛ミノフェノール
１２．０ｆ（０，１’１モル）　１．２．４．５−テト
ラクロロベンセン１０．８Ｓ’（０，０５モル）、炭酸
カリウム粉末１５２ｙ（０１１モル）、へ７　セフ　１
０１７１ｅおよυ：Ｎ、Ｎ’−ジメチルポラメーｒミド
１０１ｈｎ（！を装入し、攪拌下に窒素を通気させなか
ら昇温して系内の水分をベンゼンとともに共沸留去さぜ
た。Ｏ・きつづき昇温して、Ｎ。

Ｎ−ジメチルポルムアミドのθ１点で還流させながら８
時間反応を行なった。

反応終了後、不溶の無機塩を濾過して除いたのち、８６
％ギ酸１０．’７　ｆ　（０，２モル）と１ｏ％Ｐｄ　
−ＣＤろ２を加え５０〜６０℃の温度で１５時間攪拌を
行なって還元反応を終了させた。反応液を濾過して触媒
等を除き、これを水１ｔに投入し７てイ且Ａ、　１．’
　＋３をタール状物どして分離させた。このタール状物
を分ｈａ後、６規定廖酸水溶液４０ｆに加熱溶解させて
放冷すると淡褐色釧状晶のＡ　Ｐ　１３塩酸塩が析出し
た。

濾過し、イソプロパツールで洗浄後乾燥した。

収＠　’１２．６　ｙ　（収率６８９％）このものを含
水イソプロパツールで再結晶することおりである。

計算値％　５９．１９　４，９７　７．６７　１９．４
１実施例７ 実施例５でヒドラジンの変わりにギ酸ソーグーを用いた
以外は、全く同様に行なって目的物であ・る　Ａ　ｉ）
Ｂ　を子Ｇ　ブこ。

収率８０２％であった。

特許出願人 三井束Ｆｒｇ化学株式会社

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １）　１．２．３．４−テトラク１７０べ／−ビンお、
   Ｊ二び／；璽こば１．２．４．５−デトラクｊＪ　ＩＩ
   ベンゼンとろ一アミンフェノールを脱塩化水素剤の存在
   下で反応さぜたのち、還元して脱塩素化させることを特
   徴とする１、３−ビス（６−アミノフノキシ）ベンセン
   の製造方法。