JPS6011344B2 - 感光性複写材料 - Google Patents
感光性複写材料Info
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- JPS6011344B2 JPS6011344B2 JP51128159A JP12815976A JPS6011344B2 JP S6011344 B2 JPS6011344 B2 JP S6011344B2 JP 51128159 A JP51128159 A JP 51128159A JP 12815976 A JP12815976 A JP 12815976A JP S6011344 B2 JPS6011344 B2 JP S6011344B2
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
- G03F7/0226—Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/52—Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances
- G03C1/54—Diazonium salts or diazo anhydrides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/52—Compositions containing diazo compounds as photosensitive substances
- G03C1/56—Diazo sulfonates
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- Materials Engineering (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はベースおよびポジに作用する感光性複写層より
なる、平版印刷版を製造するための感光性複写材料に関
する。
なる、平版印刷版を製造するための感光性複写材料に関
する。
この種の材料を製造するため一般に金属とくにアルミニ
ウムのベースが使用される。
ウムのベースが使用される。
ポジに作用する複写層としては実際には感光性化合物と
してとくにｏ−キノンジアジドの層が使用される。前処
理しないアルミニウム上のこの種の層ですでに使用可能
の結果が得られるけれど、一般にアルミニウムの表面は
複写層を設ける前に機械的、化学的または電気化学的に
粕面化される。それによって一般に露光されない層の付
着、したがって現像液に対する安定性が改善され、印刷
数が上昇する。これらの性質はあらかじめ粗面化した表
面の陽極酸化によってさらに改善される。表面をアルカ
リ金属ケイ酸塩、ポリビニルホスホン酸、フッ化リン酸
塩、フッ化ジルコニウム酸塩、フッ化ケイ素酸塩などの
化合物で処理することによっても同様の改善が達成され
る。
してとくにｏ−キノンジアジドの層が使用される。前処
理しないアルミニウム上のこの種の層ですでに使用可能
の結果が得られるけれど、一般にアルミニウムの表面は
複写層を設ける前に機械的、化学的または電気化学的に
粕面化される。それによって一般に露光されない層の付
着、したがって現像液に対する安定性が改善され、印刷
数が上昇する。これらの性質はあらかじめ粗面化した表
面の陽極酸化によってさらに改善される。表面をアルカ
リ金属ケイ酸塩、ポリビニルホスホン酸、フッ化リン酸
塩、フッ化ジルコニウム酸塩、フッ化ケイ素酸塩などの
化合物で処理することによっても同様の改善が達成され
る。
しかしこれらの前処理法は一般にネカに作用する層の付
着の改善にしか適さず、この場合は逆に露光された部分
の付着力が高められ、未露光部の溶解度が低下されては
ならない。さらに米国特許第３３００３０９号明細書に
より、ジアゾニゥム塩を特定の芳香族ヒドロキシ化合物
との錆体反応生成物の形で使用することにより水溶性ジ
アゾニウム塩を主成分とするネガに作用する層の水に対
する感受性を改善することが公知である。
着の改善にしか適さず、この場合は逆に露光された部分
の付着力が高められ、未露光部の溶解度が低下されては
ならない。さらに米国特許第３３００３０９号明細書に
より、ジアゾニゥム塩を特定の芳香族ヒドロキシ化合物
との錆体反応生成物の形で使用することにより水溶性ジ
アゾニウム塩を主成分とするネガに作用する層の水に対
する感受性を改善することが公知である。
本発明の目的は現像、場合により次の処理および印刷の
間、層の露光されない部分のベースに対する付着力が改
善された、ポジに作用する感光性複写材料を提案するこ
とである。
間、層の露光されない部分のベースに対する付着力が改
善された、ポジに作用する感光性複写材料を提案するこ
とである。
本発明はベース、および感光性化合物としてｏ−キノン
ジアジドスルホン酸ェステルまたはｏ−キノンジアジド
スルホソアミドを含む感光性複写層よりなる感光性複写
材料から出発する。
ジアジドスルホン酸ェステルまたはｏ−キノンジアジド
スルホソアミドを含む感光性複写層よりなる感光性複写
材料から出発する。
本発明による材料の特徴は層がさらに芳香族または脂肪
族性、とくにフェノールまたはェノール性ヒドロキシル
基を有し、かつキレート鍔体を形成しうる化合物を含む
ことである。
族性、とくにフェノールまたはェノール性ヒドロキシル
基を有し、かつキレート鍔体を形成しうる化合物を含む
ことである。
キレート形成ヒドロキシ化合物としては、とくに少なく
とも２つのベンゾール核を含み、ヒドロキシル基を支持
する核炭素原子に隣接する炭素原子にカルボニル基また
は原子価がすべて１平価にある３価のチッ素原子を支持
する、フェノール性ヒド。
とも２つのベンゾール核を含み、ヒドロキシル基を支持
する核炭素原子に隣接する炭素原子にカルボニル基また
は原子価がすべて１平価にある３価のチッ素原子を支持
する、フェノール性ヒド。
キシル基を有する化合物が適する。この最後の条件はほ
とんど極限された２重結合を有するか、または芳香族性
複秦環の成分である３価のチッ素原子が充足する。２重
結合したチッ素原子はとくにァゾ基の形で存在しうる。
とんど極限された２重結合を有するか、または芳香族性
複秦環の成分である３価のチッ素原子が充足する。２重
結合したチッ素原子はとくにァゾ基の形で存在しうる。
有利なキレート形成フェノール性またはヱノール性ヒド
ロキシル化合物は分子内のヒドロキシル基と親核基、と
くにカルボニル茎または３価のチッ素との間の分子内水
素ブリッジ結合によって、金属カチオンとのキレート形
成の際にも同様の形で生ずる５または６員環を形成する
ことができる。
ロキシル化合物は分子内のヒドロキシル基と親核基、と
くにカルボニル茎または３価のチッ素との間の分子内水
素ブリッジ結合によって、金属カチオンとのキレート形
成の際にも同様の形で生ずる５または６員環を形成する
ことができる。
これらの化合物のうちポリヒドロキシベンゾフエノンと
くに２・３・４ートリヒドロキシ−ペンゾフエノン、ヒ
ドロキシアントラキノンとくに１・２−ジヒドロキシー
および１・２・４ートリヒドロキシーアントラキノン、
および８一ヒドロキシーキノリンがとくに有効である。
くに２・３・４ートリヒドロキシ−ペンゾフエノン、ヒ
ドロキシアントラキノンとくに１・２−ジヒドロキシー
および１・２・４ートリヒドロキシーアントラキノン、
および８一ヒドロキシーキノリンがとくに有効である。
適当な化合物の例は脂肪族および芳香族ヒドロキシカル
ボニル化合物、ヒドロキシカルボン酸、ヒドロキシル基
を含むポリカルボニル化合物ならびにヒドロキシルーお
よび場合によりカルボキシル基を含むチッ素化合物であ
る。とくに次の化合物が挙げられる：プルプロカリン、
ケルセチソ・グリコール酸、レビュリン酸、サリチル酸
、アセトニルアセトン、２・１ージヒドロキシーアゾベ
ンゾール、８−ヒドロキシーキノリン、４・８一ジヒド
ロキシーキノリン−２ーカルボン酸、２・３・４−トリ
ヒドロキシーベンゾフエノン、１・４ージヒドロキシー
アントラキノン、８ーヒドロキシーアントラキノン、１
・２・４ートリヒドロキシーアントラキノン、２・４−
ジヒドロキシーベンゾフエノン、１・２ージヒドロキシ
ーアントラキノソ、１・２１５・８ーテトラヒドロキシ
−アントラキノン。感光性複写層内のヒドロキシル化合
物の濃度は比較的大きい範囲内で変動する。
ボニル化合物、ヒドロキシカルボン酸、ヒドロキシル基
を含むポリカルボニル化合物ならびにヒドロキシルーお
よび場合によりカルボキシル基を含むチッ素化合物であ
る。とくに次の化合物が挙げられる：プルプロカリン、
ケルセチソ・グリコール酸、レビュリン酸、サリチル酸
、アセトニルアセトン、２・１ージヒドロキシーアゾベ
ンゾール、８−ヒドロキシーキノリン、４・８一ジヒド
ロキシーキノリン−２ーカルボン酸、２・３・４−トリ
ヒドロキシーベンゾフエノン、１・４ージヒドロキシー
アントラキノン、８ーヒドロキシーアントラキノン、１
・２・４ートリヒドロキシーアントラキノン、２・４−
ジヒドロキシーベンゾフエノン、１・２ージヒドロキシ
ーアントラキノソ、１・２１５・８ーテトラヒドロキシ
−アントラキノン。感光性複写層内のヒドロキシル化合
物の濃度は比較的大きい範囲内で変動する。
この濃度は複写層の固体分に対し一般に０．３〜１５重
量％、とくに０．５〜５重量％の間である。複写層は感
光性化合物としてｏ−キノンジアジドとくにｏ一ナフト
キノンジアジド化合物を含み、これはたとえば西ドイツ
特許明細書第８５４８９０、８６５１０９、８７９２０
３、８９４９５９、９３８２３３、１１０９５２１、１
１１４７０５、１１１８６０６、１１２０２７３および
１１２４８１７号に記載される。
量％、とくに０．５〜５重量％の間である。複写層は感
光性化合物としてｏ−キノンジアジドとくにｏ一ナフト
キノンジアジド化合物を含み、これはたとえば西ドイツ
特許明細書第８５４８９０、８６５１０９、８７９２０
３、８９４９５９、９３８２３３、１１０９５２１、１
１１４７０５、１１１８６０６、１１２０２７３および
１１２４８１７号に記載される。
複写層はさらに公知法により樹脂たとえばアルカリ溶性
にする群たとえばフェノール樹脂とくにノボラック、カ
ルボキシル基含存コーポリマー、マレィナーナ樹脂また
はポリアクリル酸樹脂、ならびに染料、可塑剤および他
の常用添加剤、助剤を含む。
にする群たとえばフェノール樹脂とくにノボラック、カ
ルボキシル基含存コーポリマー、マレィナーナ樹脂また
はポリアクリル酸樹脂、ならびに染料、可塑剤および他
の常用添加剤、助剤を含む。
複写層ベースとしては常用の金属ベースとくにアルミニ
ウムが使用される。
ウムが使用される。
ベース材料の被覆は公知法たとえばローラまたは槽によ
る塗布、スプレーまたは流延によって行われる。
る塗布、スプレーまたは流延によって行われる。
本発明による平版印刷版はベースと感光性複写層の間に
付着仲介層としての中間層を設ける必要がないので、非
常に簡単に製造しうる利点がある。
付着仲介層としての中間層を設ける必要がないので、非
常に簡単に製造しうる利点がある。
付着層の設置は公知のように付加的作業工程であり、一
般に複雑な多段階法によって初めて最善の状態が達成さ
れる。しかし所望の場合印刷版の性質をベースに陽極酸
化で生ずる酸化膜によってさらに改善することができる
。本発明による平版印刷版はさらに複写層のアルミニウ
ム上の固着が改善されるため、オフセット印刷に常用の
機械でヒドロキシル化合物を添加しない同じ複写層の場
合より著しく高い印刷数が達成される利点がある。
般に複雑な多段階法によって初めて最善の状態が達成さ
れる。しかし所望の場合印刷版の性質をベースに陽極酸
化で生ずる酸化膜によってさらに改善することができる
。本発明による平版印刷版はさらに複写層のアルミニウ
ム上の固着が改善されるため、オフセット印刷に常用の
機械でヒドロキシル化合物を添加しない同じ複写層の場
合より著しく高い印刷数が達成される利点がある。
もう１つの利点は薬品耐性とくに一般に普通の像に従っ
た露光の後に非画像部を洗い取るために使用されるアル
カリ性現像液に対する耐性が著しく改善されることであ
る。例１２・４ージヒドロキシベンゾフエ／ン１モルと
ナフトキノン−（１・２）−ジアジドー（２１−５−ス
ルホクロリド２モルからなるェステル化生成物０．９の
重量部２・２ージヒドロキシージナフチル−（１・ｒ）
ーメタン１モルとナフトキノンー（１・２）−ジアジド
ー【２）−５ースルホクロリド２モルからなるェステル
化生成物 ０．７の重量部ノボラック
（軟化点１１２〜１１９午０、フェノール性ＯＨ基含量
１４重量％） ５．７の重量部２・３・
４−トリヒドロキシーベンゾフヱノン ．０．０母重量
部クリスタルバイオレット ０．１５重量
部スーダンェローＧＧＮ（Ｃ．１．１１０２１） ０
．０母重量部をエチレングリコ‐ルモノメチルェーテル
８の重量部ブチルアセテート １５
重量部よりなる溶剤混合物に溶解する。
た露光の後に非画像部を洗い取るために使用されるアル
カリ性現像液に対する耐性が著しく改善されることであ
る。例１２・４ージヒドロキシベンゾフエ／ン１モルと
ナフトキノン−（１・２）−ジアジドー（２１−５−ス
ルホクロリド２モルからなるェステル化生成物０．９の
重量部２・２ージヒドロキシージナフチル−（１・ｒ）
ーメタン１モルとナフトキノンー（１・２）−ジアジド
ー【２）−５ースルホクロリド２モルからなるェステル
化生成物 ０．７の重量部ノボラック
（軟化点１１２〜１１９午０、フェノール性ＯＨ基含量
１４重量％） ５．７の重量部２・３・
４−トリヒドロキシーベンゾフヱノン ．０．０母重量
部クリスタルバイオレット ０．１５重量
部スーダンェローＧＧＮ（Ｃ．１．１１０２１） ０
．０母重量部をエチレングリコ‐ルモノメチルェーテル
８の重量部ブチルアセテート １５
重量部よりなる溶剤混合物に溶解する。
ブラシにより粗面化したアルミニウムシートをこの液で
被覆する。
被覆する。
印刷版を製造するためこのように得た版板を透明ポジの
もとに露光し、公知法で次の溶液：メタケィ酸ナトリウ
ム・母Ｌ０ ５．箱重量部オルトリン酸ナトリウ
ム・１２Ｌ０ ３．４重量部リン酸２水素ナトリウ
ム（無水） ０．刃重量部水
９１重量部で現像し、その際層の露光した範
囲が除去される。
もとに露光し、公知法で次の溶液：メタケィ酸ナトリウ
ム・母Ｌ０ ５．箱重量部オルトリン酸ナトリウ
ム・１２Ｌ０ ３．４重量部リン酸２水素ナトリウ
ム（無水） ０．刃重量部水
９１重量部で現像し、その際層の露光した範
囲が除去される。
このように製造した印刷版によりオフセット機で約４０
０００の満足な印刷が得られる。上記被覆液の２・３・
４−トリヒドロキシ−ペンゾフェノンを除いてその他は
同じに出刷版を製造すれば、約２５０００の印刷しか得
られない。薬品に対する異なる抵抗力は露光した印刷版
を長時間、光遮蔽下にアルカリ性現像液で処理する場合
とくに顕著である。トリヒドロキシベンゾフェノンを含
まない印刷版は２５ｑ○の現像液洛中で５分後すでに著
しい侵食を、とくにいつしよに複写した網目部に示すけ
れど、錆化剤の存在する印刷版は同じ条件下に現像液裕
中で２０分後も網点の尖鋭化を示さない。以下の例２〜
６は上記例１と同様の方法で行われ、得られた感光性印
刷版の露光および現像後に同様の結果が得られる。
０００の満足な印刷が得られる。上記被覆液の２・３・
４−トリヒドロキシ−ペンゾフェノンを除いてその他は
同じに出刷版を製造すれば、約２５０００の印刷しか得
られない。薬品に対する異なる抵抗力は露光した印刷版
を長時間、光遮蔽下にアルカリ性現像液で処理する場合
とくに顕著である。トリヒドロキシベンゾフェノンを含
まない印刷版は２５ｑ○の現像液洛中で５分後すでに著
しい侵食を、とくにいつしよに複写した網目部に示すけ
れど、錆化剤の存在する印刷版は同じ条件下に現像液裕
中で２０分後も網点の尖鋭化を示さない。以下の例２〜
６は上記例１と同様の方法で行われ、得られた感光性印
刷版の露光および現像後に同様の結果が得られる。
それゆえ以下の例の多くでは被覆液の処方および使用す
るベースの種類だけを示す。例２ ２・４ージヒドロキシーベンゾフエノン１モルとナフト
キノン−（１・２）ージアジドー｛２）一５−スルホク
ロリド２モルからなるェステル化生成物２．４の重量部
例１記載のノボラック ４．８の重量部８
一ヒドロキシーキノリン ０．０亀重量部をエ
チレングリコ一ルモノメチルエーテル ３．５重量部 テトラヒドロフラン ５の重量部ブチ
ルアセテート １の重量部からな
る溶剤混合物に溶解する。
るベースの種類だけを示す。例２ ２・４ージヒドロキシーベンゾフエノン１モルとナフト
キノン−（１・２）ージアジドー｛２）一５−スルホク
ロリド２モルからなるェステル化生成物２．４の重量部
例１記載のノボラック ４．８の重量部８
一ヒドロキシーキノリン ０．０亀重量部をエ
チレングリコ一ルモノメチルエーテル ３．５重量部 テトラヒドロフラン ５の重量部ブチ
ルアセテート １の重量部からな
る溶剤混合物に溶解する。
溶液を例１と同じベースに塗布し、乾燥する。
例１と同様に露光および現像し、同様の結果が得られる
。例３ 被覆液： ナフトキノンー（１・２）ージアジド−（２’一４ース
ルホン酸のｐークミルフェノールェステル０．８の重量
部２・２′−ジヒドロキシーシナフチルー（１・１′）
ーメタン１モルとナフトキノン−（１・２）ージアジド
ー（２１一５ースルホクロリド２モルからなるェステル
化生成物 ０．７唯重量部例１のノボ
ラツク ６．０の重量部クリスタルバ
イオレット ０．０５重量部スーダンェロ
ーＧＧＮ（Ｃ．１．１１０２１） ０．０箱重量部１
・２・４−トリヒドロキシーアントラキノン０．１の重
量部例２の溶剤混合物 ９５重量部
例１と同様に処理し、同じ結果が得られた。
。例３ 被覆液： ナフトキノンー（１・２）ージアジド−（２’一４ース
ルホン酸のｐークミルフェノールェステル０．８の重量
部２・２′−ジヒドロキシーシナフチルー（１・１′）
ーメタン１モルとナフトキノン−（１・２）ージアジド
ー（２１一５ースルホクロリド２モルからなるェステル
化生成物 ０．７唯重量部例１のノボ
ラツク ６．０の重量部クリスタルバ
イオレット ０．０５重量部スーダンェロ
ーＧＧＮ（Ｃ．１．１１０２１） ０．０箱重量部１
・２・４−トリヒドロキシーアントラキノン０．１の重
量部例２の溶剤混合物 ９５重量部
例１と同様に処理し、同じ結果が得られた。
例４被覆液：
２・４−ジヒドロキシーベンゾフエノン１モルとナフト
キノンー（１・２）ージアジドー■−５−スルホクロリ
ド２モルからなるェステル化生成物２．４重量部例１の
ノボラック ４．楯重量部プルプロ
ガリン ０．１重量部例２の溶剤
混合物 ９５重量部溶液を電解的に
粗面化および陽極酸化したアルミニウムシートに塗布す
る。
キノンー（１・２）ージアジドー■−５−スルホクロリ
ド２モルからなるェステル化生成物２．４重量部例１の
ノボラック ４．楯重量部プルプロ
ガリン ０．１重量部例２の溶剤
混合物 ９５重量部溶液を電解的に
粗面化および陽極酸化したアルミニウムシートに塗布す
る。
他の処理は例１と同様に行われる。例５
被覆液：
２・３・４ートリヒドロキシ−ペンゾフエノン１モルと
ナフトキノンー（１・２）−ジアジド−【２）−５−ス
ルホクロリド３モルからなるヱステル化生成物
０．８の重量部２・２ージヒド
ロキシージナフチルー（１・ｒ）−メタン１モルとナフ
トキノン−（１・２）−ジアジド−■−５−スルホクロ
リド２モルからなるェステル化生成物
０．７の重量部クリスタルバイオレット
０．１箱重量部スーダンェローＧＧＮ（Ｃ．１．１１０
２１） ０．０り重量部ケルセチン
０．３の重量部例２の溶剤混合物
９５重量部溶液を例４記載のベースへ塗布し
、乾燥する。
ナフトキノンー（１・２）−ジアジド−【２）−５−ス
ルホクロリド３モルからなるヱステル化生成物
０．８の重量部２・２ージヒド
ロキシージナフチルー（１・ｒ）−メタン１モルとナフ
トキノン−（１・２）−ジアジド−■−５−スルホクロ
リド２モルからなるェステル化生成物
０．７の重量部クリスタルバイオレット
０．１箱重量部スーダンェローＧＧＮ（Ｃ．１．１１０
２１） ０．０り重量部ケルセチン
０．３の重量部例２の溶剤混合物
９５重量部溶液を例４記載のベースへ塗布し
、乾燥する。
他の処理は例１と同様に行われる。例６
被覆液：
２・４−ジヒドロキシーベンゾフエノン１モルとナフト
キノンー（１・２）ージアジドー【２）一５−スルホク
ロリド２モルからなるェステル化生成物０．５の重量部
２・２′−ジヒドロキシージナフチルー（１．１′）ー
メタン１モルとナフトキノン−（１・２）ージアジドー
【２）一５ースルホクロリド２モルからなるェステル化
生成物 ０．６の重量部ナフトキノン
ー（１・２）−ジアジドー（２）一４ースルホクロリド
０．４５重量部例１のノボラック
５．０の重量部ェポキシ当量４００
〜５０い融解範囲６４〜７４ｏｏ（デュランのＨｇ法に
よる）のェポキシ樹脂 ０．２５重量部クリスタルバイ
オレット ０．１の重量部リン酸トリ−（３
ークロルェチル）ェステル０．５５重量部サリチル酸
０．１５重量部例２の溶剤混合
物 ９５重量部例４記載のベースに
この溶液を塗布し、乾燥する。
キノンー（１・２）ージアジドー【２）一５−スルホク
ロリド２モルからなるェステル化生成物０．５の重量部
２・２′−ジヒドロキシージナフチルー（１．１′）ー
メタン１モルとナフトキノン−（１・２）ージアジドー
【２）一５ースルホクロリド２モルからなるェステル化
生成物 ０．６の重量部ナフトキノン
ー（１・２）−ジアジドー（２）一４ースルホクロリド
０．４５重量部例１のノボラック
５．０の重量部ェポキシ当量４００
〜５０い融解範囲６４〜７４ｏｏ（デュランのＨｇ法に
よる）のェポキシ樹脂 ０．２５重量部クリスタルバイ
オレット ０．１の重量部リン酸トリ−（３
ークロルェチル）ェステル０．５５重量部サリチル酸
０．１５重量部例２の溶剤混合
物 ９５重量部例４記載のベースに
この溶液を塗布し、乾燥する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ベースおよび感光性化合物としてｏ−キノンジアジ
ドスルホン酸エステルまたはｏ−キノンジアジドスルホ
ンアミドを含む感光性複与層よりなる感光性複写材料に
おいて、層がさらにポリヒドロキシベンゾフエノン、ヒ
ドロキシアントラキノン、８−ヒドロキシキノリン、プ
ルプロガリン、ケルセチンまたはサリチル酸を含むこと
を特徴とする感光性複写材料。 ２ 層がその固体成分の重量に対し、０．３〜１５％の
前記ヒドロキシ化合物を含む特許請求の範囲第１項記載
の複写材料。 ３ 層がさらにノボラツクを含む特許請求の範囲第１項
記載の複写材料。 ４ ベースがアルミニウムよりなる特許請求の範囲第１
項記載の複写材料。 ５ ベースが陽極酸化したアルミニウムよりなる特許請
求の範囲第４項記載の複写材料。
Applications Claiming Priority (2)
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