JPH0244064B2 - - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、有機結合剤を含有していてもよいネ
ガで作用する露光複写層を現像するのに適当な現
像液及びかゝる複写層を現像する方法に関する。
ガで作用する露光複写層を現像するのに適当な現
像液及びかゝる複写層を現像する方法に関する。
感光性複写層は、例えばオフセツト印刷版又は
フオートレジスト(下記にこれらの両方を複写材
料と呼ぶ)の製造で使用される。即ちこれらは一
般に支持体に支持される。これらの複写材料に使
用される支持体は金属、例えば亜鉛、マグネシウ
ム、クロム、銅、しんちゆう、鋼、珪素、アルミ
ニウム又はこれらの金属の組合せ物、プラスチツ
クフイルム、紙又は類似材料である。これらの支
持体には感光性複写層を予処理を有しないで被覆
することができるが、好ましくは表面の変性、例
えば機械的、化学的及び/又は電気化学的粗面
化、酸化及び/又は処理を行なつた後に、表面を
親水性にする薬品を被覆する(例えばオフセツト
印刷板の支持体の場合)。感光性化合物少くとも
1種の外に、常用の複写層は多くの場合有機結合
剤(樹脂その他)及び必要により付加的に可塑
剤、顔料、染料、湿じゆん剤、増感剤、付着剤、
指示薬及び他の常用の助剤も含有する。複写層を
露光した後に、これから画像を得るために現像す
る;例えば印刷版又はフオートレジストはこの方
法で得られる。
フオートレジスト(下記にこれらの両方を複写材
料と呼ぶ)の製造で使用される。即ちこれらは一
般に支持体に支持される。これらの複写材料に使
用される支持体は金属、例えば亜鉛、マグネシウ
ム、クロム、銅、しんちゆう、鋼、珪素、アルミ
ニウム又はこれらの金属の組合せ物、プラスチツ
クフイルム、紙又は類似材料である。これらの支
持体には感光性複写層を予処理を有しないで被覆
することができるが、好ましくは表面の変性、例
えば機械的、化学的及び/又は電気化学的粗面
化、酸化及び/又は処理を行なつた後に、表面を
親水性にする薬品を被覆する(例えばオフセツト
印刷板の支持体の場合)。感光性化合物少くとも
1種の外に、常用の複写層は多くの場合有機結合
剤(樹脂その他)及び必要により付加的に可塑
剤、顔料、染料、湿じゆん剤、増感剤、付着剤、
指示薬及び他の常用の助剤も含有する。複写層を
露光した後に、これから画像を得るために現像す
る;例えば印刷版又はフオートレジストはこの方
法で得られる。
ネガで作用する複写層の現像剤は、露光層から
電磁波照射(例えば光)が当らなかつた層の部分
(後の非画像帯域)を、照射が当つた層の部分
(後の画像帯域)に影響を及ぼさないで溶解する
ことができなければならない。定形的例として挙
げることのできるドイツ公開特許第2065732号明
細書(=米国特許第3867147号明細書)には、次
のものが適当な現像液の例として挙げられてい
る:水、水/有機溶剤混合物、塩水溶液、酸水溶
液、アルカリ水溶液及び希釈有機溶剤。これらに
は必要により界面活性剤及び/又は表面を親水性
にする薬品を添加することができる。主としてこ
の文献の例で使用される現像液は水、ラウリル硫
酸Na、硫酸Na、酒石酸及び或る場合にはベンジ
ルアルコールを含有する;他の現像液はイソプロ
パノール、n−プロパノール、n−酢酸プロピ
ル、ポリアクリル酸、1,1,1−トリクロルエ
タン、アセトン又はエチレングリコールモノエチ
ルエーテルを含有する。しかしかゝるネガで作用
する複写層の最有効現像液は原則として界面活性
剤を含有するので、殊に機械で現像する場合に現
像液の発泡が生じる。
電磁波照射(例えば光)が当らなかつた層の部分
(後の非画像帯域)を、照射が当つた層の部分
(後の画像帯域)に影響を及ぼさないで溶解する
ことができなければならない。定形的例として挙
げることのできるドイツ公開特許第2065732号明
細書(=米国特許第3867147号明細書)には、次
のものが適当な現像液の例として挙げられてい
る:水、水/有機溶剤混合物、塩水溶液、酸水溶
液、アルカリ水溶液及び希釈有機溶剤。これらに
は必要により界面活性剤及び/又は表面を親水性
にする薬品を添加することができる。主としてこ
の文献の例で使用される現像液は水、ラウリル硫
酸Na、硫酸Na、酒石酸及び或る場合にはベンジ
ルアルコールを含有する;他の現像液はイソプロ
パノール、n−プロパノール、n−酢酸プロピ
ル、ポリアクリル酸、1,1,1−トリクロルエ
タン、アセトン又はエチレングリコールモノエチ
ルエーテルを含有する。しかしかゝるネガで作用
する複写層の最有効現像液は原則として界面活性
剤を含有するので、殊に機械で現像する場合に現
像液の発泡が生じる。
既にのべた現像液の成分の外に、次のことがら
が文献に記載された: ドイツ特許公報第1193366号(=米国特許第
3201241号明細書)には、ポジで作用する複写層
の水性現像液が記載されており、これは更にアル
カリ性反応を有する成分の外に錯体形成体及び/
又は親水性ポリマー及び陽イオン、例えばBe2+、
Hg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Bi3+又はLa3+を含有
している(記載の陰イオンは、なかんずく脂肪族
カルボン酸の陰イオンを含有する)。比較的大き
い化合物のリストでは、サリチル酸(2−ヒドロ
キシ安息香酸)が錯体形成体として挙げられてい
る。現像液はPH10.5〜12.2、好ましくは10.9〜
11.5を有していなければならない。錯体形成体は
現像液中に0.001〜0.25重量%、好ましくは0.07〜
0.1重量%の量で存在していなければならない。
が文献に記載された: ドイツ特許公報第1193366号(=米国特許第
3201241号明細書)には、ポジで作用する複写層
の水性現像液が記載されており、これは更にアル
カリ性反応を有する成分の外に錯体形成体及び/
又は親水性ポリマー及び陽イオン、例えばBe2+、
Hg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+、Bi3+又はLa3+を含有
している(記載の陰イオンは、なかんずく脂肪族
カルボン酸の陰イオンを含有する)。比較的大き
い化合物のリストでは、サリチル酸(2−ヒドロ
キシ安息香酸)が錯体形成体として挙げられてい
る。現像液はPH10.5〜12.2、好ましくは10.9〜
11.5を有していなければならない。錯体形成体は
現像液中に0.001〜0.25重量%、好ましくは0.07〜
0.1重量%の量で存在していなければならない。
ドイツ公開特許第2353992号明細書(=米国特
許第4147545号明細書)からは、ネガ又はポジで
作用する複写層の水性現像液は公知であり、これ
は酸性有機化合物及び/又は両性界面活性剤のリ
チウム塩を含有する。広義の記載ではLi−ベンゾ
エート、Li−ナフテネート及びLi−アセチルサリ
チレートがなかんずく適当なリチウム塩として記
載されている。
許第4147545号明細書)からは、ネガ又はポジで
作用する複写層の水性現像液は公知であり、これ
は酸性有機化合物及び/又は両性界面活性剤のリ
チウム塩を含有する。広義の記載ではLi−ベンゾ
エート、Li−ナフテネート及びLi−アセチルサリ
チレートがなかんずく適当なリチウム塩として記
載されている。
ドイツ公開特許第2504130号明細書によるポジ
又はネガで作用する複写層の現像法は温度35〜80
℃で現像液を用いて行ない、その成分は沸点
(760mmHg)80℃以上を有する。現像液は有機溶
剤、アルカリ性反応を有する成分、陰イオン性又
は非イオン性界面活性剤、水及び/又は発泡防止
剤を含有し、なかんずく安息香酸が0.1〜5重量
%の割合で含まれている。
又はネガで作用する複写層の現像法は温度35〜80
℃で現像液を用いて行ない、その成分は沸点
(760mmHg)80℃以上を有する。現像液は有機溶
剤、アルカリ性反応を有する成分、陰イオン性又
は非イオン性界面活性剤、水及び/又は発泡防止
剤を含有し、なかんずく安息香酸が0.1〜5重量
%の割合で含まれている。
ドイツ公開特許第2934897号明細書(=WO−
OS79/00593)には、ネガで作用する複写層の不
感脂化溶液が記載されており、これは (a) 置換されている安息香酸、置換されているベ
ンゼンスルホン酸又はベンゼンホスホン酸又は
これらの酸の相応する塩2〜50重量%及び (b) 脂肪族ポリオール、そのモノエステル又はア
ルカリ金属塩からなる群から選んだフイルム形
成体、5〜60重量%を含有する。適当な成分(a)
としては、安息香酸Na、4−ヒドロキシ安息
香酸又は4−アミノ安息香酸のカリウム又はナ
トリウム塩が挙げられている;不感脂化溶液
は、前記層の現像液として適当である。
OS79/00593)には、ネガで作用する複写層の不
感脂化溶液が記載されており、これは (a) 置換されている安息香酸、置換されているベ
ンゼンスルホン酸又はベンゼンホスホン酸又は
これらの酸の相応する塩2〜50重量%及び (b) 脂肪族ポリオール、そのモノエステル又はア
ルカリ金属塩からなる群から選んだフイルム形
成体、5〜60重量%を含有する。適当な成分(a)
としては、安息香酸Na、4−ヒドロキシ安息
香酸又は4−アミノ安息香酸のカリウム又はナ
トリウム塩が挙げられている;不感脂化溶液
は、前記層の現像液として適当である。
ヨーロツパ特許願第0033232号にはネガで作用
する複写層の現像液が記載されており、これは(a)
C原子9個までを有する脂肪族カルボン酸塩20〜
300g/、(b)必要により非イオン性界面活性剤、
(c)芳香族カルボン酸塩20〜300g/を含有する;
安息香酸又はトルエンカルボン酸が、適当な成分
(c)として挙げられている。
する複写層の現像液が記載されており、これは(a)
C原子9個までを有する脂肪族カルボン酸塩20〜
300g/、(b)必要により非イオン性界面活性剤、
(c)芳香族カルボン酸塩20〜300g/を含有する;
安息香酸又はトルエンカルボン酸が、適当な成分
(c)として挙げられている。
しかしながら多くの公知現像液は比較的大きい
PHの欠点を有し、その結果として例えば多くの印
刷板の支持体材料上に存在する酸化アルミニウム
がおかされ得る、か又は有機溶剤を含有するの
で、環境を汚さない方法の現像は最適方法で保証
されていない。それ故記載された脂肪族又は芳香
族のカルボン酸塩は或る複写層を現像することは
できるが、殊に結合剤を含有する層の場合には問
題が生じる。一定の界面活性剤の添加は現像法を
促進することができ、これは特に手工で現像すべ
き複写層に使用するが、この現像液を自動的現像
機で使用する場合には、屡々発泡が生じる。
PHの欠点を有し、その結果として例えば多くの印
刷板の支持体材料上に存在する酸化アルミニウム
がおかされ得る、か又は有機溶剤を含有するの
で、環境を汚さない方法の現像は最適方法で保証
されていない。それ故記載された脂肪族又は芳香
族のカルボン酸塩は或る複写層を現像することは
できるが、殊に結合剤を含有する層の場合には問
題が生じる。一定の界面活性剤の添加は現像法を
促進することができ、これは特に手工で現像すべ
き複写層に使用するが、この現像液を自動的現像
機で使用する場合には、屡々発泡が生じる。
それ故、本発明の目的は有機溶剤の添加を必要
とせず、有機結合剤を含有する層にさえも適当で
ありかつわずかな発泡傾向を有するのに過ぎない
か又は全く発泡を有しない、ネガで作用する複写
層の水性現像液を得ることである。
とせず、有機結合剤を含有する層にさえも適当で
ありかつわずかな発泡傾向を有するのに過ぎない
か又は全く発泡を有しない、ネガで作用する複写
層の水性現像液を得ることである。
本発明の出発点は、有機結合剤を含有し露光し
た感光性のネガで作用する複写層の公知現像液で
あり、この現像液は水及び置換されている芳香族
カルボン酸塩をベースとする。本発明による現像
液は、カルボキシ基が結合している芳香環の炭素
原子に隣接している位置に、アミノ基、ヒドロキ
シ基、塩素及び臭素から選択した置換基1個又は
2個を有する芳香族カルボン酸の塩少なくとも1
種5〜60重量%を含有する。
た感光性のネガで作用する複写層の公知現像液で
あり、この現像液は水及び置換されている芳香族
カルボン酸塩をベースとする。本発明による現像
液は、カルボキシ基が結合している芳香環の炭素
原子に隣接している位置に、アミノ基、ヒドロキ
シ基、塩素及び臭素から選択した置換基1個又は
2個を有する芳香族カルボン酸の塩少なくとも1
種5〜60重量%を含有する。
好ましい実施形式では、本発明による現像液は
前記塩10〜30重量%を含有する。適当な塩はモノ
カルボン酸、特に2−ヒドロキシ安息香酸(=サ
リチル酸)、2−アミノ安息香酸(=アントラニ
ル酸)、2−クロル安息香酸、2,6−ジヒドロ
キシ安息香酸及び2−ヒドロキシ−ナフタリン−
3−カルボン酸の塩である。水溶性でなければな
らないこれらの塩の陽イオンは殊にNa+イオン、
NH4 +イオン又はK+イオン及び有機アミン、例え
ばエタノールアミン又はエチレンジアミンから誘
導された陽イオンである。
前記塩10〜30重量%を含有する。適当な塩はモノ
カルボン酸、特に2−ヒドロキシ安息香酸(=サ
リチル酸)、2−アミノ安息香酸(=アントラニ
ル酸)、2−クロル安息香酸、2,6−ジヒドロ
キシ安息香酸及び2−ヒドロキシ−ナフタリン−
3−カルボン酸の塩である。水溶性でなければな
らないこれらの塩の陽イオンは殊にNa+イオン、
NH4 +イオン又はK+イオン及び有機アミン、例え
ばエタノールアミン又はエチレンジアミンから誘
導された陽イオンである。
しかしながら、本発明による現像液の基本的現
像効果に必ずしも必要でない他の成分としては、
該水性現像液は0.01〜10重量%の非イオン性界面
活性剤、殊に陰イオン性界面活性剤及び助剤、例
えば錯体形成体(封鎖剤)又は発泡防止剤を含ん
でいてもよい。C7〜C14のアルキル基を有する硫
酸モノアルキルエステルのアルカリ金属塩又はア
ンモニウム塩は特に適当な界面活性剤であること
が判明し、これは1部分現像工程を促進するのに
役立ち得る。例えば水中で生じる多価の陽イオン
(例えばCa2+)が、置換されている芳香族カルボ
ン酸塩に逆効果(“ライムソープ”の形成)を及
ぼすのを妨げることのできる錯体形成体は、殊に
燐酸塩(例えばポリホスフエート)であるが、他
の錯体形成体、例えばくえん酸又はエチレンジア
ミンテトラ酢酸も可能である。本発明による現像
液のPHは一般に7〜13、好ましくは7〜11であ
る。置換されている芳香族カルボン酸塩の場合PH
を調節及び/又はこの酸を相応する塩の形に変換
するためには、塩基性反応を有する多くの種々の
化合物を使用することができ、これらは殊にアル
カリ金属水酸化物、エタノールアミン、エチレン
ジアミン、アルカリ金属燐酸塩又はアルカリ金属
多燐酸塩の水溶液である。
像効果に必ずしも必要でない他の成分としては、
該水性現像液は0.01〜10重量%の非イオン性界面
活性剤、殊に陰イオン性界面活性剤及び助剤、例
えば錯体形成体(封鎖剤)又は発泡防止剤を含ん
でいてもよい。C7〜C14のアルキル基を有する硫
酸モノアルキルエステルのアルカリ金属塩又はア
ンモニウム塩は特に適当な界面活性剤であること
が判明し、これは1部分現像工程を促進するのに
役立ち得る。例えば水中で生じる多価の陽イオン
(例えばCa2+)が、置換されている芳香族カルボ
ン酸塩に逆効果(“ライムソープ”の形成)を及
ぼすのを妨げることのできる錯体形成体は、殊に
燐酸塩(例えばポリホスフエート)であるが、他
の錯体形成体、例えばくえん酸又はエチレンジア
ミンテトラ酢酸も可能である。本発明による現像
液のPHは一般に7〜13、好ましくは7〜11であ
る。置換されている芳香族カルボン酸塩の場合PH
を調節及び/又はこの酸を相応する塩の形に変換
するためには、塩基性反応を有する多くの種々の
化合物を使用することができ、これらは殊にアル
カリ金属水酸化物、エタノールアミン、エチレン
ジアミン、アルカリ金属燐酸塩又はアルカリ金属
多燐酸塩の水溶液である。
本発明のもう一つの目的は、有機結合剤を含有
する露光複写層を、水と置換されている芳香族カ
ルボン酸塩とをベースとする現像液で処理するこ
とによつてネガで作用する複写層を現像する方法
である。本発明による方法は、複写層を前記塩を
含有する水性現像液で処理することからなる。殊
に本方法はアセタール、無水物、アミド(殊にウ
レイレン)及び/又はカルボキシ基を有するポリ
マー有機結合剤を含有及び/又は感光性化合物と
してジアゾニウム塩重縮合生成物を含有する複写
層を現像するのに使用する。前記結合剤は、例え
ばスチレンと無水マレイン酸とのコーポリマー、
ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、
ポリマーポリヒドロキシ化合物とスルホニルイソ
シアネートとの反応生成物、メタクリル酸メチル
とメタクリル酸とのコーポリマー又は尿素樹脂で
ある。
する露光複写層を、水と置換されている芳香族カ
ルボン酸塩とをベースとする現像液で処理するこ
とによつてネガで作用する複写層を現像する方法
である。本発明による方法は、複写層を前記塩を
含有する水性現像液で処理することからなる。殊
に本方法はアセタール、無水物、アミド(殊にウ
レイレン)及び/又はカルボキシ基を有するポリ
マー有機結合剤を含有及び/又は感光性化合物と
してジアゾニウム塩重縮合生成物を含有する複写
層を現像するのに使用する。前記結合剤は、例え
ばスチレンと無水マレイン酸とのコーポリマー、
ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、
ポリマーポリヒドロキシ化合物とスルホニルイソ
シアネートとの反応生成物、メタクリル酸メチル
とメタクリル酸とのコーポリマー又は尿素樹脂で
ある。
本発明による現像液は、ポリマー有機結合剤を
含有するネガで作用する複写層を、画像帯域上の
腐蝕又は画像帯域下への現像液の滲透が行われな
いで十分に現像するのに適当である。更に、有機
溶剤フラクシヨンの蒸溜での作業による環境の問
題は生ぜず、本発明による現像液は自動処理機で
少くとも著しい発泡を生じないで使用することも
できる。現像液は、既に中性点に近いPHで使用す
ることもできる。
含有するネガで作用する複写層を、画像帯域上の
腐蝕又は画像帯域下への現像液の滲透が行われな
いで十分に現像するのに適当である。更に、有機
溶剤フラクシヨンの蒸溜での作業による環境の問
題は生ぜず、本発明による現像液は自動処理機で
少くとも著しい発泡を生じないで使用することも
できる。現像液は、既に中性点に近いPHで使用す
ることもできる。
現像すべき複写層は、殊にオフセツト印刷板の
1部分(感光層)としてか又は支持体材料に使用
するレジスト(フオートレジスト層)として存在
する。支持体材料の例は亜鉛、クロム、マグネシ
ウム、銅、しんちゆう、鋼、珪素、アルミニウム
又はこれらの金属の組合せ物をベースとするもの
又はプラスチツクフイルム、紙又はこれらと比較
し得る材料である。これらは特別の変性予処理を
有しないで適当な複写層を備えていてもよいが、
好ましくはこの被覆は表面の変性、例えば機械
的、化学的又は電気化学的粗面化、酸化及び/又
は表面を親水性にする薬品での処理(殊にオフセ
ツト印刷板の支持体の場合)後に行なうのに過ぎ
ない。
1部分(感光層)としてか又は支持体材料に使用
するレジスト(フオートレジスト層)として存在
する。支持体材料の例は亜鉛、クロム、マグネシ
ウム、銅、しんちゆう、鋼、珪素、アルミニウム
又はこれらの金属の組合せ物をベースとするもの
又はプラスチツクフイルム、紙又はこれらと比較
し得る材料である。これらは特別の変性予処理を
有しないで適当な複写層を備えていてもよいが、
好ましくはこの被覆は表面の変性、例えば機械
的、化学的又は電気化学的粗面化、酸化及び/又
は表面を親水性にする薬品での処理(殊にオフセ
ツト印刷板の支持体の場合)後に行なうのに過ぎ
ない。
オフセツト印刷板を製造するための特に適当な
ベース、アルミニウム基質又はその合金の1種で
ある。これらは例えば、次のものである:“アル
ミニウム”〔ドイツ工業規格(DIN)材料No.
30255〕、即ちAl≧99.5%及び許容し得る不純物
Si0.3%、Fe0.4%、Ti0.03%、Cu0.02%、Zn0.07
%及びその他0.03%(全体で最大0.5%)からな
るもの、か又は“Al合金3003”〔ドイツ工業規格
(DIN)材料No.30515と比較し得るもの〕、即ち合
金成分としてのAl≧98.5%、Mg0〜0.3%及び
Mn0.8〜1.5%及び許容し得る不純物Si0.5%、
Fe0.5%、Ti0.2%、Zn0.2%、Cu0.1%及びその他
0.15%からなるもの。
ベース、アルミニウム基質又はその合金の1種で
ある。これらは例えば、次のものである:“アル
ミニウム”〔ドイツ工業規格(DIN)材料No.
30255〕、即ちAl≧99.5%及び許容し得る不純物
Si0.3%、Fe0.4%、Ti0.03%、Cu0.02%、Zn0.07
%及びその他0.03%(全体で最大0.5%)からな
るもの、か又は“Al合金3003”〔ドイツ工業規格
(DIN)材料No.30515と比較し得るもの〕、即ち合
金成分としてのAl≧98.5%、Mg0〜0.3%及び
Mn0.8〜1.5%及び許容し得る不純物Si0.5%、
Fe0.5%、Ti0.2%、Zn0.2%、Cu0.1%及びその他
0.15%からなるもの。
屡々実際の印刷板のアルミニウム支持体材料
は、一般に感光層を用いる前に機械的(例えばブ
ラツシング及び/又は研磨剤での処理による)、
化学的(例えば腐蝕による)又は電気化学的(例
えばHCl又はHNO3溶液中の交流での処理によ
る)に粗面化する。この場合粗面化表面の平均の
ピーク対バリーの高さRZは約1〜15μm、特に4
〜8μmの範囲内である。
は、一般に感光層を用いる前に機械的(例えばブ
ラツシング及び/又は研磨剤での処理による)、
化学的(例えば腐蝕による)又は電気化学的(例
えばHCl又はHNO3溶液中の交流での処理によ
る)に粗面化する。この場合粗面化表面の平均の
ピーク対バリーの高さRZは約1〜15μm、特に4
〜8μmの範囲内である。
ピーク対バリーの高さはドイツ工業規格
(DIN)4768によつて測定し、ピーク対バリーの
高さRZは、相互に隣接する個々の5つの測定の
長さの個々のピーク対バリー高さの算術平均値で
ある。
(DIN)4768によつて測定し、ピーク対バリーの
高さRZは、相互に隣接する個々の5つの測定の
長さの個々のピーク対バリー高さの算術平均値で
ある。
有利に使用される電気化学的粗面化法は、必要
により例えば支持体材料の表面の磨損及び固着性
を改良するために使用することのできる工程での
引続くアルミニウムの陽極酸化である。陽極酸化
には、常用の電解質、例えばH2SO4、H3PO4、
H2C2O4、アミドスルホン酸、スルホコハク酸、
スルホサリチル酸又はこれらの混合物を使用する
ことができる。例えばアルミニウムの陽極酸化に
は、H2SO4を含有する電解質水溶液を使用する
次の標準法が参照される〔例えばシエンク(M.
Schenk):ベルクシユトツフ・アルミニウム・ウ
ント・ザイネ・アノデイシエ・オキシダシオン
(Werkstoff Aluminium und seine anodische
Oxidation)、フランケ(Francke)社版、ベルン
(Bern)在、1948年、760頁;プラクテイシエ・
ガルバノテクニツク(Praktische
Galvanotechnik)、オイゲン・ロイツエ(Eugen
G.Leuze)社版、ザウルガウ(Saulgau)在、
1970年、395頁以降参照及び518/519頁;ヒユー
ブナー(W.Huebner)及びシユパイザー(C.T.
Speiser):デイ・プラクシス・デア・アノデイシ
エン・オキシダシオン・デス・アルミニウムス
(Die Praxis der anodischen Oxidation des
Aluminiums)、アルミニウム社版、デユツセル
ドルフ在、1977年、3版、137頁以降参照〕: “直流硫酸法。”この方法では陽極酸化は、通
常溶液1当りH2SO4230gを含有する電解質水
溶液中で10〜20℃及び電流密度0.5〜2.5A/dm2
で10〜60分間行なう。この場合電解質水溶液中の
硫酸の濃度は、H2SO48〜10重量%(H2SO4約
100g/)に減少又はH2SO430重量%
(H2SO4365g/)及びこれ以上に増大してもよ
い。
により例えば支持体材料の表面の磨損及び固着性
を改良するために使用することのできる工程での
引続くアルミニウムの陽極酸化である。陽極酸化
には、常用の電解質、例えばH2SO4、H3PO4、
H2C2O4、アミドスルホン酸、スルホコハク酸、
スルホサリチル酸又はこれらの混合物を使用する
ことができる。例えばアルミニウムの陽極酸化に
は、H2SO4を含有する電解質水溶液を使用する
次の標準法が参照される〔例えばシエンク(M.
Schenk):ベルクシユトツフ・アルミニウム・ウ
ント・ザイネ・アノデイシエ・オキシダシオン
(Werkstoff Aluminium und seine anodische
Oxidation)、フランケ(Francke)社版、ベルン
(Bern)在、1948年、760頁;プラクテイシエ・
ガルバノテクニツク(Praktische
Galvanotechnik)、オイゲン・ロイツエ(Eugen
G.Leuze)社版、ザウルガウ(Saulgau)在、
1970年、395頁以降参照及び518/519頁;ヒユー
ブナー(W.Huebner)及びシユパイザー(C.T.
Speiser):デイ・プラクシス・デア・アノデイシ
エン・オキシダシオン・デス・アルミニウムス
(Die Praxis der anodischen Oxidation des
Aluminiums)、アルミニウム社版、デユツセル
ドルフ在、1977年、3版、137頁以降参照〕: “直流硫酸法。”この方法では陽極酸化は、通
常溶液1当りH2SO4230gを含有する電解質水
溶液中で10〜20℃及び電流密度0.5〜2.5A/dm2
で10〜60分間行なう。この場合電解質水溶液中の
硫酸の濃度は、H2SO48〜10重量%(H2SO4約
100g/)に減少又はH2SO430重量%
(H2SO4365g/)及びこれ以上に増大してもよ
い。
“硬陽極処理”は、H2SO4をH2SO4166g/
(又はH2SO4230g/)の濃度で含有する電解質
水溶液で、操作温度0〜5℃及び電流密度2〜
3A/dm2で開始時に約25〜30Vから処理の終り
に約40〜100Vに上る電圧で30〜200分間行なう。
(又はH2SO4230g/)の濃度で含有する電解質
水溶液で、操作温度0〜5℃及び電流密度2〜
3A/dm2で開始時に約25〜30Vから処理の終り
に約40〜100Vに上る電圧で30〜200分間行なう。
印刷板支持体材料の陽極酸化に対して既に挙げ
た方法の外に、例えば次の方法を使用することも
できる:H2SO4及びAl3+イオン(この含量は12
g/以上の値に調節されている)を含有する電
解質水溶液(ドイツ公開特許第2811396号明細書
=米国特許第4211619号明細書による)、H2SO4
及びH3PO4を含有する電解質水溶液(ドイツ公
開特許第2707810号明細書=米国特許第4049504号
明細書による)又はH2SO4、H3PO4及びAl3+イ
オンを含有する電解質水溶液(ドイツ公開特許第
2836803号明細書=米国特許第4229226号明細書に
よる)中のアルミニウムの陽極酸化。直流を陽極
酸化に有利に使用するが、交流又はこれらの電流
系の組合せ(例えば重畳した交流との直流)を使
用することもできる。酸化アルミニウムの層の重
量は1〜10g/m2の範囲内であり、層の厚さ約0.3
〜3.0μmに相応する。
た方法の外に、例えば次の方法を使用することも
できる:H2SO4及びAl3+イオン(この含量は12
g/以上の値に調節されている)を含有する電
解質水溶液(ドイツ公開特許第2811396号明細書
=米国特許第4211619号明細書による)、H2SO4
及びH3PO4を含有する電解質水溶液(ドイツ公
開特許第2707810号明細書=米国特許第4049504号
明細書による)又はH2SO4、H3PO4及びAl3+イ
オンを含有する電解質水溶液(ドイツ公開特許第
2836803号明細書=米国特許第4229226号明細書に
よる)中のアルミニウムの陽極酸化。直流を陽極
酸化に有利に使用するが、交流又はこれらの電流
系の組合せ(例えば重畳した交流との直流)を使
用することもできる。酸化アルミニウムの層の重
量は1〜10g/m2の範囲内であり、層の厚さ約0.3
〜3.0μmに相応する。
アルミニウムの印刷板支持体材料の陽極酸化工
程には、1種又は数種の後処理工程が続いてもよ
い。この場合後処理は、酸化アルミニウム層を親
水性にする化学的又は電気化学的処理、例えばド
イツ特許第1621478号明細書(=英国特許第
1230447号明細書)によるポリビニルホスホン酸
酸性水溶液中への浸漬による材料の処理、ドイツ
特許公報第1471707号(=米国特許第3181461号明
細書)によるアルカリ金属珪酸塩水溶液中への浸
漬による処理、又はドイツ公開特許第2532769号
明細書(=米国特許第3902976号明細書)による
アルカリ金属珪酸塩水溶液中での電気化学的処理
(陽極処理)である。これらの段処理の目的は、
殊に酸化アルミニウム層の親水性の付加的増大で
あるが、これは既に多くの使用に十分であり、こ
の層の他の公知性質は保持されている。
程には、1種又は数種の後処理工程が続いてもよ
い。この場合後処理は、酸化アルミニウム層を親
水性にする化学的又は電気化学的処理、例えばド
イツ特許第1621478号明細書(=英国特許第
1230447号明細書)によるポリビニルホスホン酸
酸性水溶液中への浸漬による材料の処理、ドイツ
特許公報第1471707号(=米国特許第3181461号明
細書)によるアルカリ金属珪酸塩水溶液中への浸
漬による処理、又はドイツ公開特許第2532769号
明細書(=米国特許第3902976号明細書)による
アルカリ金属珪酸塩水溶液中での電気化学的処理
(陽極処理)である。これらの段処理の目的は、
殊に酸化アルミニウム層の親水性の付加的増大で
あるが、これは既に多くの使用に十分であり、こ
の層の他の公知性質は保持されている。
原則として、すべてのこれらの層はネガで作用
する感光性複写層として適当であり、続いての現
像及び必要により定着を有する露光後にこの層に
よつて画像に応じた帯域が得られ、これは印刷板
に使用することができ及び/又はオリジナルの浮
出し画像を表わす。層は常用の支持体材料の1種
にプリセンシタイズ印刷板又はいわゆる乾燥レジ
ストの製造者によるか又は直接にユーザによつて
使用される。感光性物質の外に、これらの層はも
ちろん他の成分、例えば樹脂、染料又は可塑剤を
含有することもできる。特に次の感光性組成物又
は化合物を、支持体材料の被膜に使用することが
できる:芳香族ジアゾニウム塩と活性カルボニル
基を有する化合物とのネガで作用する縮合生成
物、好ましくはジフエニルアミンジアゾニウム塩
とホルムアルデヒドとの縮合生成物。これらは例
えばドイツ特許596731号、1138399号、1138400
号、1138401号、1142871号及び1154123号明細書、
米国特許第2679498号及び3050502号明細書及び英
国特許第712606号明細書に記載されている。
する感光性複写層として適当であり、続いての現
像及び必要により定着を有する露光後にこの層に
よつて画像に応じた帯域が得られ、これは印刷板
に使用することができ及び/又はオリジナルの浮
出し画像を表わす。層は常用の支持体材料の1種
にプリセンシタイズ印刷板又はいわゆる乾燥レジ
ストの製造者によるか又は直接にユーザによつて
使用される。感光性物質の外に、これらの層はも
ちろん他の成分、例えば樹脂、染料又は可塑剤を
含有することもできる。特に次の感光性組成物又
は化合物を、支持体材料の被膜に使用することが
できる:芳香族ジアゾニウム塩と活性カルボニル
基を有する化合物とのネガで作用する縮合生成
物、好ましくはジフエニルアミンジアゾニウム塩
とホルムアルデヒドとの縮合生成物。これらは例
えばドイツ特許596731号、1138399号、1138400
号、1138401号、1142871号及び1154123号明細書、
米国特許第2679498号及び3050502号明細書及び英
国特許第712606号明細書に記載されている。
例えばドイツ公開特許第2024244号明細書によ
る芳香族ジアゾニウム化合物のネガで作用する縮
合生成物。この生成物は縮合することのできるカ
ルボニル化合物から誘導された二価のブリツジを
介して結合した一般系A(−D)o及びBの各々の
単位少くとも1個を有する。その場合これらの記
号は、次のように定義される:Aは芳香族カルボ
環式核及び/又は複素環式核少くとも2個を有し
かつ、酸性媒体中で活性カルボニル化合物と少く
とも1つの位で縮合することのできる化合物の基
である。DはAの芳香族炭素原子に結合したジア
ゾニウム塩基である。nは整数1〜10である。B
はジアゾニウム基を有せずかつ酸性媒体中で活性
カルボニル化合物と分子の少くとも1つの位で縮
合することのできる化合物の基である。
る芳香族ジアゾニウム化合物のネガで作用する縮
合生成物。この生成物は縮合することのできるカ
ルボニル化合物から誘導された二価のブリツジを
介して結合した一般系A(−D)o及びBの各々の
単位少くとも1個を有する。その場合これらの記
号は、次のように定義される:Aは芳香族カルボ
環式核及び/又は複素環式核少くとも2個を有し
かつ、酸性媒体中で活性カルボニル化合物と少く
とも1つの位で縮合することのできる化合物の基
である。DはAの芳香族炭素原子に結合したジア
ゾニウム塩基である。nは整数1〜10である。B
はジアゾニウム基を有せずかつ酸性媒体中で活性
カルボニル化合物と分子の少くとも1つの位で縮
合することのできる化合物の基である。
光重合性モノマー、光開始剤、結合剤及び必要
により他の添加剤のネガで作用する層。この場使
用されるモノマーは、例えばアクリル酸塩及びメ
タクリル酸塩又は、例えば米国特許第2760863号
及び第3060023号明細書及びドイツ公開特許第
2064079号及び第2361041号明細書に記載されてい
るようなジイソシアネートと多価アルコールの部
分的エステルとの反応生成物である。適当な光開
始剤はなかんずくベンゾイン、ベンゾインエーテ
ル、多核キノン、アクリジン誘導体、フエナジン
誘導体、キノキサリン誘導体、キナゾリン誘導体
又は共力混合物である。
により他の添加剤のネガで作用する層。この場使
用されるモノマーは、例えばアクリル酸塩及びメ
タクリル酸塩又は、例えば米国特許第2760863号
及び第3060023号明細書及びドイツ公開特許第
2064079号及び第2361041号明細書に記載されてい
るようなジイソシアネートと多価アルコールの部
分的エステルとの反応生成物である。適当な光開
始剤はなかんずくベンゾイン、ベンゾインエーテ
ル、多核キノン、アクリジン誘導体、フエナジン
誘導体、キノキサリン誘導体、キナゾリン誘導体
又は共力混合物である。
ドイツ公開特許第3036077号明細書によるネガ
で作用する層。これは、感光性化合物としてジア
ゾニウム塩重縮合生成物又は有機アジド化合物、
及び結合剤としてアルケニルスルホニルウレタン
又はシクロアルケニルスルホニルウレタン側位基
を有する高分子ポリマーを含有する。
で作用する層。これは、感光性化合物としてジア
ゾニウム塩重縮合生成物又は有機アジド化合物、
及び結合剤としてアルケニルスルホニルウレタン
又はシクロアルケニルスルホニルウレタン側位基
を有する高分子ポリマーを含有する。
次に実施例につき本発明を説明する。例中の%
は重量%である。重量部は容量部に対して、cm3に
対するgと同じ関係を有する。
は重量%である。重量部は容量部に対して、cm3に
対するgと同じ関係を有する。
例1及び比較例V1及びV2
電気化学によつて粗面化しかつ陽極酸化したア
ルミニウム支持体に、次の感光性溶液を塗布す
る: スチレンと無水マレイン酸とのコーポリマー
(平均分子量20000及び酸価180を有する)
2.25重量部 3−メトキシ−ジフエニルアミン−4−ジアゾ
ニウムサルフエート1モルと4,4′−ビス−メ
トキシメチル−ジフエニルエーテル1モルとか
ら得られた重縮合生成物(85%のH3PO4中で
縮合及びメシチレン−スルホン酸塩として沈
殿) 2.25重量部 ビクトリア・ピユア・ブルーFGA 0.12重量部 燐酸(85%) 0.30重量部 エチレングリコールモノメチルエーテル
95.08重量部 乾燥後、層は重量1.2g/m2を有する。5kWの金
属ハロゲン化物ランプ下で25秒間露光後、層を サリチル酸Na 30重量部 Na3PO4・12H2O 3重量部 水 60重量部 の溶液でPH約11.5で現像すると、実際に必要条件
をみたす欠点のない印刷版が得られる。
ルミニウム支持体に、次の感光性溶液を塗布す
る: スチレンと無水マレイン酸とのコーポリマー
(平均分子量20000及び酸価180を有する)
2.25重量部 3−メトキシ−ジフエニルアミン−4−ジアゾ
ニウムサルフエート1モルと4,4′−ビス−メ
トキシメチル−ジフエニルエーテル1モルとか
ら得られた重縮合生成物(85%のH3PO4中で
縮合及びメシチレン−スルホン酸塩として沈
殿) 2.25重量部 ビクトリア・ピユア・ブルーFGA 0.12重量部 燐酸(85%) 0.30重量部 エチレングリコールモノメチルエーテル
95.08重量部 乾燥後、層は重量1.2g/m2を有する。5kWの金
属ハロゲン化物ランプ下で25秒間露光後、層を サリチル酸Na 30重量部 Na3PO4・12H2O 3重量部 水 60重量部 の溶液でPH約11.5で現像すると、実際に必要条件
をみたす欠点のない印刷版が得られる。
前記重量のサリチル酸Naの仮りに、4−ヒド
ロキシ安息香酸又は4−アミノ安息香酸のNa塩
を使用すると、必要条件をみたす欠点のない印刷
版は得られない。即ち画像帯域から非画像帯域の
区別が存在しない。
ロキシ安息香酸又は4−アミノ安息香酸のNa塩
を使用すると、必要条件をみたす欠点のない印刷
版は得られない。即ち画像帯域から非画像帯域の
区別が存在しない。
例 2
電気化学によつて粗面化し、陽極酸化し、ポリ
ビニルホスホン酸水溶液で親水性にしたアルミニ
ウム支持体に、次の感光性被膜を設ける: ポリビニルブチラール(分子量80000を有し、
ビニルブチラール単位75%、酢酸ビニル単位1
%及びビニルアルコール単位20%を有する)と
プロペニルスルホニルイソシアネート(酸価
140を有する)との反応生成物 50.0重量部 例1による重縮合生成物 16.5重量部 燐酸(85%) 1.5重量部 ビクトリア・ピユア・ブルーFGA 2.0重量部 フエニルアゾジフエニルアミン 1.0重量部 エチレングリコールモノメチルエーテル
2500.0重量部 乾燥後、層は重量1.0g/m2を有する。5kWの金
属ハロゲン化物ランプ下で25秒間露光後、層を サリチル酸Na 23重量部 テトラポリ燐酸Na 8重量部 Na3PO4・12H2O 4重量部 水 65重量部 の溶液でPH約10.3で現像すると、実際に必要条件
をみたす欠点のない印刷版が得られる。
ビニルホスホン酸水溶液で親水性にしたアルミニ
ウム支持体に、次の感光性被膜を設ける: ポリビニルブチラール(分子量80000を有し、
ビニルブチラール単位75%、酢酸ビニル単位1
%及びビニルアルコール単位20%を有する)と
プロペニルスルホニルイソシアネート(酸価
140を有する)との反応生成物 50.0重量部 例1による重縮合生成物 16.5重量部 燐酸(85%) 1.5重量部 ビクトリア・ピユア・ブルーFGA 2.0重量部 フエニルアゾジフエニルアミン 1.0重量部 エチレングリコールモノメチルエーテル
2500.0重量部 乾燥後、層は重量1.0g/m2を有する。5kWの金
属ハロゲン化物ランプ下で25秒間露光後、層を サリチル酸Na 23重量部 テトラポリ燐酸Na 8重量部 Na3PO4・12H2O 4重量部 水 65重量部 の溶液でPH約10.3で現像すると、実際に必要条件
をみたす欠点のない印刷版が得られる。
例 3
方法を例2のようにして行なうが、現像を
2−クロル安息香酸 25.0重量部
NaOH 6.4重量部
水 68.6重量部
の溶液でPH約10.9で行なうと、同じようにして実
際に必要条件をみたす欠点のない印刷版が得られ
る。
際に必要条件をみたす欠点のない印刷版が得られ
る。
例 4
方法を例2のようにして行なうが、現像を
2−アミノ安息香酸 25.0重量部
NaOH 7.3重量部
水 67.7重量部
の溶液でPH約10.3で行なうと、同じようにして実
際に必要条件をみたす欠点のない印刷版が得られ
る。
際に必要条件をみたす欠点のない印刷版が得られ
る。
例 5
方法を例2のようにして行なうが、現像を
サリチル酸 51.0重量部
NaOH 15.0重量部
水 34.0重量部
の溶液で行ない、PHを10%のNaOH水溶液で調
節すると、同じように実際に必要条件をみたす欠
点のない印刷版が得られる。
節すると、同じように実際に必要条件をみたす欠
点のない印刷版が得られる。
例 6
方法を例2のようにして行なうが、現像を
サリチル酸Na 12.0重量部
テトラポリ燐酸Na 4.0重量部
Na3PO4・12H2O 3.0重量部
n−オクチル−硫酸Na 1.0重量部
水 80.0重量部
の溶液でPH約8.5で行なうと、同じようにして実
際に必要条件をみたす欠点のない印刷板が得られ
る。
際に必要条件をみたす欠点のない印刷板が得られ
る。
例 7
方法を例2のようにして行なうが、現像を
サリチル酸 25.0重量部
水 75.0重量部
の溶液で行ない、PHをエチレンジアミンで約7.0
に調節すると、同じようにして実際に必要条件を
みたす欠点のない印刷版が得られる。
に調節すると、同じようにして実際に必要条件を
みたす欠点のない印刷版が得られる。
比較例 V3〜V9
方法を例2のようにして行なうが、現像を、サ
リチル酸Naの代りにそれぞれ4−アミノ安息香
酸(V3)、3−アミノ安息香酸(V4)、4−ヒド
ロキシ安息香酸(V5)、3−ヒドロキシ安息香酸
(V6)、4−メトキシ安息香酸(V7)、2−メト
キシ安息香酸(V8)又は安息香酸(V9)のNa
塩を含有する溶液で行なう。いづれの場合にも、
実際に必要条件をみたす欠点のない印刷版を得る
ことはできない。即ち画像帯域から非画像帯域の
十分な区別が存在しない。
リチル酸Naの代りにそれぞれ4−アミノ安息香
酸(V3)、3−アミノ安息香酸(V4)、4−ヒド
ロキシ安息香酸(V5)、3−ヒドロキシ安息香酸
(V6)、4−メトキシ安息香酸(V7)、2−メト
キシ安息香酸(V8)又は安息香酸(V9)のNa
塩を含有する溶液で行なう。いづれの場合にも、
実際に必要条件をみたす欠点のない印刷版を得る
ことはできない。即ち画像帯域から非画像帯域の
十分な区別が存在しない。
例 8
電気化学によつて粗面化しかつ陽極処理した支
持体に、次の感光性被膜を設ける: ポリエステル(遊離OH基がアクリル酸でエス
テル化している) 1.40重量部 メタクリル酸メチルとメタクリル酸とのコーポ
リマー(平均分子量60000及び酸価93.7を有す
る) 1.40重量部 9−フエニル−アクリジン 0.10重量部 1,6−ジヒドロキシエトキシ−ヘキサン
0.20重量部 スプラノール・ブルーG1(C.I.50335)
0.02重量部 エチレングリコールモノメチルエーテル
13.00重量部 乾燥後、層を画像に応じて露光し、 サリチル酸Na 50重量部 水 50重量部 の溶液で現像し、PHを10%のNaOH水溶液で11.0
に調節すると、実際に必要条件をみたす欠点のな
い印刷版が得られる。
持体に、次の感光性被膜を設ける: ポリエステル(遊離OH基がアクリル酸でエス
テル化している) 1.40重量部 メタクリル酸メチルとメタクリル酸とのコーポ
リマー(平均分子量60000及び酸価93.7を有す
る) 1.40重量部 9−フエニル−アクリジン 0.10重量部 1,6−ジヒドロキシエトキシ−ヘキサン
0.20重量部 スプラノール・ブルーG1(C.I.50335)
0.02重量部 エチレングリコールモノメチルエーテル
13.00重量部 乾燥後、層を画像に応じて露光し、 サリチル酸Na 50重量部 水 50重量部 の溶液で現像し、PHを10%のNaOH水溶液で11.0
に調節すると、実際に必要条件をみたす欠点のな
い印刷版が得られる。
例 9
電気化学によつて粗面化し、陽極処理しかつポ
リビニルホスホン酸水溶液で親水性にしたアルミ
ニウム支持体に、次の感光性被膜を設ける: ポリビニルホルマル 1.60重量部 例1による重縮合生成物 0.50重量部 H3PO4(85%) 0.05重量部 ホスタペルン・ブルー 0.30重量部 エチレングリコールモノメチルエーテル
57.00重量部 テトラヒドロフラン 30.00重量部 酢酸ブチル 8.00重量部 乾燥後、層を画像に応じて露光し、 サルチル酸Na 21重量部 テトラポリ燐酸Na 8重量部 Na3PO4・12H2O 4重量部 水 67重量部 の溶液でPH7.45で現像すると、実際に必要条件を
みたす欠点のない印刷版が得られる。
リビニルホスホン酸水溶液で親水性にしたアルミ
ニウム支持体に、次の感光性被膜を設ける: ポリビニルホルマル 1.60重量部 例1による重縮合生成物 0.50重量部 H3PO4(85%) 0.05重量部 ホスタペルン・ブルー 0.30重量部 エチレングリコールモノメチルエーテル
57.00重量部 テトラヒドロフラン 30.00重量部 酢酸ブチル 8.00重量部 乾燥後、層を画像に応じて露光し、 サルチル酸Na 21重量部 テトラポリ燐酸Na 8重量部 Na3PO4・12H2O 4重量部 水 67重量部 の溶液でPH7.45で現像すると、実際に必要条件を
みたす欠点のない印刷版が得られる。
例 10
電気化学によつて粗面化し、陽極酸化しかつポ
リビニルホスホン酸水溶液で親水性にしたアルミ
ニウム支持体に、次の感光性溶液を塗布する: 例1による重縮合生成物 1.0重量部 非可塑化尿素樹脂(65%のブタノール/キシレ
ン溶液中で20℃で粘度6000mPas及び酸価3以
下を有する) 1.8重量部 クリスタルバイオレツト 0.4重量部 エチレングリコールモノメチルエーテル
98.0重量部 乾燥後、層を画像に応じて5kWの金属ハロゲ
ン化物ランプ下で秒間露光し、例8による溶液で
現像すると、実際に必要条件をみたす欠点のない
印刷版が得られる。
リビニルホスホン酸水溶液で親水性にしたアルミ
ニウム支持体に、次の感光性溶液を塗布する: 例1による重縮合生成物 1.0重量部 非可塑化尿素樹脂(65%のブタノール/キシレ
ン溶液中で20℃で粘度6000mPas及び酸価3以
下を有する) 1.8重量部 クリスタルバイオレツト 0.4重量部 エチレングリコールモノメチルエーテル
98.0重量部 乾燥後、層を画像に応じて5kWの金属ハロゲ
ン化物ランプ下で秒間露光し、例8による溶液で
現像すると、実際に必要条件をみたす欠点のない
印刷版が得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 水と置換芳香族カルボン酸の塩とをベースと
する有機結合剤を含有する、露光感光性のネガで
作用する複写層用の現像液において、これは、カ
ルボキシル基が結合している芳香環の炭素原子に
隣接する位置に、アミノ基、ヒドロキシ基、塩素
及び臭素から選択した置換基1個又は2個を有す
る芳香族カルボン酸の塩少なくとも1種5〜60重
量%を含有することを特徴とする現像液。 2 芳香族カルボン酸の塩少なくとも1種を10〜
30重量%含有する特許請求の範囲第1項記載の現
像液。 3 2−ヒドロキシ安息香酸、2−アミノ安息香
酸、2−クロル安息香酸、2,6−ジヒドロキシ
安息香酸及び/又は2−ヒドロキシ−ナフタリン
−3−カルボン酸の塩を含有する特許請求の範囲
第1項または第2項記載の現像液。 4 陰イオン界面活性剤0.01〜10重量%を含有す
る特許請求の範囲第1項から第3項までのいずれ
か1項記載の現像液。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19813140186 DE3140186A1 (de) | 1981-10-09 | 1981-10-09 | Entwickler und verfahren zum entwickeln fuer belichtete negativ-arbeitende reproduktionsschichten |
DE3140186.4 | 1981-10-09 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5876837A JPS5876837A (ja) | 1983-05-10 |
JPH0244064B2 true JPH0244064B2 (ja) | 1990-10-02 |
Family
ID=6143762
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57176438A Granted JPS5876837A (ja) | 1981-10-09 | 1982-10-08 | 露光感光性のネガで作用する複写層の現像液 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4579811A (ja) |
EP (1) | EP0076984B1 (ja) |
JP (1) | JPS5876837A (ja) |
AT (1) | ATE24781T1 (ja) |
AU (1) | AU557455B2 (ja) |
BR (1) | BR8205902A (ja) |
CA (1) | CA1184803A (ja) |
DE (2) | DE3140186A1 (ja) |
ES (1) | ES8400611A1 (ja) |
FI (1) | FI823414L (ja) |
ZA (1) | ZA827372B (ja) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59142547A (ja) * | 1983-02-02 | 1984-08-15 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 溶解速度差現像液の像鮮明性増大剤 |
DE3463577D1 (en) * | 1983-08-25 | 1987-06-11 | Hoechst Co American | Developer and process for the development of exposed negative reproduction foils |
DE3569703D1 (en) * | 1984-01-17 | 1989-06-01 | Fuji Photo Film Co Ltd | Presensitized plate having an anodized aluminum base with an improved hydrophilic layer |
JPS6198604A (ja) * | 1984-10-18 | 1986-05-16 | Toyota Motor Corp | シヨツクアブソ−バの取付け構造 |
JPS61113510A (ja) * | 1984-11-08 | 1986-05-31 | Toyota Motor Corp | 懸架装置 |
JPS61129309A (ja) * | 1984-11-27 | 1986-06-17 | Toyota Motor Corp | 車両のサスペンシヨン |
JPH0820738B2 (ja) * | 1986-11-21 | 1996-03-04 | オーシージー マイクロエレクトロニック マテリアルズ インコーポレイテッド | ポジ型フオトレジスト組成物の改良現像方法および現像液 |
EP0279630B1 (en) * | 1987-02-16 | 1993-10-13 | Konica Corporation | Developer for light-sensitive lithographic printing plate capable of processing commonly the negative-type and the positive type and developer composition for light-sensitive material |
JPS63271256A (ja) * | 1987-04-28 | 1988-11-09 | Konica Corp | 感光材料の現像液組成物 |
JPH01223447A (ja) * | 1988-03-03 | 1989-09-06 | Konica Corp | 感光材料の処理方法 |
US5122438A (en) * | 1989-11-02 | 1992-06-16 | Konica Corporation | Method for developing a waterless light-sensitive lithographic plate |
JPH0470756A (ja) * | 1990-07-11 | 1992-03-05 | Konica Corp | 感光性平版印刷版の現像方法及び現像液 |
EP0602736B1 (en) * | 1992-12-17 | 1997-11-05 | Eastman Kodak Company | Aqueous developer for lithographic printing plates which exhibits reduced sludge formation |
US5374500A (en) * | 1993-04-02 | 1994-12-20 | International Business Machines Corporation | Positive photoresist composition containing photoacid generator and use thereof |
EP0716347B1 (en) * | 1994-12-06 | 2002-07-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Developer for photosensitive lithographic printing plate |
DE69608734T2 (de) * | 1995-02-15 | 2000-11-23 | Agfa Gevaert Nv | Diazo-Aufzeichnungselement mit verbesserter Lagerstabilität |
JP4199942B2 (ja) * | 2001-07-09 | 2008-12-24 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の製版方法 |
US6756183B2 (en) * | 2001-08-24 | 2004-06-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for preparing lithographic printing plate |
EP1346843A1 (en) * | 2002-03-22 | 2003-09-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Image forming method |
JP5719698B2 (ja) * | 2010-06-30 | 2015-05-20 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法及び該パターン形成方法に用いられる現像液 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE606642A (ja) * | 1960-07-29 | |||
US3867147A (en) * | 1969-05-20 | 1975-02-18 | Hoechst Co American | Light-sensitive diazo compounds and reproduction material employing the same |
US4147545A (en) * | 1972-11-02 | 1979-04-03 | Polychrome Corporation | Photolithographic developing composition with organic lithium compound |
US3891439A (en) * | 1972-11-02 | 1975-06-24 | Polychrome Corp | Aqueous developing composition for lithographic diazo printing plates |
JPS50108005A (ja) * | 1974-01-31 | 1975-08-26 | ||
DE2934897C1 (de) * | 1978-02-06 | 1984-09-20 | Napp Systems (USA), Inc., San Marcos, Calif. | Desensibilisierungsloesung fuer fotoempfindliche Diazodruckplatten |
GB1603700A (en) * | 1978-05-31 | 1981-11-25 | Vickers Ltd | Developers for lithographic printing plates |
DE3008824A1 (de) * | 1979-03-09 | 1980-09-18 | Daicel Chem | Fluessige zubereitung zur behandlung lichtempfindlicher schichtstoffe sowie verfahren unter verwendung dieser zubereitung |
JPS55120032A (en) * | 1979-03-09 | 1980-09-16 | Daicel Chem Ind Ltd | Treating solution for photosensitive laminate having alcohol-soluble polyamide layer |
GB2068136B (en) * | 1980-01-29 | 1984-09-05 | Vickers Ltd | Developers for lithographic printing plates |
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- 1981-10-09 DE DE19813140186 patent/DE3140186A1/de not_active Withdrawn
-
1982
- 1982-09-28 CA CA000412385A patent/CA1184803A/en not_active Expired
- 1982-10-01 EP EP82109086A patent/EP0076984B1/de not_active Expired
- 1982-10-01 AT AT82109086T patent/ATE24781T1/de active
- 1982-10-01 DE DE8282109086T patent/DE3275026D1/de not_active Expired
- 1982-10-05 AU AU89123/82A patent/AU557455B2/en not_active Ceased
- 1982-10-07 FI FI823414A patent/FI823414L/fi not_active Application Discontinuation
- 1982-10-08 ZA ZA827372A patent/ZA827372B/xx unknown
- 1982-10-08 BR BR8205902A patent/BR8205902A/pt not_active IP Right Cessation
- 1982-10-08 ES ES516391A patent/ES8400611A1/es not_active Expired
- 1982-10-08 JP JP57176438A patent/JPS5876837A/ja active Granted
-
1983
- 1983-12-28 US US06/566,395 patent/US4579811A/en not_active Expired - Fee Related
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