JPS6052596A - オフセツト印刷版を得るための、シ−ト状、フイルム状又は帯状の基材の製法 - Google Patents
オフセツト印刷版を得るための、シ−ト状、フイルム状又は帯状の基材の製法Info
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- JPS6052596A JPS6052596A JP59163018A JP16301884A JPS6052596A JP S6052596 A JPS6052596 A JP S6052596A JP 59163018 A JP59163018 A JP 59163018A JP 16301884 A JP16301884 A JP 16301884A JP S6052596 A JPS6052596 A JP S6052596A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、オフセット印刷版を得るための基材として使
用されるアルミニウムの1工程陽極酸化法に関する。
用されるアルミニウムの1工程陽極酸化法に関する。
直接、プレコーティングされた印刷版の使用者によυ又
は製造者により、1面又は両面上に照射線敏感性又は写
真感光性の層(複写層;この層を用いて、写真製版によ
シ印刷可能な像が形成される)を有するオフセット印刷
版を得るための基材が供給されている。この印刷板から
印刷版の製造の後に、この基材は、引続く印刷時にイン
キを運ぶ像部位を有し、像のない部位(非像部位)−+
!は、引続く印刷の間に、リトグラフィ印刷法のための
親水性の像背景を形成する。
は製造者により、1面又は両面上に照射線敏感性又は写
真感光性の層(複写層;この層を用いて、写真製版によ
シ印刷可能な像が形成される)を有するオフセット印刷
版を得るための基材が供給されている。この印刷板から
印刷版の製造の後に、この基材は、引続く印刷時にイン
キを運ぶ像部位を有し、像のない部位(非像部位)−+
!は、引続く印刷の間に、リトグラフィ印刷法のための
親水性の像背景を形成する。
従って、オフセット印刷版を製造するための複写層用の
基材は、次の要件を満たすべき!あるニ 一露光の後に相対的によシ可溶性の照射線敏感な層の部
位は、親水性非像部位を形成するために、現偉によシ(
その現儂剤は基材をあまシ侵さない)、残りなく基材か
ら容易に除去可能1あるべきである。
基材は、次の要件を満たすべき!あるニ 一露光の後に相対的によシ可溶性の照射線敏感な層の部
位は、親水性非像部位を形成するために、現偉によシ(
その現儂剤は基材をあまシ侵さない)、残りなく基材か
ら容易に除去可能1あるべきである。
一非偉部位!露呈されている基材は、水に対する大きい
親和性を有すべきであり、即ち、リトグラフィ印刷法〒
1迅速にかつ永続的に水を吸収し、油性印刷インキに対
して充分な反椀性を有するように非常にM1水性fある
べき!ある。
親和性を有すべきであり、即ち、リトグラフィ印刷法〒
1迅速にかつ永続的に水を吸収し、油性印刷インキに対
して充分な反椀性を有するように非常にM1水性fある
べき!ある。
−露光前の感光層の付着性及び露光後の層の印刷部分の
付着性は充分↑あるべきである。
付着性は充分↑あるべきである。
−この基材は例えば磨滅に対する良好な機械安定性及び
特にアルカリに対する良好な化学的抵抗を有すべきr!
ある◇ このような層基材を得るために屡々用いられる出発物質
としては、その表面が慣用方法1、ドライブラッシング
、ウェットゾラッシング及びサンドブラスティング、化
学的処理及び/又は電気化学的処理によシ粗面化されて
いるアルミニウムが使用される。耐磨滅性を増加するた
めに、電気化学的に粗面化された基質に、特に薄い酸化
層の形成のための陽極酸化工程を施こす。
特にアルカリに対する良好な化学的抵抗を有すべきr!
ある◇ このような層基材を得るために屡々用いられる出発物質
としては、その表面が慣用方法1、ドライブラッシング
、ウェットゾラッシング及びサンドブラスティング、化
学的処理及び/又は電気化学的処理によシ粗面化されて
いるアルミニウムが使用される。耐磨滅性を増加するた
めに、電気化学的に粗面化された基質に、特に薄い酸化
層の形成のための陽極酸化工程を施こす。
この陽極酸化法は、通例、電解液中、例えばH2S04
r HsPO4* H2C204* H2BO3、アミ
Pスルホン酸、スルホコハク酸、スルホサリチル酸又は
これらの混合物中で実施する。との電解液又は電解液混
合物中で形成される酸化物層は、構造、層厚及び化学物
質に対する抵抗性が異なる。
r HsPO4* H2C204* H2BO3、アミ
Pスルホン酸、スルホコハク酸、スルホサリチル酸又は
これらの混合物中で実施する。との電解液又は電解液混
合物中で形成される酸化物層は、構造、層厚及び化学物
質に対する抵抗性が異なる。
実際のオフセット印刷版製造においては、特に水性H2
SO4又はH,PO4溶液が使用される。H2SO4含
有電解液に関しては、例えばヨーロッパ特許EP−B第
0004569号(=米国特許US−人第4.2116
19号)明細書及びそこに記載の文献を参照することが
fきる。
SO4又はH,PO4溶液が使用される。H2SO4含
有電解液に関しては、例えばヨーロッパ特許EP−B第
0004569号(=米国特許US−人第4.2116
19号)明細書及びそこに記載の文献を参照することが
fきる。
水性H2SO4含有電解液中マ形成される酸化アルミニ
ウム層は無定形であシ、オフセット印刷版中で使用する
際に通例単位面積abの重量約0.5〜10g/lf?
を有し、約0.15〜3.OJim (D層厚に和尚す
る。オフセット印刷版を得るためにこのような陽極酸化
された基材を用いる欠点は、H2BO3[、消液中1形
成された酸化物層が、例えばゾレセンシタイズされたオ
フセット印刷版の処理の際に、特に照射されたネガテブ
作用又は特にポジチブ作用の照射敏感な層を得るための
最近の現像液中)の使用が増大しているアルカリ溶液に
対して比較的低い抵抗を有する事実である。
ウム層は無定形であシ、オフセット印刷版中で使用する
際に通例単位面積abの重量約0.5〜10g/lf?
を有し、約0.15〜3.OJim (D層厚に和尚す
る。オフセット印刷版を得るためにこのような陽極酸化
された基材を用いる欠点は、H2BO3[、消液中1形
成された酸化物層が、例えばゾレセンシタイズされたオ
フセット印刷版の処理の際に、特に照射されたネガテブ
作用又は特にポジチブ作用の照射敏感な層を得るための
最近の現像液中)の使用が増大しているアルカリ溶液に
対して比較的低い抵抗を有する事実である。
燐オキシ酸又は燐酸塩を含有する水性電解液中マのアル
ミニウムの陽極酸化はそれ自体公知′t4ある。
ミニウムの陽極酸化はそれ自体公知′t4ある。
西Pイツ特許出願公告DE−B第1671614号(=
米国特許US−A3.511661号)明細書中には、
リトグラフィ印刷版の製造法が記載されておシ、ここ〒
は、アルミニウム基材を低くても17℃の温度で、最低
10チ濃度のH,PO4溶液中で、酸化アルミニウム層
が最低50 nmの厚さを有するまで陽極酸化している
。
米国特許US−A3.511661号)明細書中には、
リトグラフィ印刷版の製造法が記載されておシ、ここ〒
は、アルミニウム基材を低くても17℃の温度で、最低
10チ濃度のH,PO4溶液中で、酸化アルミニウム層
が最低50 nmの厚さを有するまで陽極酸化している
。
西ドイツ特許出願公開DE−A第1809248号(=
米国特許US−A35G)4289号)明細書中には、
アルミニウム製の印刷版基材を50チ濃度の水性H3P
O4溶液中、電流密度0.5〜2.OA/d−及び15
〜40℃の温度!陽極酸化する方法が記載されている。
米国特許US−A35G)4289号)明細書中には、
アルミニウム製の印刷版基材を50チ濃度の水性H3P
O4溶液中、電流密度0.5〜2.OA/d−及び15
〜40℃の温度!陽極酸化する方法が記載されている。
西ドイツ特許出願公開DE−A第2328311号(=
米国特許US−A第3836437号)による、特に印
刷版を得るだめのアルミニウム基材の陽極酸化法は、5
〜50チ濃度の水性Na s PO4溶液中、20−4
0℃の温度〒1かつ0、8〜3.0 A/drr?の電
流密度フ、3〜1o分間実施している。こうして得られ
た酸化アルミニウム層は、10〜200■/?!/の重
量を有するはずである。このアルミニウムは予め、機械
的又は化学的に粗面化され、又は腐蝕されていてもよい
。
米国特許US−A第3836437号)による、特に印
刷版を得るだめのアルミニウム基材の陽極酸化法は、5
〜50チ濃度の水性Na s PO4溶液中、20−4
0℃の温度〒1かつ0、8〜3.0 A/drr?の電
流密度フ、3〜1o分間実施している。こうして得られ
た酸化アルミニウム層は、10〜200■/?!/の重
量を有するはずである。このアルミニウムは予め、機械
的又は化学的に粗面化され、又は腐蝕されていてもよい
。
引続き水溶性又は水分散性物質!コーティングされるべ
きアルミニウムの電解液処理用の水性浴は、西ドイツ特
許出願公告DE−B第2349113号(=米国特許U
S−A第3960676号)によれば、珪酸塩5〜45
チ、過マンガン酸塩1〜2.5チ又はホウ酸塩、燐酸塩
、クロム酸塩、モリブデン酸塩又はノ9ナジン酸塩を1
チ〜飽和の量で含有している。印刷版用を得るための基
材製造は、記載されていないが又は、金属の予めの粗面
化も記載されていない。
きアルミニウムの電解液処理用の水性浴は、西ドイツ特
許出願公告DE−B第2349113号(=米国特許U
S−A第3960676号)によれば、珪酸塩5〜45
チ、過マンガン酸塩1〜2.5チ又はホウ酸塩、燐酸塩
、クロム酸塩、モリブデン酸塩又はノ9ナジン酸塩を1
チ〜飽和の量で含有している。印刷版用を得るための基
材製造は、記載されていないが又は、金属の予めの粗面
化も記載されていない。
西ドイツ特許出願公開DE−A第2729391号(=
英国特許QB−A第1587260号)明細書中には、
BT、PO3又はH2SO4とH,PO。
英国特許QB−A第1587260号)明細書中には、
BT、PO3又はH2SO4とH,PO。
との混合物の水溶液中1アルミニウムを陽極酸化して得
られる酸化物層を有し、次い〒この比較的多孔性の酸化
物層をd IJア層(bsrrrierlayer )
型の第2の酸化物膜(これは、例えばホウ酸、酒石酸又
はホウ酸塩を含有する水溶液中での陽極酸化によシ形成
〒きる)で被覆される印刷版用の基材が記載されている
。この第1工穆(例3.5分)と第2工程(例3.2分
)のいずれも非常にゆっくり実施され、更に第2工程は
比較的高い温度(80℃)!実施される。
られる酸化物層を有し、次い〒この比較的多孔性の酸化
物層をd IJア層(bsrrrierlayer )
型の第2の酸化物膜(これは、例えばホウ酸、酒石酸又
はホウ酸塩を含有する水溶液中での陽極酸化によシ形成
〒きる)で被覆される印刷版用の基材が記載されている
。この第1工穆(例3.5分)と第2工程(例3.2分
)のいずれも非常にゆっくり実施され、更に第2工程は
比較的高い温度(80℃)!実施される。
HiPO4中!形成される酸化物層は、屡々、H2SO
4溶液を基礎とする電解液中!形成される酸化物層より
も、アルカリ媒体に対して大きい抵抗を有し、例えば明
るい表面、良好な水搬送又はインキの低い吸着性(非像
部位fのかぶシ)等のいくつかの他の利点をも有するが
、重大な欠点をも有する。印刷版基材を製造するための
最近のコンベア装置においては、実地に適合する電圧及
び帯留時間を用い、単位面積当如の重量例えば約1.5
g/rrlま1を有する酸化物層(これはもちろん、
H2SO4電解液中↑形成される薄い酸化物層よシも機
械的磨滅からの低い保護を生じる層厚に相当する)を形
成することができる。H3PO4中フ形成される酸化物
の比較的大きい孔容積及び孔直径に基づき、酸化物それ
自体の機械的安定性は低く、その結果、磨滅抵抗に関し
て更に損失する。特定のネカチブ作用層において付着の
問題も生じ、H3PO4中で陽極処理された印刷版基材
は、すべての場合には使用↑きない。Na5PO4を含
有する水性電解液中〒粗面化された従来の技術水準の酸
化物層は、他方、最近の高速のコンベア処理装置に対す
る長すぎる処理時間受得られ、更に単位面積abの重量
200■/nlの酸化物層を有し、電気化学的に粗面化
されたアルミニウム表面の微細孔構造を機械的磨滅に対
して充分に保護するためには不適尚″r!ある。更に、
現在市場から要求されている高性能印刷版を得るために
は、500■/ぜ以上特に800■/rr?以上の酸化
物重量が必要″T!ある。
4溶液を基礎とする電解液中!形成される酸化物層より
も、アルカリ媒体に対して大きい抵抗を有し、例えば明
るい表面、良好な水搬送又はインキの低い吸着性(非像
部位fのかぶシ)等のいくつかの他の利点をも有するが
、重大な欠点をも有する。印刷版基材を製造するための
最近のコンベア装置においては、実地に適合する電圧及
び帯留時間を用い、単位面積当如の重量例えば約1.5
g/rrlま1を有する酸化物層(これはもちろん、
H2SO4電解液中↑形成される薄い酸化物層よシも機
械的磨滅からの低い保護を生じる層厚に相当する)を形
成することができる。H3PO4中フ形成される酸化物
の比較的大きい孔容積及び孔直径に基づき、酸化物それ
自体の機械的安定性は低く、その結果、磨滅抵抗に関し
て更に損失する。特定のネカチブ作用層において付着の
問題も生じ、H3PO4中で陽極処理された印刷版基材
は、すべての場合には使用↑きない。Na5PO4を含
有する水性電解液中〒粗面化された従来の技術水準の酸
化物層は、他方、最近の高速のコンベア処理装置に対す
る長すぎる処理時間受得られ、更に単位面積abの重量
200■/nlの酸化物層を有し、電気化学的に粗面化
されたアルミニウム表面の微細孔構造を機械的磨滅に対
して充分に保護するためには不適尚″r!ある。更に、
現在市場から要求されている高性能印刷版を得るために
は、500■/ぜ以上特に800■/rr?以上の酸化
物重量が必要″T!ある。
2工程処理法を用いて2mの異なる電解液の利点を一緒
にする試みも既に提案されており、ここでは2工程の1
つでホスフェートイオンを含有する溶液を使用すること
も適用される。
にする試みも既に提案されており、ここでは2工程の1
つでホスフェートイオンを含有する溶液を使用すること
も適用される。
西rイツ特許出願公開DE−A第3206470号(本
発明出願以前には公開されていないが先願発明〒ある)
明細書には、オフセット印刷版用の基材の製造のための
2工程酸化法が記載されておυ、ここ〒は、この陽極酸
化をa)硫酸を基礎とする水性電解液中及びb)ホスホ
ルオキソ、ホスホルフルオル及び/又はホスホルオキソ
フルオルアニオンを含有する水性電解液中で実施される
。酸化工程の逆の順序は、西ドイツ特許出願筒P332
8084号明細書に記載され、これは、本発明と同時に
出願され、[オフセット印刷版を得るためのアルミニウ
ム基材の2工程陽極酸化法」なる名称を有する。この2
工程酸化法は、オフセット印刷版を得るために実際に使
用可能な良好な基材を生じることが↑き、これは、H3
PO4含有水性電解液中〒形成された酸化物のアルカリ
抵抗性を有するか又はこれに非常に近くなるが、陽極酸
化は、2浴中で、屡々、すすぎ浴の中間的使用を伴なっ
て実施されるのfl よυ高価な装置を必要とする。
発明出願以前には公開されていないが先願発明〒ある)
明細書には、オフセット印刷版用の基材の製造のための
2工程酸化法が記載されておυ、ここ〒は、この陽極酸
化をa)硫酸を基礎とする水性電解液中及びb)ホスホ
ルオキソ、ホスホルフルオル及び/又はホスホルオキソ
フルオルアニオンを含有する水性電解液中で実施される
。酸化工程の逆の順序は、西ドイツ特許出願筒P332
8084号明細書に記載され、これは、本発明と同時に
出願され、[オフセット印刷版を得るためのアルミニウ
ム基材の2工程陽極酸化法」なる名称を有する。この2
工程酸化法は、オフセット印刷版を得るために実際に使
用可能な良好な基材を生じることが↑き、これは、H3
PO4含有水性電解液中〒形成された酸化物のアルカリ
抵抗性を有するか又はこれに非常に近くなるが、陽極酸
化は、2浴中で、屡々、すすぎ浴の中間的使用を伴なっ
て実施されるのfl よυ高価な装置を必要とする。
このような装置は更に付加的装置及び看視装置を必要と
し、その結果として、特に付加的な誤差源も生じうる。
し、その結果として、特に付加的な誤差源も生じうる。
従って、本発明の目的は、粗面化され、陽極酸化された
アルミニウムを基礎とするオフセット印刷版用の基材の
陽極酸化の方法を得ること〒あシ、これによシ、比較的
迅速に実施!き、装置上の多大の経費を必要とせずに、
近代的なコンベアラインで工業的に実施でき、アルカリ
媒体に対する増大性の抵抗〒異f!、シ、非常に良好な
機械安定性で異なる基材が得られる。
アルミニウムを基礎とするオフセット印刷版用の基材の
陽極酸化の方法を得ること〒あシ、これによシ、比較的
迅速に実施!き、装置上の多大の経費を必要とせずに、
近代的なコンベアラインで工業的に実施でき、アルカリ
媒体に対する増大性の抵抗〒異f!、シ、非常に良好な
機械安定性で異なる基材が得られる。
本発明は、粗面化されたアルミニウム又はその合金の1
種から、燐含有アニオンを有する水性電解液中での1工
程陽極酸化によシ、オフセット印刷版を得るためのシー
ト状、膜状又は帯状の基材を製造する方法を基礎とする
。
種から、燐含有アニオンを有する水性電解液中での1工
程陽極酸化によシ、オフセット印刷版を得るためのシー
ト状、膜状又は帯状の基材を製造する方法を基礎とする
。
本発明による方法では、アルミニウムをまず電気化学的
に又は機械的及び電気化学的に粗面化し、次いで、溶解
ホスホルオキソアニオンを含有する水性電解液(水性I
(5PO4を含有する電解液以外の)中で、1o〜10
0vの電圧でかつ10〜80℃の温度11〜90秒間陽
極酸化することよりなる。
に又は機械的及び電気化学的に粗面化し、次いで、溶解
ホスホルオキソアニオンを含有する水性電解液(水性I
(5PO4を含有する電解液以外の)中で、1o〜10
0vの電圧でかつ10〜80℃の温度11〜90秒間陽
極酸化することよりなる。
本発明による方法の有利な実施態様では、a)工程を2
0〜80Vの電圧で、15〜70℃の温度フ、5〜70
秒間〒殊に30〜60V、25〜60’Cで、10〜6
0秒間〒実施する。
0〜80Vの電圧で、15〜70℃の温度フ、5〜70
秒間〒殊に30〜60V、25〜60’Cで、10〜6
0秒間〒実施する。
ホスホルオキソアニオンの前記含分−It:有fる水性
電解液は、有利に、相応するアニオンを有する塩、殊に
、アルカリ金属、アルカリ土類金属又はアンモニウムカ
チオン及びホスホルオキソアニオンを有する塩を含有す
るが、酸有利にオリザー及びポリ燐酸を使用することも
できる。
電解液は、有利に、相応するアニオンを有する塩、殊に
、アルカリ金属、アルカリ土類金属又はアンモニウムカ
チオン及びホスホルオキソアニオンを有する塩を含有す
るが、酸有利にオリザー及びポリ燐酸を使用することも
できる。
水性電解液の濃度は、広範に変動できるが、20 g/
lと所定温度での塩の飽和限定の間が有利であり、一般
に、500g/lより高い濃度〒は利点はない。
lと所定温度での塩の飽和限定の間が有利であり、一般
に、500g/lより高い濃度〒は利点はない。
電解液中の好適な化合物の例は、次のもの1ある:
燐酸二水素ナトリウム NaH2PO4燐酸水素二ナト
リウム Na2 HPO4燐酸三ナトリウム Na、
PO4 亜燐酸 H,PO5 亜燐酸二水素ナトリウム Na H2PO3亜燐酸二ナ
トリウム Na 2 HPO3二燐酸(ピロ燐酸)H4
P207 ピロ燐酸ナトリウム Na 4 P207三燐酸 H3
P301゜ 三燐酸ナトリウム Na5P501゜ ポリ燐酸 Hn+2PnO3n+1 四ポリ燐酸六ナトリウム Na6P401sメタ燐酸六
ナトリウム Na、(PO3)6メタ燐酸 Hn(PO
3)n 同様に、相応するアンモニウム塩及び特にカリウム塩を
使用することができる。
リウム Na2 HPO4燐酸三ナトリウム Na、
PO4 亜燐酸 H,PO5 亜燐酸二水素ナトリウム Na H2PO3亜燐酸二ナ
トリウム Na 2 HPO3二燐酸(ピロ燐酸)H4
P207 ピロ燐酸ナトリウム Na 4 P207三燐酸 H3
P301゜ 三燐酸ナトリウム Na5P501゜ ポリ燐酸 Hn+2PnO3n+1 四ポリ燐酸六ナトリウム Na6P401sメタ燐酸六
ナトリウム Na、(PO3)6メタ燐酸 Hn(PO
3)n 同様に、相応するアンモニウム塩及び特にカリウム塩を
使用することができる。
本発明による陽極処理法の有利な態様は、電解液として
完全脱イオン水中の燐酸三ナトリウム(NagPO4)
又は燐酸三カリウム(K、PO4)の溶液を使用する。
完全脱イオン水中の燐酸三ナトリウム(NagPO4)
又は燐酸三カリウム(K、PO4)の溶液を使用する。
本発明の方法によυ達成すべき酸化物層の単位面積当り
の重量は電解質濃度の増加及び電圧の増加に伴ない増加
する。約1g/n/l−tの酸化物層の単位面積当シの
重量は、60g/lよシ低い電解質濃度−1!’、60
Vま〒の電圧及び9o秒ま1の帯留時間で、達成される
が、より高い電解質濃度では、以外にも、:sy/nz
xb大きい酸化物層の単位面積mbの重量を形成するこ
とが1きる。前記ホスホルオキソアニオンを使用する際
に、原則としてに3PO4又はNa3PO4を用いて、
酸化物層の最高の生長が達成される。意外にも、この電
解液中マ達成することのできる酸化物層の厚さは、すべ
て、H2SO4含有電解液中で形成される酸化物の範囲
内にある。達成できる酸化物層の単位面積当りの重量に
対する電解質の濃度の前記効果は、H3PO4を100
9/lよυ大きい濃度フ使用する際には測定fきず、こ
れは、本発明によυ用いられる電解液とは対照的!ある
O 酸化物層の生長に及ぼす予想外の効果は、ホスホルオキ
ソアニオンを有する酸を相応する塩溶液f代える際にも
認められる。前記の一連の電解液において、原則として
、酸含有ホスホルオキソアニオンを含有する酸の塩を用
いると、酸化物層の高い単位面積当りの重量が達成され
る。
の重量は電解質濃度の増加及び電圧の増加に伴ない増加
する。約1g/n/l−tの酸化物層の単位面積当シの
重量は、60g/lよシ低い電解質濃度−1!’、60
Vま〒の電圧及び9o秒ま1の帯留時間で、達成される
が、より高い電解質濃度では、以外にも、:sy/nz
xb大きい酸化物層の単位面積mbの重量を形成するこ
とが1きる。前記ホスホルオキソアニオンを使用する際
に、原則としてに3PO4又はNa3PO4を用いて、
酸化物層の最高の生長が達成される。意外にも、この電
解液中マ達成することのできる酸化物層の厚さは、すべ
て、H2SO4含有電解液中で形成される酸化物の範囲
内にある。達成できる酸化物層の単位面積当りの重量に
対する電解質の濃度の前記効果は、H3PO4を100
9/lよυ大きい濃度フ使用する際には測定fきず、こ
れは、本発明によυ用いられる電解液とは対照的!ある
O 酸化物層の生長に及ぼす予想外の効果は、ホスホルオキ
ソアニオンを有する酸を相応する塩溶液f代える際にも
認められる。前記の一連の電解液において、原則として
、酸含有ホスホルオキソアニオンを含有する酸の塩を用
いると、酸化物層の高い単位面積当りの重量が達成され
る。
本発明によシ用いられる種々の電解液中での陽極処理に
関する電流一時間曲線は、Na、PO4又はに3PO4
を用いる際にその期間にわたシミ流の一定が保持される
ことを示しているl即ち、は 層の生長!陽極処理時間に依る。しかしながら、長い陽
極処理時間の場合には、この酸化物は陽極処理電解液中
マ再溶解する事実を甘受すべきT!ある。H,1)04
(特許梢求していない)及びH3P0 、を例外として
、他の多くの研究された電解液において、電流は、10
〜30秒間に(電解質に依る)、所定電圧で、高い当初
値から1〜2 A/dm’の値t−1’低下する。結果
として、比較的長い陽極処理時間は、酸化物層の単位面
積当シの重量を更に増加することに、非常に僅かな役割
のみを有する。
関する電流一時間曲線は、Na、PO4又はに3PO4
を用いる際にその期間にわたシミ流の一定が保持される
ことを示しているl即ち、は 層の生長!陽極処理時間に依る。しかしながら、長い陽
極処理時間の場合には、この酸化物は陽極処理電解液中
マ再溶解する事実を甘受すべきT!ある。H,1)04
(特許梢求していない)及びH3P0 、を例外として
、他の多くの研究された電解液において、電流は、10
〜30秒間に(電解質に依る)、所定電圧で、高い当初
値から1〜2 A/dm’の値t−1’低下する。結果
として、比較的長い陽極処理時間は、酸化物層の単位面
積当シの重量を更に増加することに、非常に僅かな役割
のみを有する。
酸化物層の単位面積当シの重量とは対称的に、酸化物の
アルカリ抵抗性(亜鉛酸塩試験で測定)は、60g/1
以上の濃度fは、もはや電解質の濃度には依らない。例
えばNa s PO4の60〜100 F!/lの濃度
で達成される最大亜鉛酸塩テスト時間の達成の後に、電
解質の濃度を更に増加しても、亜鉛酸塩テスト時間は増
加しない。実際に、高い電圧では僅かな減少が認められ
る。
アルカリ抵抗性(亜鉛酸塩試験で測定)は、60g/1
以上の濃度fは、もはや電解質の濃度には依らない。例
えばNa s PO4の60〜100 F!/lの濃度
で達成される最大亜鉛酸塩テスト時間の達成の後に、電
解質の濃度を更に増加しても、亜鉛酸塩テスト時間は増
加しない。実際に、高い電圧では僅かな減少が認められ
る。
所定の濃度及び電圧fの陽極処理時間は、同様に、酸化
物のアルカリ抵抗性に僅かな影響を有するだけである。
物のアルカリ抵抗性に僅かな影響を有するだけである。
アルカリ抵抗性に悪影響を及ぼす主要因は、適用陽極処
理電圧である。亜鉛酸塩テスト時間の増加は、電圧の増
加と平行する。
理電圧である。亜鉛酸塩テスト時間の増加は、電圧の増
加と平行する。
本発明によシ酸化されるべき材料を得るための好適な基
本物質には、アルミニウム又は例えばAt98.5重量
%以上及び81 * Fe + Ti + Cu及びZ
n適当量を含有する合金の1種が挙げられる。これらア
ルミニウム基礎材料は、必要に応じて、まず予備浄化し
、次いフ機械的(例えばブラッシングによるか又は研摩
剤での処理によシ)、化学的(例えば腐蝕剤を用いて)
、かつ/又は電気化学的(例えば水性Hα、囮03又は
塩溶液中1交流電流を用いる処理によシ)に粗面化され
る。すべての工程は、不連続的に実施できるが、連続的
に実施するのが有利である。
本物質には、アルミニウム又は例えばAt98.5重量
%以上及び81 * Fe + Ti + Cu及びZ
n適当量を含有する合金の1種が挙げられる。これらア
ルミニウム基礎材料は、必要に応じて、まず予備浄化し
、次いフ機械的(例えばブラッシングによるか又は研摩
剤での処理によシ)、化学的(例えば腐蝕剤を用いて)
、かつ/又は電気化学的(例えば水性Hα、囮03又は
塩溶液中1交流電流を用いる処理によシ)に粗面化され
る。すべての工程は、不連続的に実施できるが、連続的
に実施するのが有利である。
一般に、電気化学的粗面化工程↑の方法パラメータは、
特に連続的方法の場合に、次の範囲内にある:電解液の
温度は20〜60℃、作用物質(酸又は塩)濃度は2〜
100g、/l:又は塩の場合にはよシ高い)、電流密
度は15〜250 h/ad、帯留時間3〜100秒、
被処理物品の表面での電解液の流速は5〜100 cr
n/秒、使用電流方式は一般に交流であるが、変成され
た電流例えば陽極電流及び陰極電流に対して異なる電流
増幅度の交流電流を使用することも〒きる。この方法f
1粗面化された面の平均の粗面深さく山から谷t″?4
の高さ)R7は約1〜15μmの範囲マある。との粗面
深さはDIN4768(1970年規定)に依シ測定し
、次いfこの平均粗面深さR7は、相互に隣接している
5個の個々の測定区間の個々の高さの算術平均ffi、
iる0 予備浄化は、例えば、脱脂剤及び/又は錯形成剤、トリ
クロルエチレン、アセトン、メタノール又は他の市販の
いわゆるアルミニウム腐蝕剤の使用又は不使用下におけ
るNaOH水溶液での処理よシなる。この又はこれらの
粗面化工程の間に、付加的な腐蝕処理を行なうことがで
き、この際、殊に最大2 g/rrlが除去され(これ
らの工程の間〒は5g/lrlまで)、この腐蝕作用を
する溶液としては、一般にアルカリ金属水酸化物水溶液
又はアルカリ塩の水溶液又は、HNO3゜H2SO4又
はT(3PO4を基礎とする酸水溶液が使用される。粗
面化工程と陽極処理工程との間の腐蝕処理に加えて、非
−電気化学的処理も公知であり、これは、単にすすぎ及
び/又は浄化作用を有し、例えば粗面化工程の間に形成
される沈殿(泥)を除くだめ又は残留電解液を除くため
に有用fあシ、例えば稀アルカリ金属水酸化物溶液又は
水がこの目的に使用される。
特に連続的方法の場合に、次の範囲内にある:電解液の
温度は20〜60℃、作用物質(酸又は塩)濃度は2〜
100g、/l:又は塩の場合にはよシ高い)、電流密
度は15〜250 h/ad、帯留時間3〜100秒、
被処理物品の表面での電解液の流速は5〜100 cr
n/秒、使用電流方式は一般に交流であるが、変成され
た電流例えば陽極電流及び陰極電流に対して異なる電流
増幅度の交流電流を使用することも〒きる。この方法f
1粗面化された面の平均の粗面深さく山から谷t″?4
の高さ)R7は約1〜15μmの範囲マある。との粗面
深さはDIN4768(1970年規定)に依シ測定し
、次いfこの平均粗面深さR7は、相互に隣接している
5個の個々の測定区間の個々の高さの算術平均ffi、
iる0 予備浄化は、例えば、脱脂剤及び/又は錯形成剤、トリ
クロルエチレン、アセトン、メタノール又は他の市販の
いわゆるアルミニウム腐蝕剤の使用又は不使用下におけ
るNaOH水溶液での処理よシなる。この又はこれらの
粗面化工程の間に、付加的な腐蝕処理を行なうことがで
き、この際、殊に最大2 g/rrlが除去され(これ
らの工程の間〒は5g/lrlまで)、この腐蝕作用を
する溶液としては、一般にアルカリ金属水酸化物水溶液
又はアルカリ塩の水溶液又は、HNO3゜H2SO4又
はT(3PO4を基礎とする酸水溶液が使用される。粗
面化工程と陽極処理工程との間の腐蝕処理に加えて、非
−電気化学的処理も公知であり、これは、単にすすぎ及
び/又は浄化作用を有し、例えば粗面化工程の間に形成
される沈殿(泥)を除くだめ又は残留電解液を除くため
に有用fあシ、例えば稀アルカリ金属水酸化物溶液又は
水がこの目的に使用される。
アルミニウム製基材の陽極酸化工程に引続き1以上の後
処理工程も実施マきるが、これらは、屡々、特に本発明
方法では不必要である。後処理とは次のものを意味する
:特に、親水性を与えるための酸化アルミニウム層の化
学的又は電気化学的処理、例えば西ドイツ特許DE−C
第1621478号(−英国特許GB−A第12304
47号)による、材料をポリビニルホスホ/酸水溶液中
に浸漬する処理、西ドイツ特許出願公告DE−B第14
71707号(米国特許US−A第3181461号)
によるアルカリ金属珪酸塩水溶液中に浸漬する処理又は
、西ドイツ特許出願公開D16−A第2532769号
(=米国特許US−A第3902976号)によるアル
カリ金属珪酸塩水溶液中1の電気化学的処理(陽極処理
)。これらの後処理工程で、特に、屡々充分である酸化
アルミニウム層の親水性は、更に増大され、この層の残
シの慣用特性は少なくとも保留される。
処理工程も実施マきるが、これらは、屡々、特に本発明
方法では不必要である。後処理とは次のものを意味する
:特に、親水性を与えるための酸化アルミニウム層の化
学的又は電気化学的処理、例えば西ドイツ特許DE−C
第1621478号(−英国特許GB−A第12304
47号)による、材料をポリビニルホスホ/酸水溶液中
に浸漬する処理、西ドイツ特許出願公告DE−B第14
71707号(米国特許US−A第3181461号)
によるアルカリ金属珪酸塩水溶液中に浸漬する処理又は
、西ドイツ特許出願公開D16−A第2532769号
(=米国特許US−A第3902976号)によるアル
カリ金属珪酸塩水溶液中1の電気化学的処理(陽極処理
)。これらの後処理工程で、特に、屡々充分である酸化
アルミニウム層の親水性は、更に増大され、この層の残
シの慣用特性は少なくとも保留される。
本発明によυ製造された材料は、オフセット印刷版の基
材として使用され、例えば、プレセンシタイズされた印
刷版の製造者によシ又は直接使用者によシ照射敏感な被
覆がこの基材の一面又は両面に施こされる。好適な照射
敏感な又は感光性の層としては、原則的に、照射(露光
)ことのできる画像に応じた表面を生じさせるすべての
層である。
材として使用され、例えば、プレセンシタイズされた印
刷版の製造者によシ又は直接使用者によシ照射敏感な被
覆がこの基材の一面又は両面に施こされる。好適な照射
敏感な又は感光性の層としては、原則的に、照射(露光
)ことのできる画像に応じた表面を生じさせるすべての
層である。
多くの分野で使用されているハロゲン化銀含有層に加え
て、例えば、・クヤロミア・コザール(Jaromlr
Kosar )によるライト−センシティブ−システ
ム(Llght −5snsltlve System
:John Wiley & 5ons r New
York 1965年発行)に記載のように次の種々
の他の層も公知であるニクロム酸塩及び・ククロム酸塩
を含有するコロイド層(Kosar第2章)、不飽和化
合物を含有する層(ここでこれら化合物は露光時に異性
化、転位、閉環又は交叉結合される) (Koaal第
牛章)、光重合しうる化合物を含有する層(ここfモノ
マー又はプレポリマーは露光時に、場合によっては開始
剤を用いて重合される) (Kogar第5章)及び0
−ジアゾキノン例えばジアゾナフトキノン、T’−・ジ
アゾキノン又はジアゾニウム塩縮合物を含有する層(K
osar第7章)。好適な層には、電子写真層例えば無
機又は有機光導体を含有するものも包含される。感光性
物質に加えて、これらの層にはもちろん他の成分例えば
樹脂、染料又は可塑剤を含有していてもよい。特に、本
発明方法によυ製造された基材のコーティングに、次の
感光性組成物又は化合物を使用することができる:例え
ば西Pイツ特許DE−C第854890号、同第865
109号、同第879203号、同第894959号、
同第938233号、同第11C1521号、同第11
44705号、同第1118606号、同第11202
73号、同第1124817号及び同第2331377
号及びヨーロツ・ぞ特許公開EP−A第0021428
号及び同第0055814号明細書中に記載されておシ
、感光性化合物として0−ジアゾキノン、特に0−ジア
ゾナフトキノン類例えば低分子量又は高分子量であって
よい2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンスルホン酸エス
テル又はアミPを含有するポジチブー作用複写層;芳香
族ジアゾニウム塩と活性カルブニル基含有化合物との縮
合生成物、有利にジフェニルアミンジアゾニウム塩とホ
ルムアルデヒドとからの縮合生成物を含有するネカチブ
作用複写層(これらは例えば西ドイツ特許DE−C第5
96731号、同第1138399号、同第11384
00号、同第1138401号、同第1142871号
及び同第1154123号及び米国特許US−A第26
79498号及び同第3050502号及び英国特許G
B−A第712606号明細書中に記載されている);
芳香族ジアゾニウム化合物の共縮合生成物を含有する西
Pイツ特許DE−C第2065732号明細書に記載の
ネカチブ作用複写層(この層は、少なくともa)縮合可
能な芳香族ジアゾニウム塩化合物及びb)縮合可能な化
合物例えばフェノールエーテル又は芳香族チオエーテル
よシ成シ、縮合可能なカルゼニル化合物から誘導される
2価の架橋基例えばメチレン基を介して結合されている
単位少なくとも1個を有する化合物を含有する); 露光時に酸を分解する化合物、酸により分解されうる少
なくとも1個のC−0−C基(例えばオルトカル−キシ
レート基又はカルジキシアミドアセタール基)を有する
モノマー又はポリマー化合物を含有し、適当な場合には
結合剤を含有する西ドイツ特許出願公開DF−A第26
10842号、西Pイッ特許DE−C第2718254
号又は西Pイッ特許出願公開DE−A第2928636
号明細書に記載のぽジチブ作用層; 光重合可能なモノマー、光学反応開始剤、結合剤及び場
合によっては他の添加物よシなるネガテブ作用層;この
際使用モノマーとしては、例えばアクリレート及びメタ
クリレート又はジイソシアネートと多価アルコールの部
分エステルとの反応生成物′t%ある(米国特許US−
A第2760863号、同第3060023号及び西ド
イツ特許公開DE−A第2064079号及び同第23
61041号明細書に記載);及び西rイツ特許出願公
開DE−A第3036077号明細書に記載の、感光性
化合物としてのジアゾニウム塩重縮合生成物又は有機ア
ジP化合物及び結合剤としてのアルケニルスルホニル又
ハシクロアルケニルスルホニルウレタン側鎖基を有する
高分子量ポリマーを含有するネガテブ作用層。
て、例えば、・クヤロミア・コザール(Jaromlr
Kosar )によるライト−センシティブ−システ
ム(Llght −5snsltlve System
:John Wiley & 5ons r New
York 1965年発行)に記載のように次の種々
の他の層も公知であるニクロム酸塩及び・ククロム酸塩
を含有するコロイド層(Kosar第2章)、不飽和化
合物を含有する層(ここでこれら化合物は露光時に異性
化、転位、閉環又は交叉結合される) (Koaal第
牛章)、光重合しうる化合物を含有する層(ここfモノ
マー又はプレポリマーは露光時に、場合によっては開始
剤を用いて重合される) (Kogar第5章)及び0
−ジアゾキノン例えばジアゾナフトキノン、T’−・ジ
アゾキノン又はジアゾニウム塩縮合物を含有する層(K
osar第7章)。好適な層には、電子写真層例えば無
機又は有機光導体を含有するものも包含される。感光性
物質に加えて、これらの層にはもちろん他の成分例えば
樹脂、染料又は可塑剤を含有していてもよい。特に、本
発明方法によυ製造された基材のコーティングに、次の
感光性組成物又は化合物を使用することができる:例え
ば西Pイツ特許DE−C第854890号、同第865
109号、同第879203号、同第894959号、
同第938233号、同第11C1521号、同第11
44705号、同第1118606号、同第11202
73号、同第1124817号及び同第2331377
号及びヨーロツ・ぞ特許公開EP−A第0021428
号及び同第0055814号明細書中に記載されておシ
、感光性化合物として0−ジアゾキノン、特に0−ジア
ゾナフトキノン類例えば低分子量又は高分子量であって
よい2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンスルホン酸エス
テル又はアミPを含有するポジチブー作用複写層;芳香
族ジアゾニウム塩と活性カルブニル基含有化合物との縮
合生成物、有利にジフェニルアミンジアゾニウム塩とホ
ルムアルデヒドとからの縮合生成物を含有するネカチブ
作用複写層(これらは例えば西ドイツ特許DE−C第5
96731号、同第1138399号、同第11384
00号、同第1138401号、同第1142871号
及び同第1154123号及び米国特許US−A第26
79498号及び同第3050502号及び英国特許G
B−A第712606号明細書中に記載されている);
芳香族ジアゾニウム化合物の共縮合生成物を含有する西
Pイツ特許DE−C第2065732号明細書に記載の
ネカチブ作用複写層(この層は、少なくともa)縮合可
能な芳香族ジアゾニウム塩化合物及びb)縮合可能な化
合物例えばフェノールエーテル又は芳香族チオエーテル
よシ成シ、縮合可能なカルゼニル化合物から誘導される
2価の架橋基例えばメチレン基を介して結合されている
単位少なくとも1個を有する化合物を含有する); 露光時に酸を分解する化合物、酸により分解されうる少
なくとも1個のC−0−C基(例えばオルトカル−キシ
レート基又はカルジキシアミドアセタール基)を有する
モノマー又はポリマー化合物を含有し、適当な場合には
結合剤を含有する西ドイツ特許出願公開DF−A第26
10842号、西Pイッ特許DE−C第2718254
号又は西Pイッ特許出願公開DE−A第2928636
号明細書に記載のぽジチブ作用層; 光重合可能なモノマー、光学反応開始剤、結合剤及び場
合によっては他の添加物よシなるネガテブ作用層;この
際使用モノマーとしては、例えばアクリレート及びメタ
クリレート又はジイソシアネートと多価アルコールの部
分エステルとの反応生成物′t%ある(米国特許US−
A第2760863号、同第3060023号及び西ド
イツ特許公開DE−A第2064079号及び同第23
61041号明細書に記載);及び西rイツ特許出願公
開DE−A第3036077号明細書に記載の、感光性
化合物としてのジアゾニウム塩重縮合生成物又は有機ア
ジP化合物及び結合剤としてのアルケニルスルホニル又
ハシクロアルケニルスルホニルウレタン側鎖基を有する
高分子量ポリマーを含有するネガテブ作用層。
作用
本発明によシ製造される基材上に、例えば西Pイツ特許
DE−C第1117391号、同第15224、97号
、同第1572312号、同第2322046号及び同
第2322047号明細書に記載の先生導層を施こすこ
ともでき、高い感光性電子写真印刷版が得られる。
DE−C第1117391号、同第15224、97号
、同第1572312号、同第2322046号及び同
第2322047号明細書に記載の先生導層を施こすこ
ともでき、高い感光性電子写真印刷版が得られる。
本発明による方法で製造される基材から得られるコーテ
ィングされたオフセット印刷版は、公知方法〒1画像に
応じた露光又は照射及び現像剤例えば水性アルカリ現像
液による非像部分の洗浄除去によシ所望の印刷版に変じ
られる。
ィングされたオフセット印刷版は、公知方法〒1画像に
応じた露光又は照射及び現像剤例えば水性アルカリ現像
液による非像部分の洗浄除去によシ所望の印刷版に変じ
られる。
本発明による1工程法は、特に次の利点を伴なうニ
一生じる酸化物のアルカリ抵抗性は実質的に、H2So
4含有水性電解液中で生成される酸化物のそれより実質
的に優れており、H3PO4含有水性電解液中1生成さ
れる酸化物のそれよシも著るしく優れている。
4含有水性電解液中で生成される酸化物のそれより実質
的に優れており、H3PO4含有水性電解液中1生成さ
れる酸化物のそれよシも著るしく優れている。
一生じる酸化物層の単位面積当シの重量は、H2SO4
含有電解液中1生成される酸化物層のその値に達し、従
って、との層厚に関して、H3PO4含有電解液中!生
成される酸化物よりも著るしく優れている。
含有電解液中1生成される酸化物層のその値に達し、従
って、との層厚に関して、H3PO4含有電解液中!生
成される酸化物よりも著るしく優れている。
一酸化物層は非常に親水性であるから、通例印刷版製造
法!使用される親水性化のための後処理工程の1つを省
略することが!きる。
法!使用される親水性化のための後処理工程の1つを省
略することが!きる。
−この基材は、前ジチブ作用、ネカチブ作用及び電子写
真作用の複写層のすべてに使用することができる。
真作用の複写層のすべてに使用することができる。
実施例
前記及び以下の実施例において、「チ」は、特にことわ
りのないかぎり「重量%」を意味する。同様に、「重量
部」は「y」、「容量部」は「創3」を意味する。更に
、次の方法を、表面のアルカリ抵抗性を試験するために
、例中で使用し、それぞれの例の結果を表中にまとめた
:号明細書第3及び第杢欄、29〜68行及び1〜8行
の記載による): 亜鉛酸アルカリ溶液中の酸化アルミニウム層の溶解速度
(秒)を層のアルカリ抵抗の尺度として採用する。溶解
のためにこの層が長時間を要する程、そのアルカリに対
する抵抗は大きい。
りのないかぎり「重量%」を意味する。同様に、「重量
部」は「y」、「容量部」は「創3」を意味する。更に
、次の方法を、表面のアルカリ抵抗性を試験するために
、例中で使用し、それぞれの例の結果を表中にまとめた
:号明細書第3及び第杢欄、29〜68行及び1〜8行
の記載による): 亜鉛酸アルカリ溶液中の酸化アルミニウム層の溶解速度
(秒)を層のアルカリ抵抗の尺度として採用する。溶解
のためにこの層が長時間を要する程、そのアルカリに対
する抵抗は大きい。
溶解速度に関するパラメータを成すのflその層厚も概
略的に比較可能である。蒸留水500耐中のKOH48
0g及び酸化亜鉛80gの溶液1滴を検査すべき表面に
施こし、金属亜鉛が現われる前に経過する時間を測定し
、これは検査すべき点f現れる暗色から認められる。
略的に比較可能である。蒸留水500耐中のKOH48
0g及び酸化亜鉛80gの溶液1滴を検査すべき表面に
施こし、金属亜鉛が現われる前に経過する時間を測定し
、これは検査すべき点f現れる暗色から認められる。
コーテイング膜によシ裏面が保護されている所定寸法の
試料をNaOHa 9/lを含有する水溶液を有する浴
中1攪拌する。この浴中f起こつた重量損失を重量で測
定する。このアルカリ浴中1の処理時間として1,2.
4又は8分を選択する。
試料をNaOHa 9/lを含有する水溶液を有する浴
中1攪拌する。この浴中f起こつた重量損失を重量で測
定する。このアルカリ浴中1の処理時間として1,2.
4又は8分を選択する。
比較例v1
厚さ0.3 mの巻かれたアルミニウムシートを水性ア
ルカリ腐蝕溶液を用いて、50〜70℃1脱脂する。H
NO、含有電解液中1交流電流を用いてアルオニウム表
面の電気化学的粗面化を実施し、約6μmのR7値を有
する表面粗面性を得ル。ヨーロッハ特許IP−B第00
04569号明細書に記載の方法によシ引続き陽極酸化
を、H2SO4及びAt2(S04)3を含有する水性
電解液中で実施すると、この方法1単位面積当りの重量
2゜897−を生じる。
ルカリ腐蝕溶液を用いて、50〜70℃1脱脂する。H
NO、含有電解液中1交流電流を用いてアルオニウム表
面の電気化学的粗面化を実施し、約6μmのR7値を有
する表面粗面性を得ル。ヨーロッハ特許IP−B第00
04569号明細書に記載の方法によシ引続き陽極酸化
を、H2SO4及びAt2(S04)3を含有する水性
電解液中で実施すると、この方法1単位面積当りの重量
2゜897−を生じる。
比較例v2
比較例v1に和尚する粗面化された帯状アルミニウムを
、H3PO41009/lを含有する水性電解液中”!
、4ovの電圧で40秒かかつて陽極酸化する。生じる
酸化物層の単位面積当りの重量は0.911/lt?!
ある。
、H3PO41009/lを含有する水性電解液中”!
、4ovの電圧で40秒かかつて陽極酸化する。生じる
酸化物層の単位面積当りの重量は0.911/lt?!
ある。
例1〜40
比較例v1に記載と同様に電気化学的に粗面化された帯
状アルミニウムを完全な脱イオン水!洗い、次いf第■
表に記載の水性電解液中でかつ、この表中に記載の条件
下に陽極酸化する。
状アルミニウムを完全な脱イオン水!洗い、次いf第■
表に記載の水性電解液中でかつ、この表中に記載の条件
下に陽極酸化する。
第1表には、酸化物層の単位面積当シの重量及びアルカ
リ抵抗性の尺度としての亜鉛酸塩テストの測定結果も示
されている。第■表には、NaOH溶液中溶液中量!測
定された腐蝕度を用いてアルカリ抵抗性を測定するため
のいくつかの比較データが示されている。
リ抵抗性の尺度としての亜鉛酸塩テストの測定結果も示
されている。第■表には、NaOH溶液中溶液中量!測
定された腐蝕度を用いてアルカリ抵抗性を測定するため
のいくつかの比較データが示されている。
例41
例8に記載の方法で製造したアルミニウム基材は次のネ
ガテブ作用感光層を有する:硫酸3−メトキシジフェニ
ルアミン −4−ジアゾニウム1モルと4.4’−ビスメトキシメ
チルジフェニルエー テル1モルとの重縮合生成物(メシ チレンスルホネートとして沈殿) 0.70重量部85
9g濃度の燐酸 3.40重量部 ベンジルトリメチルアンモニウムヒ ドロキシドの存在で、エチレングリ コールモノメチルエーテル中の分子 量1000以下のニブキシ樹脂5゜ 重量部と安息香酸12.8重量部との 反応によシ得た変性されたエポキシ P樹脂 3.00重量部 微細粉砕されたヘリオゲン・ブルー G (Heliogen blue G ) (C,1
,74100) 0.44重量部 エチレングリコールモノメチルエーテル 62.OO容
fllテトラヒドロフラン 30.60容量部及び 酢酸ブチル aOO容量部 引続き、ネカチブマスクを通す露光をし、次の溶液を用
いて現像する: Na 2804 ” 10 H2O2−80重量部Mg
SO4−7H2O2,80重量部 85チ濃度の燐酸 0.90重量部 亜燐酸 0.08重量部 非イオン性湿潤剤 1.60重量部 ベンジルアルコール 10.00重量部n−プロパツー
ル 20.00重量部 及び 水 20.O重量部 この方法で製造した印刷版は迅速に、かつかぶシなしに
現像することができる。この方法で製造された印刷版を
用いて得られる印刷数は170o00′t%ある。比較
例v1に記載のようにして製造され、同様な処方!コー
ティングされた基材は、よシ困難な条件下でのみ現像で
きる。
ガテブ作用感光層を有する:硫酸3−メトキシジフェニ
ルアミン −4−ジアゾニウム1モルと4.4’−ビスメトキシメ
チルジフェニルエー テル1モルとの重縮合生成物(メシ チレンスルホネートとして沈殿) 0.70重量部85
9g濃度の燐酸 3.40重量部 ベンジルトリメチルアンモニウムヒ ドロキシドの存在で、エチレングリ コールモノメチルエーテル中の分子 量1000以下のニブキシ樹脂5゜ 重量部と安息香酸12.8重量部との 反応によシ得た変性されたエポキシ P樹脂 3.00重量部 微細粉砕されたヘリオゲン・ブルー G (Heliogen blue G ) (C,1
,74100) 0.44重量部 エチレングリコールモノメチルエーテル 62.OO容
fllテトラヒドロフラン 30.60容量部及び 酢酸ブチル aOO容量部 引続き、ネカチブマスクを通す露光をし、次の溶液を用
いて現像する: Na 2804 ” 10 H2O2−80重量部Mg
SO4−7H2O2,80重量部 85チ濃度の燐酸 0.90重量部 亜燐酸 0.08重量部 非イオン性湿潤剤 1.60重量部 ベンジルアルコール 10.00重量部n−プロパツー
ル 20.00重量部 及び 水 20.O重量部 この方法で製造した印刷版は迅速に、かつかぶシなしに
現像することができる。この方法で製造された印刷版を
用いて得られる印刷数は170o00′t%ある。比較
例v1に記載のようにして製造され、同様な処方!コー
ティングされた基材は、よシ困難な条件下でのみ現像で
きる。
現像の後に、黄色かぶシ(これはジアゾニウム化合物の
粒子の付着によシ生ぜしめられる)が非像部分に残シう
る。比較例v2による基材を用いる場合、印刷時に、約
90000の印刷の後に非像部位に明白な光沢が生じ、
この光沢は印刷数の増加に伴ない増加する。12000
0の印刷の彼に、印刷品質は実際に認容し得ない水準に
まで低下された。
粒子の付着によシ生ぜしめられる)が非像部分に残シう
る。比較例v2による基材を用いる場合、印刷時に、約
90000の印刷の後に非像部位に明白な光沢が生じ、
この光沢は印刷数の増加に伴ない増加する。12000
0の印刷の彼に、印刷品質は実際に認容し得ない水準に
まで低下された。
例42
例11に記載のようにして製造したアルミニウム基質に
次のポジチブ作用感光溶液をコーティングする: クレゾールーホルムアルデヒドノゼ ラック(DIN53181による軟化 範囲105〜12o℃を有する) 6.00重量部4−
(2−フェニルプロビー2−イ ル)−フェニル−2−ジアゾ−1,2 −ナフトキノン−4−スルホネート 1.10重量部ポ
リビニルブチラール 0.81重量部2−ジアゾ−1,
2−ナフトキノン− 養−スルホニルクロリド 0.75重量部クリスタルノ
Sイオレット 0.088重量及び エチレングリコールモノメチル2− チル4容量部と酢酸ジチル1重量部 とよシなる溶剤混合物 91.36重量部このコーティ
ングされた帯状物を120℃まマの温度マ乾燥トンネル
中で乾燥させる。との方法〒製造した印刷版をポ・クチ
ブを通して露光し、次の組成の現像剤を用いて現像する
:メタ珪酸ナトリウム・9H205,30重量部燐酸三
ナトリウム・12 H2O3,40重量部燐酸二水素ナ
トリウム(無水) 0.30重量部及び 水 Ql、00重量部 得られた印刷版は満足しうる複写及び印刷特性を有し、
露光後に非常に良好なコントラストを有する。印刷数は
150000である。
次のポジチブ作用感光溶液をコーティングする: クレゾールーホルムアルデヒドノゼ ラック(DIN53181による軟化 範囲105〜12o℃を有する) 6.00重量部4−
(2−フェニルプロビー2−イ ル)−フェニル−2−ジアゾ−1,2 −ナフトキノン−4−スルホネート 1.10重量部ポ
リビニルブチラール 0.81重量部2−ジアゾ−1,
2−ナフトキノン− 養−スルホニルクロリド 0.75重量部クリスタルノ
Sイオレット 0.088重量及び エチレングリコールモノメチル2− チル4容量部と酢酸ジチル1重量部 とよシなる溶剤混合物 91.36重量部このコーティ
ングされた帯状物を120℃まマの温度マ乾燥トンネル
中で乾燥させる。との方法〒製造した印刷版をポ・クチ
ブを通して露光し、次の組成の現像剤を用いて現像する
:メタ珪酸ナトリウム・9H205,30重量部燐酸三
ナトリウム・12 H2O3,40重量部燐酸二水素ナ
トリウム(無水) 0.30重量部及び 水 Ql、00重量部 得られた印刷版は満足しうる複写及び印刷特性を有し、
露光後に非常に良好なコントラストを有する。印刷数は
150000である。
比較例v1の基材から製造した相応する印刷版は非像部
位に青色かぶシを示す。現像剤はかなυ長い時間作用し
、非像部位は、実質的に薄暗いシャr−効果を示し、こ
れは、現像溶液による酸化物上の作用を示している。
位に青色かぶシを示す。現像剤はかなυ長い時間作用し
、非像部位は、実質的に薄暗いシャr−効果を示し、こ
れは、現像溶液による酸化物上の作用を示している。
例43
例14に記載のようにして製造したアルミニウム基材に
、次のネガテブー作用感光層:エチレングリコールモノ
メチルエー テル 100 重量部 及び テトラヒドロフラン 5o 重量部 中の 分子量7oo00〜8000oを有 し、ビニルブチラール単位71重世 襲、ビニル酢酸単位2重量%及びビ ニルアルコール単位27重量%よシ なるポリビニルブチラールとゾロピ レンスルホニルイソシアネートトノ 反応生成物の8.0チ濃度溶液 16.75重量部2.
6−ビス−(4−アジド−ベンゼ ン)−4−メチル−シクロヘキサノ ン 2.14重量部 ローダミン6GDNエクストラ (■Rhodamin 6 GDN extra )
0.23重量部及び 2−ペンソイルメチレン−1−メチ ル−β−ナフトチアジン 0.21重量部を施こす。
、次のネガテブー作用感光層:エチレングリコールモノ
メチルエー テル 100 重量部 及び テトラヒドロフラン 5o 重量部 中の 分子量7oo00〜8000oを有 し、ビニルブチラール単位71重世 襲、ビニル酢酸単位2重量%及びビ ニルアルコール単位27重量%よシ なるポリビニルブチラールとゾロピ レンスルホニルイソシアネートトノ 反応生成物の8.0チ濃度溶液 16.75重量部2.
6−ビス−(4−アジド−ベンゼ ン)−4−メチル−シクロヘキサノ ン 2.14重量部 ローダミン6GDNエクストラ (■Rhodamin 6 GDN extra )
0.23重量部及び 2−ペンソイルメチレン−1−メチ ル−β−ナフトチアジン 0.21重量部を施こす。
乾燥層の単位面積尚シの重量は0.759/rr?Qあ
る。複写層をネカチブを通して5kWハロゲン化金属灯
に35秒間露光する。露光した層を、ディープ−エラジ
ノぞツ)’ (deep −edge pad )を用
いて次の組成を有する現像剤!処理するニラウリル硫酸
ナトリウム 5重量部 メタ珪酸ナトリウム・5 H2O1重量部及び 水 94重量部 この際非像部位は除かれる。
る。複写層をネカチブを通して5kWハロゲン化金属灯
に35秒間露光する。露光した層を、ディープ−エラジ
ノぞツ)’ (deep −edge pad )を用
いて次の組成を有する現像剤!処理するニラウリル硫酸
ナトリウム 5重量部 メタ珪酸ナトリウム・5 H2O1重量部及び 水 94重量部 この際非像部位は除かれる。
印刷時に、この版は170000の印刷数を生じる。比
較例v2に記載のようにして製造した基材を用いると、
実質的に複写層の低い付着性が認められる。
較例v2に記載のようにして製造した基材を用いると、
実質的に複写層の低い付着性が認められる。
例4−4
例26の記載のように陽極酸化した基材に、電子写真作
用オフセット印刷版を製造するために次の溶液をコーテ
ィングする: 2.5−ビス−(4′−ジエチルアミノフェニル)−1
,3,4−オキソジアゾール 10.00重量部 スチレンと無水マレイン酸との共重 合体(軟化点210℃を有する) l○、oO重量部ロ
ーダミンFB(C,1,45170) 0.02重量部
及び エチレングリコールモノメチルエー テル 300.00重量部 この層を、暗所で、コロナを用いて約400Vで負に装
荷する。この装荷された版を画像に応じて、プロセスカ
メラ中フ露光し、次いで、沸点範囲185〜210℃を
有するイソパラフィン混合物1200容量部中のペンタ
エリスリット樹脂エステル7.5重量部の溶液中の硫酸
マグネシウム3.0重量部の分散液よシなる電子写60
秒間浸漬する: メタ珪酸ナトリウム・9 H2O35重量部グリセロー
ル 140重量部 エチレングリコール 550 ![11部及び エタノール 140重量部 次いでこの版を水の強いジェット流で洗い、光導電層の
トナーで被覆されていない部分を除くと、版は印刷に使
用できる状態になる。
用オフセット印刷版を製造するために次の溶液をコーテ
ィングする: 2.5−ビス−(4′−ジエチルアミノフェニル)−1
,3,4−オキソジアゾール 10.00重量部 スチレンと無水マレイン酸との共重 合体(軟化点210℃を有する) l○、oO重量部ロ
ーダミンFB(C,1,45170) 0.02重量部
及び エチレングリコールモノメチルエー テル 300.00重量部 この層を、暗所で、コロナを用いて約400Vで負に装
荷する。この装荷された版を画像に応じて、プロセスカ
メラ中フ露光し、次いで、沸点範囲185〜210℃を
有するイソパラフィン混合物1200容量部中のペンタ
エリスリット樹脂エステル7.5重量部の溶液中の硫酸
マグネシウム3.0重量部の分散液よシなる電子写60
秒間浸漬する: メタ珪酸ナトリウム・9 H2O35重量部グリセロー
ル 140重量部 エチレングリコール 550 ![11部及び エタノール 140重量部 次いでこの版を水の強いジェット流で洗い、光導電層の
トナーで被覆されていない部分を除くと、版は印刷に使
用できる状態になる。
例45
例12の記載と同様にして製造した帯状アルミニウムを
、ポリビニルホスホン酸の0.2%水溶液中に50℃で
20秒間浸漬する。乾燥後に、付加的にこの方法1親水
性化された基材を更に例3に記載のように処理すると、
非像部位のインク反溌作用は改良できる。よυ有利な親
水性化は、西ドイツ特許出願公開DE−A第31266
36号明細書に記載の錯体型の反応生成物(とレバa)
ポリビニルホスホン酸のようなポリマー及びb)少なく
とも2価の金属カチオンの塩より成る)を用いて達成さ
れる。
、ポリビニルホスホン酸の0.2%水溶液中に50℃で
20秒間浸漬する。乾燥後に、付加的にこの方法1親水
性化された基材を更に例3に記載のように処理すると、
非像部位のインク反溌作用は改良できる。よυ有利な親
水性化は、西ドイツ特許出願公開DE−A第31266
36号明細書に記載の錯体型の反応生成物(とレバa)
ポリビニルホスホン酸のようなポリマー及びb)少なく
とも2価の金属カチオンの塩より成る)を用いて達成さ
れる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、粗面化されたアルミニウム又はその合金の1種から
、燐含有アニオンを有する水性電解液中fの1工程陽極
酸化によυ、オフセット印刷版を得る丸めの、シート状
、フィルム状又は帯状の基材を製造するために、アルミ
ニウムをまず電気化学的に、又は機械的かつ電気化学的
に粗面化し、次い1、水性H,PO4よシなる電解液以
外の、溶解されたホスホルオキソアニオンを含有する水
性電解液中!、10〜1oovの電圧でかつ10〜80
℃の温度″11%1〜90秒間陽極酸化することを特徴
とする、オフセット印刷版を得るだめのシート状、フィ
ルム状又は帯状の基材の製法。 2 陽極酸化を、20〜80Vの電圧及び15〜60℃
の温度15〜70秒間実施する、特許請求の範囲第1項
記載の方法。 3、陽極酸化を、30〜60Vの電圧及び25〜60℃
の温度で、10〜60秒間実施する、特許請求の範囲第
1項記載の方法。 4、水性電解液は、アルカリ金属、アルカリ土類金属又
はアンモニウムカチオン及びホスホルオキソアニオンを
有する塩を特徴する特許請求の範囲第1項から第3項ま
フのいずれか1項に記載の方法。 5、水性電解液は燐酸三す) IJウム又は燐酸三カリ
ウムを特徴する特許請求の範囲第1項から第4項t−r
!のいずれか1項に記載の方法。 6、水性電解液は、ホスホルオキソ化合物を20 g/
l〜飽和の量!含有する、特許請求の範囲第1項から第
5項t−Qのいずれか1項に記載の方法。 7、陽極酸化の後に付加的に親水化性工程を特徴する特
許請求の範囲第1項から第6項までのいずれか1項に記
載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19833328049 DE3328049A1 (de) | 1983-08-03 | 1983-08-03 | Verfahren zur einstufigen anodischen oxidation von traegermaterialien aus aluminium fuer offsetdruckplatten |
DE3328049.5 | 1983-08-03 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6052596A true JPS6052596A (ja) | 1985-03-25 |
JPH0450399B2 JPH0450399B2 (ja) | 1992-08-14 |
Family
ID=6205686
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59163018A Granted JPS6052596A (ja) | 1983-08-03 | 1984-08-03 | オフセツト印刷版を得るための、シ−ト状、フイルム状又は帯状の基材の製法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4604341A (ja) |
EP (1) | EP0141056B1 (ja) |
JP (1) | JPS6052596A (ja) |
AU (1) | AU565774B2 (ja) |
BR (1) | BR8403870A (ja) |
CA (1) | CA1237693A (ja) |
DE (2) | DE3328049A1 (ja) |
ZA (1) | ZA845905B (ja) |
Cited By (3)
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JP2009249687A (ja) * | 2008-04-07 | 2009-10-29 | Honda Motor Co Ltd | アルミニウム合金製部材及びその製造方法 |
US11187470B2 (en) | 2019-08-01 | 2021-11-30 | Hamilton Sundstrand Corporation | Plate fin crossflow heat exchanger |
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-
1983
- 1983-08-03 DE DE19833328049 patent/DE3328049A1/de not_active Withdrawn
-
1984
- 1984-07-25 DE DE8484108775T patent/DE3467191D1/de not_active Expired
- 1984-07-25 EP EP84108775A patent/EP0141056B1/de not_active Expired
- 1984-07-26 US US06/634,588 patent/US4604341A/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-07-26 CA CA000459732A patent/CA1237693A/en not_active Expired
- 1984-07-31 ZA ZA845905A patent/ZA845905B/xx unknown
- 1984-08-02 BR BR8403870A patent/BR8403870A/pt not_active IP Right Cessation
- 1984-08-02 AU AU31429/84A patent/AU565774B2/en not_active Ceased
- 1984-08-03 JP JP59163018A patent/JPS6052596A/ja active Granted
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