JPH0347495B2 - - Google Patents

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JPH0347495B2
JPH0347495B2 JP57146306A JP14630682A JPH0347495B2 JP H0347495 B2 JPH0347495 B2 JP H0347495B2 JP 57146306 A JP57146306 A JP 57146306A JP 14630682 A JP14630682 A JP 14630682A JP H0347495 B2 JPH0347495 B2 JP H0347495B2
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Puriifuke Engeruberuto
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Hoechst AG
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Publication of JPH0347495B2 publication Critical patent/JPH0347495B2/ja
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3007—Imagewise removal using liquid means combined with electrical means, e.g. force fields

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、有機溶剤不含の電解質水溶液をベー
スとする現像液を用いて導電性支持材料上に塗布
された露光した感光性複写層を現像する方法に関
する。 感光性複写層は、例えばオフセツト印刷版又は
フオトレジスト（これら双方とも以下複写材料と
称される）の製造に使用され、すなわち一般にこ
の感光性複写層は、当業者によつて支持体に設け
られている。該複写材料に使用される支持体は、
例えば亜鉛、マグネシウム、クロム、銅、黄銅、
鋼、シリコーン、アルミニウムもしくはこれら金
属の混合物のような金属、プラスチツクフイル
ム、紙又は同様の材料である。該支持体は、変性
予備処理することなしに被覆することができる
が、しかし有利には、例えば機械的粗面化、化学
的粗面化及び／又は電気化学的粗面化のような表
面変性後に被覆することができ、この場合酸化及
び／又は親水性を付与する薬剤での処理（例え
ば、オフセツト印刷版の支持体の場合）は、感光
性複写層により実施された。常用の複写層は、少
なくとも１種類の感光性化合物以外に通常有機結
合剤（樹脂又は類似物）も含有し、必要に応じて
可塑剤、顔料、染料、湿潤剤、増感剤、接着促進
剤、指示薬及び他の常用の助剤も含有する。複写
層は、その露光後にそれから画像を得るために現
像され、例えば印刷版又はフオトレジストがこう
して得られる。 ネガ型の複写層に対する現像液は、電磁線（例
えば光線）を当てた層部分（画像部）に殆んど影
響を及ぼすことなしに、露光層から電磁線を当て
てない層部分（非画像部）を溶出することができ
なければならない。代表例として挙げられる西ド
イツ国特許公開公報第2065732号（＝米国特許第
3867147号明細書）には、適当な現像液として、
例えば必要に応じて界面活性剤及び／又は親水性
を付与する薬剤を添加することができる水、水／
有機溶剤混合物、塩水溶液、酸水溶液、アルカリ
水溶液及び稀釈されてない有機溶剤が記憶されて
いる。この公開公報の実施例中で主に使用される
現像液は、水、Naラウリル−スルフエート、Na
スルフエート、酒石酸及び必要に応じてベンジル
アルコールを含有し；他の現像液は、イソプロパ
ノール、ｎ−プロパノール、ｎ−プロピルアセテ
ート、ポリアクリル酸、１，１，１−トリクロル
エタン、アセトン又はエチレングリコールモノメ
チルエーテルを含有するか又はそれらよりなる。 ポジ型の複写層に対する現像液は、電磁線を当
ててない層部分（画像部）に殆んど影響を及ぼす
ことなしに、露光層から電磁線を当てた層部分
（非画像部）を溶出することができなければなら
ない。代表例として挙げられる西ドイツ国特許第
1200133号明細書（＝米国特許第3110596号明細
書）には、適当な現像液として、例えば必要に応
じて水溶性水性コロイド又は有機溶剤を含有する
こともできる燐酸塩、珪酸塩、フルオル珪酸塩、
錫酸塩、フルオル硼酸塩又はフルオルチタン酸塩
のアルカリ性水溶液が記載されている。 電子写真型の複写層に対する“現像剤”（むし
ろ、剥離剤）は、複写層の画像部に殆んど影響を
及ぼすことなしに、複写層からａ）光導電体を含
有する複写層を帯電させ、ｂ）この帯電層を露光
し、かつｃ）トーナーを与え、潜伏性静電画像を
定着させた後に残留する非画像部を溶出すること
ができなければならない。代表例として挙げられ
る西ドイツ国特許第1117391号明細書には、この
目的に適した液体として有機溶剤を添加すること
もできる水溶液中の無機又は有機塩基が記載され
ており；この例は、ポリエチレングリコール中の
オクチルアミン、モルホリン、珪酸ナトリウム及
び水中のカルボキシメチルセルロース；モノエタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、メタノー
ル、エチレングリコール、グリセロール及び珪酸
ナトリウム；NaOH水溶液；ならびにポリエチ
レングリコールを有するNH3水溶液である。 露光した複写層に対して刊行物から公知の現像
法は、露光部及び非露光部と、層部分との間の可
溶性の差に応じて作業する。従つて、適当な現像
液のPH価は、屡々中性と異なり、この現像液は、
多少とも大量の有機溶剤を含有する。所望の標準
溶剤としての水以外に公知の現像液中の活性成分
の含量は、一般に５〜10重量％を越えている。す
なわち、それは今日では望ましくない流出液の汚
染負荷をますます増大させる。更に、特殊な作用
を有する現像液は、他の複写層に不適当である場
合に通常実際に複写層の著しく広範な別法をも提
供する。公知方法の場合の典型的な現像時間は、
15〜120秒である。 本発明の目的は、有機溶剤又は比較的に大量の
他の助剤を添加することなしに、複写層の著しく
広範な別法に対して水をベースとする現像液を用
いて実施することができる、複写層を現像する方
法を得ることに関する。 本発明は、電解質水溶液をベースとする現像液
を用いて露光した感光性複写層を現像するための
公知方法から出発する。本発明方法は、非画像部
を生じるような層部分を電気化学的処理によつて
除去し、この場合導電性支持材料上に塗布される
感光性複写層が１つの電極を形成していることよ
りなる。この電解質水溶液は、PH価範囲１〜14、
殊に2.0〜10.0を有し、主成分の水以外に解離化
合物として殊に有機又は無機酸の少なくとも１種
類の塩を特別な塩に対して0.1重量％ないし溶液
の飽和限界までの濃度で含有する。この塩溶液
は、緩衝系の形であつてもよく、さらに塩含分以
外に付加的に弱酸（例えば酢酸）又は弱塩基（例
えばアンモニア）を含有してもよく；酸又は塩基
を添加することによつて塩溶液のPH価を調節する
のが有利であることもできるが、前記のPH価を越
えても不足してもいけない。電解質水溶液は、解
離化合物として有利に使用される塩の代りに酸
（例えば酢酸又は硼酸）を前記のPH価範囲内で含
有していてもよい。 本発明方法で電解質水溶液中に使用しうる塩
は、殊にカチオンとしてLi+、Na+、K+、NH4 +、
Al3+、Fe2+、Fe3+、V5+、Ca2+、Mg2+、Sr2+又
はBa2+を含有し、かつアニオンとしてSO2 4 -、
S2O2 3 -、SCN-、CO2 3 -、CH3COO-、NO- 3、
NO- 2、PO3 4 -、BO- 2、ポリホスフエート、ポリボ
レート、F-、Cl-、Br-、BF- 4、N- 3、VO- 3、C7〜
C16のアルキル−スルフエートのアニオン（硫酸
モノアルキルエステルアニオン）又はこれらの相
当する水素塩を含有するものを包含する。 本発明方法を平均化し、促進するためには、電
解質水溶液は、前記の解離化合物と異なりかつ有
利に0.1〜５重量％の濃度で添加される界面活性
剤を含有していてもよい。非イオン性界面活性剤
だけでなく、アニオン性又はカチオン性界面活性
剤を使用することもできるが；しかし、これらの
界面活性剤は、殊に本発明本法を処理機械中で実
施する際に低発泡型である傾向にある。適当であ
ることが判明した界面活性剤の例は、C7〜C16の
アルキル基を有する硫酸モノアルキルエステル、
エトキシル化アルコール及びフエノールのアルカ
リ金属塩もしくはアンモニウム塩、エトキシル化
脂肪アミン又は酸化アルキレンをベースとするブ
ロツク重合体である。 従つて、本発明方法により、露光した感光性複
写層の多種多様な型を有機溶剤又は比較的に大量
の汚染助剤を含有しない水溶液中で画像に応じて
区別することができる。この方法で得られる分解
度は、非電気化学的に使用される常用の現像液の
分解度に相当し、現像時間は、電流密度ならびに
電解液の性質及び濃度に応じて一般に約0.5〜30
秒である。本発明方法の作用の原理は、イオンに
対する異なる透過性及び／又は露光部及び非露光
部と、複写層の一部との異なる溶解性に基づくも
のと思われる。実質的に複写層に使用される支持
体の型は、現像速度に影響を及ぼすにすぎない
が、適当な現像液を使用する場合には、現像処理
の最終結果に影響を及ぼさない。 緩衝しない電解質水溶液のPH価は、変動するこ
とができ、その際、本発明方法は、その成分の
（電気）化学変化により実施されるので、電解質
水溶液を数回使用することができる場合には、付
加的に緩衝系を使用するのが有利である。 電解質水溶液中に解離した化合物の濃度は、
0.1重量％、殊に１重量％と、解離化合物の特別
な飽和濃度との間であることができ、この場合５
重量％までの濃度は、一般に既に十分である。電
解質水溶液の濃度が0.1重量％よりも低く、さら
に溶液の導電率が通常低すぎる場合には、得られ
る電流密度は、低すぎるので迅速な現像を得るこ
とができなくなる。電解質水溶液の温度は、室温
と、電解液系の沸点までの温度との間であること
ができるが、20℃〜70℃の温度を保持するのが有
利である。本発明方法を実施する間に電解質水溶
液を混合することは、一般に必要でない。 本発明方法は、種々の周波数及び変調の直流又
は交流を用いて実施されるが、パルス直流を使用
することもできる。この方法において、電流密度
は、原理的に１〜100A／dm2の範囲以外であつ
てもよいが、この範囲の方が有利である。それと
いうのも、さもないと電解質水溶液は、高すぎる
程度にまで加熱され及び／又は現像処理は、継続
時間又は品質の点で悪い影響を受けうるからであ
る。電流密度は、電解現像の開始時に増大し、１
つのレベルで一時間留まり、再び現像処理の終結
に向つて僅かに増大する。 電気化学的現像処理の間、水素は、一般に陰極
でH+（H3O+）イオンを放電させることによつて
発生する。これは、局部的PH価を強力に増大さ
せ、画像に応じて露光した複写層の可溶性部分の
剥離を生じうるものと思われる。この過程で場合
により上昇する高いPH価は、何種類かの電解質水
溶液中で所々で攻撃された複写層の支持体を導く
ことができるが；しかし、実際の現像処理は、そ
れによつて影響されず、この攻撃は、これが全体
的に必要とされる場合には、腐蝕防止剤を添加す
ることによつて減少させることができる。電解質
水溶液による複写層の不適当なぬれは、場合によ
りそれ自体に画像を有しない部分での層の残滓の
生成を導きうるが、このことは、実際の電気化学
的現像過程前に当該層に適当な界面活性剤を使用
することによつて阻止することができるか又は電
解質水溶液中で板を短時間“ソーキング”するこ
とによつて阻止することができる。 本発明方法の１つの好ましい実施態様におい
て、殊に導電性支持材料を有する複写材料の一部
として存在する処理すべき複写層は、浸漬するこ
とによつて電解質水溶液と接触される。この過程
において、支持材料の１つの端部は、電解液浴の
表面よりも上に突出させ、したがつて電流の供給
部は、この部分と接続させることができる。電流
を供給する別の方法によれば、支持材料の被覆さ
れていない後側面を介して接触部を設けることが
できる。対電極は、電解質水溶液に抵抗する材
料、例えばステンレス鋼又は黒鉛からなり、有利
に棒、篩又は板の形状を有し、殊に複写材料から
一定の距離で取付けられ、したがつて一定の電流
密度は、画像に応じて露光した複写材料の全面積
にわたつて存在する。現像すべき複写材料の被覆
されてない後側面は、電気エネルギーの不必要な
消費を避けるために、非導電性材料に隣接するの
が有利である。別の方法によれば、材料の後側面
を封じ込めることができ、この場合板は、電解液
浴容器中で密に溝中に案内される。 本発明方法の別の実施態様では、電解質水溶液
で含浸しかつ露光した複写材料と、対電極との間
に取付けられた布が使用される。現像過程後、布
は、余り汚染されていなくとも廃棄することがで
きる。それというのも、電解液のPH価は、一般に
ほぼ中和点辺りに存在するか又はそのように調節
することができるからである。 現像すべき複写層は、殊にオフセツト印刷板の
一部分（感光性層）として存在するか又は支持材
料に使用されたレジスト（フオトレジスト層）と
して存在する。予想される支持材料は、有利に、
例えば亜鉛、クロム、マグネシウム、銅、黄銅、
鋼、シリコーン、アルミニウム又はこれらの金属
の混合物をベースとするようなものを含めた導電
性支持材料である。この支持材料は、特殊な変性
予備処理なしに適当な複写層を備えることができ
るが、この被覆は、例えば機械的、化学的又は電
気化学的粗面化のような表面変性、酸化及び／又
は親水性を付与する薬剤での処理（殊に、オフセ
ツト印刷板に対する支持体の場合に後に）有利に
実施されるにすぎない。 オフセツト印刷板の製造に対して特に好適な基
体は、アルミニウム又はその合金の１種類から製
造されたものを包含する。それは、例えば次のも
のを包含する； −“純アルミニウム（pure aluminum）”（DIN
材料No.3.0255）、すなわちAl99.5％ならびに次の
許容しうる不純物（最大全体量0.5％）Si0.3％、
Fe0.4％、Ti0.03％、Cu0.02％、Zn0.07％及び残
分0.03％からなるもの、又は −“Al−合金3003（Al alloy3003）（DIN材料No.
3.0515と匹敵する）、すなわちAl98.5％、合金成
分Mg0.3％まで及びMn0.8〜1.5％ならびに次の許
容しうる不純物Si0.5％、Fe0.5％、Ti0.2％、
Zn0.2％、Cu0.1％及び残分0.15％からなるもの。 実際に著しく頻繁に生じる、印刷板に対するア
ルミニウム支持材料は、一般に感光性層を施こす
前に機械的（例えば、ブラシ掛け及び／又は研磨
材での処理による）、化学的（例えば、腐蝕剤に
よる）又は電気化学的（例えば、HCl又はHNO3
水溶液中で交流での処理による）に粗面化され
る。この場合、粗面の平均あらさRzは、１〜
15μmの範囲内、殊に４〜8μmの範囲にある。 更に、あらさは、DIN4768により1970年10月
に修正されたように、５個所の隣接する個々の測
定長さの個々のあらさの値の算術平均であるあら
さRzにより測定される。 更に、有利に使用される電気化学的粗面化法
は、必要に応じて使用されるもう１つの処理過程
で、例えば支持材料表面の耐磨耗性及び接着性を
改善するためにアルミニウムの陽極酸化を続け
る。常用の電解質、例えばH2SO4、H3PO4、
H2C2O4、アミドスルホン酸、スルホコハク酸、
スルホサリチル酸又はこれらの混合物は、陽極酸
化に使用することができる。アルミニウムの陽極
酸化に対してH2SO4含有電解液を用いる次の標
準法は、次例（例えば、M.Schenk、“Werkstoff
Aluminium und seine anodische Oxydation
〔The Constructional Material Aluminum and
its Anodic Oxidation〕”、Francke Verlag
（Bern）社刊、1948年、第760頁；“Praktische
Galvanotechnik〔Practical Electroplating and
Electrofo−rmin Technology〕”、Eugen G.
Leuze Ve−rlag（Saulgau）社刊、1970年、第
395頁以降及び第518／519頁；W.Hubner及びC.
T.Speiser、“Die Praxis der ano−dischen
Oxydation des Aluminiums〔Anodic Oxidation
of Aluminium in Practice〕”、Aluminium
Verlag（Du¨sseldorf）社刊、1977年、第３版、第
137頁以降、参照）により指摘することができ
る： −直流／硫酸法の場合、陽極酸化は、10℃〜22
℃及び電流密度0.5〜2.5A／dm2で通常溶液１
当りH2SO4約230ｇからなる電解質水溶液中で10
〜60分間実施される。電解質水溶液中の硫酸の濃
度は、H2SO48〜10重量％（H2SO4約100ｇ／）
に減少させることもできるか又はH2SO430重量
％（H2SO4365ｇ／）及びそれ以上に増大させ
ることもできる。 −“硬質陽極酸化”は、H2SO4166ｇ／（又
はH2SO4約230ｇ／）の濃度のH2SO4含有電解
質水溶液を用いて０℃〜５℃の処理温度で２〜
3A／dm2の電流密度で開始時の約25〜30Vの電圧
を処理の終結に向つて約40〜100Vに増大させな
がら30〜200分間実施される。 印刷板支持材料の陽極酸化に対して前記に既述
した方法以外に、例えば次の方法を使用すること
もできる：Al3+イオン含量を12ｇ／よりも多
い値に調節したH2SO4含有電解質水溶液中（西
ドイツ国特許公開公報第2811396号＝米国特許第
4211619号明細書により）、H2SO4−及びH3PO4
含有電解質水溶液中（西ドイツ国特許公開公報第
2707810号＝米国特許第4049504号明細書により）
又はH2SO4−、H3PO4−及びAl3+イオン含有電
解質水溶液中（西ドイツ国特許公開公報第
2836803号＝米国特許第4229226号明細書により）
でのアルミニウムの陽極酸化。直流は、陽極酸化
に有利に使用されるが、しかし交流又は電流のこ
れらの型の組合せ（例えば、重ねた交流を有する
直流）を使用してもよい。酸化アルミニウムの層
重量は、１〜10ｇ／m2の範囲内で変動し、それ
は、約0.3〜3.0μmの層厚に相当する。 アルミニウムから製造された印刷板支持材料の
陽極酸化過程は、１つ又はそれ以上の後処理過程
を続けてもよい。この場合、後処理とは、殊に酸
化アルミニウム層に親水性を付与する化学的又は
電気化学的処理、例えば西ドイツ国特許第
1621478号明細書（＝米国特許第1230447号明細
書）の記載によりポリビニルホスホン酸水溶液中
での材料の浸漬処理、西ドイツ国特許公告公報第
1471707号（＝米国特許第3181461号明細書）の記
載によりアルカリ金属珪酸塩水溶液中での浸漬処
理又は西ドイツ国特許公開第2532769号（＝米国
特許第3902976号明細書）の記載によりアルカリ
金属珪酸塩水溶液中での電気化学的処理（陽極酸
化）のことである。これらの後処理過程は、既に
多くの使用分野に対して適当な、酸化アルミニウ
ム層の親水性を付加的に増大させるのに殊に役立
ち、この場合この層の残りの公知の性質は、少な
くとも保持されている。 露光し、必要に応じてその後に現像し及び／又
は定着した後に画像に応じて印刷に使用しうる部
分を備える全ての層及び／又は原図のレリーフ画
像を表わす全ての層は、原理的に感光性複写層と
して使用することができる。該層は、プレセンシ
タイズされた印刷板又は所謂ドライレジストを製
造することによつてか又は直接に当業者によつて
常用の支持材料の１種類に使用される。感光性複
写層は、例えばジヤロミル・コサール（Jaromir
Kosar）著、“ライト−センシテイブ・システム
ズ（Light−Sensitive Systems）”、ジヨン・ウ
イリー・アンド・サンズ（John Wiley ＆
Sons（New York））社刊、1965年、に記載され
た次のものを包含する：不飽和化合物を含有する
層、この場合該化合物は、露光下で単離され、再
配置され、環化されるか又は架橋され（Kosar、
第４章）；光重合可能な化合物を含有する層、こ
の場合単量体又はプレポリマーは、露光下で必要
に応じて開始剤により重合し（Kosar、第５
章）；及びｏ−ジアゾキノン、例えばナフトキノ
ンジアジド、ｐ−ジアゾキノン又はジアゾニウム
塩縮合物を含有する層（Kosar、第７章）。適当
な層は、電子写真層、すなわち無機又は有機光導
電体を含有するものをも包含する。勿論、感光性
物質以外に例えば樹脂、染料又は可塑剤のような
他の成分を含有することもできる。殊に、次の感
光性組成物又は化合物は、支持材料の被覆に使用
することができる： ポジ型のｏ−キノンジアジド、有利にｏ−ナフ
トキノンジアジド、例えば西ドイツ国特許第
854890号明細書、同第865109号明細書、同第
879203号明細書、同第894959号明細書、同第
938233号明細書、同第1109521号明細書、同第
1144705号明細書、同第1118606号明細書、同第
1120273号明細書及び同第1124817号明細書に記載
の化合物。 芳香族ジアゾニウム塩と、活性カルボニル基を
有する化合物とのネガ型の縮合生成物、有利に例
えば西ドイツ国特許第596731号明細書、同第
1138399号明細書、同第1138400号明細書、同第
1138401号明細書、同第1142871号明細書及び同第
1154123号明細書、米国特許第2679498号明細書及
び同第3050502号明細書ならびに英国特許第
712606号明細書に記載された、ジフエニルアミン
ジアゾニウム塩と、ホルムアルデヒドとの縮合生
成物。 例えば、西ドイツ国特許公開公報第2024244号
の記載により、縮合しうるカルボニル化合物から
誘導された二座結合員によつて結合されるそれぞ
れの一般型Ａ（−Ｄ）o及びＢの少なくとも１つの
単位を有する、芳香族ジアゾニウム化合物のネガ
型の共縮合生成物。前記式中で、これらの符号
は、次のように定義される：Ａは、少なくとも２
個の芳香族炭素環核及び／又は複素環核を有しか
つ酸性媒体中で少なくとも１つの位置で活性カル
ボニル化合物と縮合しうる化合物の基である。Ｄ
は、Ａの芳香族炭素原子に結合したジアゾニウム
塩基であり；ｎは、１〜10の整数であり；Ｂは、
ジアゾニウム基を含まずかつ酸性媒体中で分子の
少なくとも１つの位置で活性カルボニル化合物と
縮合しうる化合物の基である。 西ドイツ国特許公開公報第2610842号の記載に
より、照射の際に酸を分離する化合物、酸によつ
て分離しうる少なくとも１個のｃ−ｏ−ｃ基（例
えば、オルトカルボキシレート基又はカルボキシ
アミドアセタール基）を有する化合物及び必要に
応じて結合剤を含有するポジ型の層。 光重合可能な単量体、光重合開始剤、結合剤及
び必要に応じて他の添加剤よりなるネガ型の層。
この場合、使用される単量体の例は、例えば米国
特許第2760863号明細書及び同第3060023号明細書
ならびに西ドイツ国特許公開公報第2064079号及
び同第2361041号の記載と同様にアクリレート及
びメタクリレート又はジイソシアネートと、多価
アルコールの部分エステルとの反応生成物であ
る。適当な光重合開始剤は、ベンゾイン、ベンゾ
インエーテル、多核キノン、アクリジン誘導体、
フエナジン誘導体、キノキサリン誘導体、キナゾ
リン誘導体又は種々のケトンの相乗混合物を包含
する。結合剤として使用しうる多数の可溶性有機
重合体の例は、ポリアミド、ポリエステル、アル
キド樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルピ
ロリドン、ポリエチレンオキシド、ゼラチン及び
セルロースエーテルである。 西ドイツ国特許公開公報第3036077号の記載に
より、感光性化合物としてジアゾニウム塩重縮合
生成物又は有機アジド化合物を含有しかつ結合剤
として側アルケニルスルホニル又はシクロアルケ
ニルスルホニルウレタン基を有する高分子量ポリ
マーを含有するネガ型の層。 例えば、西ドイツ国特許第1117391号明細書、
同第1522497号明細書、同第1572312号明細書、同
第2322046号明細書及び同第2322047号明細書の記
載と同様に光半導電性層を支持材料に施こすこと
もでき、この場合高熱感光性の電子写真層が得ら
れる。 次の実施例において、“％”のデータは、特に
記載しない限り、“重量％”である。“重量部”
は、ｇがcm3に関連するのと同様に、“容量部”に
関連する。複写層は、導電性支持体上に存在し、
特に記載しない限り、直流回路内の陰極として接
続している。電解質の温度は、特に記載しない限
り25℃〜30℃であり、現像すべき複写材料と、対
電極との距離は、一般に2.75cmである。電流密度
の経過は、一般に次のように記載することができ
る（例67も参照）：電流密度は、まず２，３秒間
一定の値に増大し、このレベルで２，３秒間留ま
り、次に再び僅かに電解現像の終結に向つて増大
することができる。現像時間は、特に記載しない
限り約３〜15秒である。注釈を加えない限り、現
像又は剥離した複写材料は、実際に適合される。 例 １ 次のポジ型の感光性溶液を、電気化学的に粗面
化されかつ陽極酸化されたアルミニウム箔に流
れ被覆法によつてスロツトダイを用いて使用す
る： クレゾール−ホルムアルデヒドノボラツク
（DIN53181により105℃〜120℃の軟化点範囲を
有する） 6.6重量部 １，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−ス
ルホン酸の４−（２−フエニルプロプ−２−イル）
フエニルエステル 1.1重量部 ２，2′−ビス−〔１，２−ナフトキノン−２−
ジアジド−５−スルホニルオキシ〕１，1′−ジナ
フチルメタン 0.6重量部 １，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−ス
ルホニルクロリド 0.24重量部 クリスタルバイオレツト 0.08重量部 エチレングリコールモノメチルエーテル４容量
部、テトラヒドロフラン５容量部及び酢酸ブチル
１容量部の混合物 91.36重量部。 この板を画像に応じて露光し、次に硫酸リチウ
ム３％及びナトリウムオクチル−スルフエート
（硫酸モノオクチルエステルのナトリウム塩）１
％を含有する水溶液中でPH価3.5で20Vを用いて
11〜14秒間電気化学的に現像する。 例 ２ 鋼製ブラシで機械的に粗面化したアルミニウム
箔を、次の溶液で被覆し、次に乾燥ダクト中で
100℃までの温度で乾燥する： ２，３，４−トリヒドロキシベンゾフエノン１
モル及び１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−
５−スルホニルクロリド２モルのエステル化生成
物 1.15重量部 フエノール−ホルムアルデヒドノボラツク（フ
エノール性OH基14％を有し、DIN53181により
110℃〜120℃の軟化点を有する） 7.15重量部 ２，2′−ビス−〔１，２−ナフトキノン−２−
ジアジド−５−スルホニルオキシ〕−１，1′−ジ
ナフチルメタン 0.64重量部 クリスタルバイオレツト 0.15重量部 スーダンイエローGGN（カラーインデツクス番
号11.021） 0.08重量部 エチレングリコールモノメチルエーテル40容量
部と、テトラヒドロフラン50容量部との混合物
92.25重量部。 この板を、画像に応じて露光した後、硫酸リチ
ウム３％及びナトリウムオクチル−スルフエート
１％を含有する水溶液中でPH価7.5で60Vを用い
て１〜３秒間電気化学的に現像する。 例３及び比較例C1 平均分子量40000及び酸価90〜115を有する、メ
チルメタクリレートと、メタクリル酸との共重合
体 14.00重量部 １，１，１−トリメチロールエタントリアクレ
ート 14.00重量部 １，６−ジヒドロキシエトキシヘキサン
2.00重量部 ９−ｐ−ヒドロキシフエニルアクリジン
0.50重量部 及び エチレングリコールモノエチルエーテル
130.00重量部 からなるネガ型の感光性溶液を、電気化学的に粗
面化されかつ陽極酸化された、ポリビニルホスホ
ン酸の水溶液で親水性にされたアルミニウム箔に
塗布し、画像に応じて露光した後に硫酸リチウム
３％及びナトリウムオクチル−スルフエート１％
を含有する水溶液中でPH価3.5で10Vで５〜10秒
間電気化学的に現像する。 印刷板の得られた品質は、 メタ珪酸ナトリウム・9H2O 15.00重量部 平均分子量約6000を有するポリエチレングリコ
ール 3.00重量部 レブリン酸 0.6重量部 水酸化ストロンチウム・8H2O 0.3重量部及び 水 1000.00重量部中 で非電気化学的に現像した後に得られたものと比
較することができるが、比較例の場合の現像時間
は、約60秒であつた。 例 ４ 次のネガ型の感光性層を、電気化学的に粗面化
されかつ陽極酸化された、ポリビニルホスホン
酸の水溶液で親水性にされたアルミニウム箔に
被覆させる： ポリビニルブチラル（分子量70000〜80000を有
し、ビニルブチラル71％、酢酸ビニル２％及びビ
ニルアルコール単位27％からなる）と、プロペニ
ルスルホニルイソシアネートとの反応生成物の８
％強溶液 ２，６−ビス−（４−アジドベンゼン）−４−メ
チルシクロヘキサノン 2.14重量部 ローダミン6GDNエキストラ 0.23重量部 ２−ベンゾイルメチレン−１−メチル−β−ナ
フトチアジン 0.21重量部 エチレングリコールモノメチルエーテル
100容量部 テトラヒドロフラン 50容量部。 電気化学的現像は、炭酸リチウム1.5％及びナ
トリウムオクチル−スルフエート１％を含有する
水溶液中でPH価８で60Vを用いて10〜12秒間行な
われる。拭き取つて浄化した後、実際の使用に適
当な印刷版が得られた。 例 ５ ２−ビニル−５−（4′−ジエチルアミノフエニ
ル）−４−（2′−クロルフエニル）−オキサゾール
10.00重量部 スチレンと、無水マレイン酸との共重合体（軟
化点210℃を有する） 10.00重量部 ローダミンFB（カラーインデツクス番号
45.170） 0.02重量部 及び エチレングリコールモノメチルエーテル
300.00重量部 からなる電子写真型の層を、電気化学的に粗面化
されかつ陽極酸化された、ポリビニルホスホン酸
の水溶液で水溶液で親水性にされたアルミニウム
箔に塗布する。この層に暗中で約400Vのコロナ
帯電により陰電荷を印加する。この帯電した板を
電子複写カメラ中で露光し、次いでトーナーを与
え、電子写真法で常用の方法によつて定着した。
次に、この板の非画像部を溶液中での先の非電解
質滞留時間30秒後にナトリウムオクチル−スルフ
エート１％を含有する1.5％強の炭酸リチウム水
溶液中で60Vを用いてPH価８及び温度50℃で８〜
12秒間電気化学的に剥離する。 例 ６ 例５の電子写真型の層を、乾燥ブラシ掛けによ
つて機械的に粗面化されかつ例５の記載により処
理されたアルミニウム支持体に塗布する。剥離
は、同じ電解質中で同一条件下で行なわれるが、
先の非電気化学的処理相なしに行なわれる。 例 ７ 電気化学的に粗面化されかつ陽極酸化された、
ポリビニルホスホン酸の水溶液で親水性にされ
たアルミニウム支持体を、次のネガ型の感光性
溶液で被覆する： アセチレンスルホン酸の塩として沈殿した、３
−メトキシジフエニルアミン−４−ジアゾニウム
スルフエート１モルと、４，4′−ビス−メトキシ
メチルジフエニルエーテル１モルとの重縮合生成
物 1.0重量部 非可塑化尿素樹脂（ブタノール／キシレン中の
65％強の溶液中で20℃で約6000mpa.sの粘度を有
し、３よりも低い酸価を有する） 1.8重量部 クリスタルバイオレツト 0.4重量部 エチレングリコールモノメチルエーテル
98.0重量部。 電気化学的現像は、硫酸ナトリウム３％及び酸
化エチレン単位８を有するエトキシル化イソトリ
デシルアルコール３％を含有する水溶液中でPH価
７で20Vを使用することによつて５〜７秒間行な
われる（PH価は、H3PO4で調節される）。この板
を画像に応じて露光するが、この場合画像部は、
固体の場合に僅かに攻撃される。 例 ８ ２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジ
オールのビス−（５−エチル−５−ブチル−１，
３−ジオキサン−２−イル）エーテル
25.0重量部 クレゾール−ホルムアルデヒドノボラツク
71.0重量部 クリスタルバイオレツト塩基 0.7重量部 ２−（アセナフト−５−イル）−４，６−ビス−
トリクロルメチル−ｓ−トリアジン
3.0重量部及び エチレングリコールモノメチルエーテル
900.0重量部 からなるポジ型の感光性溶液を、電気化学的に粗
面化されかつ陽極酸化されたアルミニウム箔に塗
布する。露光後、この箔は、硫酸リチウム３％と
ナトリウムオクチル−スルフエート１％を含有す
る水溶液中で15〜20Vの電圧を用いてPH価3.5で
電気化学的に現像することができる。 例 ９ 例３の板を６％強のナトリウムラウリル−スル
フエート水溶液中でPH価４で電気化学的に現像す
る。 例 10 乾式ブラシ掛けによつて機械的に粗面化されか
つ陽極酸化されたアルミニウム箔を次の成分から
なるポジ型の感光性溶液で被覆する： ２，３，４−トリヒドロキシベンゾフエノン１
モルと、１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−
５−スルホニルクロリド２モルとのエステル化生
成物 1.6重量部 ２，2′−ビス−〔１，２−ナフトキノン−２−
ジアジド−５−スルホニルオキシ〕−1.1′−ジナ
フチルメタン 0.9重量部 クレゾール−ホルムアルデヒドノボラツク
（DIN53181により105℃〜120℃の軟化点を有す
る） 6.4重量部 エチレングリコールモノメチルエーテル４容量
部、テトラヒドロフラン５容量部及び酢酸ブチル
１容量部の混合物 90.1重量部。 この被覆した箔を燐酸アンモニウム３％及びナ
トリウムオクチル−スルフエート１％を含有する
水溶液中でPH価7.5（H3PO4で調節）で電気化学的
に現像する。 例 11〜61 前記の複写材料の１種類を下記表に記載した溶
液中で電気化学的に現像する。条件は、この表か
ら知ることできる。
【表】
【表】
【表】 例 62 電気化学的に粗面化されかつ陽極酸化された、
ポリビニルホスホン酸の水溶液で親水性にされ
たアルミニウム箔を、次のネガ型の感光性溶液
で被覆する： ヒドロキシエチルメタクリレートと反応させた
スチレン／無水マレイン酸共重合体（１：１、分
子量50000） 2.00重量部 グリセロールジメチルアクリレート２モルとヘ
キサメチレンジイソシアネート１モルとのジウレ
タン 2.00重量部 ９−フエニルアクリジン 0.70重量部 サマロンネイビー（Samaron Navy）
0.07重量部 ブタノン 32.00重量部 酢酸ブチル 12.00重量部 エチレングリコールモノメチルエーテル
12.00重量部。 露光後、電気化学的現像は、硫酸アンモニウム
３％及びナトリウムオクチル−スルフエート１％
を含有する水溶液中でPH価４で40Vで４〜６秒間
行なわれる。 例 63 例62の板を硝酸ナトリウム３％及び酸化エチレ
ン単位数８を有するエトキシル化イソトリデシル
アルコール３％を含有する水溶液中でPH価４で電
気化学的に現像する。 例 64 電気化学的に粗面化されかつ陽極酸化されたア
ルミニウム箔を次の成分の電子写真型の溶液で
被覆する： ２，５−ビス−（4′−ジエチルアミノフエニル）
−１，３，４−オキサジアゾール 10.00重量部 スチレンと無水マレイン酸との共重合体（軟化
点210℃を有する） 10.00重量部 ローダミンFB（カラーインデツクス番号45170）
0.02重量部 エチレングリコールモノメチルエーテル
300.00重量部。 被覆した板を約400Vのコロナ帯電により陰電
荷を印加し、フイルム原図を用いて露光する。得
られる静電画像をカーボンブラツクによつて着色
された樹脂を散粉することによつて可視的に変
え、150℃に加熱することによつて定着し、汚れ
のない電子コピーを生じる。非画像部を燐酸アン
モニウム３％及び酸化エチレン単位数８を有する
エトキシル化イソトリデシルアルコール３％を含
有する水溶液中でPH価８で電気化学的に剥離す
る。 例 65 クロムメツキされた銅箔を次のネガ型の感光性
溶液： ポリ酢酸ビニル（20℃で20％強の酢酸エチル溶
液中でのヘプラー粘度2200mpa.s） 0.25重量部 ポリ酢酸ビニル（40mpa.s） 0.75重量部 フエノール−ホルムアルデヒドノボラツク
（DIN53181による軟化点110℃〜120℃）
4.00重量部 シクロヘキサノンとホルムアルデヒドとの縮合
生成物（軟化点75℃〜90℃） 1.00重量部 １，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−ス
ルホン酸の４−（２−フエニルプロプ−２−イル）
−フエニル 3.00重量部 クリスタルバイオレツト 0.20重量部 エチレングリコール 88.80重量部 及び 蒸留H2O 2.00重量部 で被覆し、露光後に硫酸リチム３％及びナトリウ
ムオクチル−スルフエート１％を含有する水溶液
中でPH価３で電気化学的に現像する。 例 66 乾式ブラシ掛けしたアルミニウム箔に次の成分
の液状フオトレジスト層を設ける： クレゾール−ホルムアルデヒドノボラツク
（DIN53181による融点範囲105℃〜120℃）
４重量部 ２−エトキシエチル４，4′−ビスヒドロキシフ
エニル吉草酸のビス−12−ナフトキノンジアジド
−５−スルホン酸エステル １重量部 メチルエチルケトン 40重量部。 画像に応じて露光後、電気化学的現像は、硫酸
リチウム３％及びナトリウムオクチル−スルフエ
ート１％を含有する水溶液中でPH価３で行なわれ
る。 例 67 例３による板を30V（直流）の電圧で10秒間硫
酸リチウム３％及びナトリウムオクチル−スルフ
エート１％を含有する水溶液中でPH３で電気化学
的に現像する。電流密度は、開始時に最初の５秒
間約25A／dm2に増大し、次にこの値で３秒間留
まり、再び最終の２秒間で僅かに増大する。 例 68 例３の板を、水和セルロースをベースとしかつ
硫酸リチウム３％及びナトリウムオクチル−スル
フエート１％を含有する水溶液でソーキングした
スポンジ布を電解質溜めとして使用することによ
つて現像する。この場合、ソーキングしたスポン
ジ布は、黒鉛電極と、現像すべき板との間に配置
されている。板の現像は、PH価３及び電圧15Vで
３〜６秒間実施される。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 有機溶剤不含の電解質水溶液をベースとする
    現像液を用いて導電性支持材料上に塗布された露
    光した感光性複写層を現像する方法において、非
    画像部を生じるような層部分を電気化学的処理に
    よつて除去し、この場合導電性支持材料上に塗布
    された感光性複写層が１つの電極を形成している
    ことを特徴とする、露光した感光性複写層の現像
    法。 ２ 電解質水溶液のPH価は2.0〜10.0の範囲内に
    ある、特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 電解質水溶液は有機又は無機酸の少なくとも
    １種類の塩を特別な塩に対して0.1重量％ないし
    溶液の飽和限界までの濃度で含有する、特許請求
    の範囲第１項又は第２項に記載の方法。 ４ 電解質水溶液は界面活性剤を0.1〜５重量％
    の濃度で含有する、特許請求の範囲第１項から第
    ３項までのいずれか１項に記載の方法。 ５ 電気化学的処理は電流密度１〜100A／dm2
    の直流又は交流で20℃〜70℃の温度で実施される
    特許請求の範囲第１項から第４項までのいずれか
    １項に記載の方法。 ６ 現像すべき複写層は導電性支持材料により複
    写材料の一部として存在する、特許請求の範囲第
    １項から第５項までのいずれか１項記載の方法。 ７ 現像すべき複写層はオフセツト印刷版の一部
    として存在するか又は支持材料に設けられたフオ
    トレジストとして存在する、特許請求の範囲第６
    項記載の方法。
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06103393B2 (ja) * 1985-01-21 1994-12-14 シグマ技術工業株式会社 現像の終点検出方法
JPS6120043A (ja) * 1984-07-09 1986-01-28 Sigma Gijutsu Kogyo Kk 現像の終点検出方法
JP2509572B2 (ja) * 1985-08-19 1996-06-19 株式会社東芝 パタ−ン形成方法及び装置
JPH0342705U (ja) * 1989-08-29 1991-04-23
US5183725A (en) * 1989-10-03 1993-02-02 Sharp Kabushiki Kaisha Electrode pattern forming method
KR970000235B1 (ko) * 1992-01-28 1997-01-08 마쯔다 가부시기가이샤 차량의 서스펜션장치
JP2598879B2 (ja) * 1993-12-20 1997-04-09 オリヒロ株式会社 竪型充填包装機
US6238810B1 (en) * 1999-04-07 2001-05-29 Pacesetter, Inc. Process for using surface active agents to produce high etch gains for electrolytic capacitor manufacturing
US6468413B1 (en) * 2000-10-26 2002-10-22 International Business Machines Corporation Electrochemical etch for high tin solder bumps
US6896143B2 (en) * 2001-07-27 2005-05-24 Sankyo Seiki Mfg. Co., Ltd. Electrolytic machining method, method for manufacturing dynamic pressure bearing devices, and dynamic pressure bearing devices manufactured according to the manufacturing method
JP4607521B2 (ja) * 2004-08-25 2011-01-05 コダック株式会社 平版印刷版原版の現像処理方法及び装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5036765A (ja) * 1973-07-06 1975-04-07
JPS584143A (ja) * 1981-06-30 1983-01-11 Fujitsu Ltd ポジ・レジスト膜の現像方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US909831A (en) * 1906-12-13 1909-01-12 Hans Strecker-Aufermann Process for preparing printing-plates by means of electrolytic etching.
US1579898A (en) * 1925-02-11 1926-04-06 Star Company Photographically-sensitive resist compound
US1892099A (en) * 1931-03-03 1932-12-27 Forbes Lithograph Mfg Co Modifying photographic images
US2117294A (en) * 1936-03-11 1938-05-17 John J Buchser Electrolytic film removing apparatus
US2541488A (en) * 1946-03-14 1951-02-13 Eastman Kodak Co Electrolytic diazo process
US2480845A (en) * 1947-03-14 1949-09-06 Frager Max Electrolytic removal of resin from metal
US3149059A (en) * 1960-04-06 1964-09-15 Minnesota Mining & Mfg Reproduction process
US3284199A (en) * 1963-05-02 1966-11-08 Du Pont Buffered stop bath for interrupted photographic development
US4023898A (en) * 1972-03-10 1977-05-17 Research And Development Laboratories Of Ohno Co., Ltd. Electrostatic developing apparatus
US3975243A (en) * 1972-04-07 1976-08-17 Keuffel & Esser Company Electrolytically induced polymerization utilizing diazotization of primary aromatic amines
US3944421A (en) * 1973-10-03 1976-03-16 Horizons Incorporated, A Division Of Horizons Research Incorporated Process for simultaneous development and etch of photoresist and substrate
JPS569740A (en) * 1979-07-05 1981-01-31 Fuji Photo Film Co Ltd Image forming method
JPS5629230A (en) * 1979-08-17 1981-03-24 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive image forming material and image forming method using it

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5036765A (ja) * 1973-07-06 1975-04-07
JPS584143A (ja) * 1981-06-30 1983-01-11 Fujitsu Ltd ポジ・レジスト膜の現像方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP0073445B1 (de) 1986-06-11
DE3134054A1 (de) 1983-05-05
AU8754382A (en) 1983-03-03
CA1189378A (en) 1985-06-25
BR8205025A (pt) 1983-08-09
ZA825879B (en) 1983-06-29
EP0073445A2 (de) 1983-03-09
JPS5842042A (ja) 1983-03-11
FI822965A0 (fi) 1982-08-26
ES515330A0 (es) 1983-06-01
DE3271658D1 (en) 1986-07-17
ATE20394T1 (de) 1986-06-15
US4549944A (en) 1985-10-29
ES8306889A1 (es) 1983-06-01
EP0073445A3 (en) 1983-04-06
FI822965L (fi) 1983-03-01

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