JPS5842042A - 露光した感光性複写層の現像法 - Google Patents

露光した感光性複写層の現像法

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JPS5842042A
JPS5842042A JP57146306A JP14630682A JPS5842042A JP S5842042 A JPS5842042 A JP S5842042A JP 57146306 A JP57146306 A JP 57146306A JP 14630682 A JP14630682 A JP 14630682A JP S5842042 A JPS5842042 A JP S5842042A
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/3007Imagewise removal using liquid means combined with electrical means, e.g. force fields

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、電解質水溶液をペースとする現像液を用いて
複写層を現像する方法に関する。
感光性複写層は、例えばオフセット印刷版又はフォトレ
ジスト(これら双方とも以下複写材料と称される)の製
造に使用さね、すなわち一般にこの感光性複写層は、商
業者C二よって支持体に設けられている。紋複写材料に
使用される支持体は、例えば亜鉛、マグネシウム、クロ
ム、銅、黄銅、鋼、シリコーン、アルミニウムもしくは
こわら金属の混合物のような金属、プラスチックフィル
ム、紙又は同様の材料である。
該支持体は、変性予備処理することなしに被覆すること
が1きるが、しかし有利には、例えば機械的粗面化、化
学的粗面化及び/又#i電気化学的粗面化のような表面
変性後に被覆する仁とが1き、この場合酸化及び/又は
・親水性を付与する薬剤fの処理(例えば、オフセット
印刷版の支持体の場合)は、感光性複写層C二より実施
された。常用の複写層は、少なくとも1 i[類の感光
性化合物以外に通常有機結合剤(樹脂又は類似物・)も
含有し、必要に応じて可塑剤、顔料、染料シ湿潤剤、増
感剤、接着促進剤、指示薬及び他の常用の助剤も含有す
る。複写層は、その露光後にそhから画像を得るために
現像され、例えば印刷版又はフォトレジストがこうして
得られる。
ネガ型の複写層(二対する現像液は、電磁線(例えば光
線)を当てた層部分(画像部)に殆んど影響を及ぼすこ
となしに、露光層から電磁線を当ててない層部分(非画
像m)を溶出することが1きなければならない。代表例
として挙げられる西ドイツ国特許公開公報第20657
32号(=米国特許第3867147号明細書>’t:
#−t、適当な現像液として、例えば必要に応じて界面
活性剤及び/又it親水性を付与する薬剤を添加するこ
とがfきる水、水/有機溶剤混合物、塩水溶液、酸水溶
液、アルカリ水溶液及び稀釈されてない有機溶剤が記載
されている。
この公開公報の実施例中f主I:使用される現像液は、
水、MaラウIJルースルフェート、Haスルフェート
、酒石酸及び必要に応じて堅ンジルアルコールを含有し
:他の現像液は、イソプロノぐノール、n−プロノ臂ノ
ール、n−プロピルアセテート、ぼりアクリル酸、1,
1.1−)リクロルエタン、ア七トン又はエチレングリ
コールモノメチルエーテルを含有するか又はそれらより
なる。
ポジ型の捨写層に対する現像液は、電磁線を当ててない
層部分(画像部)に殆んど影響を及埋すことなしに、露
光層から電磁線を当てた層部分(非画像部)を溶出する
ことができなければならない。イ(表側として挙げられ
る西ドイツ国特許第1200133号明細書(=米国特
許第3110596号明細書)には、適当な現像液とし
て、例えば必要に応じて水溶性水性コロイド又は有機溶
剤を含有することも!きる燐酸塩、珪酸塩、フルオル珪
酸゛塩、錫酸塩、フルオル硼酸塩又はフルオルチタン酸
塩のアルカリ性水溶液が記載されている。  ゛ 電子写真型の祷写層に対する“現像剤“(むしろ、剥離
剤)は、複写層の画像部に殆んど影響を及ぼすことなし
5:、複写層からa)光導電体を含有する複写層を帯電
させ、b)−この帯電層を露光し−かつc)  )−ナ
ーを与え、潜伏性静電画像を定着させた後(=残留する
非画像部を溶出することがfきなければならない。代表
例として挙げられる西Pイツ国特許第1117391号
明細書には、この目的に適した液体として有機溶剤を添
加することもできる水溶液中の無機又は有機塩基が記載
されており;この例は、−リエチレングリコール中のオ
クチルアミン、モルホリン、珪酸ナトリウム及び水中の
カルぜキシメチルセルロース;モノ、エタノールアミン
、ジェタノールアミン、メタノール、エチレングリコー
ル、ゲリセロール及び珪酸ナトリウム;NaOH水溶液
;ならびにぼりエチレングリコールを有するII!、水
溶液fある。
露光した複写層に対して刊行中から公知の現偉法は、露
光部及び非露光部と、層部分との間の可溶性の差1:応
じて作業する。従って、適当な現像液のp)1111i
は、屡々中性と異なり、この現像液は、多少とも大量の
有機溶剤を含有する。所望の標準溶剤としての水以外シ
ー公知の現像液中の活性成分の含量は、一般(:5〜1
0重量嘔を越えている。すなわち、それは今日では望ま
しくない流出液の汚染負荷をますます増大させる。更に
、特殊な作用を有する現像液は、他の複写層に不適当で
ある場合に通常実際に複写層の著しく広範な別法をも提
供する。公知方法の場合の典型的な現像時間け、15’
〜120秒“1ある。
本発明の目的上、有機溶剤又は比較的に大量の他の助剤
を添加することなしに、複写層の著しく広範な別法C二
対して水をペースとする耕像液を用いて実施することが
できる、複写層を現像する方法を得ることに関する。
本発明は、電解質水溶液゛をペースとする現像液を用い
て露光した感光性複写層を現像するための公知方法から
出発する。本発明方法は、非画像部を生じるような層部
分を電気化学的処理によって除去りることよりなる。こ
の電解質水溶液は、pH価範囲1〜14、殊に2.0〜
l 、1゜0を有し、主成分の木場外に解離化合物とし
て殊に有機又は無機酸の少なくとも1a[類の塩を特別
な塩に対してO,1tftチないし溶液の飽和限界ま1
の濃疲1含有する。この塩溶液は、緩衝系の形!あって
もよく、さらに塩含分以外に付加的に弱酸(例えば酢酸
)又は弱坦基(例えばアンモニア)を含有してもよ〈;
酸又は塩基を添加するととによって塩溶液のp)I 価
を調節するのが有オ11であることもfきるが、前記の
pH価を越えても不足して4いけない。電解質水溶液中
、解離化合物として有利に使用される塩゛の代りに酸(
例えば酢酸又は硼酸)を前記のpH価範囲内で含有して
いてもよいっ 本発明方法で電解質水溶液中に使用しうる塩は、殊にカ
チオンとしてI+i 、Ha 、 K 。
+   14  2+   。
1iHa  % kQ  % Fe  、Fe”、y 
5 +、Oa”、ug 2 +、8r”+又FiBa”
+ を含有し、かつアニオンとして502−1s o”
、5cth−1co3’−1423 aHaoo−1NO−NO−1’o″−1BO−/リホ
スS            m’      2%4
      2’フエート、イリーレート、F”、cl
−1Br−1BIF;、N;、vo;、c、 〜c、、
ノアル*ルーxhyエートのアニオン(硫酸モノアルキ
ルエステルアニオン)又はこれらの相当する水素塩を含
有するものを包含する。
本発明方法を平均化し、促進するためには、電解質水溶
液は、前記の解離化合物と異なりかつ有利に0.1〜5
重#チの濃度で添加される界面活性剤を含有していても
よい。非イオン性界面活性剤だけfなく、アニオン性又
はカチオン性界面活性剤を使用することもできるが;し
かじ、これらの界面活性剤は、殊に本発期本法を処理機
械中f実施する際に低発泡型fある傾向にある。適当で
あること一判明した界面活性剤(7)iHJは、cm〜
C16のアルキル基を有する硫酸モノアルキルエステル
、エトキシル化アルコール及びフェノールのアルカリ金
属塩もしくはアンモニウム塩、エトキシル化脂肪アミン
又は酸化アルキレンをペースとするブロック重合体!あ
る。
従って、本発明方法により、露光した感光性複写層の多
種多様な型を有機溶剤又は比較的に大量の汚染助剤を含
有しない水溶液中−1’i#儂に応じて区別することが
fきる。この方法で得られる分解廉は、非電気化学的に
使用される常用の現像液の分解度に相当し、現像時間は
、電流密度ならびに電解液の性質及び濃度に応じて一般
に約0.5〜30秒?ある。本発明方法の作用の原理は
、イオンに対する異なる透過性及び/又は露光部及び非
露光部と、複写層の一部との異なる溶解性に基づくもの
と思わhる。実質的に被写層に使用される支持体の型は
、現像速度に1響を及ぼすにす「ないが、適当な現像桔
を使用する場合には、現像処理の最終結果に影響を及ぼ
さな−。
緩衝しない電解質水溶液のpH価は、変動すると左がで
き、その際、本発明方法は、その成分の(を気)化学変
化により寅施さhるの1、電解質水溶液を数回使用する
ことができる場合には、付加的に緩衛系を使用するのが
有利fあるO 電解質水溶液中に解離した化合物の濃度は、0.1重量
%、殊に1重量%と、解離化合物の特別な飽和濃度との
間−′eあることがfき、この場合5重量%まfの濃度
は、一般に既に十分である。電解質水溶液の濃度が0.
1重量%よりも低く、さらζ;溶液の導電率が通常低す
ぎる場合にけ、得られる電流密度は、低すrるので迅速
な現像を得ることが!きなくなる。電解質水溶液の温度
は、室温と、電解液系の沸点までの温度との間であるこ
とが1きるが、2O℃〜70℃の温度を保持するのが有
利である。本発明方法を実施する間に電解質水溶液を混
合することは、一般に必要でない。
本発明方法は、稗々の周波数及び変調の直流又は交流を
用いて実施されるが、Aルス直流を使用することもマき
る。この方法において、電流密度は、原理的に1〜10
0ム/ dm”の範囲以外であってもよいが、この範囲
の方が有利である0そhというのも、さ本ない 、高すrる程度にま゛で加熱され及び/又は現像処理社
、継続時間又は品質の点1悪い影響を受けうるからであ
る。電流密度は、電解現像の開始時に増大し、1つのレ
ベルツ一定時間留tす、再び現像処理の終結に向って僅
かに増大する。
電気化学的粗面化理の間、水素は、一般に陰極−? H
” (H,O” )イオンを放電させることによって発
生する。これは、局部的PR価を強力に増大させ、画像
に応じて露光した複写層の可溶性部分の剥離を生じうる
ものと思われる。この過程で場合により上昇する高いp
H価は、何種類かの電解質水溶液中1所々1攻撃された
複写層め支持体を導くことが1きるが;しかじ、実際の
現像処理は、それによって影響されず、この攻撃は、と
わが全体的に必要とされる場合には・−蝕防止剤を添加
する丘とによりて減少させることができる。電解質水溶
液による捨写層の不適当なぬれは、場合によりそわ自体
に画像を有しない部分での層の残滓の生成を導きうるが
、このことは、実際の電気化学的現像過程前4二当該層
に適当な界面活性剤を使用することによって阻止するこ
とが1きるか又は電解質水溶液中で板を短時間“ソーキ
ング°することによ本発明方法の1つの好ましい実施態
様において、殊に導電性支持材料を有する複写材料の一
部として存在する処理すべき複写層は、浸漬することに
よって電解質水溶液と接触される。この過程において、
支持材料の1つの端部け、電解液浴の表面よりも上に突
出させ、したがって電流の供給部は、この部分と接続さ
せることが1きる。電流を供給する別の方法によhげ、
支持材料の被覆されていない後側面を介して接触部を設
けることが!きる・対電極は、電解質水溶液1:抵抗す
る材料、例えばステンレス鋼又は黒鉛からなり、有利に
柳、篩又社板の形状を有し、殊に複写材料から一定の距
離で取付けらね、したがって一定の電流密度は、画像に
応じて露光した複写材料の全面積にわたって存在する。
現像すべき複写材料の被覆されてない後側面は、電気エ
ネをギーの不必要な消費を避けるために、非導電性材料
に隣接するのが有利fある。別の方法によれば、材料の
後側面を封じ込めることができ、この場合板は、電解液
浴容器中1密に溝中に案内される◇ 本発明方法の別の実施態様では、電解質水溶液1含浸し
かつ露光した複写材料と、対電極との間に取付けられた
布が使用される。現像過程後、布は、余勢汚染さねてい
なくと本廃棄することが!きる。それというのも、電解
液のpH価は、一般にほは中利点辺り(:存在するか又
はそのようl:m節することが、できるから!ある。
°現像すべき複写J11は、殊にオフセット印刷板の一
部分(感光性2層)として存在するか又は支持材料に使
用さhたレジスト(フォトン・クスト層)として存在す
る。予想される支持材料は、有利i:、例えば亜鉛、ク
ロム、マグネシウム、銅、黄銅、鋼、シリコーン、アル
ミニウム又はとわらの金属の混合物をベースとするよう
なものを含めた導電性支持材料fある。この支持材料は
、特殊な変性予備処理なしに適当な複写層を備えること
が1きるが、この被秒社、例えば機械的、化学的又は電
気化学的粗面化のような表面変性、酸化及び/又は親水
性を付与する薬剤での処理(殊に、オフセット印刷板に
対する支持体の場合に後に)有利に実施されるにすぎな
いσ オフセット印刷板の製造に対して特に好適な基体社、了
ルミニウム′5!ケその合金の1種類から製造されたも
のを包含する。そhFi、例えば次のものを包含するニ ー”絆?ルミニウム(pure aluminum )
 ”(DIN材料43.0255 )、すなわちAQ 
 9q、5srrらびに次の許容しうる不純物(最大全
体量0−5 僑) Si 0.3%、treo、t%、
Ti O,03%、Ou、O,o z fn、Z!l 
O,0フ憾及び残分0.03壬からなる本の、又は −”Afi−合金3003 (A4 al107300
3 )(D工N材料慝3.0515と匹敵する)、すな
わちA198.5チ、合金成分M@Q、3チt−1%及
びMn0.8〜1.5*ならびに次の許容しうる不純物
810.5%、Ire □、5 %%Ti O,29k
、Zn 0゜2チ、Ouo、1チ及び残分0.15チか
らなるもの。
実際に著しく頻繁に生じる、印刷板(二対するアルミニ
ウム支持材料は、一般に感光性層を施こす前(=機械的
(例えば、ブラシ掛は及び/又は切磨材fの処理による
)、化学的(例えば、腐蝕剤による)又は電気化学的(
例えば、nap。
又は[1110,水溶液中f交流fの処理による)に粗
面化される。この場合、粗面の平均あらさR7は、1〜
15μ鴫の軛囲内、殊I−4〜8μmの範囲にある。
更に、あらさは、DXM4768I=より1970年l
O月菖=修正されたようI:、5個所の隣接する個々の
測定長さの個々のあらさの値の算術平均!あるあらさR
z  により迎1定される。
更に、有利に使用される電気化学的粗面化法は、必要に
応じて使用されるもう1つの処理過程で、例えば支持材
料表面の耐磨耗性及び接着性を改善するためにアルミニ
ウムの陽極酸化を綬ける。常用の電解質、例えばH2B
O3、H1PO4、I(OOアミドスルホン酸、スルホ
コノ)り酸 24− 、スルホサリチル酸又はこれらの浪合物は、陽極酸化に
使用することができる。アルミニウムの陽極酸化1.対
してH,80,含有電解液を用いる次ノ標準法は、次側
(例えば、M、8chenk 。
“ Werkstoff  Aluminium  u
ni  5eine  anodisaheOxyda
tion  (The  Con5tructiona
l MaterialAluminum and it
s Anodic 0xidation )−1F’r
ancke Ver’lag (Bern )社刊、1
948年、第766 ’fi :  ” Pralct
iache Ga1vanotechnik(Prac
tical IClectroplating aqd
 1!1lectrofo −rming Techn
ology 1− % Kugen G、Louse 
We−rlag (8au1gau )  社刊、19
70年、第395頁以降及び第5181519頁: W
、 Hubner及びO9,T+8peiaer 、 
、” Die Praxie aer ano −di
achen 0xydation dea Alumi
niums  (AnodiCOxidation o
f Aluminium in Practice  
)”、Aluminium Verlag (Duse
eldorf )社刊、1977年5.第3版、第13
7頁以降、参照)により指摘することが1きるニ ー直流/硫酸法の場合、陽極酸化は、100〜22℃及
び電流密度0.5〜2.5 A / am” v通常溶
液li当りH2O2,約230yからなる電解質水溶液
中″1%10〜60分間実施される。電解質水溶液中の
硫酸の濃度は、H2B04R〜10重量嘔(H,!30
4約1oo9/Q)に減少させることもできるか又はH
,80,s o ictチ(H,804365P/1)
及びそれ以上に増大さぜることもできる。
−“硬質陽極酸化°け、H2BO4166グ/jL(又
はH2804約2 s o 9 / ト)の濃度のH2
O2,含有電解質水溶液を用いて0℃〜5℃の処理温度
〒2〜a h / 4m2の電流密度で開始時の約25
〜30Vの電圧を処理の終結に向って約40〜1007
1:増大させながら30〜200分間実施さ姓る。
印刷板支持材料の陽極酸化に対して前記に既述した方法
以外に、例えば次の方法を使用することも!きる: A
n3+ イオン含量を12り/Itよりも多い値に調節
したH2804含有電゛解質水溶液中(酉ドイツ国特許
公開、公報第2811396号=米国特許彫42116
19号明細書により)、H2O2,−及びH,PO,含
有電解質水溶液中(西ドイツ国特許公開公報第2707
810号=米国特許第、4049504号明細書により
)又はH,So、−1H3PO4−及びA Q3+イオ
ン含有電解質水溶液中(西ドイツ国特許公開公報第28
36803号=米国特許!4229226号明細書己よ
り)14のアルミニウムの陽極酸化。
直流は、陽極、酸化に有利に使用されるが、しかし交流
又は電流のこれらの型の組合せ(例えば、重ねた交流を
有する直流)を使用してもよい。酸化アルミニウムの層
重量は、1〜10g/−の範囲内で変動し、それシ、約
0.3〜3.0アル゛ミニウムから製造された印刷板支
持材料の陽極酸化過程は、1つ又はそれ以上の後処理轡
程を続けてもよい。この場合、後処理とは、。
学的又#i電゛気化学的処理、例えば西トイ′ツ国特“
杵築1621478号明細書(=英国特許第12、30
447号明細書)の記載により/ 13ビニルホスホン
酸水溶液中1の材料の浸漬処理、西ドイツ国特許公告公
報第1471707号(=米国特許第3181461号
明細書)の記載1:よりアルカリ金属珪酸塩水溶液中1
の浸漬処理又は西ドイツ国特許匁開@ 2532769
号(=米国特許第3902976号明細書)の記載によ
りアルカリ金属珪酸塩水溶液中1の電気化学的処理(陽
極酸化)のことである。これらの後処理過程は、既に多
くの使用分計に対して適当な、酸化−アルミニウム層の
親水性を付加的に増大させるのに殊(二役立ち、この場
合この層の残りの公知の性質は、少なくとも保持されて
いるO 露光し、必要に応じてその彼に現像し及び/又は定着し
た後に画像に応じて印刷に使用しうる部分を備える全て
の層及び/又は原図のレリーフ画像を表わす全ての層は
、原理的に感光性被写層として使用することがfきる。
該層は、ゾレセンシタイズされた印刷板又は所謂ドライ
レジストを製造することによってか又は直接1:当業者
によって常用の支持材料の1!11類C二使用さ、れる
、。感光性複写層は、例えばジャロミル・コサ−7L/
 (Jaromir Kosar )著、“ライトーセ
ンシティゾ・システムズ(Light −Sensit
iveSystems )“、ジ。ヨン・ウィリー・ア
ンP・サンズ(JOhn Wil137 & Bone
 (tJew YOrk ) )社刊、1965年、に
記載された次のものを包含する:不飽和化合物を含有す
る鳩、この場合核化合物は、露光下1単離され”、再配
置さね、環化されるか又は架橋さp (Kosar、第
4章):光重合可能な化合物を含有する層、この場合単
量体又はプレ/ 137−は、露光下で必要に応じて開
始剤により重合しく KOs’ar ’% 第5章);
及び0−ジアゾキノン、4・1jえばナフトキノンリア
、りP、p−ジアゾキノン又はジアゾニウム塩縮合物を
含有する層(Kosar%第7章)。適当な層は、電子
写真h4、すなわち無機又は有機光導電体を含有するも
のをも包含する。勿論、感光性物質以外に例えば樹脂、
染料又は可塑剤のような他の成分を含有することもフき
る。殊に、次の感光性組成物又は化合物は、支持材料の
被櫟に使用することが1きる: ポジ型の0−キノンジアジド、有利に0−ナフトキノン
ジアジド、例えば西ドイツ国特許第854890号明細
書、同第865109号明細書、同第879203号明
細書、同第894959号明細書、同Wc938233
号明細書、同@11G9521号明細書、同第1144
705号明細書、同第1118606号明細書、同第1
1之0273号明細書及び同第11−24817号明細
書に記載の化合物。
芳香族ジアゾニウム塩と、活性カル2ニル基を有する化
合物とのネガ型の縮合生成物、有利に例えば西Pイツ国
答杵築’596731号明細書、同第1131399号
明細書、同第1138400号明細書、同第11384
01号明細書、同第1142871号明細書及び同第1
154123号明細書、米国特許第2679498号明
細書及び同!3050502号明細書ならびに英国特許
第7126”06号明細書に記載された、ジフェニルア
ミンジアゾニウム塩と、ホルムアルデヒドとあ縮合生成
物。
例えば、西ドイツ国特許公開公報第2024244号の
記載により、縮合しうるカルセニル化合物から銹導され
た二座結合員によって結合される七りぞわの一般型A 
(−D )n  及びBの少なくとも1つの単位を有す
る5、芳香族ジアゾニクム化合物のネガ型の共縮合生成
物。前記式中へnflらの符号は、次のように定義され
る二人け、少なくとも2個の芳香族炭素環核及び/又は
複素環核を有しかつ酸性媒体中〒少なくとも1つの位W
v活性カルIニル化合物と縮合しうる化合物ニア) 、
1’、〒ある。Dは、Aの芳香族炭素1東子に結合した
ジアゾニウム塩基fあす:nは、1〜10の整数であり
;Bは、ジアゾニウム基を含塘ずかつ酸性媒体中で分子
の少なくとも1つの位[r活性カル2二ル化合物と縮合
しうる化合物の基〒ある。
西ドイツ国特許公開公報第2610842号の記載C二
より、照射の際に酸を分離する化合物、酸によって分離
しうる少なくとも1個のC−0−C基(例えば、オルト
カルiキシレート基又はカルぜキシ了ミドアセタール基
)を有する化合物及び必要に応じて結合剤を含有するポ
ジ型の層。
光重合可能な単量体、光重合開始剤、結合剤及び必要に
応じて他の添加剤よりなるネガ型の層。この聯合、使用
でれる単量体の例は、例えば米国特許第276086.
3号明細書及び同第3−060023号明細書ならびg
二面rイッ国特許公開公報第2064079号及び同第
2361041号の記載と同様にアクリレート及びメタ
クリレート又はジインシアネートと、多価アルコールの
部分エステ〃との反応生成物14ある。適当な光重合開
始剤は、ベンゾイン、ベンゾインエーテル、多核キノン
、アクリジン曲導体、フェナジン誘導体、キノキサリン
誘導体、キナゾリン誘導体又は種々のケトンの相乗混合
物を包含する。結合剤として使用しうる多数の可溶性有
機重合体の例は、ポリアミド、ポリエステル、アルキド
樹脂、Iリビニルアルコ−1ル、IリピニルピロリP:
/、ポ、リエチレンオキシドゼラチン及びセルロースエ
ーテル1.ある。
西ドイツ国特許公開公報第30360.77号の記載に
より、感光性化合物として・シアゾニウム塩重縮合生成
物又は有機丁、クド化合物を含有しかつ結合剤として仙
1アルケニルスルホニル又はシフ?了ルケニルスルホニ
ルウレタン基ヲ有する高分子量ポリマーを含有するネガ
型の層。
闘えば、西ドイツ国特許2g+ 117391号明細書
、同第1522497号明細書、同第1572312号
明細書、同第23.22046号明細書及び同第232
2047号明細書の1載と同様に光半導電性箸を支持材
料に施こすことも1%き、この場合高感光性の電子写真
層が得られる。
次の実施例において、“チ°のデータは、特に記載しな
い限り、“重°1rである、°重量部°は、Vがcm3
(−関連するのと一様(二=容量部°に関連する。複写
層は、導電性支持体上に存在し1.特に記載しない限り
、直流回路内の陰極として接続している1、電解質の温
度に、特に記載しない限り25℃〜30℃であり、現像
すべき複写材料と、対電極との距離は、一般に2.75
5ffiある。電流重重の経過は、一般に次のように記
載することができる(例67も参照):市。
流密度は、まず2.3秒間一定の値に増大し、このレベ
ルで2,3秒間留まり、次に再び僅かに電解現像の終結
に向って増大することができる。現像時間は、特に記載
しない限り約3〜15−秒である。注釈を加えない限り
、現像又は剥離した複写材料は、実際に適合される。
例1 次のポジ型の感光性溶液を、電気化学的に粗面化されか
つ陽極酸化さねたアルミニウム箔に流れ被覆法によって
スロットダイを用いて使用する: クレゾールーホルムアル・デヒドノ2ラック(DXM5
B18□1によ抄1(35℃〜12.0℃の軟化点範囲
を有する)6.6重量部 1.2−ナフトキノン−2−シア、ラド−4−スルホン
酸の4−(、,2−フェニルプロプ−2−イル)フェニ
ルエステル     1.1重量部2.2′−ビス−〔
1,2−ナフトキノン−2−、ジアジド−5−スルホニ
ルオ*シ)1.1’−シナ7チルメタン       
0.6重11部1.2−ナフトキノン−2−ジアジド−
4−スルホニルクロリド      0.24重量部ク
リスタルバイオレット   o 、 o’s 重量Mエ
チレングリコールモノメチルエーテル4容量部、テトラ
ヒドロフラン5容量部及び酢酸ブチルl容量部の混合物
    1111.36重量部。
この板を画像に応じて露光し、次に硫酸リチウム3%及
びナトリウムオクチル−スルフェート(硫酸モノオクチ
ルエステルのナトリ?ム塩)llを含有する水溶液中で
91価3.5−t’ 20Vを用いて11〜14秒間電
気化学的に現像する。
と 鋼製ブラシf機械的に粗面化したアルミニウラ箔を、次
の溶液f被覆し、次に乾燥ダクト中でtoo℃ま1の温
度1乾燥する: 2.3.4−)リヒドロキシベンゾフエノン1モル及び
11.2−ナフトキノン−2−ジアジP−5−スルホニ
ルクロリド2モルのエステル化生成物        
   1.15重量部フェノールーホルムアルデヒドノ
はラック(フェノール性OH基14%を有し、D工15
3181により110℃〜1.20℃の軟化点を有す“
る)                 7.15重量
部2.2′−ビス−〔1,2−ナフトキノン−2−シア
J ’F、 −’ 5−スルホニルオキシ) −t 、
 1’−ジナフチルメタン      0.64重量部
クーリスタルバイオレット    0.15重量部スー
ダンイエローG()N(カラーインデックス番号11.
021)        0.08重量部エチレングリ
コールモノメチルエーテル40容量部と、テトラヒドロ
フラン5容量部との混合物            9
2.25重量部。
この板を、画像に応じて露光した後、硫酸リチウム31
1及びナトリウムオクチル−スルフェート1チを含有す
る水溶液中でpH価7.5−1’ 60vを用いて1〜
3秒間電気化学的に現像する。
例3及び比較例C1 平均分子量40000及び酸価90〜115を有する、
メチルメタクリレートと、メタクリル酸との共重合体 
      14.00重量部1.1.1−)リメチロ
ールエタントリアクレート             
  14.00重l1部1.6−ジヒPロキシエトキシ
ヘキサン2.00重を部 9−p−ヒPロキシフェニル了クリジン0.50重重景 及び エチレングリコールモノエチルニーfib130.00
重量部 から、な−るネガ型の感光性溶液を、電気化学的に粗面
化さねかつ陽極酸化された1、t? Qビニルホスホン
酸の水溶液で親水性にさねたアルミニウム箔に塗布し、
画像に応じて謝光した後C:硫酸リチウム396及びナ
トリウムオクチル−スルフニー)196を含有する水溶
液中?’ P)I価3.5でlOvで5〜10秒間電気
化学的C=現督する。
印刷版の得られた品質は、 メタ珪酸ナトリウム・9 H2O15,00重量部平均
分子量約5oooを有するIリエチレングリコール  
          3.00重量部レブリン酸   
      0.6重量部水酸化ストロンチウム・B 
H,o n、st量部及び水            
 toon、no重量部中で非電気化学的に現像した後
に得られたものと比較することができるが、比較例の場
合の現像時間は、約60秒であった。
例4 次のネガ型の感光性層を、電気化学的に粗面化されかつ
陽極酸化された、Iリピニルホスホン酸の水溶液で親水
性にされたアルミニウム箔に被覆させる: ポリビニルデチラル(分子量70000〜8ooooを
有し、♂ニルデチラル71チ、酢酸ビニル2−及び♂ニ
ルアルコール単位27%からなる)と、プロペニルスル
ホニルイソシアネートとの反応生成物の8−強溶液 26.75重量部 2.6−ビス−(4−アジドベンゼン1−4−メチルシ
クロヘキサノン   2.14重量邪ロ′−ダミン6G
DNzキ、X ) ラ0.23iit部2−ベンゾイル
メチレン−1−メチル−β−ナフトチアジン     
    0.21重量部エチレングリコールモノメチル
エーテル100容is テトラヒPロフラン    5o容量s。
電気化学的現像は、炭酸゛リチウム1.5チ及びナトリ
ウムオクチル−スルフェート1チを含有する水溶液中で
pH価8″t’60Vを用いて10〜12秒間行なわね
る。拭き取って浄化した後実際の使用に適当な印刷版が
得られた。
例5 2−ビニル−5−(4−−7エチルアミノフエニル) 
−4−(2’−クロルフェニル)−オキサゾール   
           10.00重量部スチレンと、
無水マレイン酸との共重合体(軟化点21 QCを有す
る)    to、oo重量部ローダミンFB  (カ
ラーインデックス番号45.170)        
     0.02重量部々び エチレングリコールモノメチルエーテル300.00重
量部 からなる電子写真型の層を、電気化学的C:粗面化さね
かつ陽極酸化された、イリピニルホスホン酸の水溶液1
水溶液で親水性C二さねたアルミニウム箔に塗布する。
この層に暗中1約4o。
Vのコロナ帯電により隘電荷を印加する。この帯電した
板を電子複写カメーラ中1露光し、次い1トーナーを与
え、電子写真法で常用の方法によって定着した。次に、
この板の非画像部を溶液中1の先の非電解質滞留時間3
0秒後にナトリウムオクチル−スルフニー)1−を含有
する鵞、5チ強の炭酸リチウム水溶液中″?60’Vを
用いてpH価8及び温度50℃−1’8〜12秒間電気
化学的C=剥離する。
例6 例5の電子写真型の層を、乾燥ゾラシ掛けによって機械
的に川面化さねかつ例5の記載I:より処理さねた了ル
ミニウム支持体に塗布する。
剥離11、同じ電解質1bで同−条゛件下f行なわわる
が、先の非電気化学的処理相ない一行なわわる 墨ユ 宜気化学的也−粗面化されかつ陽極酸化されたボー)−
二ルホスホン酸の水溶−[−’f’ fit水性監=さ
れたアルミニウム支持体を、次のネガ型の感光性溶液′
e!被覆する: アセチレンスルホン酸の塩として沈殿した、3−メトキ
シジフェニルアミン−4−X)了ゾニウムスルフェート
1モルと、4.4’−&スーメトキシメチルジフェニル
エーテル1モルとノ重縮合生成物          
l・0重量部非可塑化尿素樹脂(ブタノール/キシレン
中の6重%強の溶液中?20℃1約6000 mPa、
aの粘度を有し、3よりも低い酸価な有する)1.8重
tg クリスタルバづオレ゛ソト   11・4″M賃部エチ
レンダリコールモノメチルエーテル98.0重量部。
電気化学的現像は、硫−ナトリウム3嘔及び酸化エチレ
ン単位8を有するエトキシル化イソトリデシルアルコー
ル396を含有する水竺液中−59H価7で26’Vを
使用、すること゛によって5〜°7秒間行なわガる(P
I3価は、)I、PO4で調節さする)。この板を画像
に応じて露光するが、この場合画會部は、固体の場合に
僅かに攻撃きれる。
例8 2−エチル−2−ブチル−1,3−プロノぞンジオール
のビス−(5−エチル−5−ブチル−1、3’−−)オ
キサン−2−イル)エーテル25.0重量部 クレゾニルーホルムナルデヒrノ2ラック71.0重を
部 クリスタルバイオレット塩基 0.7重量部2−(アセ
ナフト−5−イル)−4,6−ピスートリクロルメチル
ー〇−トリア・クン3.0重量部及び エチレングリコールモノメチルエーテル!11 Q O
,0重量部 からなる4−)型の感光性溶液を、電気什学的に粗面化
さねかつ陽極酸化されたアルミニウム箔に塗布する。露
光後、この箔は、硫酸リチウム396とナトリウムオク
チル−スルフニー)1%を含有する水溶液中で15〜2
07の電圧を用いてpHH価35−j’電気化学的に現
像する仁とが1きる。
例3の板を6%強のナトリウムラウリルースルフエニト
水溶液中”t’pH価4で電気化学的に現像する。
例1O h□ 乾式ブラシ掛けによって機械的に粗面化さねかつ陽極酸
化されたアルミニウム箔を次の成分か?なる′ジ型0感
光性溶液1被覆する221314−F ”ヒドロキシベ
ンゾフェノン1モルと、1,2−ナフトキノン−2−ジ
アジド−5−スルホニルクロリ)12モルとのエステル
化生成物          1.61:l一部2.2
−ビス−〔l、2−す7トキノンー2−・ジアジド−5
−スルホニルオキシ) −1、1’−・ジナフチルメタ
ン      0.9重量部クレゾールーホルムアルデ
ヒドノIラック(D工N53181により1−05℃〜
120℃の軟1ヒ点を有する)6.4型槽部 エチレングリコールモノメチルエ・−f /’ 4 W
置部、テトラヒトo7ラン5容景部及び酢酸ジチルl容
量部の混合物    90.1重量部。
こめ被覆した箔を燐酸アンモニウム3チ及びナトリウム
オクチル−スルフェートITo’r:含有する水溶液中
でi)H価7.5 ()13PO4マ調節)f電気化学
的に現像する。
例11〜61 前記の複写材料の1種類を下記表C記載した溶液中で電
気化学的に現像する。条件に、この表から知ることがで
きる。
例62 電気化学的に粗面化さ引かつli!極酸化されたIリピ
ニルホスホン酸の水溶液で親水性にされたアルミニウム
箔を、次のネガ型の感光性溶液で被覆する: ヒPロキシエチルメタクリレートと反応させたスチレン
/無水マレイン酸共布合体(1:1、分子t50000
)      2’、00重量部グリセロールジメチル
アクリレート2モルとへキサメチレンジイソシアネート
1モルとのジウ′タン           2.00
重を部9−フェニルアクリジン   0.7 onn郡
部w o yネイビー(8amaron Navy )
0.07重量部 ブタノン          32.00重量部酢酸ブ
チル        12.00重量部エチレングリコ
ールモノメチルエーテル12.00重量部。
露光後、電気化学的現像は、硫酸アンモニウム3−反び
ナトリウムオクチル−スルフェート1憾を含有する水溶
液中1 pH954で4nV’t’4〜6秒間行なわh
る。
例63 例62の板を硝酸ナト11ウム3チ及び酸化エチレン単
位数8を有するエトキシル化イントリデシルアルコール
3チを含、有する水溶液中↑pH価4で重1気化学的に
伊像する。
例64 電気化学的に粗面化さ力かつ陽称酸化されたアルミニウ
ム箔を次の成分の電子写真型の溶液で被覆する; 2.5−ビス−(4′−ジエチルアミノフェニル)−1
,3,4−オキサジアゾール 10.00市一部 スチレンと無水マレイン酸との共重合体(軟化点210
℃を有する)     10.0O3’i魁部ローダミ
ン1?B  (カラーインデックス番号45170) 
            0.02fi量部エチレニノ
グリコールモノメチルエーテル300.00 ’Tki
tkN。
被検した板を約4007のコロナ帯電により陰電荷を印
加し、フィルム原図を用いて露光する。得られる静電画
像をカー2ンブラツクによって着色された樹脂を散粉す
ることによって可視的に変え、tSO℃に加熱すること
によって定着し、汚れのない電子コーー倉生じる。非画
曹部を燐酸アンモニウム3−及び酸化エチレン単位数8
を有するエトキシル化イソトリデシルアルコール316
を含有する水溶液中−QpII価81電気、化学的に剥
離する。
例65 クロムメッキさhた銅箔を次のネガ型の感光性溶液: ぼり酢酸ビニル(20C−t!1201強の酢酸エチル
溶液中1のヘゾラー粘度2200mPa、a)0.25
重量部 Iり酢酸ビニル(40mPa、s ) 0.75重量部
フェノールーホルムアルデヒPノ−ラツ?(D1153
181による軟化点110t:〜120℃)     
             4.00重量部シクロヘキ
サノンとホルムアルデヒドとの14合生成物(軟化点7
5℃〜90℃) 1.00重型部 1.2−ナフトキノン−2−、クア・り)1−4−スル
ホン酸の4−(2−フェニルプロプ−2−イル)−フェ
ニル       3.00重量部クリスタルバイオレ
ット   0.20重値部エチレングリコール    
88.80重#部及び 蒸留H,02,00重量部 で被−覆し、露光後じ硫酸リチウム31及びナトリウム
オクチル−スルフェート1%を含有する水溶液中でpH
価3で電気化学的に現像する。
例66 乾式ブラシ掛けしたアルミニウム箔に次の成分の液、状
フォトレジスト層を設ける:クレゾールーホルムアルデ
ヒドノ2う・ツク(DIN53181による融点範囲1
05℃〜120℃)            41J髪
部2−エトキシエチル4.4′−ビスヒドロキシフェニ
ル吉草酸のビス−1,2−ナフトキノ/シア?I’−5
−スルホン酸エステル 1重量部 メヂルエチルケトン    40重量部。
画倖a;応じて露光後、電気化学的現像は、硫酸リチウ
ム3−及びナトリウムオクチ゛ルースルフェートIIG
を含有する水溶液中でpli価3f行なわれる。
例67 例3−=よる板を307(直流)の電圧で10秒間硫酸
リチウム3Ls及びナトリウムオクチル−スルフェート
l−を含有する水溶液中″? p)13″′e電気化学
的に現像する。電流密度は、開始時に最初の5秒間約2
5ム/am”に増大し、次にこの値で3秒間留まり、再
び最終の2秒間を僅かに増大する。
例68 例3の板を、水和セルロースをベースとしかつ硫酸リチ
ウム3嘔及びナトリウムオクチル−スルフェート1悌を
含有する水溶液1ソーキングしたスポンジ布を電解質溜
めとして使用することによって現像する。この場合、ソ
ーキングしたスポンジ布は、黒鉛電極と、現像すべき板
との間に配置さねている。板の現像は、pH価3及び電
圧157で3〜6秒間実施される。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、電解質水溶液゛を4−スとする現像液を用いて露光
    した感光性複写層を現像する方門において、非画gII
    部を生じるような層部分を電気化学的処理によって除去
    することを特徴とする、露光した感光性複写層の現像法
    。 2、電解質水溶液のpH価゛は2.θ〜10.0の範囲
    内C:ある、特許請求の範囲第1項記載の方法。 3、電解質水溶液は有i又は無機酸の少なくとも1種頌
    の塩を特別な塩に対して0.1貫量嗟ないし溶液の飽和
    限界ま・1のIli度で含有する、特許請求の範囲第1
    項又は第2項に記載の4、電解質水溶液は界面活性剤を
    0.1〜5重量−の濃度−ep有する、特許請求の範囲
    第1項〜第3項のいずわか1項C=記載の方法。 5、電気化学的処j]!は電流密度1〜100A/am
    の直流又は交流で20℃〜70℃の温度f実施される、
    特許請求の範囲第1項〜第4項のいずわか1項に記載の
    方法、 6、現像すべき複写層は導電性支持材料によシ複写材料
    の一部として存在する、特許請求の範囲第1項〜第3項
    のいずれか1項に記載の方法。 フ、 現像すべき複写層はオフセット印刷版の一部とし
    て存在するか又は支持材料に設けられたフォトレジスト
    と4してd在する、特許請求の範囲第6項記載の方法。
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