JP2776829B2 - 複写層のボイドの選択的アデイテイブ修正法 - Google Patents
複写層のボイドの選択的アデイテイブ修正法Info
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- H05K3/0079—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the method of application or removal of the mask
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、水性電解質溶液を使用して、印刷版及び導
電板の複写層中のボイドを選択的にアデイテイブ修正
（additive correction）する方法、すなわち選択的に
あとから付加的に修正する方法に関する。
電板の複写層中のボイドを選択的にアデイテイブ修正
（additive correction）する方法、すなわち選択的に
あとから付加的に修正する方法に関する。
従来の技術 オフセツト印刷版又はフオトレジスト（以下両者を複
写材料と表わす）の製造において、放射線に敏感な（感
光性の）複写層が使われ、これは一般に利用者によつて
又は製造業者によつて支持材に施される。そのような複
写材料で使われる層支持材には亜鉛、マグネシウム、ク
ロム、銅、黄銅、鋼、シリコン、アルミニウムのような
金属又はこれらの金属の組合せ物、プラスチツクフイル
ム、紙又は類似材料が含まれる。この支持材は、変性前
処理をせずに、しかしながら有利には機械的、化学的及
び／又は電気化学的な粗面化、表面酸化及び／又は親水
性付与剤による処理（例えばオフセツト印刷版用支持材
の場合）のような表面変性を行なつた後で、放射線に敏
感な複写層により被覆することができる。放射線に敏感
な化合物少なくとも１種に加えて、一般に放射線に敏感
な複写層は有機バインダー（例えば樹脂）及び場合によ
り可塑剤、顔料、染料、界面活性剤、増感剤、付着助
剤、指示薬及び他の常用の助剤を含有する。この複写層
から作像するために、層をその照射（露光）後に現像し
て、例えば印刷版又はフオトジストを生成する。電子写
真層の場合は、コーテイング除去の工程が現像工程に相
当する。本発明範囲において“複写層”という用語は、
放射線に敏感な化合物を含有しないが、他の前記の成
分、即ち殊に有機バインダーを含有する層も包含する。
写材料と表わす）の製造において、放射線に敏感な（感
光性の）複写層が使われ、これは一般に利用者によつて
又は製造業者によつて支持材に施される。そのような複
写材料で使われる層支持材には亜鉛、マグネシウム、ク
ロム、銅、黄銅、鋼、シリコン、アルミニウムのような
金属又はこれらの金属の組合せ物、プラスチツクフイル
ム、紙又は類似材料が含まれる。この支持材は、変性前
処理をせずに、しかしながら有利には機械的、化学的及
び／又は電気化学的な粗面化、表面酸化及び／又は親水
性付与剤による処理（例えばオフセツト印刷版用支持材
の場合）のような表面変性を行なつた後で、放射線に敏
感な複写層により被覆することができる。放射線に敏感
な化合物少なくとも１種に加えて、一般に放射線に敏感
な複写層は有機バインダー（例えば樹脂）及び場合によ
り可塑剤、顔料、染料、界面活性剤、増感剤、付着助
剤、指示薬及び他の常用の助剤を含有する。この複写層
から作像するために、層をその照射（露光）後に現像し
て、例えば印刷版又はフオトジストを生成する。電子写
真層の場合は、コーテイング除去の工程が現像工程に相
当する。本発明範囲において“複写層”という用語は、
放射線に敏感な化合物を含有しないが、他の前記の成
分、即ち殊に有機バインダーを含有する層も包含する。
従来技術は、照射工程及び／又は現像工程を含まな
い、それ故放射線に敏感な化合物を含有する常用の複写
層を使わずに印刷版を製造することが可能である方法を
開示した。
い、それ故放射線に敏感な化合物を含有する常用の複写
層を使わずに印刷版を製造することが可能である方法を
開示した。
西ドイツ国特許第2433448号明細書（＝米国特許第408
6853号王明細書）は、ａ）疎水性アンダー層（例えばポ
リエステル）、ｂ）針による電流の作用によつて局所的
に除去することのできる、アンダー層上に施した導電性
親水性層（例えばアルミニウム）及びｃ）電流の作用の
結果としてｂ）層から除去することのできる層（例えば
セルロース誘導体、可塑剤及び顔料より成る）より成る
電気応答記録ブランク（electro−responsive recordin
g blank）の使用を開示している。
6853号王明細書）は、ａ）疎水性アンダー層（例えばポ
リエステル）、ｂ）針による電流の作用によつて局所的
に除去することのできる、アンダー層上に施した導電性
親水性層（例えばアルミニウム）及びｃ）電流の作用の
結果としてｂ）層から除去することのできる層（例えば
セルロース誘導体、可塑剤及び顔料より成る）より成る
電気応答記録ブランク（electro−responsive recordin
g blank）の使用を開示している。
西ドイツ国特許開口第2514682号明細書（＝英国特許
第1490732号明細書）は、ａ）電流作用によつて除去す
ることのできない導電性親油性層及びｂ）針による電流
作用により局所的に除去することのできる、ａ）層上に
設けた疎油性シリコーンゴム層より成る電気応答記録材
料の使用を開示している。
第1490732号明細書）は、ａ）電流作用によつて除去す
ることのできない導電性親油性層及びｂ）針による電流
作用により局所的に除去することのできる、ａ）層上に
設けた疎油性シリコーンゴム層より成る電気応答記録材
料の使用を開示している。
更に、ヨーロツパ公開特許第0030642号明細書は、
ａ）疎水性基層（例えばポリエステル製）、ｂ）親水性
の導電性中間層（例えばアルミニウム製）及びｃ）保護
用誘電体トツプ層（例えばAl2O3製）より成るシート状
材料から放電加工により印刷版を製造する方法を開示し
ており、該方法では層ｃ）及びｂ）の両方は電極の作用
により除去される。
ａ）疎水性基層（例えばポリエステル製）、ｂ）親水性
の導電性中間層（例えばアルミニウム製）及びｃ）保護
用誘電体トツプ層（例えばAl2O3製）より成るシート状
材料から放電加工により印刷版を製造する方法を開示し
ており、該方法では層ｃ）及びｂ）の両方は電極の作用
により除去される。
これらの従来の方法は電気化合的分解により画像に相
応して層を除去することをベースとする。
応して層を除去することをベースとする。
ヨーロツパ公開特許第0155231号明細書は、プリント
回路板の電気浸浸塗装を記載しており、この方法では塗
装後に画像に相応して露光しかつ現像する。
回路板の電気浸浸塗装を記載しており、この方法では塗
装後に画像に相応して露光しかつ現像する。
ヨーロツパ特許第0089510号明細書（＝米国特許第437
6814号明細書）により、親水性重合体を電気化学的に印
刷版上に沈着させる。
6814号明細書）により、親水性重合体を電気化学的に印
刷版上に沈着させる。
前記の２つの方法では重合体を電気浸浸塗装により沈
着させるが、画像に相応した分離法（differentiatio
n）はこれらの方法では適用されない。
着させるが、画像に相応した分離法（differentiatio
n）はこれらの方法では適用されない。
画像に相応した分離については次の文献に記載されて
いる： 米国特許第4519876号明細書には、画像に相応してレ
ーザエネルギーに暴露した後に除去することのできる絶
縁層を担持する導電性基材が記載されている。その後、
もはや保護されていない露光区域に金属を電解析出させ
る。
いる： 米国特許第4519876号明細書には、画像に相応してレ
ーザエネルギーに暴露した後に除去することのできる絶
縁層を担持する導電性基材が記載されている。その後、
もはや保護されていない露光区域に金属を電解析出させ
る。
特開昭51−078406号公報に類似の方法が記載されてお
り、この方法ではスクリーン印刷マスクを原稿として使
用し、かつ金属をスクリーンの未被覆部分に電着させ
る。
り、この方法ではスクリーン印刷マスクを原稿として使
用し、かつ金属をスクリーンの未被覆部分に電着させ
る。
更に、特許文献に、電子写真法で又は導電性パターン
により沈着さえる方法が開示されている。
により沈着さえる方法が開示されている。
例えば、米国特許第3106157号明細書及び同第3085051
号明細書には、画像に相応する露光により生成した導電
性パターンがインジウム−もしくはニツケル原子の沈着
を促進する方法が記載されている。
号明細書には、画像に相応する露光により生成した導電
性パターンがインジウム−もしくはニツケル原子の沈着
を促進する方法が記載されている。
米国特許第3095808号明細書には、画像に相応する露
光後に、ルベアン酸のFe、Cu、Ni又はCo塩を沈殿させる
ために光導電性を使用することが記載されている。
光後に、ルベアン酸のFe、Cu、Ni又はCo塩を沈殿させる
ために光導電性を使用することが記載されている。
米国特許第3106155号明細書では、画像に相応した露
光により形成された光導電性パターンを重合体、例えば
セルロースアセテートフタレートを用いて“現像す
る”。
光により形成された光導電性パターンを重合体、例えば
セルロースアセテートフタレートを用いて“現像す
る”。
これらのすべての方法において、初めに画像に相応し
た露光を実施しなければならずこれにより導電性パター
ンを形成し、それ以後のプロセス工程で定着させる。
た露光を実施しなければならずこれにより導電性パター
ンを形成し、それ以後のプロセス工程で定着させる。
発明が解決しようとする課題 本発明の目的は、画像に相応した分離を簡単な手段で
達成する方法を開示することにある。
達成する方法を開示することにある。
課題を解決するための手段 本発明方法は、技術水準から公知の電気浸漬塗装法、
及び露光及び現像した印刷版又はプリント回路板を、当
社から原稿で複写されなかつた位置にワニス又は樹脂を
画像に相応して無電流で施すことによりアデイテイブ修
正するための平版印刷で常用の方法をベースとする。電
気浸漬塗装では、水性電解質系中で通電し、それ故当初
から溶解させた有機物質を塗装すべき加工部品に陰極又
は陽極で沈着させる。本発明は、これらの有機化合物、
殊に重合体を、印刷版又はプリント回路板のアデイテイ
ブ修正において、電流の作用下に画像に相応して沈着さ
せることを特徴とする。
及び露光及び現像した印刷版又はプリント回路板を、当
社から原稿で複写されなかつた位置にワニス又は樹脂を
画像に相応して無電流で施すことによりアデイテイブ修
正するための平版印刷で常用の方法をベースとする。電
気浸漬塗装では、水性電解質系中で通電し、それ故当初
から溶解させた有機物質を塗装すべき加工部品に陰極又
は陽極で沈着させる。本発明は、これらの有機化合物、
殊に重合体を、印刷版又はプリント回路板のアデイテイ
ブ修正において、電流の作用下に画像に相応して沈着さ
せることを特徴とする。
本発明の１つの可能な実施形は、最も簡単には周りに
電気泳動塗料が存在する針型電極を包含し、これは画像
修正されるべき版からできる限り小さい間隔で案内され
る。短い電流パルスにより、版上未画像の位置で電気泳
動浴から樹脂を点状に沈着させることができる。この方
法を周規的に繰返すことにより全（印刷）版を画像形成
することができる。
電気泳動塗料が存在する針型電極を包含し、これは画像
修正されるべき版からできる限り小さい間隔で案内され
る。短い電流パルスにより、版上未画像の位置で電気泳
動浴から樹脂を点状に沈着させることができる。この方
法を周規的に繰返すことにより全（印刷）版を画像形成
することができる。
ベタ部分に存在する塗装されていない小さな欠損部す
らも、版の相応する区域を電流の作用下に移動させるこ
とにより困難なく修正することができる。
らも、版の相応する区域を電流の作用下に移動させるこ
とにより困難なく修正することができる。
針型電極による実施形の場合、本発明方法による利点
は、例えばベタ区域の欠損部を修正しようとする際に塗
装されていない個所だけが導電性になるので、そこだけ
で沈着が行なわれるという点にある。既に塗布された位
置の塗料残分は硬化せず、簡単に水洗することがにより
除去することができる。
は、例えばベタ区域の欠損部を修正しようとする際に塗
装されていない個所だけが導電性になるので、そこだけ
で沈着が行なわれるという点にある。既に塗布された位
置の塗料残分は硬化せず、簡単に水洗することがにより
除去することができる。
本発明方法の他の利点は、場合により予め存在する複
写層部分が溶解されることなく、殊に溶剤不含の水溶液
でアデイテイブ法で修正することができるという事実で
ある。
写層部分が溶解されることなく、殊に溶剤不含の水溶液
でアデイテイブ法で修正することができるという事実で
ある。
アデイテイブ修正位置の印刷耐久性は沈着させる有機
化合物を相応して選択することにより著しく改良するこ
とができる。それというのも本発明方法により層を非常
に良好に結合させることができるからである。
化合物を相応して選択することにより著しく改良するこ
とができる。それというのも本発明方法により層を非常
に良好に結合させることができるからである。
技術水準として引用された画像に相応する金属沈着法
に対して、本発明によるアデイテイブ修正法により有機
化合物により非常に低い帯電量でも連続層が達成され、
これはバッテリ作動ユニツトを用いても沈着を可能にす
る。
に対して、本発明によるアデイテイブ修正法により有機
化合物により非常に低い帯電量でも連続層が達成され、
これはバッテリ作動ユニツトを用いても沈着を可能にす
る。
それ故、本発明方法により、有機溶剤又は環境を汚染
する他の多量の助剤を含有する必要のない水溶液から種
々の型の樹脂を画像に相応して沈着させることができ
る。
する他の多量の助剤を含有する必要のない水溶液から種
々の型の樹脂を画像に相応して沈着させることができ
る。
水性溶液の濃度は、0.1重量％、殊に１重量％からそ
の都度の解離化合物の飽和濃度の範囲であつてよいが一
般に、20重量％までの濃度で十分である。水性電解質の
濃度が0.1重量％を下廻る場合、一般に溶液の導電性は
非常に低く、それ故生じる電流密度がアデイテイブ修正
を十分に迅速に進行させるには余りにも低くなる。水性
電解質の温度は室温から電解質系の沸点までの範囲であ
つてよく、20〜70℃が有利である。一般に、本発明方法
を実施する間水性電解質を撹拌する必要はない。簡単な
修正には、高濃縮の電解質系を用いても有利であり得
る。
の都度の解離化合物の飽和濃度の範囲であつてよいが一
般に、20重量％までの濃度で十分である。水性電解質の
濃度が0.1重量％を下廻る場合、一般に溶液の導電性は
非常に低く、それ故生じる電流密度がアデイテイブ修正
を十分に迅速に進行させるには余りにも低くなる。水性
電解質の温度は室温から電解質系の沸点までの範囲であ
つてよく、20〜70℃が有利である。一般に、本発明方法
を実施する間水性電解質を撹拌する必要はない。簡単な
修正には、高濃縮の電解質系を用いても有利であり得
る。
本発明方法は直流、場合により変調直流を用いて実施
するが、パルス直流を用いることもできる。本方法にお
いて基本的には範囲0.01〜100A/dm2以外の電流密度であ
つてもよいが、この範囲が有利である。それというのも
さもないと電解質水溶液が著しく加熱されるかもしくは
沈着速度が非常に低くなり及び／又は画像形成の保留性
又は品質が不利な作用を受け得るからである。電流密度
は電気化学的アデイテイブ修正の初期に上昇し、一定時
間である高さにとどまりかつ処理の終結時に著しく低下
する。
するが、パルス直流を用いることもできる。本方法にお
いて基本的には範囲0.01〜100A/dm2以外の電流密度であ
つてもよいが、この範囲が有利である。それというのも
さもないと電解質水溶液が著しく加熱されるかもしくは
沈着速度が非常に低くなり及び／又は画像形成の保留性
又は品質が不利な作用を受け得るからである。電流密度
は電気化学的アデイテイブ修正の初期に上昇し、一定時
間である高さにとどまりかつ処理の終結時に著しく低下
する。
陰極沈着を適用する場合、電気化学的アデイテイブ修
正の間H+（H3O+）イオンの放電により陰極で水素が発生
する。この結果として、局所pHが著しく上昇しかつ画像
に相応する分離沈着を促進すると思われる。同様に画像
に相応する陽極電気泳動塗装においてpHの低下によつて
沈着が行なわれる。
正の間H+（H3O+）イオンの放電により陰極で水素が発生
する。この結果として、局所pHが著しく上昇しかつ画像
に相応する分離沈着を促進すると思われる。同様に画像
に相応する陽極電気泳動塗装においてpHの低下によつて
沈着が行なわれる。
“針型電極”とは、特殊鋼、グラフアイト、金又は白
金のような可能な限り不活性な（即ち本発明方法の間腐
食されない）材料製でありかつ非常に良好な解像性及び
非常に精密素子のアデイテイブ修正を達成するためにで
きるだけ細い先端を有する長尺体である。
金のような可能な限り不活性な（即ち本発明方法の間腐
食されない）材料製でありかつ非常に良好な解像性及び
非常に精密素子のアデイテイブ修正を達成するためにで
きるだけ細い先端を有する長尺体である。
電極は、画像形成されるべきシート様材料上を可能な
限り狭い間隔でガイドされる。
限り狭い間隔でガイドされる。
第1a図は可能な実施形を表わす。一般的に画像を形成
されかつ現像されるプレート１は電極として直流電源７
に接続している。他の電極である修正針８を複写層２中
のアデイテイブ修正すべき個所をガイドすることによ
り、若干量の電気泳動塗装液体３が非導電性膜５の孔か
ら押し出される。短い通電の結果、電気泳動樹脂は針８
中に挿入されている電極４を介して修正位置で選択的に
沈着しかつ連続層６を形成する。第1b図は修正中の欠損
部の拡大図、第1c図は、修正後の欠損部の拡大図であ
る。
されかつ現像されるプレート１は電極として直流電源７
に接続している。他の電極である修正針８を複写層２中
のアデイテイブ修正すべき個所をガイドすることによ
り、若干量の電気泳動塗装液体３が非導電性膜５の孔か
ら押し出される。短い通電の結果、電気泳動樹脂は針８
中に挿入されている電極４を介して修正位置で選択的に
沈着しかつ連続層６を形成する。第1b図は修正中の欠損
部の拡大図、第1c図は、修正後の欠損部の拡大図であ
る。
電解質水溶液は画像形成される材料及び針型電極に対
して、その溶液が電極として機能する２つの部材との相
互作用において複写層の画像に相応するアデイテイブ修
正を惹起しかつプレートと電極との間に電化をかけるこ
とができるように配置すべきである。本発明方法におい
て、複写層は常用の公知の放射線に敏感な後で詳説する
層ばかりでなく、放射線に敏感な化合物を含有していな
い比較可能な組成の層も含有する。一般に、複写層と
は、画像に相応する分離を可能にする層のことである。
して、その溶液が電極として機能する２つの部材との相
互作用において複写層の画像に相応するアデイテイブ修
正を惹起しかつプレートと電極との間に電化をかけるこ
とができるように配置すべきである。本発明方法におい
て、複写層は常用の公知の放射線に敏感な後で詳説する
層ばかりでなく、放射線に敏感な化合物を含有していな
い比較可能な組成の層も含有する。一般に、複写層と
は、画像に相応する分離を可能にする層のことである。
本発明方法の優れた実施形では、修正個所でアデイテ
イブに修正されるべきプレートに対して、ブラツシング
によりバインダーを含有する電解質溶液と接触させる。
それと同時に、シート状プレート材料の１つの縁を電源
と接続すべきである。電気を供給する他の可能性は材料
背面を介して接続することによる。針型の修正針をシー
ト状材料から均一な間隔で配置し、それ故均一な電流密
度が画像形成されるべきシート状材料のそれぞれの位置
で達成される。例えば、これは絶縁性膜材料により達成
される。本方法により、修正個所の寸法を電圧及び時間
の変動により制御することができるという利点が得られ
る。
イブに修正されるべきプレートに対して、ブラツシング
によりバインダーを含有する電解質溶液と接触させる。
それと同時に、シート状プレート材料の１つの縁を電源
と接続すべきである。電気を供給する他の可能性は材料
背面を介して接続することによる。針型の修正針をシー
ト状材料から均一な間隔で配置し、それ故均一な電流密
度が画像形成されるべきシート状材料のそれぞれの位置
で達成される。例えば、これは絶縁性膜材料により達成
される。本方法により、修正個所の寸法を電圧及び時間
の変動により制御することができるという利点が得られ
る。
一般に、本発明によりアデイテイブ修正で製造される
複写層は、重合体バインダーを含有し、これは電流の作
用下に針型電極により画像に相応して沈着する。しかし
ながら、本発明は、重合体バインダーをベースとする、
放射線に敏感な化合物を含有する沈着物も包含するが、
それらを放射線に敏感な層として使用すると優れてい
る。好適な基材は導電性支持材料より成り、これは例え
ば亜鉛、クロム、マグネシウム、銅黄銅、鋼、珪素、ア
ルミニウム又はこれらの金属の合金もしくは組合せ物か
らの層より成る支持材を包含する。これらの支持材料
は、特別な変性前処理をせずに好適な複写層により電気
化学的に画像形成することができるが、機械的、化学的
又は電気化学的粗面化処理、酸化及び／又は親水化剤に
よる処理（殊にオフセツト印刷版の支持材の場合）のよ
うな変性表面処理後に画像形成すると有利である。
複写層は、重合体バインダーを含有し、これは電流の作
用下に針型電極により画像に相応して沈着する。しかし
ながら、本発明は、重合体バインダーをベースとする、
放射線に敏感な化合物を含有する沈着物も包含するが、
それらを放射線に敏感な層として使用すると優れてい
る。好適な基材は導電性支持材料より成り、これは例え
ば亜鉛、クロム、マグネシウム、銅黄銅、鋼、珪素、ア
ルミニウム又はこれらの金属の合金もしくは組合せ物か
らの層より成る支持材を包含する。これらの支持材料
は、特別な変性前処理をせずに好適な複写層により電気
化学的に画像形成することができるが、機械的、化学的
又は電気化学的粗面化処理、酸化及び／又は親水化剤に
よる処理（殊にオフセツト印刷版の支持材の場合）のよ
うな変性表面処理後に画像形成すると有利である。
オフセツト印刷版の製造に殊に好適な基材としてはア
ルミニウム製かあるいは例えば98.0重量％より多量、殊
に98.5重量％より多量のアルミニウムを含有しかつ付加
的にSi、Fe、Ti、Fu、Zn、Mn及び／又はMg成分を含有す
るアルミニウム合金の１つから成る。
ルミニウム製かあるいは例えば98.0重量％より多量、殊
に98.5重量％より多量のアルミニウムを含有しかつ付加
的にSi、Fe、Ti、Fu、Zn、Mn及び／又はMg成分を含有す
るアルミニウム合金の１つから成る。
実際には非常に一般的である、印刷版用のアルミニウ
ム支持材料を、通常複写層を施す前に粗面化する。粗面
化は、機械的に（例えばブラツシングにより及び／又は
研摩剤で処理することにより）、化学的に（例えばエツ
チング剤により）又は電気化学的に（例えばHCl又はHNO
3水溶液中交流で処理することにより）行なうことがで
きる。粗面化した表面の平均粗面高さRZは範囲約１〜15
μｍ、殊に1.5〜10μｍである。粗面高さはDIN4768（19
70年10月版）により測定し、その後で粗面高さRZは５つ
の相互に隣接する個々の測定間隔のそれぞれの粗面高さ
から計算した算術平均である。
ム支持材料を、通常複写層を施す前に粗面化する。粗面
化は、機械的に（例えばブラツシングにより及び／又は
研摩剤で処理することにより）、化学的に（例えばエツ
チング剤により）又は電気化学的に（例えばHCl又はHNO
3水溶液中交流で処理することにより）行なうことがで
きる。粗面化した表面の平均粗面高さRZは範囲約１〜15
μｍ、殊に1.5〜10μｍである。粗面高さはDIN4768（19
70年10月版）により測定し、その後で粗面高さRZは５つ
の相互に隣接する個々の測定間隔のそれぞれの粗面高さ
から計算した算術平均である。
粗面化に先立ち、アルミニウムに前クリーニング処理
を行なうことができる。例えば、前クリーニングには、
脱脂剤及び／又は錯化剤、トリクロロエチレン、アセト
ン、メタノール又は他の市販の所謂“アルミニウム酸洗
い液”を含有するか又は含有していないNaOH水溶液によ
る処理が含まれる。粗面化に続いてあるいは数回の粗面
化工程の場合にはそれぞれの工程の間に付加的なエツチ
ング処理を行なうことができ、その際に最高量5g/m2が
除去されると有利である。一般に使われるエツチング溶
液としてはアルカリ金属水酸化物水溶液又はアルカリ性
反応を示す塩の水溶液もしくはHNO3、H2SO4又はH3PO4を
ベースとする酸の水溶液が含まれる。粗面化工程と場合
により次の陽極酸化工程との間に行なわれるエツチング
処理工程とは別に、非電気化学的な処理も知られてお
り、これは実際にすすぎ及び／又は清浄作用を有してお
り、かつ例えば粗面化で形成した沈着物（“スマツ
ト”）を除去したりあるいは処理残分を簡単に除去する
のに使われ、例えばこの処理には稀アルカリ金属水酸化
物水溶液又は水を使用する。
を行なうことができる。例えば、前クリーニングには、
脱脂剤及び／又は錯化剤、トリクロロエチレン、アセト
ン、メタノール又は他の市販の所謂“アルミニウム酸洗
い液”を含有するか又は含有していないNaOH水溶液によ
る処理が含まれる。粗面化に続いてあるいは数回の粗面
化工程の場合にはそれぞれの工程の間に付加的なエツチ
ング処理を行なうことができ、その際に最高量5g/m2が
除去されると有利である。一般に使われるエツチング溶
液としてはアルカリ金属水酸化物水溶液又はアルカリ性
反応を示す塩の水溶液もしくはHNO3、H2SO4又はH3PO4を
ベースとする酸の水溶液が含まれる。粗面化工程と場合
により次の陽極酸化工程との間に行なわれるエツチング
処理工程とは別に、非電気化学的な処理も知られてお
り、これは実際にすすぎ及び／又は清浄作用を有してお
り、かつ例えば粗面化で形成した沈着物（“スマツ
ト”）を除去したりあるいは処理残分を簡単に除去する
のに使われ、例えばこの処理には稀アルカリ金属水酸化
物水溶液又は水を使用する。
場合により、１回又は数回の粗面化工程の次にアルミ
ニウムの陽極酸化を行ない、例えば支持材料の表面の摩
耗性及び接着性を改良する。H2SO4、H3PO4、H2C2O4、ア
ミドスルホン酸、スルホコハク酸、スルホサリチル酸又
はその混合物のような常用の電解質を陽極酸化に使用す
ることができる。H2SO4及びH3PO4が殊に有利であり、こ
れらを単独で又は混合物で及び／又は多工程陽極酸化法
で使用することができる。酸化アルミニウム層の重量は
約１〜10g/m2で変動し、これは層厚約0.3〜3.0μｍに相
当する。
ニウムの陽極酸化を行ない、例えば支持材料の表面の摩
耗性及び接着性を改良する。H2SO4、H3PO4、H2C2O4、ア
ミドスルホン酸、スルホコハク酸、スルホサリチル酸又
はその混合物のような常用の電解質を陽極酸化に使用す
ることができる。H2SO4及びH3PO4が殊に有利であり、こ
れらを単独で又は混合物で及び／又は多工程陽極酸化法
で使用することができる。酸化アルミニウム層の重量は
約１〜10g/m2で変動し、これは層厚約0.3〜3.0μｍに相
当する。
場合により、アルミニウム支持材料の陽極酸化工程に
続いて１個以上の後処理工程を行なう。殊に、後処理と
は、酸化アルミニウム層の化学的又は電気化学的な親水
化処理であり、例えば西ドイツ国特許第1621478号（＝
英国特許第1230447号）によりポリビニルホスホン酸水
溶液中で材料の浸漬処理、西ドイツ国特許公告第147170
7号（＝米国特許第3181461号）によりアルカリ金属珪酸
塩水溶液中で浸漬処理、又は西ドイツ国特許公開第2532
769号（＝米国特許第3902976号）によりアルカリ金属珪
酸塩水溶液中で電気化学的処理（陽極酸化）である。殊
に、これらの後処理工程により酸化アルミニウム層の親
水特性が更に改良され、この特性は、層の十分に知られ
た他の特性を少なくとも保持しながら多くの分野の用途
に十分である。
続いて１個以上の後処理工程を行なう。殊に、後処理と
は、酸化アルミニウム層の化学的又は電気化学的な親水
化処理であり、例えば西ドイツ国特許第1621478号（＝
英国特許第1230447号）によりポリビニルホスホン酸水
溶液中で材料の浸漬処理、西ドイツ国特許公告第147170
7号（＝米国特許第3181461号）によりアルカリ金属珪酸
塩水溶液中で浸漬処理、又は西ドイツ国特許公開第2532
769号（＝米国特許第3902976号）によりアルカリ金属珪
酸塩水溶液中で電気化学的処理（陽極酸化）である。殊
に、これらの後処理工程により酸化アルミニウム層の親
水特性が更に改良され、この特性は、層の十分に知られ
た他の特性を少なくとも保持しながら多くの分野の用途
に十分である。
好適な放射線に敏感な（感光性）層とは、常用の方法
（本発明では必要ではない）により照射（露光）し、場
合により引続いて現像及び／又は定着させた後で、印刷
に使用することのできる画像に相応する面を供給する層
である。
（本発明では必要ではない）により照射（露光）し、場
合により引続いて現像及び／又は定着させた後で、印刷
に使用することのできる画像に相応する面を供給する層
である。
感光性複写層は、例えばJaromir Kosar著、“Light−
Sensitive Systems"、John Wiley＆Sons出版、ニユーヨ
ーク在1965年）に記載されたものであり、クロメート及
びジクロメートを含有するコロイド層（前記文献、第２
章）、露光の際に異性化、転移、環化又は架橋する不飽
和化合物を含有する層（前記文献、第４章）、単量体又
はプレポリマーが場合により開始剤によつて露光の際に
重合する光重合可能な化合物を含有する層（前記文献、
第５章）、ナフトキノンジアジドのようなｏ−ジアゾキ
ノン、ｐ−ジアゾキノン又はジアゾニウム塩の縮合生成
物を含有する層（前記文献、第７章）。好適な層として
は、電子写真層、即ち無機又は有機光導電体を含有する
層も包含される。放射線に敏感な物質に加えて、これら
の層は例えば樹脂、染料又は可塑剤のような他の成分を
含有していてもよい。
Sensitive Systems"、John Wiley＆Sons出版、ニユーヨ
ーク在1965年）に記載されたものであり、クロメート及
びジクロメートを含有するコロイド層（前記文献、第２
章）、露光の際に異性化、転移、環化又は架橋する不飽
和化合物を含有する層（前記文献、第４章）、単量体又
はプレポリマーが場合により開始剤によつて露光の際に
重合する光重合可能な化合物を含有する層（前記文献、
第５章）、ナフトキノンジアジドのようなｏ−ジアゾキ
ノン、ｐ−ジアゾキノン又はジアゾニウム塩の縮合生成
物を含有する層（前記文献、第７章）。好適な層として
は、電子写真層、即ち無機又は有機光導電体を含有する
層も包含される。放射線に敏感な物質に加えて、これら
の層は例えば樹脂、染料又は可塑剤のような他の成分を
含有していてもよい。
放射線に敏感な化合物を含有する前記の層がバインダ
ー少なくとも１種を含有する場合、本発明方法では放射
線に敏感な化合物の不存在で層を使用すると有利であ
る。殊に、水性電解質中で可溶性である次の有機重合体
が好適である：ポリアミド、ポリエステル、アルキド樹
脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポ
リエチレンオキシド、ポリアセタール、ゼラチン、セル
ロースエーテル、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ア
ミノ樹脂アクリル樹脂及び／又はポリエポキシド（例え
ばエポキシ化アマニ油をベースとする）。しかし電解法
で沈着可能な他の型のバインダーを使用することもでき
る。複写層の厚さは範囲約0.1〜約100μｍあるいはそれ
以上であつてもよい。
ー少なくとも１種を含有する場合、本発明方法では放射
線に敏感な化合物の不存在で層を使用すると有利であ
る。殊に、水性電解質中で可溶性である次の有機重合体
が好適である：ポリアミド、ポリエステル、アルキド樹
脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポ
リエチレンオキシド、ポリアセタール、ゼラチン、セル
ロースエーテル、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、ア
ミノ樹脂アクリル樹脂及び／又はポリエポキシド（例え
ばエポキシ化アマニ油をベースとする）。しかし電解法
で沈着可能な他の型のバインダーを使用することもでき
る。複写層の厚さは範囲約0.1〜約100μｍあるいはそれ
以上であつてもよい。
アデイテイブ修正で形成された複写層が放射線に敏感
な化合物としてネガ型系を生成する化合物を含有する場
合、シート状材料の全面をアデイテイブ修正後に複写層
側から後露光又は後加熱処理にもたらすと有利であり、
ポジ型系は特別な後露光を必要としない。
な化合物としてネガ型系を生成する化合物を含有する場
合、シート状材料の全面をアデイテイブ修正後に複写層
側から後露光又は後加熱処理にもたらすと有利であり、
ポジ型系は特別な後露光を必要としない。
必要な場合には、更に長い刷数を得るために、シート
状材料の“バーニング”、即ち熱的又は比較し得る後処
理を本発明によるアデイテイブ修正後に実施することが
でき、それにより画像区域の機械的及び／又は化学的安
定性を高める。
状材料の“バーニング”、即ち熱的又は比較し得る後処
理を本発明によるアデイテイブ修正後に実施することが
でき、それにより画像区域の機械的及び／又は化学的安
定性を高める。
前記の説明及び次の実施例において、特に記載のない
限りパーセントは重量に関する。重量部と容量部との関
係は「ｇ」対「cm3」である。処理される複写層は、例
１〜37において直流回路中の陰極として接続している導
電性支持材上に存在し、かつ針型電極は陽極である。例
38〜51では、画像形成される基材は陽極である。電解質
の温度は特に記載のない限り25〜30℃である。一般に、
電流密度の経過は次のように記載することができる：電
流密度は初め数msecの間一定値に上昇し、数msecの間こ
のレベルに停止し、かつ電解処理の終結時に著しく低下
する。特に記載のない限り、処理される材料は実地に適
合する。より高い電圧では、プレートをアースして、そ
うでない場合に起り得る電流破壊が起こらないようにす
る。
限りパーセントは重量に関する。重量部と容量部との関
係は「ｇ」対「cm3」である。処理される複写層は、例
１〜37において直流回路中の陰極として接続している導
電性支持材上に存在し、かつ針型電極は陽極である。例
38〜51では、画像形成される基材は陽極である。電解質
の温度は特に記載のない限り25〜30℃である。一般に、
電流密度の経過は次のように記載することができる：電
流密度は初め数msecの間一定値に上昇し、数msecの間こ
のレベルに停止し、かつ電解処理の終結時に著しく低下
する。特に記載のない限り、処理される材料は実地に適
合する。より高い電圧では、プレートをアースして、そ
うでない場合に起り得る電流破壊が起こらないようにす
る。
実施例 次の実施例において、本発明方法によりアデイテイブ
修正されるプレートは電気化学的に粗面化されかつ陽極
酸化されたアルミニウムプレートである。次の電気泳動
塗装溶液をアデイテイブ修正に使用した。
修正されるプレートは電気化学的に粗面化されかつ陽極
酸化されたアルミニウムプレートである。次の電気泳動
塗装溶液をアデイテイブ修正に使用した。
A:エポキシ樹脂Resydrol 16989、Hoechst A G社製（エ
チレングリコールエチルエーテル中60％） 200g ギ酸 2.75g 水 797ml B:Aに相当するが、付加的に硬化剤SWX596 33g を含有する。
チレングリコールエチルエーテル中60％） 200g ギ酸 2.75g 水 797ml B:Aに相当するが、付加的に硬化剤SWX596 33g を含有する。
C:エポキシ樹脂Resydrol SWE 5186 200g ギ酸 2.75g 水 797ml D:エポキシ樹脂Resydrol SVK 5140（69％） 174g ギ酸 2.8g 水 823ml E:エポキシ樹脂Resydrol SVK 5145（66％） 182g ギ酸 2.75g 水 816ml 陽極沈着可能な樹脂溶液 F:アクリレート樹脂Resydrol WY323（75％） 133g メラミン樹脂Maprenal MF910（90％） 26g ジエタノールアミン 12g 水 1250ml G:メラミン樹脂Resydrol WM461E 133g ジイソプロパノールアミン 12g 水 1000ml H:ポリブタジエン樹脂Resydrol SWP195E 171g 10％−NH3溶液 17g 水 1000ml I:マレイン酸付加物Resydrol SWX213E 200g 10％−NH3溶液 20g 水 1000ml 改良された結合を達成するために付加的にプレートを
アデイテイブ修正後に熱的に（５分間、100℃）後硬化
してよい。
アデイテイブ修正後に熱的に（５分間、100℃）後硬化
してよい。
例１〜37ではカタホレーティック（Cataphoretic）塗
料として沈着させかつ例38〜51ではアノホレーティック
（anophoretic）塗料として（陽極として基材）を沈着
させる。
料として沈着させかつ例38〜51ではアノホレーティック
（anophoretic）塗料として（陽極として基材）を沈着
させる。
例52 樹脂溶液Ｆを、３−メトキシ−ジフエニルアミン−４
−ジアゾニウムサルフエート１モルと4,4′−ビス（メ
トキシメチル）−ジフエニルエーテル１モルとから製造
した重縮合生成物20gとメチルスルホネートとして沈殿
させ、分散させ、かつ電気泳動塗料として使用する。こ
の溶液中に、粗面化しかつ陽極酸化したアルミニウムプ
レートを30Vで２秒間接続し、画像に相応して被覆され
たプレートを製造し、その皮膜はまだ感光性であり（ネ
ガ型）かつ通常通り紫外線に露光することにより第２の
パターン化に有効である。
−ジアゾニウムサルフエート１モルと4,4′−ビス（メ
トキシメチル）−ジフエニルエーテル１モルとから製造
した重縮合生成物20gとメチルスルホネートとして沈殿
させ、分散させ、かつ電気泳動塗料として使用する。こ
の溶液中に、粗面化しかつ陽極酸化したアルミニウムプ
レートを30Vで２秒間接続し、画像に相応して被覆され
たプレートを製造し、その皮膜はまだ感光性であり（ネ
ガ型）かつ通常通り紫外線に露光することにより第２の
パターン化に有効である。
第1a図は本発明方法の可能な実施形を示す図、第1b図は
アデイテイブ修正中の欠損部の拡大図及び第1c図はアデ
イテイブ修正後の欠損部の拡大図である。 １……プレート、２……複写層、３……電気泳動塗装
液、４……電極、８……修正針、９……欠損部
アデイテイブ修正中の欠損部の拡大図及び第1c図はアデ
イテイブ修正後の欠損部の拡大図である。 １……プレート、２……複写層、３……電気泳動塗装
液、４……電極、８……修正針、９……欠損部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ２５Ｄ 13/00 Ｃ２５Ｄ 13/00 Ｎ ３０９ ３０９ 13/06 13/06 Ｄ Ｇ０３Ｆ 7/09 Ｇ０３Ｆ 7/09 7/11 ５０３ 7/11 ５０３ (56)参考文献 特開 昭51−78406（ＪＰ，Ａ) 特公 昭49−9642（ＪＰ，Ｂ１) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G03F 7/40,7/11,7/09
Claims (11)
- 【請求項１】導電性基材上に施された複写層のボイドを
電流の作用下に選択的にアデイテイブ修正する方法にお
いて、基材とボイドに向き合って設けられた針型電極と
の間に直流を印加しかつ有機物質の導電性水溶液をボイ
ドに施して、範囲0.01〜100A/dm2の電流密度により有機
物質をボイド中に沈着させることを特徴とする、複写層
のボイドの選択的アデイテイブ修正法。 - 【請求項２】有機物質が重合体である請求項１記載の方
法。 - 【請求項３】有機物質の濃度が0.1重量％から飽和限度
までの範囲である請求項１又は２記載の方法。 - 【請求項４】濃度が20重量％までである請求項３記載の
方法。 - 【請求項５】針型電極が、先端部が多孔性膜からなる修
正針と電極とから構成されている請求項１から４までの
いずれか１項記載の方法。 - 【請求項６】金属基材上に沈着している複写層を修正す
る請求項１から５までのいずれか１項記載の方法。 - 【請求項７】金属がアルミニウムである請求項６記載の
方法。 - 【請求項８】粗面化し及び／又は陽極酸化した基材に施
した複写層を修正する請求項１から７までのいずれか１
項記載の方法。 - 【請求項９】付加的に、有機物質が放射線に敏感な成分
を含有するか又は該成分を沈着前に添加する請求項１か
ら８までのいずれか１項記載の方法。 - 【請求項１０】導電性水溶液のpHが範囲２〜10である請
求項１から９までのいずれか１項記載の方法。 - 【請求項１１】導電性水溶液をゲル状で使用する請求項
１から10までのいずれか１項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19873717653 DE3717653A1 (de) | 1987-05-26 | 1987-05-26 | Verfahren zur selektiven additivkorrektur von fehlstellen in kopierschichten |
| DE3717653.6 | 1987-05-26 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6456441A JPS6456441A (en) | 1989-03-03 |
| JP2776829B2 true JP2776829B2 (ja) | 1998-07-16 |
Family
ID=6328405
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63125116A Expired - Lifetime JP2776829B2 (ja) | 1987-05-26 | 1988-05-24 | 複写層のボイドの選択的アデイテイブ修正法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4834844A (ja) |
| EP (1) | EP0294611B1 (ja) |
| JP (1) | JP2776829B2 (ja) |
| DE (2) | DE3717653A1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| US5047128A (en) * | 1990-01-02 | 1991-09-10 | Shipley Company Inc. | Electrodialysis cell for removal of excess electrolytes formed during electrodeposition of photoresists coatings |
| DE19548198C2 (de) * | 1995-12-22 | 1999-05-12 | Hueck Engraving Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Nach- und/oder Ausbesserung von kleinen Oberflächenschäden in einer großformatigen Preßplatte oder einem Endlosband aus Blech mit einer strukturierten Oberfläche zur Oberflächenprägung kunststoffbeschichteter Holzwerkstoff- oder Laminatplatten |
| US6517622B1 (en) | 2000-09-05 | 2003-02-11 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Additive correction fluid for metal printing forms |
| DE10148045B4 (de) * | 2001-09-28 | 2006-01-19 | Hueck Engraving Gmbh | Reparaturverfahren für strukturierte und/oder glatte Stahloberflächen auf Endlosbändern oder Pressblechen |
| US8946085B2 (en) * | 2010-05-06 | 2015-02-03 | Ineffable Cellular Limited Liability Company | Semiconductor process and structure |
| CN104195605B (zh) * | 2014-08-04 | 2016-08-17 | 同济大学 | 凝胶介质局部微细电镀修复模具表面缺陷的方法 |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2603593A (en) * | 1952-07-15 | Electeodepositiqn of metaiis | ||
| US3085051A (en) * | 1959-10-23 | 1963-04-09 | Minnesota Mining & Mfg | Novel developer and process for the use thereof in electrolytic image reproduction |
| US3095808A (en) * | 1960-07-28 | 1963-07-02 | Eastman Kodak Co | Photoconductolithography employing rubeanates |
| US3106157A (en) * | 1960-07-28 | 1963-10-08 | Eastman Kodak Co | Photoconductolithography employing nickel salts |
| US3106155A (en) * | 1960-07-28 | 1963-10-08 | Eastman Kodak Co | Electrolytic recording with organic polymers |
| JPS5344652B2 (ja) * | 1972-05-29 | 1978-11-30 | ||
| US4086853A (en) * | 1973-07-11 | 1978-05-02 | Vickers Limited | Lithographic printing plate preparation |
| GB1490732A (en) * | 1974-04-05 | 1977-11-02 | Vickers Ltd | Electro-responsive printing blanks and their inscription |
| JPS5178406A (ja) * | 1974-12-28 | 1976-07-08 | Dainippon Printing Co Ltd | Sukuriininsatsuyomasukubanno seizohoho |
| CA1144418A (en) * | 1979-12-17 | 1983-04-12 | Ari Aviram | Erosion process for generation of offset masters |
| US4383897A (en) * | 1980-09-26 | 1983-05-17 | American Hoechst Corporation | Electrochemically treated metal plates |
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| US4519876A (en) * | 1984-06-28 | 1985-05-28 | Thermo Electron Corporation | Electrolytic deposition of metals on laser-conditioned surfaces |
| DE3717652A1 (de) * | 1987-05-26 | 1988-12-08 | Hoechst Ag | Einstufiges elektrochemisches bilderzeugungsverfahren fuer reproduktionsschichten |
| JPH05178406A (ja) * | 1991-12-25 | 1993-07-20 | Daifuku Co Ltd | 棚装置 |
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1987
- 1987-05-26 DE DE19873717653 patent/DE3717653A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-05-13 EP EP88107658A patent/EP0294611B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-05-13 DE DE8888107658T patent/DE3878591D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-05-24 JP JP63125116A patent/JP2776829B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1988-05-25 US US07/198,309 patent/US4834844A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4834844A (en) | 1989-05-30 |
| EP0294611A1 (de) | 1988-12-14 |
| EP0294611B1 (de) | 1993-02-24 |
| DE3878591D1 (de) | 1993-04-01 |
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