JP2617198B2 - ポリビニルアセタール、これを含有する複写材料用感光性混合物 - Google Patents
ポリビニルアセタール、これを含有する複写材料用感光性混合物Info
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は殊に、印刷板およびフオトレジストを製造す
るために使用される、複写材料中の感光性混合物用バイ
ンダーとして殊に好適である、新規ポリビニルアセター
ルに関する。
るために使用される、複写材料中の感光性混合物用バイ
ンダーとして殊に好適である、新規ポリビニルアセター
ルに関する。
従来の技術 バインダーとしてポリビニルアセタール、たとえば、
ポリビニルホルマールまたはポリビニルブチラールおよ
び感光性化合物としてジアゾニウム塩重縮合生成物を含
有する感光性混合物は米国特許第3867147号明細書から
公知である。上記バインダーが十分な定量配分で含有さ
れおよび十分な親油性性質を有するという条件で、高い
プリント数挙動を有する写真平板が得られる。上記感光
性印刷板は有機溶剤の比較的大きな量を含有する、その
現像のための水溶液を必要とする。この現像液から生じ
る蒸気およびまた廃水の双方が生態学的理由でもはや受
容できないので、純粋な水溶液でのこの種の印刷板の現
像を達成することが努められる。最も有利な場合に、層
の非−画像部分を現像液中、塊りまたはより小さな粒子
の形で懸濁することにより、このような板を比較的腐蝕
性の酸またはアルカリの、純粋水溶液で現像する。この
場合に、このような粒子が板の非−画像部分に調整でき
ない方法で再沈殿しおよびこれが不用になるという危険
が存在する。
ポリビニルホルマールまたはポリビニルブチラールおよ
び感光性化合物としてジアゾニウム塩重縮合生成物を含
有する感光性混合物は米国特許第3867147号明細書から
公知である。上記バインダーが十分な定量配分で含有さ
れおよび十分な親油性性質を有するという条件で、高い
プリント数挙動を有する写真平板が得られる。上記感光
性印刷板は有機溶剤の比較的大きな量を含有する、その
現像のための水溶液を必要とする。この現像液から生じ
る蒸気およびまた廃水の双方が生態学的理由でもはや受
容できないので、純粋な水溶液でのこの種の印刷板の現
像を達成することが努められる。最も有利な場合に、層
の非−画像部分を現像液中、塊りまたはより小さな粒子
の形で懸濁することにより、このような板を比較的腐蝕
性の酸またはアルカリの、純粋水溶液で現像する。この
場合に、このような粒子が板の非−画像部分に調整でき
ない方法で再沈殿しおよびこれが不用になるという危険
が存在する。
西ドイツ国特許出願公開第3036077号明細書（＝米国
特許第4387151号明細書）から、アルケニルスルホニル
ウレタン側基を有するポリマーのバインダーとの組合せ
で、縮合できるジアゾニウム塩の共縮合生成物および縮
合できる他の非感光性化合物の感光性混合物を印刷版の
製造のために使用することは公知である。上記混合物は
純粋なアルカリ水溶液で現像できる。これが平板印刷板
を製造するための工程にかけられる場合、これはそのイ
ンキ受容性が不満足である光硬化可能な層を製造する。
特許第4387151号明細書）から、アルケニルスルホニル
ウレタン側基を有するポリマーのバインダーとの組合せ
で、縮合できるジアゾニウム塩の共縮合生成物および縮
合できる他の非感光性化合物の感光性混合物を印刷版の
製造のために使用することは公知である。上記混合物は
純粋なアルカリ水溶液で現像できる。これが平板印刷板
を製造するための工程にかけられる場合、これはそのイ
ンキ受容性が不満足である光硬化可能な層を製造する。
ヨーロツパ公開特許第152819号明細書から、ヒドロキ
シル基含有ポリマーの酸無水物との反応による、ジアゾ
ニウム塩重縮合生成物およびカルボキシル基含有バイン
ダーの感光性混合物が公知である。上記混合物はアルカ
リ水溶液で現像できおよび高いプリント数挙動を有する
平板印刷版の製造のために適している。正にカルボキシ
ル基を含有するバインダーとの他の混合物のように、上
記混合物は水道水を主体とする現像液で方法を行う場
合、これが現像機中に堆積するわずかに溶性のカルシウ
ム塩を沈殿しおよび故障を生じる傾向があるという欠点
を有する。
シル基含有ポリマーの酸無水物との反応による、ジアゾ
ニウム塩重縮合生成物およびカルボキシル基含有バイン
ダーの感光性混合物が公知である。上記混合物はアルカ
リ水溶液で現像できおよび高いプリント数挙動を有する
平板印刷版の製造のために適している。正にカルボキシ
ル基を含有するバインダーとの他の混合物のように、上
記混合物は水道水を主体とする現像液で方法を行う場
合、これが現像機中に堆積するわずかに溶性のカルシウ
ム塩を沈殿しおよび故障を生じる傾向があるという欠点
を有する。
未公開のヨーロツパ特許第86110604号および同第8611
0605号明細書（双方の優先権:1985.8.2）には純粋な水
性現像液で現像できる、これから製造された特定のポリ
ビニルアセタールおよび感光性混合物が記載されてい
る。ポリマーは1,2−ビニルアセタール単位、1,3−ビニ
ルアセタール単位および分子内アセタール基のある種の
定量配分を含有する。
0605号明細書（双方の優先権:1985.8.2）には純粋な水
性現像液で現像できる、これから製造された特定のポリ
ビニルアセタールおよび感光性混合物が記載されてい
る。ポリマーは1,2−ビニルアセタール単位、1,3−ビニ
ルアセタール単位および分子内アセタール基のある種の
定量配分を含有する。
発明が解決しようとする問題点 本発明の課題は純粋に水性の、中性または弱アルカリ
性溶液で現像でき、良好な親油特性、印刷の間の摩耗抵
抗および腐蝕抵抗を有する画像部分を生じ、しかし水道
水を含有する現像液溶液で方法を行う場合いかなる困難
な沈殿も生じない、新規ポリビニルアセタールおよびこ
れを含有する感光性混合物を提供することであつた。
性溶液で現像でき、良好な親油特性、印刷の間の摩耗抵
抗および腐蝕抵抗を有する画像部分を生じ、しかし水道
水を含有する現像液溶液で方法を行う場合いかなる困難
な沈殿も生じない、新規ポリビニルアセタールおよびこ
れを含有する感光性混合物を提供することであつた。
発明が解決しようとする問題点 本発明により一般式I: 〔式中R1はHO−R4−および の基の１つであり、R2は水素原子、１〜６の炭素原子を
有する置換または非置換アルキル基、置換または非置換
アルキル基であり、R3は１〜４の炭素原子を有するアル
キル基であり、R4は１〜６の炭素原子を有する置換また
は非置換アルキレン基であり、R5およびR6は同じかまた
は異なりおよび水素原子、１〜６の炭素原子を含有する
アルキル基、１〜４の炭素原子を含有するアルコキシ
基、１〜３の炭素原子を含有するヒドロキシアルキル基
またはヒドロキシル基であり、R7は水素原子または１〜
６の炭素原子を有するアルキル基であり、R8は水素原
子、１〜６の炭素原子を含有するアルキル、ヒドロキシ
アルキルまたはアルコキシアルキル基または６〜10の炭
素原子を有する置換または非置換アリール基であり、ａ
は0.01〜0.85の数、ｂは０〜0.85の数、ｃは0.01〜0.20
の数、ｄは0.04〜0.40の数であり、およびａ＋ｂ＋ｃ＋
ｄの総計＝１である］のポリマーを供給する。
有する置換または非置換アルキル基、置換または非置換
アルキル基であり、R3は１〜４の炭素原子を有するアル
キル基であり、R4は１〜６の炭素原子を有する置換また
は非置換アルキレン基であり、R5およびR6は同じかまた
は異なりおよび水素原子、１〜６の炭素原子を含有する
アルキル基、１〜４の炭素原子を含有するアルコキシ
基、１〜３の炭素原子を含有するヒドロキシアルキル基
またはヒドロキシル基であり、R7は水素原子または１〜
６の炭素原子を有するアルキル基であり、R8は水素原
子、１〜６の炭素原子を含有するアルキル、ヒドロキシ
アルキルまたはアルコキシアルキル基または６〜10の炭
素原子を有する置換または非置換アリール基であり、ａ
は0.01〜0.85の数、ｂは０〜0.85の数、ｃは0.01〜0.20
の数、ｄは0.04〜0.40の数であり、およびａ＋ｂ＋ｃ＋
ｄの総計＝１である］のポリマーを供給する。
本発明により、光硬化可能な物質および特別成分とし
てポリビニルアセタールを含有する、感光性混合物をさ
らに提供する。
てポリビニルアセタールを含有する、感光性混合物をさ
らに提供する。
本発明による混合物はポリビニルアセタールが上記の
一般式Ｉの化合物である混合物である。
一般式Ｉの化合物である混合物である。
本発明により、結局、感光性層が上記に相当する感光
性混合物から成る、層支持体および感光性層を有する感
光性記録材料が提供される。
性混合物から成る、層支持体および感光性層を有する感
光性記録材料が提供される。
本発明による式Ｉのポリマーは少なくとも３つ、有利
に４つの異なる種類の単位を上記のモル比で含有する。
この関係で、ａは有利に0.05〜0.8の数、ｂは0.2〜0.6
の数、ｃは0.01〜0.15の数およびｄは0.04〜0.2の数で
ある。ポリマーの親水性性質はａおよびｄのより高い値
で増大する。同時に、しかし、有機溶剤中への溶性は殊
にａのより高い値で、比較的高いヒドロキシル価でさえ
そのままである。
に４つの異なる種類の単位を上記のモル比で含有する。
この関係で、ａは有利に0.05〜0.8の数、ｂは0.2〜0.6
の数、ｃは0.01〜0.15の数およびｄは0.04〜0.2の数で
ある。ポリマーの親水性性質はａおよびｄのより高い値
で増大する。同時に、しかし、有機溶剤中への溶性は殊
にａのより高い値で、比較的高いヒドロキシル価でさえ
そのままである。
式Ｉの化合物で、符号は有利に次のものを表わす： R2がアルキル基である場合、これは有利に置換基とし
てハロゲン原子、アリール、アリールオキシまたはアル
コキシ基を含有していてよい。アルキル基R2それ自体は
有利に１〜４の炭素原子を含有し、その芳香族置換基は
６〜８およびその脂肪族置換基は１〜３の炭素原子を有
する。
てハロゲン原子、アリール、アリールオキシまたはアル
コキシ基を含有していてよい。アルキル基R2それ自体は
有利に１〜４の炭素原子を含有し、その芳香族置換基は
６〜８およびその脂肪族置換基は１〜３の炭素原子を有
する。
R2がアリール基である場合、これは殊に置換基として
ハロゲン原子、アルキル、アルコキシまたはカルボン酸
エステルラジカルを含有していてよい。
ハロゲン原子、アルキル、アルコキシまたはカルボン酸
エステルラジカルを含有していてよい。
アリール基として、置換基を含有し、10までの炭素原
子を含有していてよい、単核アリールラジカルが一般に
適している。
子を含有していてよい、単核アリールラジカルが一般に
適している。
R3は有利にメチル基である。
R4は殊に置換基としてハロゲン原子またはアルコキシ
基を含有していてよくおよび全体で１〜６、有利に２〜
５の炭素原子を有する。
基を含有していてよくおよび全体で１〜６、有利に２〜
５の炭素原子を有する。
R5およびR6は有利に水素原子、１〜４の炭素原子を含
有するアルキル基またはヒドロキシメチル基である。
有するアルキル基またはヒドロキシメチル基である。
R7は有利に水素原子である。
R8は有利に水素原子または１〜４の炭素原子を含有す
るアルキル基、１〜４の炭素原子を含有するヒドロキシ
アルキルまたはアルコキシアルキル基である。
るアルキル基、１〜４の炭素原子を含有するヒドロキシ
アルキルまたはアルコキシアルキル基である。
基R7は少なくとも１つおよび３つまで、有利に２つま
でのヒドロキシル基を含有する。
でのヒドロキシル基を含有する。
本発明によるポリマーは有利に5000〜250000の平均分
子量および150〜600のヒドロキシル価を有する。
子量および150〜600のヒドロキシル価を有する。
本発明によるポリマーの製造のための出発物質とし
て、少なくとも80％のビニルアルコール単位および3000
〜150000またはそれより上、有利に20000〜100000の平
均分子量を有するビニルアセテート−ビニルアルコール
コポリマーが一般に使用される。このようなポリマーは
簡単に製造できるかまたは市販で得られる。市販で得ら
れるポリビニルアルコールの中で、88〜98％のケン化度
および４〜20のｋ−値を有するものが適している。
て、少なくとも80％のビニルアルコール単位および3000
〜150000またはそれより上、有利に20000〜100000の平
均分子量を有するビニルアセテート−ビニルアルコール
コポリマーが一般に使用される。このようなポリマーは
簡単に製造できるかまたは市販で得られる。市販で得ら
れるポリビニルアルコールの中で、88〜98％のケン化度
および４〜20のｋ−値を有するものが適している。
本発明によるポリマーを平板印刷版用感光性層中で使
用することが企図される場合、20000〜100000またはそ
れより多くの平均分子量および15％より少ない酢酸ビニ
ル含量を有する、これらのヒドロキシル基含有出発ポリ
マーが適している。感光性層がシルクスクリーンステン
シルとしてまたはエツチレジストおよびそのようなもの
の製造のためのレジスト工業で使用される場合、50000
より下の分子量および５％より多い酢酸ビニル配分を有
する出発ポリマーが殊に適している。
用することが企図される場合、20000〜100000またはそ
れより多くの平均分子量および15％より少ない酢酸ビニ
ル含量を有する、これらのヒドロキシル基含有出発ポリ
マーが適している。感光性層がシルクスクリーンステン
シルとしてまたはエツチレジストおよびそのようなもの
の製造のためのレジスト工業で使用される場合、50000
より下の分子量および５％より多い酢酸ビニル配分を有
する出発ポリマーが殊に適している。
R1基を含有するビニルアセタール単位を製造するため
に、一般式IIおよびIII: （式中R4、R5、R6、R7およびR8は上記のものを表わす）
のアルデヒドが使用される： このようなアルデヒドはいくつかの場合市販で得られ
および他の場合には、簡単な方法で公知方法により製造
できる。式IIIのアルデヒドの合成可能性の包括的な記
載はオルガニツク リアクシヨンス（organic Reaction
s）、Vol.16、第８および86〜102ページに記載されてい
る。それに加えて、一般式IIおよびIIIのアルデヒドの
種々の他の合成方法がホーベン−ワイル（Houben−Wey
1）Vol 4/1a、第375ページ以降、4/1d、第348ページ以
降、6/1a、第452ページ以降、7/1、第89ページおよび17
0ページ以降およびまたE3、第212ページ以降、348ペー
ジ以降、439ページ以降、474ページ以降または659ペー
ジ以降で精密に調べられている。
に、一般式IIおよびIII: （式中R4、R5、R6、R7およびR8は上記のものを表わす）
のアルデヒドが使用される： このようなアルデヒドはいくつかの場合市販で得られ
および他の場合には、簡単な方法で公知方法により製造
できる。式IIIのアルデヒドの合成可能性の包括的な記
載はオルガニツク リアクシヨンス（organic Reaction
s）、Vol.16、第８および86〜102ページに記載されてい
る。それに加えて、一般式IIおよびIIIのアルデヒドの
種々の他の合成方法がホーベン−ワイル（Houben−Wey
1）Vol 4/1a、第375ページ以降、4/1d、第348ページ以
降、6/1a、第452ページ以降、7/1、第89ページおよび17
0ページ以降およびまたE3、第212ページ以降、348ペー
ジ以降、439ページ以降、474ページ以降または659ペー
ジ以降で精密に調べられている。
R2基を含有するコポリマー単位を製造するために一般
式IV:R2−CHO（IV）〔式中R2は上記のものを表わす〕の
アルデヒドが使用される。
式IV:R2−CHO（IV）〔式中R2は上記のものを表わす〕の
アルデヒドが使用される。
このようなアルデヒドはまた大部分市販で得られるま
たは公知方法により製造できる。好適なアルデヒドのい
くつかの製造例を実施例で記載する。
たは公知方法により製造できる。好適なアルデヒドのい
くつかの製造例を実施例で記載する。
一般式IIまたはIIIの好適なアルデヒドは次のもので
ある： ２−ヒドロキシエタナール、 ３−ヒドロキシプロパナール、 2,3−ジヒドロキシプロパナール、 ２−メチル−３−ヒドロキシプロパナール、 2,2−ジメチル−３−ヒドロキシプロパナール、 ２−ヒドロキシブタナール、 ３−ヒドロキシブタナール、 ４−ヒドロキシブタナール、 ３−ヒドロキシ−２−メチルブタナール、 ３−ヒドロキシ−２−エチルブタナール、 ２−メチル−２−メチロールブタナール、 2,2−ジメチル−３−ヒドロキシブタナール、 2,2−ジメチロールブタナール、 2,2−ジメチロール−３−ヒドロキシブタナール、 ２−ヒドロキシペンタナール、 ３−ヒドロキシペンタナール、 ３−ヒドロキシ−２−メチルペンタナール、 2,2−ジメチル−３−ヒドロキシペンタナール、 ２−エチル−３−ヒドロキシペンタナール、 ２−メチロールペンタナール、 ５−ヒドロキシペンタナール、 ３−ヒドロキシヘキサナール、 ３−ヒドロキシ−２−メチルヘキサナール、 ２−エチル−３−ヒドロキシヘキサナール、 ３−ヒドロキシ−２−メトキシ−５−オキサヘキサナー
ル、 2,2−ジエチル−３−ヒドロキシヘキサナール、 ３−ヒドロキシ−2,2,5−トリメチルヘキサナール、 ２−エチル−2,4−ジメチル−３−ヒドロキシヘキサナ
ール、 ３−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチルヘキサ
ナール、 2,2−ジメチロールヘキサナール、 2,2−ジメチル−３−ヒドロキシヘプタナール、 ２−メチル−２−メチロールヘプタナール、 2,2−ジメチロールヘプタナールおよび２−ブチル−３
−ヒドロキシオクタナール。
ある： ２−ヒドロキシエタナール、 ３−ヒドロキシプロパナール、 2,3−ジヒドロキシプロパナール、 ２−メチル−３−ヒドロキシプロパナール、 2,2−ジメチル−３−ヒドロキシプロパナール、 ２−ヒドロキシブタナール、 ３−ヒドロキシブタナール、 ４−ヒドロキシブタナール、 ３−ヒドロキシ−２−メチルブタナール、 ３−ヒドロキシ−２−エチルブタナール、 ２−メチル−２−メチロールブタナール、 2,2−ジメチル−３−ヒドロキシブタナール、 2,2−ジメチロールブタナール、 2,2−ジメチロール−３−ヒドロキシブタナール、 ２−ヒドロキシペンタナール、 ３−ヒドロキシペンタナール、 ３−ヒドロキシ−２−メチルペンタナール、 2,2−ジメチル−３−ヒドロキシペンタナール、 ２−エチル−３−ヒドロキシペンタナール、 ２−メチロールペンタナール、 ５−ヒドロキシペンタナール、 ３−ヒドロキシヘキサナール、 ３−ヒドロキシ−２−メチルヘキサナール、 ２−エチル−３−ヒドロキシヘキサナール、 ３−ヒドロキシ−２−メトキシ−５−オキサヘキサナー
ル、 2,2−ジエチル−３−ヒドロキシヘキサナール、 ３−ヒドロキシ−2,2,5−トリメチルヘキサナール、 ２−エチル−2,4−ジメチル−３−ヒドロキシヘキサナ
ール、 ３−ヒドロキシ−２−イソプロピル−５−メチルヘキサ
ナール、 2,2−ジメチロールヘキサナール、 2,2−ジメチル−３−ヒドロキシヘプタナール、 ２−メチル−２−メチロールヘプタナール、 2,2−ジメチロールヘプタナールおよび２−ブチル−３
−ヒドロキシオクタナール。
これらのアルデヒドの中で、アセトアルデヒドの自己
−縮合生成物およびその高級類縁体およびまたアセトア
ルデヒドの、プロピオンアルデヒドまたは高級脂肪族ア
ルデヒドとの縮合生成物およびまた４−ヒドロキシ−ブ
タナールおよび５−ヒドロキシペンタナールが適してい
る。
−縮合生成物およびその高級類縁体およびまたアセトア
ルデヒドの、プロピオンアルデヒドまたは高級脂肪族ア
ルデヒドとの縮合生成物およびまた４−ヒドロキシ−ブ
タナールおよび５−ヒドロキシペンタナールが適してい
る。
式IVの好適なアルデヒドの例は次のものである： ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロパナール、
ｎ−ブタナール、イソブタナール、ペンタナール、ベン
ズアルデヒド、２−、３−または４−メチルベンズアル
デヒド、２−、３−または４−メトキシベンズアルデヒ
ド、２−、３−または４−クロロベンズアルデヒド、エ
チル４−ホルミルベンゾエートおよびそれほど適してい
ないが４−カルボキシベンズアルデヒド。
ｎ−ブタナール、イソブタナール、ペンタナール、ベン
ズアルデヒド、２−、３−または４−メチルベンズアル
デヒド、２−、３−または４−メトキシベンズアルデヒ
ド、２−、３−または４−クロロベンズアルデヒド、エ
チル４−ホルミルベンゾエートおよびそれほど適してい
ないが４−カルボキシベンズアルデヒド。
遊離アルデヒドの代わりに、低級アルコールを有する
相当するアセタール、たとえば、２−メトキシアセトア
ルデヒドジメチルアセタール、ブロモーまたはクロロア
セトアルデヒドジエチルアセタールまたはフエノール
の、ハロアルキルジアルキルアセタールとの反応生成物
も使用してよい。アセタールは直接またはアルデヒドへ
の加水分解後ポリマーと反応してよい。
相当するアセタール、たとえば、２−メトキシアセトア
ルデヒドジメチルアセタール、ブロモーまたはクロロア
セトアルデヒドジエチルアセタールまたはフエノール
の、ハロアルキルジアルキルアセタールとの反応生成物
も使用してよい。アセタールは直接またはアルデヒドへ
の加水分解後ポリマーと反応してよい。
式IVの好適なアルデヒドはホルムアルデヒド、アセト
アルデヒド、プロパナール、ｎ−ブタナール、イソブタ
ナール、ベンズアルデヒド;p−クロロベンズアルデヒ
ド、３−および４−メトキシベンズアルデヒドである。
アルデヒド、プロパナール、ｎ−ブタナール、イソブタ
ナール、ベンズアルデヒド;p−クロロベンズアルデヒ
ド、３−および４−メトキシベンズアルデヒドである。
本発明によるポリビニルアセタールの製造は２つの工
程により行う： 最初の実施で、少なくとも80モル％ビニルアルコール
単位を有する好適なビニルアルコール／酢酸ビニルコポ
リマーをアルコールに分散し、無機または強有機酸およ
びアルデヒドまたはアルデヒド混合物の触媒量を、有利
にヒドロキシル基の少なくとも50％がアセタール化され
るような量で添加しおよび加勢する。場合により酸化防
止剤が入れられている、得られたポリマー溶液を直接本
発明による混合物中に導入するかまたはポリマーを非溶
剤への滴加により沈殿させおよび精製する。
程により行う： 最初の実施で、少なくとも80モル％ビニルアルコール
単位を有する好適なビニルアルコール／酢酸ビニルコポ
リマーをアルコールに分散し、無機または強有機酸およ
びアルデヒドまたはアルデヒド混合物の触媒量を、有利
にヒドロキシル基の少なくとも50％がアセタール化され
るような量で添加しおよび加勢する。場合により酸化防
止剤が入れられている、得られたポリマー溶液を直接本
発明による混合物中に導入するかまたはポリマーを非溶
剤への滴加により沈殿させおよび精製する。
第二の実施で、ビニルアルコール／酢酸ビニルコポリ
マーを水性またはアルコール水溶液に溶解しおよびアル
デヒドまたはアルデヒド混合物を添加する。その後、場
合により湿潤剤または酸化防止剤が添加される、無機ま
たは強有機酸の水性混合物を室温で滴加する。この方法
の間ポリビニルアセタールが沈殿し；反応は混合物を30
〜60℃の温度に加熱することにより終了しおよび単離さ
れたポリマーを水での洗浄または溶解および再沈殿によ
り精製する。
マーを水性またはアルコール水溶液に溶解しおよびアル
デヒドまたはアルデヒド混合物を添加する。その後、場
合により湿潤剤または酸化防止剤が添加される、無機ま
たは強有機酸の水性混合物を室温で滴加する。この方法
の間ポリビニルアセタールが沈殿し；反応は混合物を30
〜60℃の温度に加熱することにより終了しおよび単離さ
れたポリマーを水での洗浄または溶解および再沈殿によ
り精製する。
第一の実施は、本発明によるポリマーがポリマーｇ当
りKOH450mgより上のヒドロキシル価を有することが企図
される場合に殊に適している。これらのポリマーは界面
活性剤を含有する水溶液中に溶解する。それに加えて、
この方法はまた異なる反応性のアルデヒドまたは水溶液
に不溶でありおよび室温で固形のアルデヒドを使用する
場合にも適している。
りKOH450mgより上のヒドロキシル価を有することが企図
される場合に殊に適している。これらのポリマーは界面
活性剤を含有する水溶液中に溶解する。それに加えて、
この方法はまた異なる反応性のアルデヒドまたは水溶液
に不溶でありおよび室温で固形のアルデヒドを使用する
場合にも適している。
この目的のために酢酸ビニル／ビニルアルコールコポ
リマーをアルコール、有利にエタノール中に分散する。
場合により、少量の水をアルコールに添加し、そこでポ
リマーが混合物中に溶解しはじめる。溶剤または溶剤混
合物対ポリマーの比は有利に10:1〜100:1である。混合
物を非常に強力に攪拌する。
リマーをアルコール、有利にエタノール中に分散する。
場合により、少量の水をアルコールに添加し、そこでポ
リマーが混合物中に溶解しはじめる。溶剤または溶剤混
合物対ポリマーの比は有利に10:1〜100:1である。混合
物を非常に強力に攪拌する。
添加される酸の量は有利にポリマーに対し１〜25重量
％である。好適な酸は殊に塩化水素酸または硫酸であ
り；リン酸またはトルエンスルホン酸も使用してよい
が、あまり適していない。その後アルデヒドまたはアル
デヒド混合物を全部一度に添加しおよび混合物を、全て
のポリビニルアルコールが溶解するまで60〜150℃で加
熱した。この時点から混合物の攪拌をさらに２〜20時
間、有利に２〜６時間、50〜150℃の温度で持続する。
添加されるアルデヒドの量は必要に応じ、一般にはビニ
ルアルコールモル当りアルデヒド約0.1〜2.0、有利に0.
25〜1.5モルが添加される。必要に応じて、澄明溶液
は、酸の存在が感光性混合物に不利な作用を有しないと
いう条件で、直接使用できる。それに加えて、溶液は、
アルデヒドの、溶剤でのアセタール化により形成する低
分子アセタールの変化する配分を含有する。従つてポリ
マーを非溶剤に注ぎおよび最後に乾燥することにより、
ポリマーが沈殿することがしばしばさらに有利であり、
その結果として酸が分離できおよびモノマーのアセター
ルが除去できる。好適な非溶剤はしばしば水であり、こ
れに場合により本発明によるポリマーの塩析を達成する
ために、かなり大量の無機溶剤が添加される。
％である。好適な酸は殊に塩化水素酸または硫酸であ
り；リン酸またはトルエンスルホン酸も使用してよい
が、あまり適していない。その後アルデヒドまたはアル
デヒド混合物を全部一度に添加しおよび混合物を、全て
のポリビニルアルコールが溶解するまで60〜150℃で加
熱した。この時点から混合物の攪拌をさらに２〜20時
間、有利に２〜６時間、50〜150℃の温度で持続する。
添加されるアルデヒドの量は必要に応じ、一般にはビニ
ルアルコールモル当りアルデヒド約0.1〜2.0、有利に0.
25〜1.5モルが添加される。必要に応じて、澄明溶液
は、酸の存在が感光性混合物に不利な作用を有しないと
いう条件で、直接使用できる。それに加えて、溶液は、
アルデヒドの、溶剤でのアセタール化により形成する低
分子アセタールの変化する配分を含有する。従つてポリ
マーを非溶剤に注ぎおよび最後に乾燥することにより、
ポリマーが沈殿することがしばしばさらに有利であり、
その結果として酸が分離できおよびモノマーのアセター
ルが除去できる。好適な非溶剤はしばしば水であり、こ
れに場合により本発明によるポリマーの塩析を達成する
ために、かなり大量の無機溶剤が添加される。
第二の方法はさらに均一な生成物を生じおよび殊に本
発明によるポリマーが150〜450のヒドロキシル価を有す
ることを企図される場合使用される。この場合に、水中
のポリビニルアルコールの３〜20％溶液を製造する。こ
の場合有利に液体であるべきである、アルデヒドまたは
アルデヒド混合物を室温でこの溶液に添加しおよびその
間強力に攪拌する。酸化防止剤（たとえば、2,6−ジ−
t.−ブチルクレゾール）を場合によりこの良好に攪拌さ
れた懸濁液に添加しおよびその後酸を、有利に５〜25％
水溶液として滴加する。その性質を必要な適用目的のた
めに新たに確定すべきである、界面活性剤を場合により
水性酸に添加してよい。数時間後、ポリマーの反応生成
物が最適にされた状態で一般に粗大なまたは微細な、時
たま粘着性の粉末として沈殿する。混合物の攪拌を１〜
５時間持続しおよび他の酸をその後これに添加し、その
際アルデヒドモル当り酸約0.05〜0.5モルが有利に作用
する。混合物を35〜85℃に加熱しおよびさらに２〜６時
間攪拌する。その後ポリマーを濾別し、十分に水で洗浄
しおよび乾燥した。有利に、ポリマーを有機溶剤、たと
えばアルコールに溶解しおよびその後大量の非溶剤、有
利に水中に沈殿した。第二の製法で使用される化学量論
比は別記しないかぎり、最初の分離方法のものに相当す
る。
発明によるポリマーが150〜450のヒドロキシル価を有す
ることを企図される場合使用される。この場合に、水中
のポリビニルアルコールの３〜20％溶液を製造する。こ
の場合有利に液体であるべきである、アルデヒドまたは
アルデヒド混合物を室温でこの溶液に添加しおよびその
間強力に攪拌する。酸化防止剤（たとえば、2,6−ジ−
t.−ブチルクレゾール）を場合によりこの良好に攪拌さ
れた懸濁液に添加しおよびその後酸を、有利に５〜25％
水溶液として滴加する。その性質を必要な適用目的のた
めに新たに確定すべきである、界面活性剤を場合により
水性酸に添加してよい。数時間後、ポリマーの反応生成
物が最適にされた状態で一般に粗大なまたは微細な、時
たま粘着性の粉末として沈殿する。混合物の攪拌を１〜
５時間持続しおよび他の酸をその後これに添加し、その
際アルデヒドモル当り酸約0.05〜0.5モルが有利に作用
する。混合物を35〜85℃に加熱しおよびさらに２〜６時
間攪拌する。その後ポリマーを濾別し、十分に水で洗浄
しおよび乾燥した。有利に、ポリマーを有機溶剤、たと
えばアルコールに溶解しおよびその後大量の非溶剤、有
利に水中に沈殿した。第二の製法で使用される化学量論
比は別記しないかぎり、最初の分離方法のものに相当す
る。
本発明による製造されるポリマーは殊に非溶剤中への
沈殿後、しかし急速に分離できる無定形の、無色の生成
物として製造される。生成物が感光性層中で使用される
前に十分に乾燥されることが有利であると示される。
沈殿後、しかし急速に分離できる無定形の、無色の生成
物として製造される。生成物が感光性層中で使用される
前に十分に乾燥されることが有利であると示される。
ジアゾニウム塩重縮合生成物、光重合可能な混合物、
アジド誘導体またはキノンジアジドのような種々のネガ
チブー作用感光性物質との組合せで、この方法で得られ
るポリマーは容易におよびかぶりなしに現像できおよび
組合せの性質に依存して、水、無機塩および／または界
面活性剤の少量が添加された水溶液または水性アルカリ
溶液で現像できる層を生じる。層は摩耗に対する比較的
高い抵抗、良好な色受容性および実際の要求に合致する
貯蔵安定性のために卓れておりおよび従つて種々の適用
可能性、殊に平板印刷版、シルクスクリーンステンシル
およびフオトレジストの製造のために使用できる。
アジド誘導体またはキノンジアジドのような種々のネガ
チブー作用感光性物質との組合せで、この方法で得られ
るポリマーは容易におよびかぶりなしに現像できおよび
組合せの性質に依存して、水、無機塩および／または界
面活性剤の少量が添加された水溶液または水性アルカリ
溶液で現像できる層を生じる。層は摩耗に対する比較的
高い抵抗、良好な色受容性および実際の要求に合致する
貯蔵安定性のために卓れておりおよび従つて種々の適用
可能性、殊に平板印刷版、シルクスクリーンステンシル
およびフオトレジストの製造のために使用できる。
このような適用で、感光性層は本発明によるポリマー
10〜90、有利に20〜75重量％を含有する。
10〜90、有利に20〜75重量％を含有する。
ネガチブ作用性の光硬化可能な物質として、これがポ
リマーマトリツクスと両立できるという条件で事実上全
ての公知化合物が使用できる。
リマーマトリツクスと両立できるという条件で事実上全
ての公知化合物が使用できる。
たとえば、ジアゾニウム塩重縮合生成物、たとえばア
ルデヒドと縮合できる芳香族ジアゾニウム塩の縮合生成
物、たとえばジフエニルアミン−４−ジアゾニウム塩
の、ホルムアルデヒドとの縮合生成物が非常に適してい
る。しかし、ジアゾニウム塩単位に加えて、さらに、縮
合できる化合物、たとえば芳香族アミン、フエノール、
フエノールエーテル、芳香族チオエーテル、芳香族炭化
水素、芳香族複素環式化合物または有機酸アミドから誘
導される非感光性−単位を含有する、共縮合生成物を有
利に使用する。このような縮合生成物は西ドイツ国特許
出願公開第2024242号、同第2024243号および同第202424
4号明細書から公知である。一般に、しかし、西ドイツ
国特許出願公開第2739774号明細書に記載された全ての
ジアゾニウム塩縮合物が適している。混合物中のジアゾ
ニウム塩重縮合生成物の定量配分は一般に、非揮発性成
分の全含量に対し、５〜60、有利に10〜40重量％であ
る。
ルデヒドと縮合できる芳香族ジアゾニウム塩の縮合生成
物、たとえばジフエニルアミン−４−ジアゾニウム塩
の、ホルムアルデヒドとの縮合生成物が非常に適してい
る。しかし、ジアゾニウム塩単位に加えて、さらに、縮
合できる化合物、たとえば芳香族アミン、フエノール、
フエノールエーテル、芳香族チオエーテル、芳香族炭化
水素、芳香族複素環式化合物または有機酸アミドから誘
導される非感光性−単位を含有する、共縮合生成物を有
利に使用する。このような縮合生成物は西ドイツ国特許
出願公開第2024242号、同第2024243号および同第202424
4号明細書から公知である。一般に、しかし、西ドイツ
国特許出願公開第2739774号明細書に記載された全ての
ジアゾニウム塩縮合物が適している。混合物中のジアゾ
ニウム塩重縮合生成物の定量配分は一般に、非揮発性成
分の全含量に対し、５〜60、有利に10〜40重量％であ
る。
さらに殊に有利な重縮合生成物は、場合により置換さ
れたジフエニルアミンジアゾニウム塩を最初に芳香族化
合物Ｒ′−Ｏ−CH2−Ｂおよびその後芳香族化合物Ｒ′
−Ｏ−CH2−Ｂ−CH2−Ｏ−Ｒ′（Ｒ′は水素原子、アル
キルまたは脂肪族アシルラジカルでありおよびＢは縮合
できる上記化合物の１つのラジカルである）で縮合する
ことにより得られる。これらの縮合生成物はヨーロツパ
特許第126875号明細書に記載されている。重合可能なモ
ノマーまたはオリゴマーおよび光開始剤から成る光重合
可能な混合物がまた、感光性成分として本発明による混
合物中、殊にプリント回路の適用の領域で有利に使用で
きる。
れたジフエニルアミンジアゾニウム塩を最初に芳香族化
合物Ｒ′−Ｏ−CH2−Ｂおよびその後芳香族化合物Ｒ′
−Ｏ−CH2−Ｂ−CH2−Ｏ−Ｒ′（Ｒ′は水素原子、アル
キルまたは脂肪族アシルラジカルでありおよびＢは縮合
できる上記化合物の１つのラジカルである）で縮合する
ことにより得られる。これらの縮合生成物はヨーロツパ
特許第126875号明細書に記載されている。重合可能なモ
ノマーまたはオリゴマーおよび光開始剤から成る光重合
可能な混合物がまた、感光性成分として本発明による混
合物中、殊にプリント回路の適用の領域で有利に使用で
きる。
好適な重合可能な化合物は、たとえば米国特許第2760
683号および同第3060023号明細書から公知である。例は
トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリエレン
グリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ
アクリレート、2,2−ジメチロールブタン−３−オール
ジアクリレート、ペンタエリトリトールトリーまたはテ
トラアクリレートおよびまた相当するメタクリレートの
ような多価アルコールのアクリルまたはメタクリル酸エ
ステルである。さらに、ウレタン基を含有するアクリレ
ートまたはメタクリレートおよびまたヒドロキシル基を
含有するポリエステルのアクリレートまたはメタクリレ
ートが適している。結局、アリルまたはビニル基を含有
するプレポリマーが適しており、殊に分子毎に少なくと
も２つの重合可能な基を含有するモノマーまたはオリゴ
マーが適している。重合可能な化合物は、一般に、本発
明による混合物中、非揮発性成分に関し５〜50、有利に
10〜35重合％の量で含有される。
683号および同第3060023号明細書から公知である。例は
トリメチロールプロパントリアクリレート、ポリエレン
グリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ
アクリレート、2,2−ジメチロールブタン−３−オール
ジアクリレート、ペンタエリトリトールトリーまたはテ
トラアクリレートおよびまた相当するメタクリレートの
ような多価アルコールのアクリルまたはメタクリル酸エ
ステルである。さらに、ウレタン基を含有するアクリレ
ートまたはメタクリレートおよびまたヒドロキシル基を
含有するポリエステルのアクリレートまたはメタクリレ
ートが適している。結局、アリルまたはビニル基を含有
するプレポリマーが適しており、殊に分子毎に少なくと
も２つの重合可能な基を含有するモノマーまたはオリゴ
マーが適している。重合可能な化合物は、一般に、本発
明による混合物中、非揮発性成分に関し５〜50、有利に
10〜35重合％の量で含有される。
種々の物質を光開始剤として本発明による感光性混合
物中で使用してよい。例はベンゾイン、ベンゾインエー
テル、２−エチルアントラキノンのような多核キノン、
９−フエニルアクリジンまたはベンゾアクリジンのよう
なアクリジン誘導体、9,10−ジメチルベンズ〔ア〕フエ
ナジンのようなフエナジン誘導体、2,3−ビス（４−メ
トキシフエニル）−キノキサリンまたは２−スチリルキ
ノリンのようなキノキサリンまたはキノリン誘導体、キ
ナゾリン化合物またはアシルホスフインオキシド化合物
である。この種の光開始剤は西ドイツ国特許第2027467
号、同第2039861号明細書およびヨーロッパ特許第11786
号明細書に記載されている。それに加えて、たとえば、
ヒドラゾン、メルカプト化合物、ピリリウムおよびチオ
ピリリウム塩、ケトンまたはヒドロキシケトンおよび染
料レドツクス系との相乗混合物が適している。光により
硬化できるトリハロメチル基を有する光開始剤が殊に好
適であり、トリアジンまたはチアゾーリン列からの化合
物が殊に好適である。このような化合物は西ドイツ国特
許出願公開第18259号、同第3333450号および同第333702
4号明細書に記載されている。光開始剤は一般に混合物
の非揮発性成分に対し0.1〜15、有利に0.5〜10重量部の
定量比で添加する。
物中で使用してよい。例はベンゾイン、ベンゾインエー
テル、２−エチルアントラキノンのような多核キノン、
９−フエニルアクリジンまたはベンゾアクリジンのよう
なアクリジン誘導体、9,10−ジメチルベンズ〔ア〕フエ
ナジンのようなフエナジン誘導体、2,3−ビス（４−メ
トキシフエニル）−キノキサリンまたは２−スチリルキ
ノリンのようなキノキサリンまたはキノリン誘導体、キ
ナゾリン化合物またはアシルホスフインオキシド化合物
である。この種の光開始剤は西ドイツ国特許第2027467
号、同第2039861号明細書およびヨーロッパ特許第11786
号明細書に記載されている。それに加えて、たとえば、
ヒドラゾン、メルカプト化合物、ピリリウムおよびチオ
ピリリウム塩、ケトンまたはヒドロキシケトンおよび染
料レドツクス系との相乗混合物が適している。光により
硬化できるトリハロメチル基を有する光開始剤が殊に好
適であり、トリアジンまたはチアゾーリン列からの化合
物が殊に好適である。このような化合物は西ドイツ国特
許出願公開第18259号、同第3333450号および同第333702
4号明細書に記載されている。光開始剤は一般に混合物
の非揮発性成分に対し0.1〜15、有利に0.5〜10重量部の
定量比で添加する。
ある種の適用のために低−または高分子アジド誘導体
が感光性化合物として殊に好適であり、分子毎に少なく
とも２つのアジド基を含有する低分子アジド化合物が適
している。例として4,4′−ジアジドスチルベン、4,4′
−ジアジドベンゾフエノン、4,4′−ジアジドベンザー
ルアセトフエノン、4,4′−ジアジドベンザールアセト
ンまたは4,4′−ジアジドベンザールシクロヘキサノン
が挙げられる。このようなアジド化合物の感光性は場合
により好適な増感剤、たとえば1,2−ベンズアントラキ
ノンを用いて強められる。さらに、またその個々の吸着
が分子中の二重結合との接続により、付加的な増感を露
光で必要としないように置換えられた多官能アジドが好
適である。他の好適なアジド化合物は英国特許第790131
号明細書、西ドイツ国特許第950618号明細書および米国
特許第2848328号明細書から公知である。混合物中のア
ジド誘導体の定量配分は、非揮発性成分の全含量に対
し、一般に５〜60、有利に10〜40重量％である。結局、
ｐ−キノンジアジドまたはｐ−イミノキノンジアジドの
ような低分子ジアゾ化合物が感光性化合物として使用で
きる。このような混合物は、しかし、低い感光性のため
に適していない。低分子ジアゾ化合物の量は一般に混合
物の非揮発性成分に対し５〜60、有利に10〜40重量％で
あつてよい。
が感光性化合物として殊に好適であり、分子毎に少なく
とも２つのアジド基を含有する低分子アジド化合物が適
している。例として4,4′−ジアジドスチルベン、4,4′
−ジアジドベンゾフエノン、4,4′−ジアジドベンザー
ルアセトフエノン、4,4′−ジアジドベンザールアセト
ンまたは4,4′−ジアジドベンザールシクロヘキサノン
が挙げられる。このようなアジド化合物の感光性は場合
により好適な増感剤、たとえば1,2−ベンズアントラキ
ノンを用いて強められる。さらに、またその個々の吸着
が分子中の二重結合との接続により、付加的な増感を露
光で必要としないように置換えられた多官能アジドが好
適である。他の好適なアジド化合物は英国特許第790131
号明細書、西ドイツ国特許第950618号明細書および米国
特許第2848328号明細書から公知である。混合物中のア
ジド誘導体の定量配分は、非揮発性成分の全含量に対
し、一般に５〜60、有利に10〜40重量％である。結局、
ｐ−キノンジアジドまたはｐ−イミノキノンジアジドの
ような低分子ジアゾ化合物が感光性化合物として使用で
きる。このような混合物は、しかし、低い感光性のため
に適していない。低分子ジアゾ化合物の量は一般に混合
物の非揮発性成分に対し５〜60、有利に10〜40重量％で
あつてよい。
本発明による混合物はその適用に相当する公知方法で
方法を行うことができる。この目的のために、ポリマー
の反応生成物は、これから塗布を行うことが企図される
好適な溶剤または溶剤混合物、たとえばエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノアセ
テート、ジオキサン、テトラヒドロフランまたはブタノ
ン、中に溶解されおよびこの混合物に溶性の感光性物質
がこれに添加される。
方法を行うことができる。この目的のために、ポリマー
の反応生成物は、これから塗布を行うことが企図される
好適な溶剤または溶剤混合物、たとえばエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノアセ
テート、ジオキサン、テトラヒドロフランまたはブタノ
ン、中に溶解されおよびこの混合物に溶性の感光性物質
がこれに添加される。
さらに、感光性化合物の性質に依存して、次の添加物
を感光性コーテイング溶液に添加してよい： ａ）ジアゾ化合物、たとえばｐ−キノンジアジドまたは
ジアゾニウム塩縮合生成物での増感の場合： 支持体材料上で感光性層を可視性にするために染料；
ジアゾニウム塩を安定化するために酸、有利にリン酸お
よび露光の間層中での色変の増大を生じるコントラスト
フオーマー。
を感光性コーテイング溶液に添加してよい： ａ）ジアゾ化合物、たとえばｐ−キノンジアジドまたは
ジアゾニウム塩縮合生成物での増感の場合： 支持体材料上で感光性層を可視性にするために染料；
ジアゾニウム塩を安定化するために酸、有利にリン酸お
よび露光の間層中での色変の増大を生じるコントラスト
フオーマー。
ｂ）アジド化合物での増感の場合： 感光性層を可視性にするためおよび所望のスペクトル
範囲で光架橋化合物の感性を増大するための染料。
範囲で光架橋化合物の感性を増大するための染料。
ｃ）光重合可能な物質での増感の場合： 熱重合を抑制する禁止剤または水素ドナー。
それに加えて、可塑剤、顔料、他の樹脂成分etcを感
光性混合物に添加してよい。他の方法のために、得られ
た溶液を、溶解されない成分を除去するために濾過しお
よび自体公知の方法で、たとえばドクタブレードまたは
スピンニングにより好適な支持体材料上に適用しおよび
乾燥する。好適な支持体材料は、たとえば、機械的また
は電気化学的に粗面化されおよび場合により陽極酸化お
よび後処理されたアルミニウム、アルミニウムクラツド
フイルムまたは他の親水性化フイルム、真空蒸着により
銅で塗布されたフイルムまたは多金属シートである。適
用の性質は大きい程度で、感光性層の所望の層厚に依存
し、乾燥層の層厚は一般に0.5〜200μｍである。十分な
乾燥後、材料を自体公知の方法で、ネガチブフイルムマ
スターによる画像への露光によりまたはレーザー光線に
よる好適な増感および引続く現像で、その各々の適用形
に変換する。この場合、現像は水、場合により有機塩お
よび／または界面活性剤の少量を含有する水溶液または
アルカリ水溶液で行う。各々の場合に適した現像のタイ
プは、感光性混合物の組成、本発明によるポリマーのヒ
ドロキシル価および適用に依存する。次のものを含有す
る現像液で方法を行うような感光性混合物が適してい
る： ａ）脂肪族または芳香脂肪族スルホン酸のアルカリ金属
塩、 ｂ）アルカリ金属ホウ酸塩、 ｃ）アルカリ金属リン酸塩および ｄ）場合によりアルカリ金属塩または有機芳香族カルボ
ン酸、たとえば安息香酸。
光性混合物に添加してよい。他の方法のために、得られ
た溶液を、溶解されない成分を除去するために濾過しお
よび自体公知の方法で、たとえばドクタブレードまたは
スピンニングにより好適な支持体材料上に適用しおよび
乾燥する。好適な支持体材料は、たとえば、機械的また
は電気化学的に粗面化されおよび場合により陽極酸化お
よび後処理されたアルミニウム、アルミニウムクラツド
フイルムまたは他の親水性化フイルム、真空蒸着により
銅で塗布されたフイルムまたは多金属シートである。適
用の性質は大きい程度で、感光性層の所望の層厚に依存
し、乾燥層の層厚は一般に0.5〜200μｍである。十分な
乾燥後、材料を自体公知の方法で、ネガチブフイルムマ
スターによる画像への露光によりまたはレーザー光線に
よる好適な増感および引続く現像で、その各々の適用形
に変換する。この場合、現像は水、場合により有機塩お
よび／または界面活性剤の少量を含有する水溶液または
アルカリ水溶液で行う。各々の場合に適した現像のタイ
プは、感光性混合物の組成、本発明によるポリマーのヒ
ドロキシル価および適用に依存する。次のものを含有す
る現像液で方法を行うような感光性混合物が適してい
る： ａ）脂肪族または芳香脂肪族スルホン酸のアルカリ金属
塩、 ｂ）アルカリ金属ホウ酸塩、 ｃ）アルカリ金属リン酸塩および ｄ）場合によりアルカリ金属塩または有機芳香族カルボ
ン酸、たとえば安息香酸。
いくつかの場合露光および現像された混合物を保存剤
で処理するのが有利である。
で処理するのが有利である。
層を付加的に熱後処理により強化し、これは殊に平板
印刷版適用で有利である。この目的のために、保存され
た印刷版を180〜240℃の温度に加熱する。この処理の時
間は温度に依存しおよび２〜20分間内で変化する。熱後
処理はこれが架橋剤のいかなる添加も必要としない限
り、前記の同様の性質の後処理とは異なる。本発明によ
るポリマーはこの条件下に水を排出しおよび付加的な光
化学または熱架橋のために役立つ、不飽和側基を有する
ポリマーに変換すると仮定される。従つて、付加的に、
感光性混合物に熱架橋剤、たとえばラジカルを形成する
この温度より上に耐えられる、少なくとも100℃のスコ
ーチ温度を有する有機ペルオキシドを添加することが有
利である。好適なペルオキシドはペルオキシエステル、
ペルオキシケタール、ビスアラキルペルオキシド、ジア
ルキルペルオキシドおよびビスジアルキルペルオキシド
である。この熱後処理は殊に高いヒドロキシル価を有す
るポリマーを使用する場合、感光性層のインキ受容挙動
をかなり改良する。
印刷版適用で有利である。この目的のために、保存され
た印刷版を180〜240℃の温度に加熱する。この処理の時
間は温度に依存しおよび２〜20分間内で変化する。熱後
処理はこれが架橋剤のいかなる添加も必要としない限
り、前記の同様の性質の後処理とは異なる。本発明によ
るポリマーはこの条件下に水を排出しおよび付加的な光
化学または熱架橋のために役立つ、不飽和側基を有する
ポリマーに変換すると仮定される。従つて、付加的に、
感光性混合物に熱架橋剤、たとえばラジカルを形成する
この温度より上に耐えられる、少なくとも100℃のスコ
ーチ温度を有する有機ペルオキシドを添加することが有
利である。好適なペルオキシドはペルオキシエステル、
ペルオキシケタール、ビスアラキルペルオキシド、ジア
ルキルペルオキシドおよびビスジアルキルペルオキシド
である。この熱後処理は殊に高いヒドロキシル価を有す
るポリマーを使用する場合、感光性層のインキ受容挙動
をかなり改良する。
本発明による混合物は比較的高いプリント数、良好な
複写特性および実際の要求に合致する貯蔵安定性のため
に重要である、平板印刷版を製造することができる。こ
れは容易におよびかぶりなしに、実際に環境中性である
現像液溶液を用いて方法を行うことができる。上記の熱
後処理の結果として、摩耗に対する抵抗の実質的増大が
達成できる。さらに、これは適切な加熱たわみ温度を有
しおよび適切な貯蔵安定性を保証する、非常にすぐれた
解像力を伴うレジストステンシルを製造することができ
る。この場合にまた、非常に穏和な、低い毒性または非
毒性現像液溶液が使用できる。最後に、シルクスクリー
ンステシンルの製造も適用分野として挙げられる。ここ
でも、混合物の有利な方法性および良好な貯蔵安定性を
特別な利点として挙げるべきである。
複写特性および実際の要求に合致する貯蔵安定性のため
に重要である、平板印刷版を製造することができる。こ
れは容易におよびかぶりなしに、実際に環境中性である
現像液溶液を用いて方法を行うことができる。上記の熱
後処理の結果として、摩耗に対する抵抗の実質的増大が
達成できる。さらに、これは適切な加熱たわみ温度を有
しおよび適切な貯蔵安定性を保証する、非常にすぐれた
解像力を伴うレジストステンシルを製造することができ
る。この場合にまた、非常に穏和な、低い毒性または非
毒性現像液溶液が使用できる。最後に、シルクスクリー
ンステシンルの製造も適用分野として挙げられる。ここ
でも、混合物の有利な方法性および良好な貯蔵安定性を
特別な利点として挙げるべきである。
次例で本発明およびその適用性をさらに詳述する。重
量部（pbw）および容量部（pbv）はg/cm3に関し：パー
センテージおよび量比は別記しないかぎり、重量部を表
わす。
量部（pbw）および容量部（pbv）はg/cm3に関し：パー
センテージおよび量比は別記しないかぎり、重量部を表
わす。
実施例 製造例１ アセトアルドール（３−ヒドロキシブタナール）をア
セトアルデヒドのアルカリ−金属触媒縮合により製造し
（organikum,VEB Deutscher Verlag cder Wissenschaft
en,Berlin,15 thedition、1977年、第566ページ）およ
び少量の水の添加により安定化する。
セトアルデヒドのアルカリ−金属触媒縮合により製造し
（organikum,VEB Deutscher Verlag cder Wissenschaft
en,Berlin,15 thedition、1977年、第566ページ）およ
び少量の水の添加により安定化する。
ポリビニルアルコール（12％残アセチル基;k値８）44
pbwをエタノール300pbv中に導入する。混合物を１分当
り450回転で攪拌機で攪拌する。それに加えて、アセト
アルドール26.2pbw、ブタナール14.4pbwおよび2,6−ジ
−ｔ−ブチルクレゾール（イオノール）0.3pbwを添加す
る。攪拌しながら硫酸0.5pbwをこの混合物に添加しおよ
びこれを還流に加熱する。この状況下に、ポリビニルア
ルコールが溶解する。４時間後、ブタナール5.0pbwを再
び添加しおよび混合物をさらに３時間還流に加熱する。
エタノール300pbvを冷却溶液に添加しおよび沈殿を脱イ
オン水10000pbw中で行う。60.9％Ｃおよび9.5％Ｈを含
有しおよびOH価373を有する、無定形の繊維状白色生成
物が得られる。
pbwをエタノール300pbv中に導入する。混合物を１分当
り450回転で攪拌機で攪拌する。それに加えて、アセト
アルドール26.2pbw、ブタナール14.4pbwおよび2,6−ジ
−ｔ−ブチルクレゾール（イオノール）0.3pbwを添加す
る。攪拌しながら硫酸0.5pbwをこの混合物に添加しおよ
びこれを還流に加熱する。この状況下に、ポリビニルア
ルコールが溶解する。４時間後、ブタナール5.0pbwを再
び添加しおよび混合物をさらに３時間還流に加熱する。
エタノール300pbvを冷却溶液に添加しおよび沈殿を脱イ
オン水10000pbw中で行う。60.9％Ｃおよび9.5％Ｈを含
有しおよびOH価373を有する、無定形の繊維状白色生成
物が得られる。
製造例２ ５−ヒドロキシペンタナールを2,3−ジヒドロピラン
の酸触媒へき開により製造する（Org.Synth.,Co11.Vol.
III、第470ページ参照）。
の酸触媒へき開により製造する（Org.Synth.,Co11.Vol.
III、第470ページ参照）。
製造例１に記載されたポリビニルアルコール44pbwを
熱い間に水340pbvに溶解する。５−ヒドロキシペンタナ
ール36.7pbwおよびブタナール6.5pbwおよびまた2,6−ジ
−ｔ−ブチルクレゾール0.3pbwを冷却された、良好に攪
拌された溶液に添加する。蒸留水80pbv、濃塩酸7pbvお
よびナトリウムオクチルスルフエート0.5pbwの溶液をこ
の混合物に滴加する。混合物を室温で１時間攪拌し、工
程の間これは混濁しおよびポリマーの反応生成物が灰色
の沈殿物の形で沈殿しはじめる。混合物を40℃に加熱し
およびこの温度で２時間放置し、その後濃塩化水素酸20
pbvが流入するのを許しおよび40℃でさらに２時間攪拌
しおよび攪拌しながら室温に冷却するのを許した。表面
に浮かんだ溶液を傾しやし、生成物を多量の水で洗浄し
およびその後エチレングリコールモノメチルエーテル35
0pbvおよびテトラヒドロフラン200pbvの混合物中に溶解
する。澄明溶液を亜硫酸水素ナトリウム３重量％を含有
する水10000pbvに滴加する。沈殿した生成物を濾過によ
り単離し、水で良好に洗浄しおよび乾燥する。白色の繊
維状ポリマー70pbwが得られ、これはC58.9％およびH9.2
％を含有しおよびOH価338を有する。
熱い間に水340pbvに溶解する。５−ヒドロキシペンタナ
ール36.7pbwおよびブタナール6.5pbwおよびまた2,6−ジ
−ｔ−ブチルクレゾール0.3pbwを冷却された、良好に攪
拌された溶液に添加する。蒸留水80pbv、濃塩酸7pbvお
よびナトリウムオクチルスルフエート0.5pbwの溶液をこ
の混合物に滴加する。混合物を室温で１時間攪拌し、工
程の間これは混濁しおよびポリマーの反応生成物が灰色
の沈殿物の形で沈殿しはじめる。混合物を40℃に加熱し
およびこの温度で２時間放置し、その後濃塩化水素酸20
pbvが流入するのを許しおよび40℃でさらに２時間攪拌
しおよび攪拌しながら室温に冷却するのを許した。表面
に浮かんだ溶液を傾しやし、生成物を多量の水で洗浄し
およびその後エチレングリコールモノメチルエーテル35
0pbvおよびテトラヒドロフラン200pbvの混合物中に溶解
する。澄明溶液を亜硫酸水素ナトリウム３重量％を含有
する水10000pbvに滴加する。沈殿した生成物を濾過によ
り単離し、水で良好に洗浄しおよび乾燥する。白色の繊
維状ポリマー70pbwが得られ、これはC58.9％およびH9.2
％を含有しおよびOH価338を有する。
製造例３ ３−ヒドロキシペンタナールをアセトアルデヒドの、
プロピオンアルデヒドとのアルカリ触媒反応により製造
する。
プロピオンアルデヒドとのアルカリ触媒反応により製造
する。
ポリビニルアルコール（２％残アセタール基;K値10）
44pbwを製造例１に記載されているように３−ヒドロキ
シペンタナール29pbwおよびプロパナール16pbwと反応さ
せる。ややもろい、白色の、繊維状材料がOH価292で、8
2pbwの収量が得られる。
44pbwを製造例１に記載されているように３−ヒドロキ
シペンタナール29pbwおよびプロパナール16pbwと反応さ
せる。ややもろい、白色の、繊維状材料がOH価292で、8
2pbwの収量が得られる。
製造例４ ４−ヒドロキシブタナールを2,3−ジヒドロフランか
ら製造する： ポリビニルアルコール（12％残アセチル基;K値４）44
pbwを製造例２におけるように４−ヒドロキシブタナー
ル18.6pbwおよびアセトアルデヒド19.4pbwと反応させ
る。この場合、しかし、全てのヒドロキシブタナールお
よびアセトアルデヒドの30％のみがとられる。アセトア
ルデヒドの残りは、酸およびナトリウムオクチルスルフ
エートの混合物を完全に滴加しおよび反応混合物の混濁
の最初の徴候が見えはじめた時にのみ添加した。OH価24
4を有しおよびC59.2％およびH9.0％を含有する、白色
の、繊維状生成物76pbwが得られる。
ら製造する： ポリビニルアルコール（12％残アセチル基;K値４）44
pbwを製造例２におけるように４−ヒドロキシブタナー
ル18.6pbwおよびアセトアルデヒド19.4pbwと反応させ
る。この場合、しかし、全てのヒドロキシブタナールお
よびアセトアルデヒドの30％のみがとられる。アセトア
ルデヒドの残りは、酸およびナトリウムオクチルスルフ
エートの混合物を完全に滴加しおよび反応混合物の混濁
の最初の徴候が見えはじめた時にのみ添加した。OH価24
4を有しおよびC59.2％およびH9.0％を含有する、白色
の、繊維状生成物76pbwが得られる。
製造例５ ２−メチル−３−ヒドロキシペンタナールをプロピオ
ンアルデヒドから製造する。
ンアルデヒドから製造する。
ポリビニルアルコール（２％残アセチル基;K価４）44
pbwが製造例１に記載されたように２−メチル−３−ヒ
ドロキシ−ペンタナール30pbwおよびベンズアルデヒド1
5pbwと反応する。302のOH価を有する繊維状の、白色ポ
リマーが得られる。
pbwが製造例１に記載されたように２−メチル−３−ヒ
ドロキシ−ペンタナール30pbwおよびベンズアルデヒド1
5pbwと反応する。302のOH価を有する繊維状の、白色ポ
リマーが得られる。
製造例６ 製造例１におけるように、製造例１に記載されたポリ
ビニルアルコール44pbwが３−ヒドロキシブタナール29p
bwおよびメチル４−ホルミルベンゾエート7.4pbwと反応
する。反応が終了した後、混合物が冷却するのを許しお
よび30％水酸化ナトリウム25pbvをこれに滴加する。攪
拌を室温で１時間維持し、希釈をエタノール350pbvで行
いおよび混合物を0.01N水性HC1 10000pbvに滴加する。
沈殿した繊維状ポリマーを吸収し、水で中性になるまで
十分に洗浄しおよび乾燥する。酸価29およびOH価470を
有するポリマーが得られる。
ビニルアルコール44pbwが３−ヒドロキシブタナール29p
bwおよびメチル４−ホルミルベンゾエート7.4pbwと反応
する。反応が終了した後、混合物が冷却するのを許しお
よび30％水酸化ナトリウム25pbvをこれに滴加する。攪
拌を室温で１時間維持し、希釈をエタノール350pbvで行
いおよび混合物を0.01N水性HC1 10000pbvに滴加する。
沈殿した繊維状ポリマーを吸収し、水で中性になるまで
十分に洗浄しおよび乾燥する。酸価29およびOH価470を
有するポリマーが得られる。
製造例７ 製造例１のポリビニルアルコールがそこで記載された
量比でアセトアルドールおよびブタナールと反応し、し
かし製造例２の反応条件を使用する。得られた生成物は
95％の収率で製造しおよびC60.8％およびH9.3％を含有
する。これはOH価359を有する。
量比でアセトアルドールおよびブタナールと反応し、し
かし製造例２の反応条件を使用する。得られた生成物は
95％の収率で製造しおよびC60.8％およびH9.3％を含有
する。これはOH価359を有する。
製造例８ 製造例１に記載されたように、製造例のポリビニルア
ルコール44pbwがブタナール26pbwおよび５−ヒドロキシ
ペンタナール9pbwと反応する。得られるポリマーはC62.
5％およびH9.5％を含有しおよびOH価219を有する。
ルコール44pbwがブタナール26pbwおよび５−ヒドロキシ
ペンタナール9pbwと反応する。得られるポリマーはC62.
5％およびH9.5％を含有しおよびOH価219を有する。
製造例９ 製造例１に記載されたポリビニルアルコール32pbwお
よび12％残アセチル基を含有しおよびＫ価18を有するポ
リビニルアルコール12pbwの混合物が製造例２に記載さ
れたように３−ヒドロキシブタナール17.6pbwおよびブ
タナール3.6pbwと反応する。得られたポリマーはOH価42
6を有しおよび60.5％Ｃおよび9.5％Ｈを含有する。
よび12％残アセチル基を含有しおよびＫ価18を有するポ
リビニルアルコール12pbwの混合物が製造例２に記載さ
れたように３−ヒドロキシブタナール17.6pbwおよびブ
タナール3.6pbwと反応する。得られたポリマーはOH価42
6を有しおよび60.5％Ｃおよび9.5％Ｈを含有する。
製造例10 ポリビニルアルコール（２％残アセチル基;K値８）44
pbwが製造例２に記載されたように３−ヒドロキシペン
タナール20pbwおよび４−クロロベンズアルデヒド10pbw
と反応する。OH価252および2.7％の塩素含量を有するポ
リマーが得られる。
pbwが製造例２に記載されたように３−ヒドロキシペン
タナール20pbwおよび４−クロロベンズアルデヒド10pbw
と反応する。OH価252および2.7％の塩素含量を有するポ
リマーが得られる。
製造例11 ブロモアセトアルデヒドジエチルアセタールの、フエ
ノールとの反応により、２−フエノキシアセトアルデヒ
ドを製造し、これは酸加水分解によりアルデヒドに変換
する。製造例５に記載されたポリビニルアルコール44pb
wが製造例１で記載されたように３−ヒドロキシヘキサ
ナール15pbwおよびアルデヒド25pbwと反応する。得られ
たポリマーはOH価187を有しおよび63.2％Ｃおよび8.9％
Ｈを含有する。
ノールとの反応により、２−フエノキシアセトアルデヒ
ドを製造し、これは酸加水分解によりアルデヒドに変換
する。製造例５に記載されたポリビニルアルコール44pb
wが製造例１で記載されたように３−ヒドロキシヘキサ
ナール15pbwおよびアルデヒド25pbwと反応する。得られ
たポリマーはOH価187を有しおよび63.2％Ｃおよび8.9％
Ｈを含有する。
製造例12 製造例２におけるように、酸を導入した後、37％ホル
ムアルデヒド水溶液18pbwを製造例５におけるようにポ
リビニルアルコール44pbwに滴加する。滴加の終了後、
2,2−ジメチル−３−ヒドロキシブタナール22pbwを混合
物に添加しおよび他の方法は製造例２におけるようもの
である。OH価274を有するもろい生成物が得られる。
ムアルデヒド水溶液18pbwを製造例５におけるようにポ
リビニルアルコール44pbwに滴加する。滴加の終了後、
2,2−ジメチル−３−ヒドロキシブタナール22pbwを混合
物に添加しおよび他の方法は製造例２におけるようもの
である。OH価274を有するもろい生成物が得られる。
製造例13および14 製造例５のベンズアルデヒドを４−メチル−ベンズア
ルデヒドおよび４−メトキシベンズアルデヒドの同部の
混合物の同量に代える。得られたポリマーはOH価約270
を有しおよびその特性で製造例５のポリマーに非常に類
似している。
ルデヒドおよび４−メトキシベンズアルデヒドの同部の
混合物の同量に代える。得られたポリマーはOH価約270
を有しおよびその特性で製造例５のポリマーに非常に類
似している。
製造例15 ２−メチル−２−メチロールプロパナールがホルムア
ルデヒドおよび２−メチルプロパナールから製造され
る。製造例１に記載されたポリビニルアルコール44pbw
が製造例２におけるように２−メチル−２−メチルプロ
パナール24pbwおよびブタナール16pbwと反応する。得ら
れた沈殿ポリマーは30℃より下で貯蔵した場合、安定で
ある。これはOH価322を有する。
ルデヒドおよび２−メチルプロパナールから製造され
る。製造例１に記載されたポリビニルアルコール44pbw
が製造例２におけるように２−メチル−２−メチルプロ
パナール24pbwおよびブタナール16pbwと反応する。得ら
れた沈殿ポリマーは30℃より下で貯蔵した場合、安定で
ある。これはOH価322を有する。
製造例16 製造例15に記載されたポリビニルアルコール44pbwが
５−ヒドロキシペンタナール46pbwおよびブタナール2pb
wと製造例１に記載されたように反応する。ポリマーはO
H価442を有する。
５−ヒドロキシペンタナール46pbwおよびブタナール2pb
wと製造例１に記載されたように反応する。ポリマーはO
H価442を有する。
製造例17 ２−エチル−３−ヒドロキシヘキサナールをｎ−ブタ
ナールのアルカリ触媒縮合により製造する。製造例５に
記載されたポリビニルアルコール22pbwおよび製造例４
に記載されたポリビニルアルコール22pbwが２−エチル
−３−ヒドロキシヘキサナール20pbwおよびプロパナー
ル8pbwと反応する。ポリマーはOH価324を有する。
ナールのアルカリ触媒縮合により製造する。製造例５に
記載されたポリビニルアルコール22pbwおよび製造例４
に記載されたポリビニルアルコール22pbwが２−エチル
−３−ヒドロキシヘキサナール20pbwおよびプロパナー
ル8pbwと反応する。ポリマーはOH価324を有する。
適用例１ エチレングリコール 165pbwおよび モノメチルエーテル テトラヒドロフラン 32pbw中の 製造例１に記載され 3.5pbw たポリマー 85％リン酸中３− 1.2pbw メトキシジフエニル アミン４−ジアゾニ ウムスルフエート １モルおよび4,4′ −ビス−（メトキシ メチル）ジフエニル エーテル１モルから 製造されおよびメシ チレンスルホネート として単離するジア ゾニウム塩重縮合生 成物 リン酸（85％） 0.14pbw ビクトリア ピュア 0.18pbwおよび ブルー FGACC.I. ベーシツク ブルー 81） フエニルアゾジフエ 0.04pbw ニルアミン から成るコーテイング溶液を、水性摩耗懸濁液でのブラ
ツシングにより粗面化されおよびその後ポリビニルホス
ホン酸の0.1％水溶液で前処理された0.3mm厚さのアルミ
ニウムシートに適用しおよびその後乾燥した。
ツシングにより粗面化されおよびその後ポリビニルホス
ホン酸の0.1％水溶液で前処理された0.3mm厚さのアルミ
ニウムシートに適用しおよびその後乾燥した。
0.6g/m2の層重量を有する、このようにして得られた
感光性層を5Kwの出力を有する金属ハロゲン化物ランプ
を用いて18秒間標準ネガチブマスター下に露光する。露
光された層は露光および非露光部分の間に明らかなコン
トラストを示しおよび次の組成の現像液溶液で処理す
る： ナトリウムオクチルスルフエート 3.0pbw 安息香酸ナトリウム 4.2pbw リン酸三ナトリウム・十二水和物 2.8pbw 二水素リン酸−ナトリウム 1.5pbw 脱イオン水 88.5pbw そのpH価は7.3であり、非露光層範囲は短時間内にき
れいに除去され、その後水ですすがれおよび乾燥され
る。マスターの最も微細な要素がコピー中で再現され
る。この方法で得られた印刷版はシートオフセツト印刷
機で50000より上のプリント数を生じる。
感光性層を5Kwの出力を有する金属ハロゲン化物ランプ
を用いて18秒間標準ネガチブマスター下に露光する。露
光された層は露光および非露光部分の間に明らかなコン
トラストを示しおよび次の組成の現像液溶液で処理す
る： ナトリウムオクチルスルフエート 3.0pbw 安息香酸ナトリウム 4.2pbw リン酸三ナトリウム・十二水和物 2.8pbw 二水素リン酸−ナトリウム 1.5pbw 脱イオン水 88.5pbw そのpH価は7.3であり、非露光層範囲は短時間内にき
れいに除去され、その後水ですすがれおよび乾燥され
る。マスターの最も微細な要素がコピー中で再現され
る。この方法で得られた印刷版はシートオフセツト印刷
機で50000より上のプリント数を生じる。
適用例２ エチレングリコールモノ 4600pbw中の メチルエーテル 製造例１に記載された 92.2pbw バインダー メタンスルホネートとし 31.9pbw て単離した適用例１に記載 されたジアゾニウム重縮合物 リン酸（85％） 3.85pbw ビクトリア ピユア ブルー 4.73pbwおよび FGA フエニルアゾジフエニルアミン 1.1pbw から成るコーテイング溶液を適用例１に記載された層支
持体に適用する。乾燥層重量は0.55g/m2である。
持体に適用する。乾燥層重量は0.55g/m2である。
露光は適用例１におけるように行い、その間現像目的
のために、フイルムを水ですすぎおよび水に浸漬された
フラシ天タンポンでぬぐう。非画像部分は容易に除去で
き、３％ポリスチレンスルホン酸を含有する溶液での保
存後、その非画像部分がいかなる油状インキも吸収しな
い、高いインキ受容性の印刷板が得られる。シート印刷
機での印刷の間、数千の良好なプリントが得られる。
のために、フイルムを水ですすぎおよび水に浸漬された
フラシ天タンポンでぬぐう。非画像部分は容易に除去で
き、３％ポリスチレンスルホン酸を含有する溶液での保
存後、その非画像部分がいかなる油状インキも吸収しな
い、高いインキ受容性の印刷板が得られる。シート印刷
機での印刷の間、数千の良好なプリントが得られる。
適用例３ コーテイング溶液は ブタノン 26pbwおよび 酢酸ブチル 14pbw中の 製造例１に記載されたポリマー 2pbw 2,2,4−トリメチル 2.2pbw ヘキサメチレンジイソシ アネート１モルおよびヒ ドロキシエチルメタクリレ ート２モルの反応生成物 ９−フエニルアクリジン 0.1pbw 2,4−ジニトロ−６−ク 0.1pbw ロロベンゼンジアゾニウム 塩および２−メトキシ−５ −アセチルアミノ−Ｎ−シ アノエチル−Ｎ−ヒドロキシ エチルアニリンから得られる アゾ染料 から製造される。
溶液は硝酸中で電気化学的に粗面化され、硫酸中で陽
極酸化されおよびポリビニルホスホン酸で後−処理され
たアルミニウムシートに、3.2g/m2の乾燥層重量が得ら
れるような方法で適用される。層はその表面を保護する
ために、その後ポリビニルアルコールの0.4μｍ厚さの
層で塗布される。
極酸化されおよびポリビニルホスホン酸で後−処理され
たアルミニウムシートに、3.2g/m2の乾燥層重量が得ら
れるような方法で適用される。層はその表面を保護する
ために、その後ポリビニルアルコールの0.4μｍ厚さの
層で塗布される。
完成された板は5Kw金属ハロゲン化物ランプを用い
て、複写フレームおよびランプ間の130cmの間隔で、0.0
5〜3.05の濃度範囲および0.15の濃度増加を伴うハーフ
トーングレースケール下に露光する。現像は次の組成の
現像液で行う： NaOH 1pbw ペラルゴン酸 4pbw 酸化エチレン／酸化プロピレンコポリマー 12pbw ナトリウムテトラポリホスフエート 4pbwおよ
び 水 79pbw 迅速に現像可能な板が不明瞭な段階４を示す。
て、複写フレームおよびランプ間の130cmの間隔で、0.0
5〜3.05の濃度範囲および0.15の濃度増加を伴うハーフ
トーングレースケール下に露光する。現像は次の組成の
現像液で行う： NaOH 1pbw ペラルゴン酸 4pbw 酸化エチレン／酸化プロピレンコポリマー 12pbw ナトリウムテトラポリホスフエート 4pbwおよ
び 水 79pbw 迅速に現像可能な板が不明瞭な段階４を示す。
シートオフセツト印刷機にとりつけた後、125000の良
好な印刷が得られる。
好な印刷が得られる。
適用例４ コーテイング溶液は エチレングリコールモノメチルエーテル 120pbwおよび ブタノン 30pbw中 製造例２に記載されたポリマー 2.1pbw 2,6−ビス（４−アジドベンザール） 2.2pbw −４−メチルシクロヘキサノン ローダミン6GDNエクストラ 0.3pbw （C.I.45160） から製造される。
溶液は適用例３に記載されたキヤリヤーに適用されお
よび乾燥して、0.7g./m2の乾燥層重量を生じる。露光
後、容易に可視の暗赤色画像が得られる。層はフラシ天
タンポンにより、次の組成： 脱イオン水 94.0pbw中の ナトリウムラウリルスルフエート 5.0pbwおよび メタケイ酸ナトリウム・五水和物 1.0pbw の現像液溶液で処理され、非−画像部分が除去される。
156000の良好な印刷がシートオフセツト印刷機で得られ
る。
よび乾燥して、0.7g./m2の乾燥層重量を生じる。露光
後、容易に可視の暗赤色画像が得られる。層はフラシ天
タンポンにより、次の組成： 脱イオン水 94.0pbw中の ナトリウムラウリルスルフエート 5.0pbwおよび メタケイ酸ナトリウム・五水和物 1.0pbw の現像液溶液で処理され、非−画像部分が除去される。
156000の良好な印刷がシートオフセツト印刷機で得られ
る。
適用例５ 露光、現像および市販の保存剤での保存後、先の例の
層を230℃で５分間ホツトボツクス中で加熱する。先の
例と直接比較して、この板は付加的に110000プリントを
印刷する。
層を230℃で５分間ホツトボツクス中で加熱する。先の
例と直接比較して、この板は付加的に110000プリントを
印刷する。
適用例６ エチレングリコールモノメチルエーテル 1600pbw中 製造例５に記載されたポリマー 30.3pbw 適用例１に記載されたジアゾニウム 15.1pbw 塩重縮合生成物 リン酸（85％） 1.2pbw ビクトリウ ピユア ブルーFGA 1.5pbwおよび （C.I.ベーシツク ブルー81） フエニルアゾジフエニルアミン 1.1pbw から成るコーテング溶液を、塩化水素酸で導電的に粗面
化され、その後陽極酸化されおよびポリビニルホスホン
酸で後処理されたアルミニウムシートに回転により適用
する。乾燥層の層重量は1.2g/m2である。
化され、その後陽極酸化されおよびポリビニルホスホン
酸で後処理されたアルミニウムシートに回転により適用
する。乾燥層の層重量は1.2g/m2である。
露光および現像は適用例１に記載されたように行う。
得られた印刷版はコピーのいかなる重要な価値下落も
見出されることなしに、シートオフセツト印刷機で1500
00枚のプリント数を生じる。
見出されることなしに、シートオフセツト印刷機で1500
00枚のプリント数を生じる。
適用例７ ブタノン 25pbw エタノール 2pbwおよ
び 酢酸ブチル 1pbw中の 製造例７に記載された反応生成物 6.5pbw ペンタエリトリトールトリー 5.6pbw およびテトラアクリレートの工業的混合物 ２−（４′−メトキシスチリル）−4,6 0.2pbwおよ
び −ビストリクロロメチル−Ｓ−トリアジン 適用例３に記載されたアゾ染料 0.03pbw から、100℃での乾燥後35g/m2の乾燥層重量が得られる
ような方法で、二軸延伸およびヒートセツトされたポリ
エチレンテレフタレートフイルムに回転塗布される、溶
液が製造される。
び 酢酸ブチル 1pbw中の 製造例７に記載された反応生成物 6.5pbw ペンタエリトリトールトリー 5.6pbw およびテトラアクリレートの工業的混合物 ２−（４′−メトキシスチリル）−4,6 0.2pbwおよ
び −ビストリクロロメチル−Ｓ−トリアジン 適用例３に記載されたアゾ染料 0.03pbw から、100℃での乾燥後35g/m2の乾燥層重量が得られる
ような方法で、二軸延伸およびヒートセツトされたポリ
エチレンテレフタレートフイルムに回転塗布される、溶
液が製造される。
この方法で得られる乾燥レジストフイルムは120℃で
積層装置を用いて、35μｍ厚さの銅シートでクラツドさ
れたフエノール可塑性積層板上に積層される。使用され
るマスターは80μｍまでのライン幅および間隔を有する
ラインマスターである。露光後、ポリエステルフイルム
を徐々に引きはがしおよび得られた層を適用例１に記載
された組成の現像液溶液で90秒間スプレー現像装置で現
像する。これを引続き水道水で30秒間すすぎ、15％過硫
酸アンモニウム溶液で30秒間エツチングしはじめ、その
後次の組成の電解浴で電気メツキする： １）Schltter、Geislingen/Steigeにより供給される
タイプ“bright−copper bath"の銅浴中30分間。
積層装置を用いて、35μｍ厚さの銅シートでクラツドさ
れたフエノール可塑性積層板上に積層される。使用され
るマスターは80μｍまでのライン幅および間隔を有する
ラインマスターである。露光後、ポリエステルフイルム
を徐々に引きはがしおよび得られた層を適用例１に記載
された組成の現像液溶液で90秒間スプレー現像装置で現
像する。これを引続き水道水で30秒間すすぎ、15％過硫
酸アンモニウム溶液で30秒間エツチングしはじめ、その
後次の組成の電解浴で電気メツキする： １）Schltter、Geislingen/Steigeにより供給される
タイプ“bright−copper bath"の銅浴中30分間。
電流密度:2.5A/dm2 金属形成：約12.5μｍ。
２）同じ製造者により供給されるタイプ“Norma"のニツ
ケル浴中10分間。
ケル浴中10分間。
電流密度:4.0A/dm2。
金属形成:9μｍ。
板は損傷または傷を示さない。剥離は５％KOH溶液中5
0℃で行う。露光された銅は通常のエツチング媒体でエ
ツチング除去される。
0℃で行う。露光された銅は通常のエツチング媒体でエ
ツチング除去される。
適用例８ 次の組成のコーテイング溶液を製造する： エチレングリコールモノメチルエーテル 48pbwおよび ブタノン 42pbw中の 製造例９に記載されたポリマー 1.5pbw ２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフエノン 0.5p
bw −５−スルホネートとして沈殿した、３− メトキシジフエニルアミン−４−ジアゾニウム スルフエート１モルおよび４−メトキシメチル −４′−メチルジフエニルエーテルおよび1,4 −ビスメトキシメチル−ベンゼン各々１モルの ジアゾニウム塩重縮合生成物 ビクトリア ピユア ブルーFGA 0.1pbw ペンタエリトリトールトリーおよび 1.5pbw テトラアクリレートの工業的混合物 ２−（４′−スチリルフエニル） 0.1pbwおよび −4,6−ビストリクロロメチル−Ｓ−トリアジン リン酸（85％） 0.05pbw。
bw −５−スルホネートとして沈殿した、３− メトキシジフエニルアミン−４−ジアゾニウム スルフエート１モルおよび４−メトキシメチル −４′−メチルジフエニルエーテルおよび1,4 −ビスメトキシメチル−ベンゼン各々１モルの ジアゾニウム塩重縮合生成物 ビクトリア ピユア ブルーFGA 0.1pbw ペンタエリトリトールトリーおよび 1.5pbw テトラアクリレートの工業的混合物 ２−（４′−スチリルフエニル） 0.1pbwおよび −4,6−ビストリクロロメチル−Ｓ−トリアジン リン酸（85％） 0.05pbw。
この溶液を電気化学的に粗面化され、陽極酸化されお
よびポリビニルホスホン酸で後処理されたアルミニウム
シートに適用しおよび1.6g/m2の乾燥層重量に乾燥す
る。得られた印刷板を好適な試験マスター下に露光しお
よび次の組成の現像液で現像する： 脱イオン水 89.0pbw中の リン酸水素二ナトリウム・十二水和物 3.5pbw リン酸三ナトリウム・十二水和物 3.5pbw 四ホウ酸カリウム・五水和物 1.5pbwおよび ナトリウムドデシルスルフエート 2.5pbw。
よびポリビニルホスホン酸で後処理されたアルミニウム
シートに適用しおよび1.6g/m2の乾燥層重量に乾燥す
る。得られた印刷板を好適な試験マスター下に露光しお
よび次の組成の現像液で現像する： 脱イオン水 89.0pbw中の リン酸水素二ナトリウム・十二水和物 3.5pbw リン酸三ナトリウム・十二水和物 3.5pbw 四ホウ酸カリウム・五水和物 1.5pbwおよび ナトリウムドデシルスルフエート 2.5pbw。
印刷版はシートオフセツト印刷機で直ちに油状インキ
を吸収する。延長された装置停止後さえ、インキは既に
２〜８枚後再び完全に吸収される。達成されるプリント
数は満足できる印刷約180000枚であり、最も微細なライ
ンさえなお完全に再現される。
を吸収する。延長された装置停止後さえ、インキは既に
２〜８枚後再び完全に吸収される。達成されるプリント
数は満足できる印刷約180000枚であり、最も微細なライ
ンさえなお完全に再現される。
適用例９ チヨークを有する45％顆粒材料として2,5−ジメチル
ヘキサン−2,5−ジ−ｔ−チルペルオキシド0.2pbwを付
加的に先例のコーテイング材料中に導入しおよび溶液を
コーテイング前に濾過する。現像された印刷版を市販の
防腐剤で処理しおよび210℃で５分間加熱する。この方
法で熱後処理された板は300000シート後でさえ、なおい
かなる種類の損傷も示さない。
ヘキサン−2,5−ジ−ｔ−チルペルオキシド0.2pbwを付
加的に先例のコーテイング材料中に導入しおよび溶液を
コーテイング前に濾過する。現像された印刷版を市販の
防腐剤で処理しおよび210℃で５分間加熱する。この方
法で熱後処理された板は300000シート後でさえ、なおい
かなる種類の損傷も示さない。
適用例10 適用例６に記載された層の貯蔵安定性を試験する。こ
の目的のために、ここに記載された感光性混合物の板５
枚を製造し、これを１〜５時間、100℃で乾燥炉中で貯
蔵する。熱貯蔵後、板を画像に応じて露光しおよび適用
例１に記載された現像液で現像する。非−画像部分に残
留した層残渣（トーン）を可視性にするために、乾燥さ
れたプレートが酸−抵抗インキで塗布される。
の目的のために、ここに記載された感光性混合物の板５
枚を製造し、これを１〜５時間、100℃で乾燥炉中で貯
蔵する。熱貯蔵後、板を画像に応じて露光しおよび適用
例１に記載された現像液で現像する。非−画像部分に残
留した層残渣（トーン）を可視性にするために、乾燥さ
れたプレートが酸−抵抗インキで塗布される。
１および２時間貯蔵された板はなお満足に現像でき
る。これはハーフトーングレースケールのいかなる認め
うる拡張も示さない。３時間にわたる熱間貯蔵後、良好
な二段階によりハーフトーングレースケールの拡張を示
す。現像はわずかにのみ遅延される。４時間にわたつて
貯蔵された板は著しい遅延およびパツチの形成を伴つて
のみ現像できる。５時間にわたつて貯蔵された板は薄く
着色されおよび層はもはやいかなる点でも層支持体から
満足に分離されない。結果は本発明による混合物が熱間
貯蔵に比較的耐性であることを示す。
る。これはハーフトーングレースケールのいかなる認め
うる拡張も示さない。３時間にわたる熱間貯蔵後、良好
な二段階によりハーフトーングレースケールの拡張を示
す。現像はわずかにのみ遅延される。４時間にわたつて
貯蔵された板は著しい遅延およびパツチの形成を伴つて
のみ現像できる。５時間にわたつて貯蔵された板は薄く
着色されおよび層はもはやいかなる点でも層支持体から
満足に分離されない。結果は本発明による混合物が熱間
貯蔵に比較的耐性であることを示す。
適用例11〜16 下記の例は、本発明による感光性層が、大部分低いヒ
ドロキシル価を有する市販のポリビニルアセチルを含有
するものと比較して水性現像液でより容易に方法を行う
ことができおよび付加的に、同時に比較例のものと比較
して、すぐれたまたは少なくとも同様の複写および印刷
作業での特性を示すことを証明しようと企図する。
ドロキシル価を有する市販のポリビニルアセチルを含有
するものと比較して水性現像液でより容易に方法を行う
ことができおよび付加的に、同時に比較例のものと比較
して、すぐれたまたは少なくとも同様の複写および印刷
作業での特性を示すことを証明しようと企図する。
この目的のために、６種のコーテイング溶液を製造
し、これは使用されるポリマーでのみ異なる： エチレングリコールモノメチルエーテル 150pbw中の 特別なポリマー 3.6pbw 適用例１に記載されたジアゾニウム塩重縮合生成物 1.8
pbw リン酸（85％） 0.2pb
w クリスタル バイオレツト（C.I. 42555）0.1pbwおよび フエニルアゾジフエニルアミン 0.06pbw。
し、これは使用されるポリマーでのみ異なる： エチレングリコールモノメチルエーテル 150pbw中の 特別なポリマー 3.6pbw 適用例１に記載されたジアゾニウム塩重縮合生成物 1.8
pbw リン酸（85％） 0.2pb
w クリスタル バイオレツト（C.I. 42555）0.1pbwおよび フエニルアゾジフエニルアミン 0.06pbw。
各々の場合使用されるポリマー、そのOH価およびまた
現像受容性、解像力、インキ受容性、プリント数および
相当する感光性層の熱後−処理後のプリント数は下記の
表１に示される。全ての層は硝酸中で導電的に粗面化さ
れ、陽極酸化されおよびポリビニルホスホン酸で後−処
理されたアルミニウム支持体に適用され、1.0g/m2の乾
燥層重量を生じる。
現像受容性、解像力、インキ受容性、プリント数および
相当する感光性層の熱後−処理後のプリント数は下記の
表１に示される。全ての層は硝酸中で導電的に粗面化さ
れ、陽極酸化されおよびポリビニルホスホン酸で後−処
理されたアルミニウム支持体に適用され、1.0g/m2の乾
燥層重量を生じる。
注釈： （ａ）Ａ＝適用例１からのポリマー Ｂ＝適用例９からのポリマー Ｃ〜Ｅ＝市販のポリビニルブチラール Ｆ＝市販のポリビニルホルマール （ｂ）適用例１におけるような現像液 （ｃ）現像液組成： NaOH １ pbw、ペラルゴン酸4pbw、酸化エチレン／酸
化プロピレンコポリマー12pbw、ナトリウムテトラポリ
ホスフエート4pbw、水79pbw。
化プロピレンコポリマー12pbw、ナトリウムテトラポリ
ホスフエート4pbw、水79pbw。
（ｄ）現像液組成： メタケイ酸ナトリウム・九水和物0.2pbw、リン酸水素二
ナトリウム・十二水和物4pbw、リン酸三ナトリウム・十
二水和物3.5pbw、四ホウ酸カリウム・四水和物1.5pbw、
シュウ酸カリウム・一水和物2pbw、安息香酸ナトリウム
2.5pbw、フエノキシエタノール2pbw、水84.3pbw。
ナトリウム・十二水和物4pbw、リン酸三ナトリウム・十
二水和物3.5pbw、四ホウ酸カリウム・四水和物1.5pbw、
シュウ酸カリウム・一水和物2pbw、安息香酸ナトリウム
2.5pbw、フエノキシエタノール2pbw、水84.3pbw。
（ｅ）現像液組成： 硫酸ナトリウム・六水和物2.8pbw、硫酸マグネシウム・
七水和物2.8pbw、オルトリン酸0.7pbw、亜リン酸0.08pb
w、非イオン湿潤剤1.6pbw、ベンジルアルコール10pbw、
ｎ−プロパノール20pbw、水61.82pbw。
七水和物2.8pbw、オルトリン酸0.7pbw、亜リン酸0.08pb
w、非イオン湿潤剤1.6pbw、ベンジルアルコール10pbw、
ｎ−プロパノール20pbw、水61.82pbw。
（ｂ）〜（ｅ）＋＝非常に好適な現像液 −＝層差別がないので好適でない現像液 （＋）＝層差別かあるいは露光された層の攻撃がわずか
であるので非常に好適というわけではない現像液 （ｆ）20秒間の露光およびそのつど好適な現像液での現
像後、標準グレースケールcm毎に60ラインの枠内で２〜
98％表面被覆の範囲の解像 （ｖ）比較例 （ｗ）230℃で５分間の熱処理後のプリント数。
であるので非常に好適というわけではない現像液 （ｆ）20秒間の露光およびそのつど好適な現像液での現
像後、標準グレースケールcm毎に60ラインの枠内で２〜
98％表面被覆の範囲の解像 （ｖ）比較例 （ｗ）230℃で５分間の熱処理後のプリント数。
これらの例から、比較例の混合物とは対照的に、本発
明による感光性混合物が容易に水溶液で現像できること
が明らかになる。前者は水性アルカリ性の、一般に溶剤
を含有する現像液で方法を行うことができる。ポリビニ
ルホルマールを含有する層は溶剤の高い配分を含有する
現像液でのみ方法を行うことができる。本発明による層
は比較例のものと複写作業で同等でありおよびそのプリ
ント数で後者よりすぐれているかあるいは少なくとも同
等である。
明による感光性混合物が容易に水溶液で現像できること
が明らかになる。前者は水性アルカリ性の、一般に溶剤
を含有する現像液で方法を行うことができる。ポリビニ
ルホルマールを含有する層は溶剤の高い配分を含有する
現像液でのみ方法を行うことができる。本発明による層
は比較例のものと複写作業で同等でありおよびそのプリ
ント数で後者よりすぐれているかあるいは少なくとも同
等である。
適用例17 コーテング溶液を エチレングリコールモノメチルエーテル 100pbw テトラヒドロフラン 30pbwおよび 水 20pbw中 製造例９に記載されたポリマー 2.2pbw 4,4′−ジアジドスチルベン−2,2′ 2.2pbw −ジスルホン酸 ローダミン6GDNエクストラ 0.3pbw
および ２−ベンゾイルメチレン−１−メチル−β 0.
2pbw −ナフトチアゾーリン から製造する。
および ２−ベンゾイルメチレン−１−メチル−β 0.
2pbw −ナフトチアゾーリン から製造する。
溶液を適用例３に記載された支持体に適用しおよび0.8g
/m2の乾燥層重量に乾燥する。複写層を5Kwの出力を有す
る金属−ハロゲン化物ランプを用いてネガチブマスター
下に35秒間露光する。層をナトリウムラウリルスルフエ
ート5pbwおよび水95pbwの溶液で現像し、フラシ天タン
ポンでぬぐいとることにより、非画像部分を除去する。
175000の品質的に良好な印刷がシートオフセツト印刷機
で達成される。
/m2の乾燥層重量に乾燥する。複写層を5Kwの出力を有す
る金属−ハロゲン化物ランプを用いてネガチブマスター
下に35秒間露光する。層をナトリウムラウリルスルフエ
ート5pbwおよび水95pbwの溶液で現像し、フラシ天タン
ポンでぬぐいとることにより、非画像部分を除去する。
175000の品質的に良好な印刷がシートオフセツト印刷機
で達成される。
適用例18 適用例１に記載されたコーテイング溶液を適用例３に
記載された支持体上に回転塗布する。層重量は乾燥後約
1g/m2である。このタイプの４枚の板を40℃に加熱され
および60％の相対湿度を有する熱帯室中で貯蔵する。各
々の場合１枚の板を１、２、４および８ヶ月後除去し、
画像に応じて露光しおよび適用例１におけるように現像
した。比較のために、これらの条件にかけられない板が
包含される。
記載された支持体上に回転塗布する。層重量は乾燥後約
1g/m2である。このタイプの４枚の板を40℃に加熱され
および60％の相対湿度を有する熱帯室中で貯蔵する。各
々の場合１枚の板を１、２、４および８ヶ月後除去し、
画像に応じて露光しおよび適用例１におけるように現像
した。比較のために、これらの条件にかけられない板が
包含される。
１および２ヶ月にわたつて貯蔵された板は本来の板に
完全に相当する。これ等しく迅速におよびかぶりなしに
現像できる。４ヶ月間貯蔵された板は明らかなハーフト
ーングレースケール拡張を示す。８ヶ月間貯蔵された板
はまた非画像部分でのトーンの痕跡を示す。水溶液で現
像できる層にとつて、このような貯蔵安定性は驚異的に
高い。
完全に相当する。これ等しく迅速におよびかぶりなしに
現像できる。４ヶ月間貯蔵された板は明らかなハーフト
ーングレースケール拡張を示す。８ヶ月間貯蔵された板
はまた非画像部分でのトーンの痕跡を示す。水溶液で現
像できる層にとつて、このような貯蔵安定性は驚異的に
高い。
適用例19 ブタノン 250pbw エタノール 2pbwおよ
び 酢酸ブチル 1pbw中の 製造例６に記載されたポリマー 6.5pbw 4,4′−ビス（β−アクリロイルオキシエトキシ）5.5pb
w ジフエニルエーテル ２−（４′−メトキシスチリル）−4,6 −0.2pbwおよび ビストリクロロメチル−Ｓ−トリアジン 適用例３に記載されたアゾ染料 0.2pbw から成るコーテイング溶液をさらに適用例３に記載され
たように方法にかける。この板は、また損傷または傷を
示さない。
び 酢酸ブチル 1pbw中の 製造例６に記載されたポリマー 6.5pbw 4,4′−ビス（β−アクリロイルオキシエトキシ）5.5pb
w ジフエニルエーテル ２−（４′−メトキシスチリル）−4,6 −0.2pbwおよび ビストリクロロメチル−Ｓ−トリアジン 適用例３に記載されたアゾ染料 0.2pbw から成るコーテイング溶液をさらに適用例３に記載され
たように方法にかける。この板は、また損傷または傷を
示さない。
適用例20 脱脂されたポリエステルスクリーン（目幅0.05mm）を
次のコーテイング溶液に添加する： エチレングリコールモノメチルエーテル 92pbw中
の 製造例５に記載されたポリマー 4.5pbw ジペンタエリトリトールペンタアクリレート 2.0pbw トルエン−2,4−ジイソシアネー 2.0pbwおよび ト１モルのヒドロキシエチルメタクリレート２モルとの
反応 により製造されるウレタンアクリレート ２−（４−エトキシナフト−１−イル） 0.4pbw。
次のコーテイング溶液に添加する： エチレングリコールモノメチルエーテル 92pbw中
の 製造例５に記載されたポリマー 4.5pbw ジペンタエリトリトールペンタアクリレート 2.0pbw トルエン−2,4−ジイソシアネー 2.0pbwおよび ト１モルのヒドロキシエチルメタクリレート２モルとの
反応 により製造されるウレタンアクリレート ２−（４−エトキシナフト−１−イル） 0.4pbw。
−4,6−ビストリクロロメチル−Ｓ−トリアジン 乾燥されたスクリーンをフオトマスクを通して露光し
および適用例１に記載された現像液で方法を行う。得ら
れるシルク−スクリーン印刷ステンシルは有利な画像解
像力および摩耗に対する抵抗のためすぐれている。
および適用例１に記載された現像液で方法を行う。得ら
れるシルク−スクリーン印刷ステンシルは有利な画像解
像力および摩耗に対する抵抗のためすぐれている。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｌ 29/14 ＬＨＡ Ｃ０８Ｌ 29/14 ＬＨＡ (56)参考文献 特開 昭61−267042（ＪＰ，Ａ) 特開 昭56−161537（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−217783（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−6707（ＪＰ，Ａ) 特開 昭48−38716（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−96506（ＪＰ，Ａ)
Claims (8)
- 【請求項１】式I: ［式中R1は基:HO−R4−および の１つであり、R2は水素原子、１〜６の炭素原子を含有
する置換または非置換アルキル基、置換または非置換ア
リール基であり、R3は１〜４の炭素原子を含有するアル
キル基であり、R4は１〜６の炭素原子を含有する置換ま
たは非置換アルキレン基であり、R5およびR6は同じかま
たは異なりおよび水素原子、１〜６の炭素原子を有する
アルキル基、１〜４の炭素原子を有するアルコキシ基、
１〜３の炭素原子を有するヒドロキシアルキル基または
ヒドロキシル基を表わし、R7は水素原子または１〜６の
炭素原子を有するアルキル基であり、R8は水素原子、１
〜６の炭素原子を有するアルキル、ヒドロキシアルキル
またはアルコキシアルキル基または６〜10の炭素原子を
有する置換または非置換アルキル基であり、ａは0.01〜
0.85の数、ｂは０〜0.85の数、ｃは0.01〜0.20の数、ｄ
は0.04〜0.40の数およびａ＋ｂ＋ｃ＋ｄの総計＝１であ
る］のポリマー。 - 【請求項２】R3がメチル基である、特許請求の範囲第１
項記載のポリマー。 - 【請求項３】5000〜250000の平均分子量を有する、特許
請求の範囲第１項記載のポリマー。 - 【請求項４】150〜600のヒドロキシル価を有する、特許
請求の範囲第１項記載のポリマー。 - 【請求項５】必須成分として光硬化可能な物質およびポ
リビニルアセタールを含有する感光性混合物において、
ポリビニルアセタールが式I: ［式中R1は基:HO−R4−および の１つであり、R2は水素原子、１〜６の炭素原子を含有
する置換または非置換アルキル基、置換または非置換ア
リール基であり、R3は１〜４の炭素原子を含有するアル
キル基であり、R4は１〜６の炭素原子を含有する置換ま
たは非置換アルキレン基であり、R5およびR6は同じかま
たは異なりおよび水素原子、１〜６の炭素原子を有する
アルキル基、１〜４の炭素原子を有するアルコキシ基、
１〜３の炭素原子を有するヒドロキシアルキル基または
ヒドロキシル基を表し、R7は水素原子または１〜６の炭
素原子を有するアルキル基であり、R8は水素原子、１〜
６の炭素原子を有するアルキル、ヒドロキシアルキルま
たはアルコキシアルキル基または６〜10の炭素原子を有
する置換または非置換アルキル基であり、ａは0.01〜0.
85の数、ｂは０〜0.85の数、ｃは0.01〜0.20の数、ｄは
0.04〜0.40の数およびａ＋ｂ＋ｃ＋ｄの総計＝１であ
る］の化合物であることを特徴とする、複写材料用感光
性混合物。 - 【請求項６】光硬化可能な物質がジアゾニウム塩重縮合
生成物である、特許請求の範囲第５項記載の感光性混合
物。 - 【請求項７】光硬化可能な物質がオレフィン性不飽和、
ラジカル重合可能な化合物およびラジカル重合の光開始
剤の混合物である、特許請求の範囲第５項記載の感光性
混合物。 - 【請求項８】光硬化可能な物質が架橋されうるかまたは
露光の際架橋する化合物である、特許請求の範囲第５項
記載の感光性混合物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19863644162 DE3644162A1 (de) | 1986-12-23 | 1986-12-23 | Polyvinylacetal, dieses enthaltendes lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
| DE3644162.7 | 1986-12-23 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63172711A JPS63172711A (ja) | 1988-07-16 |
| JP2617198B2 true JP2617198B2 (ja) | 1997-06-04 |
Family
ID=6317045
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62321633A Expired - Lifetime JP2617198B2 (ja) | 1986-12-23 | 1987-12-21 | ポリビニルアセタール、これを含有する複写材料用感光性混合物 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4940646A (ja) |
| EP (1) | EP0274075B1 (ja) |
| JP (1) | JP2617198B2 (ja) |
| DE (2) | DE3644162A1 (ja) |
Families Citing this family (71)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH0693116B2 (ja) * | 1986-01-21 | 1994-11-16 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性組成物 |
-
1986
- 1986-12-23 DE DE19863644162 patent/DE3644162A1/de not_active Withdrawn
-
1987
- 1987-12-10 DE DE8787118277T patent/DE3786008D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-12-10 EP EP87118277A patent/EP0274075B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-12-21 JP JP62321633A patent/JP2617198B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1987-12-21 US US07/135,316 patent/US4940646A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3786008D1 (de) | 1993-07-01 |
| US4940646A (en) | 1990-07-10 |
| JPS63172711A (ja) | 1988-07-16 |
| EP0274075A3 (en) | 1990-07-04 |
| EP0274075B1 (de) | 1993-05-26 |
| DE3644162A1 (de) | 1988-07-07 |
| EP0274075A2 (de) | 1988-07-13 |
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