JPH04110946A - 感光性組成物 - Google Patents

感光性組成物

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JPH04110946A
JPH04110946A JP23006990A JP23006990A JPH04110946A JP H04110946 A JPH04110946 A JP H04110946A JP 23006990 A JP23006990 A JP 23006990A JP 23006990 A JP23006990 A JP 23006990A JP H04110946 A JPH04110946 A JP H04110946A
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JP
Japan
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acid
group
substituent
naphthoquinonediazide
general formula
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Pending
Application number
JP23006990A
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English (en)
Inventor
Hideyuki Nakai
英之 中井
Koji Tomita
富田 康二
Nobuyuki Ishii
信行 石井
Mitsuru Sasaki
充 佐々木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Publication of JPH04110946A publication Critical patent/JPH04110946A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は感光性平板印刷版に用いられる感光性組成物に
関する。更に詳しくは、耐刷力及び耐薬品性に優れた感
光性組成物に関するものである。
[従来の技術] 通常、ポジ型の感光性平版印刷版の感光層には、感光性
物質としてキノンジアジド化合物が、また皮膜強度とア
ルカリ溶解性とを高めるための成分としてアルカリ可溶
性樹脂が含有されている。特にアルカリ可溶性樹脂とし
ては画線部の強度、感脂性及び対摩耗性等の点からノボ
ラック樹脂が一般に用いられている。しかしながら、ノ
ボラック樹脂は通常フェノール類とホルムアルデヒドを
酸触媒の存在下で縮合して得られるものであるため、必
然的に樹脂中にクレゾール等のフェノール類の残留成分
を有しており、この結果、塗布液調製、感光性組成物の
塗布、乾燥等の各工程においてはその残留成分による臭
気等による環境上の問題が生じていた。
この問題を解決するためにノボラック樹脂に残留するフ
ェノール類を除去する試みがなされているが、これによ
れば臭気の問題は改善されるが、得られる感光性平版印
刷版は印刷時において地汚れが発生し、この結果、耐刷
力に劣るという結果が生じていた。ここで地汚れとは印
刷前に不要画線の消去等の版面修正を行なった場合に印
刷時に消去部分周辺の非画像部に汚れが発生するような
現象をいう。
またノボラック樹脂は耐薬品性においても不十分であっ
た。従って本発明は、上記従来の問題に鑑みなされたも
のでその目的は耐刷力及び耐薬品性が改良され、しかも
臭気等の環境上の問題のない感光性平版印刷版に適した
感光性組成物を提供することにある。
[課題を解決するための手段] 本発明者等は前記課題に鑑みて鋭意研究の結果、本発明
の前記目的は、(a)0−ナフトキノンジアジド化合物
、(b)下記一般式(1)及び/又は(2)で示される
繰り返し単位を有し、水に不溶でアルカリに可溶なポリ
エステル樹脂を含有する感光性組成物により達成される
ことを見い出した。
一般式(1) %式% 一般式(2) −(OCO−R,−Co−0−R,−Ar−R,←0O
H (式中、R1は置換基を有していてもよい二価の脂肪族
基又は芳香族炭化水素基を表す。R2は水素原子、置換
基を有してもよいアルキル基、アラルキル基、アリール
基、アルコキシ基又はアリーロキシ基を表す。R8,R
4及びR3は、それぞれ同一でも相異していてもよく、
単結合、置換基を有していてもよい二価の脂肪族基又は
芳香族炭化水素基を表す。) 以下に本発明の詳細な説明する。
本発明における0−ナフトキノンジアジド化合物として
は、例えば0−ナフトキノンジアジドスルホン酸と、フ
ェノール類及びアルデヒド又はケトンの重縮合樹脂との
エステル化合物が好ましく用いられる。
前記フェノール類としては、例えば、フェノール、0−
クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、3.5
−キシレノール、カルバクロール、チモール等の一価フ
エノール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等の
二価フェノール、ピロガロール、フロログルシン等の三
価フェノール等が挙げられる。前記アルデヒドとしては
ホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、クロトンアルデヒド、フルフラール等が挙げられる
。これらのうち好ましいものはホルムアルデヒド及びベ
ンズアルデヒドである。また、前記ケトンとしてはアセ
トン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
前記重縮合樹脂の具体的な例としては、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、p−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、m−クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、m 
 +  D−混合クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂、
レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロール・ア
セトン樹脂等が挙げられる。
前記0−ナフトキノンジアジド化合物のフェノール類の
OH基に対する0−ナフトキノンジアジドスルホン酸の
縮合率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%
が好ましく、より好ましくは20〜60%である。
更に本発明に用いられる0−ナフトキノンジアジド化合
物としては特開昭58−43451号公報明細書に記載
の以下の化合物も使用できる。すなわち、例えば、1.
2−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、1.2
−ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドなどの公知の
1,2−キノンジアジド化合物、さらに具体的にはジエ
イ・コサール(J、Kosar)著「ライト・センシテ
ィブ・システムズ」 (“Light−Sensiti
ve Systems” )第339〜352頁、(1
965年)、ジョン・ウィリー アンドサンズ(Joh
n Wiley & 5ons)社にューヨーク)やダ
ブりニー・ニス・デイ−・フオレスト(W、SDe F
orest)著「フォトレジスト」 (“Photor
esist” )第50巻、  (1975年)、マグ
ロ−ヒル(Mcにraw−Hill)社、にューヨーク
)に記載されている1、2−ナフトキノンジアジド−5
−スルホン酸シクロヘキシルエステル、1− (1,2
−ナフトキノンジアジド−5−スルホニル)−3,5−
ジメチルビラゾール、1,2−ナフトキノンジアジド−
5−スルホン酸−41−ヒドロキシジフェニル−41−
アゾ−β−ナフトールエステル、N、N−ジー(1,2
−ナフトキノンシアシト−5−スルホニル)−アニリン
、2’ −(1,2−ナフトキノンジアジド−5−スル
ホニルオキシ)−1−ヒドロキシ−アントラキノン、1
,2−ナフトキノンシアシト−5−スルホン酸−2,4
−ジヒドロキシベンゾフェノンエステル、1.2−ナフ
トキノンジアジド−5−スルホン酸−2,3゜4−トリ
ヒドロキシベンゾフェノンエステル、1゜2−ナフトキ
ノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モルと4.4
′−ジアミノベンゾフェノン1モルの縮合物、1,2−
ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロリド2モル
と4.4′−ジヒドロキシ−1,1′−ジフェニルスル
ホン1モルの縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−
5−スルホン酸クロリド1モルとプルプロガラ21モル
の縮合物、1,2−ナフトキノンジアジド−5−(N−
ジヒドロアビエチル)−スルホンアミドなどの1.2−
キノンジアジド化合物を例示することができる。また特
公昭37−1953号、同37−3627号、同37−
13109号、同40−26126号、同40−380
1号、同45−5604号、同45−27345号、同
51−13013号、特開昭48−96575号、同4
8−63802号、同48−63802号各公報に記載
された1、2−キノンジアジド化合物をも挙げることが
できる。
更に本発明に用いられる0−ナフトキノンジアジド化合
物としては例えば、1,2−ナフトキノンジアジド−4
−スルホン酸シクロへキシルエステル、1−(1,2−
ナフトキノンジアジド−4−スルホニル)−3,5−ジ
メチルピラゾール、1.2−ナフトキノンジアジド−4
−スルホン酸−4′−ヒドロキシジフェニル−41−ア
ゾ−β−ナフトールエステル、2’ −(1,2−ナフ
トキノンジアジド−4−スルホニルオキシ)−1−ヒド
ロキシ−アントラキノン、1.2−ナフトキノンジアジ
ド−4−スルホン酸−2,4−ジヒドロキシベンゾフェ
ノンエステル、1,2−ナフトキノンジアジド−4−ス
ルホン酸−2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン
エステル、1.2−ナフトキノンジアジド−4−スルホ
ン酸−2゜3.4’ 、4’ −テトラヒドロキンベン
ゾフェノンエステル、1,2−ナフトキノンジアジド−
4−スルホン酸クロリド2モルと4.4′−ジヒドロキ
シ−1,1′−ジフェニルスルホン1モルの縮合物、1
.2−ナフトキノンジアジド−4−スルホン酸クロリド
1モルとプルブロガリン1モルの縮合物等のポリヒドロ
キシ化合物の1.2−ナフトキノン−2−ジアジド−4
−スルホン酸エステル化合物が挙げられる。
また更に下記のようなポリウレタン樹脂の0−ナフトキ
ノンジアジドスルホン酸エステル化合物も使用しうる。
O (但し、nは2〜300の整数を表わす。)また、本発
明においてはフェノール性水酸基を有するビニル重合体
とO−ナフトキノンジアジドスルホン酸とのエステル化
合物も使用することができる。このようなエステル化合
物を形成するフェノール性水酸基を有するビニル重合体
としてはフェノール性水酸基を有する単位を分子構造中
に有する重合体であり、好ましくは、前記アルカリ可溶
性樹脂として用いられるフェノール性水酸基を有するビ
ニル系重合体と同様のものが用いられる。
本発明に用いられる0−ナフトキノンジアジド化合物と
しては上記化合物を各々単独で用いてもよいし、2種以
上組合わせて用いてもよい。本発明に用いられる0−ナ
フトキノンジアジド化合物の感光性組成物中に占める割
合は、5〜60重量%が好ましく、特に好ましくは、1
0〜50重量%である。
また、本発明において、上記一般式(1)及び/又は(
2)で示される繰り返し単位を有し、水に不溶でアルカ
リに可溶なポリエステル樹脂としては、好ましくは、下
記一般式(3)で表わされるジカルボン酸及び、一般式
(4)又は(5)で表わされるジオールの反応生成物を
構造単位に有するポリエステル樹脂である。
一般式(3) %式% 一般式(4) HO−R#−C−R,−0H R。
0OH 一般式(5) %式% 式中、R工、R,、R,、R4及びR5は一般式(1)
及び(2)で定義したものと同義である。
一般式(3)で示されるジカルボン酸の具体例としては
、下記のものが挙げられる。
マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、マベリ
ン酸、セバシン酸、1.9−ノナンジカルボン酸、ドデ
カンジカルボン酸、トリデカンジカルボン酸、テトラデ
カンジカルボン酸、ペンタデカンジカルボン酸、2.3
−ジブロモコハク酸、フマール酸、マレイン酸、メチル
マロン酸、2゜2′−チオジグルコン酸、ジカルボン酸
、ヘキサフルオログルタル酸、イミダゾール−4,5−
ジカルボン酸、3,5−ピラゾールジカルボン酸、メチ
ルグルタル酸、メチルマレイン酸、アセトンジカルボン
酸、2−ケトグルタル酸、エチルマロン酸、メチルコハ
ク酸、trans −2−ブテン−1゜4−ジカルボン
酸、1.1−シクロブタンジカルボン酸、IIIeso
 −2、3−ジメチルコハク酸、3−メチルグルタル酸
、3.3’ −チオジプロピオン酸、2.2’−ジチオ
ジプロピオン酸、ケリドン酸、ピリジン−2,3−ジカ
ルボン酸、ピリジン2.6−ジカルボン酸、ピリジン−
3,5−ジカルボン酸、2.2−ジメチルグルタル酸、
3,3−ジメチルグルタル酸、3−メチルアジピン酸、
0−フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラク
ロロフタル酸、テトラブロモテレフタル酸、2,5−ジ
クロロテレフタル酸、4−ブロモイソフタル酸、cis
−4−シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸、cis
−1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、trans 
−1、2−シクロヘキサンジカルボン酸、cis−1,
4−シクロヘキサンジカルボン酸、trans−1,4
−シクロヘキサンジカルボン酸、シクロペンチルマロン
酸、3−エチル−3−メチルグルタル酸、ホモフタル酸
、1.1シクロペンタンジ酢酸、ジ−n−プロピルマロ
ン酸、ベンジルマロン酸、フェニルコハク酸、2゜3−
ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボ
ン酸、1.1−フェロセンジカルボン酸、トラウマチン
酸、2.2’ −ジフェニルジカルボン酸、4.4’ 
−ジフェニルジカルボン酸、ベンゾフェノン−2,4′
−ジカルボン酸、4゜4′−ジフェニルメタンジカルボ
ン酸、を挙げることができる。
一般式(4)、(5)で示されるカルボキシル基を有す
るジオール化合物の具体例としては、下記のものを挙げ
ることができる。
即ち、3,5−ジヒドロキシ安息香酸、2.2−ビス(
ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2゜2−ビス(2−
ヒドロキシエチル)プロピオン酸、2.2−ビス(3−
ヒドロキシプロピル)プロピオン酸、ビス(ヒドロキシ
メチル)酢酸、ビス(4−ヒドロキシフェニル)酢酸、
4.4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン酸、
酒石酸等が挙げられる。
なお本発明のポリエステル樹脂は一般式(3)で示され
るジカルボン酸化合物、および一般式(4)または(5
)で示されるカルボキシル基を有するジオール化合物2
種以上から形成されてもよい。
また更に、カルボキシル基を有しないジオール化合物を
、アルカリ現像性を低下させない程度に併用することも
できる。
このようなジオール化合物としては、具体的には以下に
示すものが含まれる。
即ち、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プ
ロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエ
チレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペ
ンチルグリコール、1.3−ブチレングリコール、1.
6−ヘキサンジオール、2−ブテン−1,4−ジオール
、2゜2.4−トリメチル−1,3−ベンタンジオール
、1.4−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサ
ン、シクロヘキサンジメタツール、トリシクロデカンジ
メタツール、水添ビスフェノールA1水添ビスフエノー
ルF1ビスフエノールAのエチレンオキサイド付加体、
ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体、ビス
フェノールFのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノ
ールFのプロピレンオキサイド付加体、−水添ビスフェ
ノールAのエチレンオキサイド付加体、水添ビスフェノ
ールAのプロピレンオキサイド付加体、ヒドロキノンジ
ヒドロキシエチルエーテル、p−キシリレングリコール
、ジヒドロキシエチルスルホン、ビス(2−ヒドロキシ
エチル)−2,4−トリレンジカルバメート、2.4−
トリレン−ビス(2−ヒドロキシエチルカルバミド)、
ビス(2−ヒドロキシエチル)−m−キシリレンジカル
バメート、ビス(2−ヒドロキシエチル)イソフタレー
ト等が挙げられる。
本発明において使用できるポリエステル化合物の具体例
としては、下記のものを挙げることができる。尚、これ
らはいずれも対応するジカルボン酸とジオールのエステ
ル化反応による生成物を表わす。
以下余白− よ: の 分子量(N、w、) 50,000 分子量(N0w、) 30.000 分子fi(N0w、) 35.000 分子量(N、w、) 30.Go。
(g) 分子量(Mow、) 25,000 本発明の感光性組成物は上記のような素材の他、必要に
応じて更に染料、顔料等の色素、増感剤、可塑剤、界面
活性剤などを添加することができる。
更に、これらの各成分を下記の溶媒に溶解させ、更にこ
れを適当な支持体の表面に塗布乾燥させることにより、
感光層を設けて、感光性平版印刷版を形成することがで
きる。
本発明の感光性組成物の各成分を溶解する際に使用し得
る溶媒としては、メチルセロソルブ、メチルセロソルブ
アセテート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセ
テート等のセロソルブ類、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシド、ジオキサン、アセトン、シクロヘキ
サノン、トリクロロエチレン、メチルエチルケトン等が
挙げられる。これら溶媒は、単独であるいは2種以上混
合して使用することができる。
本発明の感光性組成物を支持体表面に塗布する際に用い
る塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回転塗
布、ワイヤーバー塗布、デイツプ塗布、エアーナイフ塗
布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が可
能である。この際塗布量は用途により異なるが、例えば
固形分として0.5〜5 、0g/耐が好ましい。
本発明の感光性組成物を用いた感光層を設ける支持体と
しては、アルミニウム、亜鉛、鋼、銅等の金属板、並び
にクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄等が
メツキ又は蒸着された金属板、紙、プラスチックフィル
ム及びガラス板、樹脂が塗布された紙、アルミニウム等
の金属箔が張られた紙、親水化処理したプラスチックフ
ィルム等が挙げられる。このうち好ましいのはアルミニ
ウム板である。本発明の感光性組成物を用いた感光性平
版印刷版の支持体として砂目立て処理、陽極酸化処理お
よび必要に応じて封孔処理等の表面処理が施されている
アルミニウム板を用いることがより好ましい。
これらの処理には公知の方法を適用することができる。
砂目立て処理の方法としては、例えば、機械的方法、電
解によりエツチングする方法が挙げられる。機械的方法
としては、例えばボール研磨法、ブラシ研磨法、液体ホ
ーニングによる研磨法、パフ研磨法等が挙げられる。ア
ルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方法を単独あ
るいは組み合わせて用いることができる。好ましいのは
電解エツチングによる方法である。
電眸エツチングは、りん酸、硫酸、塩酸、硝酸等の無機
の酸を単独ないし2種以上混合した浴で行なわれる。砂
目立て処理の後、必要に応じてアルカリあるいは酸の水
溶液によってデスマット処理を行い中和して水洗する。
陽極酸化処理は、電解液として、硫酸、クロム酸、シュ
ウ酸、リン酸、マロン酸等を1種または2種以上含む溶
液を用い、アルミニウム板を陽極として電解して行なわ
れる。形成された陽極酸化皮膜量は1〜50mg/dr
rrが適当であり、好ましくは10〜40mg/dtr
rである。陽極酸化皮膜量は、例えばアルミニウム板を
リン酸クロム酸溶液(リン酸85%液’35tRs酸化
クロム(VI)lOgを12の水に溶解して作製)に浸
漬し、酸化皮膜を溶解し、板の皮膜溶解前後の重量変化
測定等から求められる。
封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケイ酸ソーダ処
理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例として挙げられ
る。この他にアルミニウム板支持体に対して、水溶性高
分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属塩の水溶液に
よる下引き処理を施すこともできる。
本発明の感光性組成物を適用した感光性平版印刷版は、
通常の方法で現像処理することができる。
例えば透明陽画フィルムを通して超高圧水銀灯、メタル
ハライドランプ、キセノンランプ、タングステンランプ
等の光源により露光し、次いで、種々のアルカリ現像液
にて現像する。この結果未露光部分のみが支持体表面に
残り、ポジーポジ型のレリーフ像が形成される。
上記アルカリ現像液としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム、第ニリン
酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム等のアルカリ金属
塩の水溶液が挙げられる。アルカリ金属塩の濃度は0.
1〜10重量%が好ましい。又、該現像液中に必要に応
じアニオン性界面活性剤、両性界面活性剤やアルコール
等の有機溶媒を加えることができる。
以下に実施例にて本発明の詳細な説明するが、本発明は
何ら実施例に限定されるものではない。
[実施例] (アルミニウム板の作製) 厚さ0.24mmのアルミニウム板(材質1050、調
質H16)を5重量%の水酸化ナトリウム水溶液中で6
0℃で1分間脱脂処理を行った後、12の0.5モル塩
酸水溶液中において温度;25℃、電流密度;60A/
dm、処理時間;30秒間の条件で電解エツチング処理
を行った。次いで、5重量%水酸化ナトリウム水溶液中
で60℃、10秒間のデスマット処理を施した後、20
重量%硫酸溶液中で温度;20℃、電流密度;3A/d
rrr、処理時間;1分間の条件で陽極酸化処理を行っ
た。更に、30℃の熱水で20秒間、熱水封孔処理を行
い、平版印刷版材料用支持体のアルミニウム板を作製し
た。
上記のように作成したアルミニウム板に下記組成の感光
性組成物塗布液を回転塗布機を用いて塗布し、90℃で
4分間乾燥し、ポジ型感光性平版印刷版試料を得た。
(感光性組成物塗布液組成1) キノンジアジド化合物(QD−1)   2.0gポリ
エステル樹脂(a)        6.0gビクトリ
アピュアブルーBOH (採土ケ谷化学■製)0.08g 1.2−ナフトキノン−2− ジアジド−4−スルホニルクロリド 0.06gメチル
セロソルブ         100mj2(感光性組
成物塗布液組成2) キノンジアジド化合物(QD−2)   2.5gポリ
エステル樹脂(c)         6 gビクトリ
アピュアグレーBOH (採土ケ谷化学■製)         0.08g2
.4−ビス(トリクロロメチル)−6(4−メトキシナ
フチル)−S−トリアジン06g メチルセロソルブ         100112(感
光性組成物塗布液組成3) キノンジアジド化合物(QD−3)   2,0gポリ
エステル樹脂(j)−5,0g ノボラック樹脂           1.0 gビク
トリアピュアグレーBOH (採土ケ谷化学■製)         0.08g2
−トリクロロメチル−5−(p−メトキシスチリル)−
1,3,4−オキサジアゾール0.06g メチルセロソルブ         100mQ(キノ
ンジアジド化合物) QD−1 (x/y=1/I Qを反応させる前の樹脂の分子量CM、w、) 700
)QD−2 $ (Qを反応させる前の樹脂の分子量(M、w、)1,5
00)QD−3 フェノールとm−クレゾールとp−クレゾールとホルム
アルデヒドとの共重縮合樹脂(フェノール、m−クレゾ
ール及びp−クレゾールの各々のモル比が2.0 : 
4.8 : 3.2.分子量(M、w、)=5,000
゜Mw/Mn=5.0) かくして得られたそれぞれの感光性平版印刷版試料1〜
3上感度測定用ステップタブレット(イーストマン・コ
ダック社製N092、濃度差0.15ずつで21段階の
グレースケール)を密着して、2KWメタルハライドラ
ンプ(告時電気社製アイドルフィン2000)を光源と
して90cmの距離から露光した。次にこの試料を5D
R−1(コニカ■製)現像液を水で6倍に稀釈した現像
液で27℃にて20秒間現像し平版印刷版を得た。
次に耐処理薬品性を検討するために、印刷中に非画像部
に発生する地汚れを除去する洗浄液として用いられるウ
ルトラプレートクリーナー(UPC:A、B、C,ケミ
カル社製)に対する耐久性を調べた。前記現像処理によ
り画像が形成された平版印刷版を室温で前記UPCに3
0分及び60分浸漬の後、水洗し、浸漬前の画像部と比
較することにより、画線部の処理薬品に対する侵食度を
判定した。また、耐刷力はハイデルGTOにてマークフ
ァイブ紅インキ(東洋インキ■製)を用いて印刷テスト
を行ない、1000枚印刷毎に版面を前記ウルトラプレ
ートクリーナーで拭く操作を行ない、その耐久性を調べ
た。得られた結果を第1表に示す。
〈比較試料〉 ポリエステル樹脂(a)をノボラック樹脂に変更した以
外は前記実施例と同様にして感光性平版印刷版を作製し
、これを前記実施例と同様に現像して平版印刷版を得、
これを用いて前記実施例と同様に耐刷力と耐薬品性を調
べた。結果を第1表に示す。
第1表 ×00画像の侵食著しく認められる 第1表から明らかなように本発明の感光性組成物から得
られた平版印刷版は耐処理薬品性、耐刷力に優れている
。これに対し、ノボラック樹脂を用いた従来の比較試料
では耐処理薬品性、耐刷力のいずれも劣っている。
特許出願人 コニカ株式会社(他1名)代 理 人 弁
理士 市之瀬 宮夫−−−9耐処理薬品性 ○:画像部の侵食無 △:画像部の侵食がやや認められる

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (a)o−ナフトキノンジアジド化合物、 (b)下記一般式(1)及び/又は(2)で示される繰
    り返し単位を有し、水に不溶でアルカリに可溶なポリエ
    ステル樹脂を含有することを特徴とする感光性組成物。 一般式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式(2) ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1は置換基を有していてもよい二価の脂肪
    族基又は芳香族炭化水素基を表す。R_2は水素原子、
    置換基を有してもよいアルキル基、アラルキル基、アリ
    ール基、アルコキシ基又はアリーロキシ基を表す。R_
    3、R_4及びR_5は、それぞれ同一でも相異してい
    てもよく、単結合、置換基を有していてもよい二価の脂
    肪族基又は芳香族炭化水素基を表す。)
JP23006990A 1990-08-31 1990-08-31 感光性組成物 Pending JPH04110946A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5712022A (en) * 1992-09-14 1998-01-27 Yoshino Kogyosho Co., Ltd. Printed thermoplastic resin products and method for printing such products

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5712022A (en) * 1992-09-14 1998-01-27 Yoshino Kogyosho Co., Ltd. Printed thermoplastic resin products and method for printing such products

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