JPS5975628A - ２重回折格子による位置合せ法 - Google Patents
２重回折格子による位置合せ法Info
- Publication number
- JPS5975628A JPS5975628A JP57187078A JP18707882A JPS5975628A JP S5975628 A JPS5975628 A JP S5975628A JP 57187078 A JP57187078 A JP 57187078A JP 18707882 A JP18707882 A JP 18707882A JP S5975628 A JPS5975628 A JP S5975628A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diffraction grating
- diffracted
- beams
- mark
- intensity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7049—Technique, e.g. interferometric
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、半導体ＩＣやＬＳＩ を製造するための露光
装置やバタン評価装置等においてマスクとウェハの位置
合せなどに用いる位置合亡法に関し、特に２Ｍ回折格子
を用いた位置合せ法に関するものである。
装置やバタン評価装置等においてマスクとウェハの位置
合せなどに用いる位置合亡法に関し、特に２Ｍ回折格子
を用いた位置合せ法に関するものである。
半導体ＩＣやＬＳＩの微細化にＰＦ−い、例えばマスク
パタンをウェハに一括露光・転写する装置において、マ
スクとウェハとを互いに位置合せする技術にはより高い
精度が求められている。
パタンをウェハに一括露光・転写する装置において、マ
スクとウェハとを互いに位置合せする技術にはより高い
精度が求められている。
従来紫外綜露光装置等においては、この種の位置合せは
マスクとウェハとにそれぞれ位置合せ用のマークを付し
、それらのマークを顕微鏡で拡大投影し、マスク上のマ
ークとウェハ上のマークとがぴったり一致するようにマ
スクもしくはウェハを移動する方法によって行なわれて
きズこ。しかしこの方法は得られる位置合せ精度が±０
．２μｍ程庇であり１サブミノロンパクンをｊ−ぎ光・
転写するだめの位置合せ法としては不適当であった。こ
のため、例えばＪ 、 Ｖａｃ、 Ｓｃｉ、 Ｔｅｃｈ
ｎｏｌ、、 ｖｏｌ。
マスクとウェハとにそれぞれ位置合せ用のマークを付し
、それらのマークを顕微鏡で拡大投影し、マスク上のマ
ークとウェハ上のマークとがぴったり一致するようにマ
スクもしくはウェハを移動する方法によって行なわれて
きズこ。しかしこの方法は得られる位置合せ精度が±０
．２μｍ程庇であり１サブミノロンパクンをｊ−ぎ光・
転写するだめの位置合せ法としては不適当であった。こ
のため、例えばＪ 、 Ｖａｃ、 Ｓｃｉ、 Ｔｅｃｈ
ｎｏｌ、、 ｖｏｌ。
１９、Ｎｏ、４．１９８１．ｐ２１４で紹介されている
ように０．１Ｒｎ以下の位置合せを行なうことを目的と
して２重回折格子を用いた位置合せ法の開発が進められ
ている。これは、第１の物体に設けた第１の回折格子と
、第２の物体に設けた第２の回折格子とを一定のギャッ
プをおいて重ね、これら第１および第２の回折格子にコ
ヒーレント光もしくは準単色光を垂直に入射し、両回折
格子によって生じた回折光の強度の変化によって、第１
の物体とｇｃ２の物体の相対変位を検出して位置合せす
るものでちるが、その場合、回折光の強度Ｉ自体を両物
体の相対変位を示すものとして用いた場合には、強度−
変位特性曲線がギャップの変動によって大きく変化し、
強度の最小点も変位が零の点からずれる。、したがって
この不都合を避けるため、通常は入射光に対して対称的
な方向に回折された同次数の回折光の強度の差Δ工を求
め、この４■の変化によって両物体間の変位を演出する
方法が用いられＣいる。第１図に、この」、うな強度−
・変位特性曲線の一例を示す。これは、いずれもピッチ
が２μｍ）１の透過形回折格子と反射形回折格子とを重
ね、透過形回折格子側から波長λが０７３３２８μｍη
のコヒーレント光を垂直に入射させて得られたプラス１
次の回折光Ｉ＋１ とマイナス１次の回もので、透過形
回折格子における透過部の長さａｌと不透過部の長さｂ
ｌ、および反射形回折格子における反射部の長さａ２と
無反射部の長さｂ２はいずれも等しく、上記ピッチのＶ
２ と１〜である。
ように０．１Ｒｎ以下の位置合せを行なうことを目的と
して２重回折格子を用いた位置合せ法の開発が進められ
ている。これは、第１の物体に設けた第１の回折格子と
、第２の物体に設けた第２の回折格子とを一定のギャッ
プをおいて重ね、これら第１および第２の回折格子にコ
ヒーレント光もしくは準単色光を垂直に入射し、両回折
格子によって生じた回折光の強度の変化によって、第１
の物体とｇｃ２の物体の相対変位を検出して位置合せす
るものでちるが、その場合、回折光の強度Ｉ自体を両物
体の相対変位を示すものとして用いた場合には、強度−
変位特性曲線がギャップの変動によって大きく変化し、
強度の最小点も変位が零の点からずれる。、したがって
この不都合を避けるため、通常は入射光に対して対称的
な方向に回折された同次数の回折光の強度の差Δ工を求
め、この４■の変化によって両物体間の変位を演出する
方法が用いられＣいる。第１図に、この」、うな強度−
・変位特性曲線の一例を示す。これは、いずれもピッチ
が２μｍ）１の透過形回折格子と反射形回折格子とを重
ね、透過形回折格子側から波長λが０７３３２８μｍη
のコヒーレント光を垂直に入射させて得られたプラス１
次の回折光Ｉ＋１ とマイナス１次の回もので、透過形
回折格子における透過部の長さａｌと不透過部の長さｂ
ｌ、および反射形回折格子における反射部の長さａ２と
無反射部の長さｂ２はいずれも等しく、上記ピッチのＶ
２ と１〜である。
なお、図中上）、（ロ）、Ｈ，に）、 ＋Ｊ＋はそれぞ
れ両格子間のギャップが６．１ ｔｔｍ 、 ６．２μ
、６．３μｍ。
れ両格子間のギャップが６．１ ｔｔｍ 、 ６．２μ
、６．３μｍ。
６．４μｍ、６．５μｍの場合を示す。同図に示される
ように、Δ１１ま回折格子のピッチＰを周期として同じ
波形を繰返し、２つの１」柄格子がびったシ一致した時
、すｌわち相対変位ｄが零の時、および、この相対変位
ｄがピッチの１／２の峙、ギャップの値にかかわらず零
となる。したがって、このいずれかの零点で位置合せを
行なうことができる。
ように、Δ１１ま回折格子のピッチＰを周期として同じ
波形を繰返し、２つの１」柄格子がびったシ一致した時
、すｌわち相対変位ｄが零の時、および、この相対変位
ｄがピッチの１／２の峙、ギャップの値にかかわらず零
となる。したがって、このいずれかの零点で位置合せを
行なうことができる。
しかしながら、第１図から明らかなようにΔ工は２つの
回折格子の相対変位ｄに対して山や谷を多く含んだ複雑
な曲線を描き、ギヤツブ争件によってはｄ＝Ｐ／２以外
の点でも零となる（例えばギャップが６．５μｍの曲線
（へ）の場合ｄ＝Ｐ／２＝１．００μｍの直前および直
後にもΔＩ＝０ の線を通過している）。このように曲
線形状が複雑なために、ｄ＝０ 、 ｄ＝Ｐ／２ のい
ずれの位置で合つＣいるのかを判定すること自体がきわ
めて困難であるうえに、多点で零となるためｄ＝ｏ、Ｐ
／２以外の点で位置合せしてし１うとともあり、不正４
’ｌな不安定制御しかなし得ない。ｔ７′こ、ギャップ
の微小変化によっても曲線形状は大きく変化するため、
正確な位置合ぜのンとめにはギャップを正確に股ン〆し
、し２かも変動がきわめて小さい状態に保４ｆＬ、なけ
ればならない欠点があった。
回折格子の相対変位ｄに対して山や谷を多く含んだ複雑
な曲線を描き、ギヤツブ争件によってはｄ＝Ｐ／２以外
の点でも零となる（例えばギャップが６．５μｍの曲線
（へ）の場合ｄ＝Ｐ／２＝１．００μｍの直前および直
後にもΔＩ＝０ の線を通過している）。このように曲
線形状が複雑なために、ｄ＝０ 、 ｄ＝Ｐ／２ のい
ずれの位置で合つＣいるのかを判定すること自体がきわ
めて困難であるうえに、多点で零となるためｄ＝ｏ、Ｐ
／２以外の点で位置合せしてし１うとともあり、不正４
’ｌな不安定制御しかなし得ない。ｔ７′こ、ギャップ
の微小変化によっても曲線形状は大きく変化するため、
正確な位置合ぜのンとめにはギャップを正確に股ン〆し
、し２かも変動がきわめて小さい状態に保４ｆＬ、なけ
ればならない欠点があった。
本発明はこのような事１青に鑑みてなされたものであり
、その［目的は、高精度の位置合せが容易に行なえる２
ＸＫ回折格子を用いた位置αせ法を提供することにあ
る。
、その［目的は、高精度の位置合せが容易に行なえる２
ＸＫ回折格子を用いた位置αせ法を提供することにあ
る。
このような目的を達成するために、本発明は、位置合せ
の対象としての両物体間の相対変位を示すものとして、
入射光に対して対称的な方向に回折された同次数の回折
光強度の和を用いるものである。
の対象としての両物体間の相対変位を示すものとして、
入射光に対して対称的な方向に回折された同次数の回折
光強度の和を用いるものである。
以下、実施例を用いて本発明の詳細な説明する。
第２図は本発明の実施に使用する位置合せ装置の構成例
を示す図である。同図において、レーザ光源１から発し
たコヒーレント光は、平面鏡２によって方向を変えられ
、真空吸着マスクホルダ３によって保持されたマスク４
の上に作製されたマスクマーク５に垂直に入射・通過後
、移動テーブル６の上に保持されたウェハ７の上に作製
されたウェハマーク８で反射され、再度マスクマーク５
を通過する。
を示す図である。同図において、レーザ光源１から発し
たコヒーレント光は、平面鏡２によって方向を変えられ
、真空吸着マスクホルダ３によって保持されたマスク４
の上に作製されたマスクマーク５に垂直に入射・通過後
、移動テーブル６の上に保持されたウェハ７の上に作製
されたウェハマーク８で反射され、再度マスクマーク５
を通過する。
ここで、マスクマーク５、ウェハマーク８はいずれも回
折格子を構成し、第３図に拡大して示すように前者は透
過形で、マスク４を構成する透明基板もしくは透明薄膜
９の上に不透明薄膜１０によって回折格子パタンを形成
したもの、後者は反射形でウェハ１の上に無反射薄膜１
１により回折格子パタンを形成したものである。
折格子を構成し、第３図に拡大して示すように前者は透
過形で、マスク４を構成する透明基板もしくは透明薄膜
９の上に不透明薄膜１０によって回折格子パタンを形成
したもの、後者は反射形でウェハ１の上に無反射薄膜１
１により回折格子パタンを形成したものである。
これらマスクマーク５およびウエノ・マーク８に（ｍ＝
０．±１．±２．・・・）の方向でのみ強くなリ、それ
ぞれｍの値によってｍ次の回折光と呼ばれる。絶対値が
同一で符号が異なるｍに対応する両回折光は、入射光に
対して互いに対称的な方向に回折されたものである。な
お、λは光の波長、Ｐは回折格子のピッチである。
０．±１．±２．・・・）の方向でのみ強くなリ、それ
ぞれｍの値によってｍ次の回折光と呼ばれる。絶対値が
同一で符号が異なるｍに対応する両回折光は、入射光に
対して互いに対称的な方向に回折されたものである。な
お、λは光の波長、Ｐは回折格子のピッチである。
そこで、上記入射光に対して対称的な方向に回折された
同次数の回折光とし゛〔プラス１次の回折光およびマイ
ナス１次の回折光をそれぞれ光電変換器１２．１３で受
け、各回折光の強度Ｉ＋１ およびｌ−１ｉ光ぼ変換
し、これをもとに信号処理制御１？ＳＩＳ １４に才？
いて両回折光強度を加算処理する。
同次数の回折光とし゛〔プラス１次の回折光およびマイ
ナス１次の回折光をそれぞれ光電変換器１２．１３で受
け、各回折光の強度Ｉ＋１ およびｌ−１ｉ光ぼ変換
し、これをもとに信号処理制御１？ＳＩＳ １４に才？
いて両回折光強度を加算処理する。
第４図に、このようにして得られた加算強度Σ■の相対
変位ｄ依存性の一例を示す。これは、第１図の場合と同
様にマスクマーク５、ウェハマーり８のいずれの回折格
子のピッチＰも２．０μ！ｎとし、波長λ−０，６３２
８μｍの光を用いた例で、回折路イの透過部の長さＦＬ
ｌ と不透過部の長さｂｌ、および反射部の長さａ２
と無反射部の長さｂｌはいずれも等り、＜Ｐ／２ と
しである。ま牟、図中（イ）。
変位ｄ依存性の一例を示す。これは、第１図の場合と同
様にマスクマーク５、ウェハマーり８のいずれの回折格
子のピッチＰも２．０μ！ｎとし、波長λ−０，６３２
８μｍの光を用いた例で、回折路イの透過部の長さＦＬ
ｌ と不透過部の長さｂｌ、および反射部の長さａ２
と無反射部の長さｂｌはいずれも等り、＜Ｐ／２ と
しである。ま牟、図中（イ）。
（ロ）、（ハ）、に）、（ホ）は、第１図と同様にそれ
ぞれ両格子間のギャップ２を６．１μｍ、６．２μ、６
．３μ。
ぞれ両格子間のギャップ２を６．１μｍ、６．２μ、６
．３μ。
６．４ ｔｉｍ 、 ６．５μｍとした場合である。な
お、同一ギャップに関しては、第１図とこの第４図との
回折光強度は同一スケールで表わしている。
お、同一ギャップに関しては、第１図とこの第４図との
回折光強度は同一スケールで表わしている。
第４図から明らかなように、第１図の従来法におけると
全く同一の条件で、加算強度ΣＩは回折格子バタン０１
周期内に１回の最小値をもつ単純な曲線となる。したが
って、Σ工が小さくなるように移動テーブル６を移動さ
せ、最小点にきた時に、移動テーブル０を止めるという
きわめて簡単な制御方法により容易に位置合せを行なう
ことができる。また、ギャップ２を６．１μｍから６．
５μｍまで変化させた場合も、第１図に示したΔ工の場
合と異なり曲線形状はほとんど変化しないため、ギャッ
プ設定に厳密さを欠いても上記制御方法によって高精度
の位置合せが行なえる利点がある。
全く同一の条件で、加算強度ΣＩは回折格子バタン０１
周期内に１回の最小値をもつ単純な曲線となる。したが
って、Σ工が小さくなるように移動テーブル６を移動さ
せ、最小点にきた時に、移動テーブル０を止めるという
きわめて簡単な制御方法により容易に位置合せを行なう
ことができる。また、ギャップ２を６．１μｍから６．
５μｍまで変化させた場合も、第１図に示したΔ工の場
合と異なり曲線形状はほとんど変化しないため、ギャッ
プ設定に厳密さを欠いても上記制御方法によって高精度
の位置合せが行なえる利点がある。
実際はギャップが１μｍ程度変動しても、最小点の移動
、すなわち相対変位ｄの変動は１／１００μｍ程度にす
ぎないため実用上問題はない。さらに、１周期内で１回
の極小値を生じるだけであるため、粗位置合ぜによυ−
Ｐ／２ ＜ ｄ ＜ Ｐ／ｄ の範囲に位置合せして
おけば制御可能であり、１周期内で最低２回（ｄ＝０お
よびｄ＝Ｐ／２）零となるΔ工を用いる従来法に比較し
、粗位置合せ領域を少なくとも２倍にできる利点がある
。もちろん、単純にＩ＋、 もしく１ｄＩ−’ｔ
を用いる場合に比較すれば、ギャップの変化によって最
小点の移動はなく位置合せ感度も２倍になるという利点
を有する。
、すなわち相対変位ｄの変動は１／１００μｍ程度にす
ぎないため実用上問題はない。さらに、１周期内で１回
の極小値を生じるだけであるため、粗位置合ぜによυ−
Ｐ／２ ＜ ｄ ＜ Ｐ／ｄ の範囲に位置合せして
おけば制御可能であり、１周期内で最低２回（ｄ＝０お
よびｄ＝Ｐ／２）零となるΔ工を用いる従来法に比較し
、粗位置合せ領域を少なくとも２倍にできる利点がある
。もちろん、単純にＩ＋、 もしく１ｄＩ−’ｔ
を用いる場合に比較すれば、ギャップの変化によって最
小点の移動はなく位置合せ感度も２倍になるという利点
を有する。
上１７３ した実施例は、波長λが０．６３２８μｍに
対し７てピッチＰが２μｍ１ ギャップ２が約６．３μ
ｍで、Ｍ＝λＺ７Ｐ ２がはは１の場合であるが、この
Ｍの値が整数であれば、同様にきわめて単純な曲線が得
られる。その場合、Ｍが奇数であれば上述したと同様に
ｄ＝０においてΣＩは零となり、Ｍがイ＾数の場合には
ｄ＝Ｐ／２ において零となる。
対し７てピッチＰが２μｍ１ ギャップ２が約６．３μ
ｍで、Ｍ＝λＺ７Ｐ ２がはは１の場合であるが、この
Ｍの値が整数であれば、同様にきわめて単純な曲線が得
られる。その場合、Ｍが奇数であれば上述したと同様に
ｄ＝０においてΣＩは零となり、Ｍがイ＾数の場合には
ｄ＝Ｐ／２ において零となる。
ところで、上述した実施例では、回折格子の透過部の長
さａｌと不透過部の長さｂｌ、および反射部の長さａ２
と無反射部の長さｂ２をいずれも等しく、すなわち透過
部の長さａｌおよび反射部の長さａ２のピッチＰに対す
る比率ｒ ｔ ０．５としたが、第５図に示すようにこ
の比率ｒを変えることにより（同図はｒ ＝ ０．６の
場合）、第６図に示すように相対変位ｄに対するΣ工の
変化を示す曲線の最小点からの立上が９が変化する。第
６図において、（イ）、／（ロ）、 ｐ； 、に）、（
ホ）はそれぞれ上記比率ｒが０．５ 、０．６ 、０．
７ 、０．８ 、０．９の場合を示すが、同図から明ら
かなように、ｒ ＝ ０．６〜０．８の範囲で最小点か
らの曲線の立上りはきわめて急峻となｐ、ｒ＝Ｑ、５の
場合に比較して位置合せ感度を数倍以上に高くすること
ができ、同図のようにピッチ２μｍの回折格子、波長０
．６３２８μｍのレーザ光を用いた場合で０．１μｍ以
下の高精度位置合せも可能となる。さらに、このように
ｒ＝０．６〜０．８とした場合にはギャップの変動によ
る曲線形状の変化も小さくなるため制御がし易く、しか
も最小点の移動量も小さいためにギャップ設定が容易に
なるという利点をも有する。
さａｌと不透過部の長さｂｌ、および反射部の長さａ２
と無反射部の長さｂ２をいずれも等しく、すなわち透過
部の長さａｌおよび反射部の長さａ２のピッチＰに対す
る比率ｒ ｔ ０．５としたが、第５図に示すようにこ
の比率ｒを変えることにより（同図はｒ ＝ ０．６の
場合）、第６図に示すように相対変位ｄに対するΣ工の
変化を示す曲線の最小点からの立上が９が変化する。第
６図において、（イ）、／（ロ）、 ｐ； 、に）、（
ホ）はそれぞれ上記比率ｒが０．５ 、０．６ 、０．
７ 、０．８ 、０．９の場合を示すが、同図から明ら
かなように、ｒ ＝ ０．６〜０．８の範囲で最小点か
らの曲線の立上りはきわめて急峻となｐ、ｒ＝Ｑ、５の
場合に比較して位置合せ感度を数倍以上に高くすること
ができ、同図のようにピッチ２μｍの回折格子、波長０
．６３２８μｍのレーザ光を用いた場合で０．１μｍ以
下の高精度位置合せも可能となる。さらに、このように
ｒ＝０．６〜０．８とした場合にはギャップの変動によ
る曲線形状の変化も小さくなるため制御がし易く、しか
も最小点の移動量も小さいためにギャップ設定が容易に
なるという利点をも有する。
なお、上述した実施例においては透過形回折格子と反射
形回折格子とを組合せた場合についてのみ説明したが、
本発明はこれに限定されるものではなく、２つの透過形
回折格子を重ねて用いた場合に適用しても同様の効果を
得ることができる。
形回折格子とを組合せた場合についてのみ説明したが、
本発明はこれに限定されるものではなく、２つの透過形
回折格子を重ねて用いた場合に適用しても同様の効果を
得ることができる。
また、上述した実施例では入射光にコヒーレント光とし
てのレーザ光を用いたが、緒単色光を用いてもほぼ同様
の効果が得られる。
てのレーザ光を用いたが、緒単色光を用いてもほぼ同様
の効果が得られる。
さらに、上述した実施例ではプラスとマイナスの１次の
回折光の加算強度から相対変位を検出したが、２次以上
の回折光を用いても同様に位置合せを行なうことが可能
であＺｏ 以上説明したように、本発明によれば、回折格子に垂直
に入射する入射光に対し、対称的な方向に回折された同
次数の回折光の強度を加算処理することにより、多くの
山や谷を持たない単純な強度−相対変位特性曲線を得る
ことができるため、位置合せ制御を簡単かつ高精度に行
なうことが可能となる。特に、回折格子の透過部１反射
部の長さをピッチに対して０．６〜０．８とした場合に
は、上記特性曲線の最小点からの立上りを急峻にするこ
とができ、位置合せ感度をきわめて高くすることができ
る利点を有する。
回折光の加算強度から相対変位を検出したが、２次以上
の回折光を用いても同様に位置合せを行なうことが可能
であＺｏ 以上説明したように、本発明によれば、回折格子に垂直
に入射する入射光に対し、対称的な方向に回折された同
次数の回折光の強度を加算処理することにより、多くの
山や谷を持たない単純な強度−相対変位特性曲線を得る
ことができるため、位置合せ制御を簡単かつ高精度に行
なうことが可能となる。特に、回折格子の透過部１反射
部の長さをピッチに対して０．６〜０．８とした場合に
は、上記特性曲線の最小点からの立上りを急峻にするこ
とができ、位置合せ感度をきわめて高くすることができ
る利点を有する。
第１図は従来の２重回折格子による位置合せ法において
得られる回折光の強度−相対変位特性曲線の一例を示す
図、第２図は本発明の実施に使用する位置合せ装置のイ
′１４成例を示す図、給３図は回折格子を示す詳細図、
第４図は本発明において得られる回折光の加算強度−相
対変位特性曲線の一例を示す図、第５図は回折格子の他
の構成例を示す図、第６図は回折格子の透過部および反
射部のピッチに対する比率を変えた場合における回折光
の加算強度−相対変位特性曲線形状の気化例を示す図で
ある。
得られる回折光の強度−相対変位特性曲線の一例を示す
図、第２図は本発明の実施に使用する位置合せ装置のイ
′１４成例を示す図、給３図は回折格子を示す詳細図、
第４図は本発明において得られる回折光の加算強度−相
対変位特性曲線の一例を示す図、第５図は回折格子の他
の構成例を示す図、第６図は回折格子の透過部および反
射部のピッチに対する比率を変えた場合における回折光
の加算強度−相対変位特性曲線形状の気化例を示す図で
ある。
１・・・・レーザ光源、４・・・・マスク（第１の物体
）、５・・・・マスクマーク（ｇ？Ｊ１の回折格子）、
６・・・・移動テープノペ７・・・・つ、：ｒ−ハ（第
２の物体）、８・Ｑ令・ウェハマーク（第２の回折格子
）、１２．１３・・・・光電変換器、１４・・・中信号
処理制御部。
）、５・・・・マスクマーク（ｇ？Ｊ１の回折格子）、
６・・・・移動テープノペ７・・・・つ、：ｒ−ハ（第
２の物体）、８・Ｑ令・ウェハマーク（第２の回折格子
）、１２．１３・・・・光電変換器、１４・・・中信号
処理制御部。
特許出願人 日本電信電話公社
代理人 山川政樹
第２図
手続補正書輸幻
特許庁長官殿 ”Ｎ ＊ｓ ａ、君−
７゜１、事件の表示 昭和５７年特 許 願第１８７０７８号２、発明の名称 ２重回折格子による位置合せ法 ３、補正をする者 事件との関係 特 許 出願人名称（氏名）
（４２２） 日本電信電話公社１１１ 明細書第
８頁第１７〜１９行目の［実際は・・・・問題はない。
７゜１、事件の表示 昭和５７年特 許 願第１８７０７８号２、発明の名称 ２重回折格子による位置合せ法 ３、補正をする者 事件との関係 特 許 出願人名称（氏名）
（４２２） 日本電信電話公社１１１ 明細書第
８頁第１７〜１９行目の［実際は・・・・問題はない。
」を削除する。
（２）同書第９頁第１行の［Ｐ／ｄＪを［Ｐ／２ Ｊと
補正する。
補正する。
（３）同省第１０頁第１５〜１６行の「しかも・・・・
小さいために」を削除する。
小さいために」を削除する。
（４）同１°第１１頁第９行と第１０行との間に次の文
を加入する。
を加入する。
「以」二の２重回折格子の説明においては、１軸方向の
位置合せに限定して述べたが、特開昭５３−３２７５９
号において説明されているように、” ＋ Ｆ軸方向に
直交する回折格子を１組として位置合せマークを形成す
れば、ｘｌ ３’軸の２軸を同時に位置合せ制御するこ
ともできる。」以 上 手続補正書（帥） ！ＩＩ ｉ’ｔ’□□ 昭和
“ｂｓ°！、−Ｓｌ、事件の表示 昭和５７年特 許 願第１８７０７８号２、発明の名称 ２重回折格子による位置合せ法 ３、補正をする者 事件との関係 特 許 出願人名称（氏名）
（４２２）日本電信電話公社６、補正の内容 ｆｉｌ 明細書第３頁第２０行の「回折力、」を「回
折光強度」と補正する。
位置合せに限定して述べたが、特開昭５３−３２７５９
号において説明されているように、” ＋ Ｆ軸方向に
直交する回折格子を１組として位置合せマークを形成す
れば、ｘｌ ３’軸の２軸を同時に位置合せ制御するこ
ともできる。」以 上 手続補正書（帥） ！ＩＩ ｉ’ｔ’□□ 昭和
“ｂｓ°！、−Ｓｌ、事件の表示 昭和５７年特 許 願第１８７０７８号２、発明の名称 ２重回折格子による位置合せ法 ３、補正をする者 事件との関係 特 許 出願人名称（氏名）
（４２２）日本電信電話公社６、補正の内容 ｆｉｌ 明細書第３頁第２０行の「回折力、」を「回
折光強度」と補正する。
（２）同書第４頁第１行の「折光」を「折光強度」と補
正する。
正する。
（３）同書第１０頁第７行のｒｒ＝０．６〜０．８の」
を「最小点からの立上りはｒによって変化し、ｒが０．
５より大きく０．７より小さい」と補正する。
を「最小点からの立上りはｒによって変化し、ｒが０．
５より大きく０．７より小さい」と補正する。
（４）同書同負第１３〜１４行の「このようにｒ＝０．
６〜０．８とした」を１−この」と補正する。
６〜０．８とした」を１−この」と補正する。
（５）同書第１１頁第１７行の「０６〜０．８とした」
を「０．５より大きく０７より１」・さくした」と補正
する。
を「０．５より大きく０７より１」・さくした」と補正
する。
（６）図面の第２図を別紙の通り補正する。
以 上
第２図
゛＼−一一一／
Claims (1)
- 第１の物体に設けたＫＳｌの回折格子と、第２の物体に
設けたＷ２の回折格子とを一定のギャップをおいて重ね
、これら第１および第２の回折格子にコヒーレント光も
しくは準単色光を垂直に入射し、両回折格子によって生
じた回折光の強度の変化によって、第１の物体と第２の
物体の相対変位を検出して位置合せする方法において、
入射光に対して対称的な方向に回折された同次数の回折
光のＤｊｔ度を加算処理し、当該加算強度の変化によっ
て、第１の物体と第２の物体の相対変位を検出すること
を特徴とする２重回折格子による位置合せ法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57187078A JPS5975628A (ja) | 1982-10-25 | 1982-10-25 | ２重回折格子による位置合せ法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57187078A JPS5975628A (ja) | 1982-10-25 | 1982-10-25 | ２重回折格子による位置合せ法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5975628A true JPS5975628A (ja) | 1984-04-28 |
Family
ID=16199742
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57187078A Pending JPS5975628A (ja) | 1982-10-25 | 1982-10-25 | ２重回折格子による位置合せ法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5975628A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62190725A (ja) * | 1986-02-17 | 1987-08-20 | Tokyo Electron Ltd | 二重回折格子による位置合せ方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5332759A (en) * | 1976-09-08 | 1978-03-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Precision coordinate position detection and position control unit by composite diffration grating method |
| JPS53137673A (en) * | 1977-05-03 | 1978-12-01 | Massachusetts Inst Technology | Device for and method of matching plate position |
-
1982
- 1982-10-25 JP JP57187078A patent/JPS5975628A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5332759A (en) * | 1976-09-08 | 1978-03-28 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Precision coordinate position detection and position control unit by composite diffration grating method |
| JPS53137673A (en) * | 1977-05-03 | 1978-12-01 | Massachusetts Inst Technology | Device for and method of matching plate position |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62190725A (ja) * | 1986-02-17 | 1987-08-20 | Tokyo Electron Ltd | 二重回折格子による位置合せ方法 |
| JPH038097B2 (ja) * | 1986-02-17 | 1991-02-05 | Tokyo Electron Ltd |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA1093297A (en) | Plate aligning | |
| US4704033A (en) | Multiple wavelength linear zone plate alignment apparatus and method | |
| JPH039403B2 (ja) | ||
| WO2016107614A1 (zh) | 用于套刻误差检测的装置和方法 | |
| JP2779102B2 (ja) | 多重波長干渉計装置 | |
| US4614433A (en) | Mask-to-wafer alignment utilizing zone plates | |
| JPS5975628A (ja) | ２重回折格子による位置合せ法 | |
| JPS61116837A (ja) | 回折格子によるギヤツプ・位置合せ制御法 | |
| JPH0269604A (ja) | 位置合わせ方法 | |
| JPS6165251A (ja) | 露光装置 | |
| JPS59188920A (ja) | ２重回折格子によるギヤツプ・位置合せ制御法 | |
| JPS6077423A (ja) | ２重回折格子によるギヤツプ・位置合せ制御法 | |
| JPH04257801A (ja) | 偏光回折素子の製造方法 | |
| JPS60214531A (ja) | 位置合わせ方法 | |
| JPH01140719A (ja) | 位置合せ装置 | |
| JPH04291103A (ja) | 位置検出装置 | |
| JPS60173835A (ja) | 回折格子によるギヤツプ制御法 | |
| JPH0451968B2 (ja) | ||
| JPS6332919A (ja) | 位置合せマ−ク | |
| JPS618606A (ja) | 位置検知方法 | |
| JPH04188608A (ja) | 回折格子を用いた位置合せ装置 | |
| JPH03229105A (ja) | 相対位置合せ方法及び装置 | |
| JPS6355858B2 (ja) | ||
| JPS59104128A (ja) | ２重回折格子による位置合せ法および位置合せ装置 | |
| JPH04208802A (ja) | 位置合わせ装置 |