JP2779102B2 - 多重波長干渉計装置 - Google Patents
多重波長干渉計装置Info
- Publication number
- JP2779102B2 JP2779102B2 JP4258146A JP25814692A JP2779102B2 JP 2779102 B2 JP2779102 B2 JP 2779102B2 JP 4258146 A JP4258146 A JP 4258146A JP 25814692 A JP25814692 A JP 25814692A JP 2779102 B2 JP2779102 B2 JP 2779102B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- grating
- diffraction
- blazed
- angle
- interferometer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02015—Interferometers characterised by the beam path configuration
- G01B9/02027—Two or more interferometric channels or interferometers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/16—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring the deformation in a solid, e.g. optical strain gauge
- G01B11/161—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring the deformation in a solid, e.g. optical strain gauge by interferometric means
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
- G01B11/2441—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures using interferometry
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02001—Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties
- G01B9/02007—Two or more frequencies or sources used for interferometric measurement
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/1006—Beam splitting or combining systems for splitting or combining different wavelengths
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/1086—Beam splitting or combining systems operating by diffraction only
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/12—Beam splitting or combining systems operating by refraction only
- G02B27/123—The splitting element being a lens or a system of lenses, including arrays and surfaces with refractive power
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/14—Beam splitting or combining systems operating by reflection only
- G02B27/141—Beam splitting or combining systems operating by reflection only using dichroic mirrors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/14—Beam splitting or combining systems operating by reflection only
- G02B27/144—Beam splitting or combining systems operating by reflection only using partially transparent surfaces without spectral selectivity
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1814—Diffraction gratings structurally combined with one or more further optical elements, e.g. lenses, mirrors, prisms or other diffraction gratings
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B2290/00—Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
- G01B2290/15—Cat eye, i.e. reflection always parallel to incoming beam
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B2290/00—Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
- G01B2290/30—Grating as beam-splitter
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B2290/00—Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
- G01B2290/45—Multiple detectors for detecting interferometer signals
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、一般に光装置に関し、
特に多重光ビームの発生および多重光ビームを用いる干
渉計装置に関する。
特に多重光ビームの発生および多重光ビームを用いる干
渉計装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】主ビームの入射角に関して各ビームの波
長が同じ角度だけ偏移される多重の狭い放射ビームまた
は鉛筆形ビーム（ｐｅｎｃｉｌ ｂｅａｍ：ペンシルビ
ーム）を発生する通常の方法は以下のことを含む。
長が同じ角度だけ偏移される多重の狭い放射ビームまた
は鉛筆形ビーム（ｐｅｎｃｉｌ ｂｅａｍ：ペンシルビ
ーム）を発生する通常の方法は以下のことを含む。
【０００３】反射器アレイ方法において、多重ビームは
反射時に発生される。しかしながら、正確な偏差角を反
射器を個々に調節せずに得ることは困難である。もしビ
ーム寸法が小さいことを望むならば、反射器調節は困難
になる。さらに、照射光学系は小さい偏差角において反
射された光をぼやかす可能性がある。
反射時に発生される。しかしながら、正確な偏差角を反
射器を個々に調節せずに得ることは困難である。もしビ
ーム寸法が小さいことを望むならば、反射器調節は困難
になる。さらに、照射光学系は小さい偏差角において反
射された光をぼやかす可能性がある。
【０００４】プリズムアレイ方法において、多重ビーム
は透過時に発生され、ビーム偏移は屈折によって達成さ
れる。偏差の正確さは非常に正確なウェッジ角度を要求
するので制御することは困難である。多重波長の偏移の
均等は選択されたプリズム材料の分散によって制限さ
れ、付加的な波長が導入されるので達成するのはさらに
困難である。さらに、材料の分散は温度に依存する。
は透過時に発生され、ビーム偏移は屈折によって達成さ
れる。偏差の正確さは非常に正確なウェッジ角度を要求
するので制御することは困難である。多重波長の偏移の
均等は選択されたプリズム材料の分散によって制限さ
れ、付加的な波長が導入されるので達成するのはさらに
困難である。さらに、材料の分散は温度に依存する。
【０００５】フレネルプリズム方法において、プリズム
アレイの機能は典型的に複写方法によって製造されるフ
レネルプリズムのアレイによって行われる。しかしなが
ら、材料分散効果はまだ正確度を制限し、各ビームの多
重波長は偏移される。
アレイの機能は典型的に複写方法によって製造されるフ
レネルプリズムのアレイによって行われる。しかしなが
ら、材料分散効果はまだ正確度を制限し、各ビームの多
重波長は偏移される。
【０００６】別の方法は２N の分離した位相段階を含む
位相格子のアレイがフォトリソグラフ的に構成される２
進光学系を用いる。ここでＮは整数である。格子周期は
非常に正確に構成されることができるが、異なった波長
は回折分散により異なる角度だけ偏移される。さらに、
約１０°の偏差角を形成する必要性および０．８マイク
ロメータ付近の波長を有する半導体レーザダイオードソ
ースを使用する好ましさは３００ライン／ｍｍ程度の必
要な格子空間周波数を生じる。そのような空間周波数を
有しＮは１より大きい２進光学系の製造は現在困難で高
価である。また、２つのレベル（Ｎ＝１）を有する２進
光学系はせいぜい回折オーダにおいてわずか４０％の効
果である。
位相格子のアレイがフォトリソグラフ的に構成される２
進光学系を用いる。ここでＮは整数である。格子周期は
非常に正確に構成されることができるが、異なった波長
は回折分散により異なる角度だけ偏移される。さらに、
約１０°の偏差角を形成する必要性および０．８マイク
ロメータ付近の波長を有する半導体レーザダイオードソ
ースを使用する好ましさは３００ライン／ｍｍ程度の必
要な格子空間周波数を生じる。そのような空間周波数を
有しＮは１より大きい２進光学系の製造は現在困難で高
価である。また、２つのレベル（Ｎ＝１）を有する２進
光学系はせいぜい回折オーダにおいてわずか４０％の効
果である。
【０００７】ホログラムはまた多重ビームを発生するた
めに用いられている。しかしながら、ホログラムは一般
に生産および製造するのに高価である。さらに、多色ホ
ログラムはさらに費用を増加させる。
めに用いられている。しかしながら、ホログラムは一般
に生産および製造するのに高価である。さらに、多色ホ
ログラムはさらに費用を増加させる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】通常の回折格子は１つ
の回折オーダがそれぞれ同じ角度で一致することができ
るように多重波長を偏移することができることはまた注
目すべきである。しかしながら、通常の回折格子は第１
の回折オーダにブレーズされるので、これは特に密接し
た間隔の波長の高い回折オーダを与えるようにするとき
に有効でない方法である。すなわち、高い回折オーダの
光信号は有用でないような低いレベルにある可能性があ
る。
の回折オーダがそれぞれ同じ角度で一致することができ
るように多重波長を偏移することができることはまた注
目すべきである。しかしながら、通常の回折格子は第１
の回折オーダにブレーズされるので、これは特に密接し
た間隔の波長の高い回折オーダを与えるようにするとき
に有効でない方法である。すなわち、高い回折オーダの
光信号は有用でないような低いレベルにある可能性があ
る。
【０００９】したがって、本発明の目的は、これらの問
題を克服するために多重波長に対して等しい偏差角を有
する多重ビームを有効に発生する方法および装置を提供
することである。
題を克服するために多重波長に対して等しい偏差角を有
する多重ビームを有効に発生する方法および装置を提供
することである。
【００１０】本発明の別の目的は、多重ビームを効率よ
く発生するブレーズド回折格子を用いることである。
く発生するブレーズド回折格子を用いることである。
【００１１】本発明のさらに別の目的は多重波長干渉計
に使用される多重サンプルビームを発生するブレーズド
回折格子を用いることである。
に使用される多重サンプルビームを発生するブレーズド
回折格子を用いることである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記および他の問題は克
服され、本発明の目的は例えば多重波長干渉計によって
使用される多重ビームを発生するブレーズド回折格子を
用いる方法および装置によって実現される。透過または
反射で動作するブレーズド回折格子のアレイは複数の光
ビームを発生して偏移し、各ビーム内の関係する多重波
長は予め定められた同じ角度でそれぞれ同時に偏移され
る。
服され、本発明の目的は例えば多重波長干渉計によって
使用される多重ビームを発生するブレーズド回折格子を
用いる方法および装置によって実現される。透過または
反射で動作するブレーズド回折格子のアレイは複数の光
ビームを発生して偏移し、各ビーム内の関係する多重波
長は予め定められた同じ角度でそれぞれ同時に偏移され
る。
【００１３】本発明は例えば多重波長サンプルポイント
干渉計に使用される１組の鉛筆形ビーム（ペンシルビー
ム）を発生する方法および装置を提供する。そのように
発生されたサンプルビームはセグメント反射器のような
構造に取付けられた再帰反射器を照明するために用いら
れ、干渉計によって測定される。
干渉計に使用される１組の鉛筆形ビーム（ペンシルビー
ム）を発生する方法および装置を提供する。そのように
発生されたサンプルビームはセグメント反射器のような
構造に取付けられた再帰反射器を照明するために用いら
れ、干渉計によって測定される。
【００１４】本発明の実行によって与えられる利点は以
下のとおりである。：サンプルビーム偏差角は多重波長
に対して同じであり；サンプルビーム偏差角はフォトリ
ソグラフ法によってブレーズド回折格子を製造すること
によって正確に制御されることができ、サンプルビーム
は非常に高い効率で偏移され、ブレーズド回折格子のア
レイは小さい軽量の構造として製造されることができ
る。
下のとおりである。：サンプルビーム偏差角は多重波長
に対して同じであり；サンプルビーム偏差角はフォトリ
ソグラフ法によってブレーズド回折格子を製造すること
によって正確に制御されることができ、サンプルビーム
は非常に高い効率で偏移され、ブレーズド回折格子のア
レイは小さい軽量の構造として製造されることができ
る。
【００１５】本発明の概念によると、入射放射から複数
の放射ビームを発生するために、ここではビームスライ
サと呼ばれている光学部品が設けられる。各放射ビーム
は空間の異なる領域に導かれる。透過格子の実施例にお
いて、部品は関係する波長を有する入射放射に実質上透
明である材料から構成された基体を含む。基体はその表
面内に形成された複数の領域を含み、各領域は送られて
来た入射放射を放射ビームに偏移するブレーズド透過格
子を限定している。ブレーズド透過格子は各放射ビーム
内の関係する波長が予め定められた同じ角度で同時偏移
されるように形成される。
の放射ビームを発生するために、ここではビームスライ
サと呼ばれている光学部品が設けられる。各放射ビーム
は空間の異なる領域に導かれる。透過格子の実施例にお
いて、部品は関係する波長を有する入射放射に実質上透
明である材料から構成された基体を含む。基体はその表
面内に形成された複数の領域を含み、各領域は送られて
来た入射放射を放射ビームに偏移するブレーズド透過格
子を限定している。ブレーズド透過格子は各放射ビーム
内の関係する波長が予め定められた同じ角度で同時偏移
されるように形成される。
【００１６】各ブレーズド透過格子は互いに平行に間隔
を隔てられた複数の溝によって限定される。各溝は次の
式によって与えられる角度φを有するように構成され
る。
を隔てられた複数の溝によって限定される。各溝は次の
式によって与えられる角度φを有するように構成され
る。
【００１７】 φ＝ｔａｎ-1［（ｎ−ｃｏｓθ）／ｓｉｎθ］ ここで、ｎは関係する波長の基体材料の屈折率であり、
θは関係する各波長の同じ回折角度である。
θは関係する各波長の同じ回折角度である。
【００１８】各ブレーズド回折格子はそれに関連する複
数の回折オーダを有し、関係する２つの波長の比が２つ
の格子回折オーダの対応する比に等しいことが示されて
いる。
数の回折オーダを有し、関係する２つの波長の比が２つ
の格子回折オーダの対応する比に等しいことが示されて
いる。
【００１９】本発明の別の概念は干渉計により測定され
る構造の表面上に配置された予め定められた再帰反射器
にそれぞれ導かれる複数の鉛筆形ビームを発生する本発
明のビームスライサを含むサンプルポイント干渉計に関
する。
る構造の表面上に配置された予め定められた再帰反射器
にそれぞれ導かれる複数の鉛筆形ビームを発生する本発
明のビームスライサを含むサンプルポイント干渉計に関
する。
【００２０】
【実施例】所定の回折オーダに対して入射放射の回折を
最適にするために特定プロファイルを有する複数の並列
の溝を有するブレーズド回折格子がここでは使用され
る。回折オーダは各角度で発生され、それに対する２つ
の隣接の溝を通る光線の光路長差は波長の整数である。
例えば、第１の回折オーダでは光路長差は波長に等し
い。第２の回折オーダでは光路長差は２波長に等しく、
順番に第３の回折オーダでは光路長差は３波長に等し
い。波長回折オーダおよびブレージングの詳述は文献
（Bausch and Lomb 社、1977年）に記載されている。
最適にするために特定プロファイルを有する複数の並列
の溝を有するブレーズド回折格子がここでは使用され
る。回折オーダは各角度で発生され、それに対する２つ
の隣接の溝を通る光線の光路長差は波長の整数である。
例えば、第１の回折オーダでは光路長差は波長に等し
い。第２の回折オーダでは光路長差は２波長に等しく、
順番に第３の回折オーダでは光路長差は３波長に等し
い。波長回折オーダおよびブレージングの詳述は文献
（Bausch and Lomb 社、1977年）に記載されている。
【００２１】本発明のブレーズド回折格子は透過格子ま
たは反射格子である。本発明の使用はこれのみに適用さ
れると解釈されることはないが、格子はサンプルポイン
ト干渉計（ＳＰＩ）の１部品として有効に使用されるこ
とができる。サンプルポイント干渉計は1977年５月10日
の米国特許4,022,532 号明細書に記載されている。
たは反射格子である。本発明の使用はこれのみに適用さ
れると解釈されることはないが、格子はサンプルポイン
ト干渉計（ＳＰＩ）の１部品として有効に使用されるこ
とができる。サンプルポイント干渉計は1977年５月10日
の米国特許4,022,532 号明細書に記載されている。
【００２２】ＳＰＩの１用途は大きい宇宙船搭載望遠鏡
に使用されるような大きいセグメントおよび、または変
形可能な反射器の位相およびまたは形状を測定すること
である。ＳＰＩはまた空間構造を監視するために使用さ
れることができ、その場合多数の高いダイナミック範囲
レーザゲージとして機能する。ＳＰＩはさらに自動車産
業を含む工業上の検査に使用されることができる。
に使用されるような大きいセグメントおよび、または変
形可能な反射器の位相およびまたは形状を測定すること
である。ＳＰＩはまた空間構造を監視するために使用さ
れることができ、その場合多数の高いダイナミック範囲
レーザゲージとして機能する。ＳＰＩはさらに自動車産
業を含む工業上の検査に使用されることができる。
【００２３】ＳＰＩの概略図が図１に示されている。ビ
ームスライサ6 は光源から光を集束することによって生
成されるサンプルビーム3 によって照明される。光源は
複数のコヒーレントな光源から構成されることができ、
関係する１つ以上の波長で動作するレーザダイオード1
が好ましい。レーザダイオード1 からの光は反射器1aお
よびビームスプリッタ1bによって反射されて結合され、
ビームエキスパンダ2または等価装置によって集束され
る。集束されたビームはビームスプリッタ5 によって測
定またはサンプルビーム3 と基準ビーム4 に分割され
る。ビームスライサ6 の目的はビームスライサ6 を通過
する複数の鉛筆形ビーム7 をサンプルビーム3 から同時
に発生して偏移させることである。鉛筆形ビーム7 は測
定される基体10の表面上に配置された特定再帰反射器9
に入射する。再帰反射器9 は鉛筆形ビーム7 をビームス
ライサ6 に返送し、その場合ビームは元のサンプルビー
ム3と反対方向に共通する直線であるように再び偏移さ
れる。ビームスプリッタ5 から反射するときに、各反射
された鉛筆形ビームは小レンズアレイ11の１つの小レン
ズ11a によって捕捉される。小レンズ11a は再帰反射器
9 のイメージを光検出器12のアレイに形成する。これら
のイメージは基準ビーム4 が反射鏡または再帰反射器等
の反射光学系13から反射された後に基準ビーム4 と干渉
する。光検出器12によって測定された干渉の相対強度は
ビームスライサ6 から再帰反射器9 までの相対距離を決
定するために用いられ、それから構造10の表面の特性は
既知の方法によって決定可能である。
ームスライサ6 は光源から光を集束することによって生
成されるサンプルビーム3 によって照明される。光源は
複数のコヒーレントな光源から構成されることができ、
関係する１つ以上の波長で動作するレーザダイオード1
が好ましい。レーザダイオード1 からの光は反射器1aお
よびビームスプリッタ1bによって反射されて結合され、
ビームエキスパンダ2または等価装置によって集束され
る。集束されたビームはビームスプリッタ5 によって測
定またはサンプルビーム3 と基準ビーム4 に分割され
る。ビームスライサ6 の目的はビームスライサ6 を通過
する複数の鉛筆形ビーム7 をサンプルビーム3 から同時
に発生して偏移させることである。鉛筆形ビーム7 は測
定される基体10の表面上に配置された特定再帰反射器9
に入射する。再帰反射器9 は鉛筆形ビーム7 をビームス
ライサ6 に返送し、その場合ビームは元のサンプルビー
ム3と反対方向に共通する直線であるように再び偏移さ
れる。ビームスプリッタ5 から反射するときに、各反射
された鉛筆形ビームは小レンズアレイ11の１つの小レン
ズ11a によって捕捉される。小レンズ11a は再帰反射器
9 のイメージを光検出器12のアレイに形成する。これら
のイメージは基準ビーム4 が反射鏡または再帰反射器等
の反射光学系13から反射された後に基準ビーム4 と干渉
する。光検出器12によって測定された干渉の相対強度は
ビームスライサ6 から再帰反射器9 までの相対距離を決
定するために用いられ、それから構造10の表面の特性は
既知の方法によって決定可能である。
【００２４】その代りに、反射光学系13は基準ビーム4
の方向に沿って変位されることができ、すなわち光検出
器12によって測定された干渉の強度を変調することがで
きる。変調された強度の電気位相の大きさはビームスラ
イサ6 から再帰反射器9 までの相対距離を決定するため
に用いられる。
の方向に沿って変位されることができ、すなわち光検出
器12によって測定された干渉の強度を変調することがで
きる。変調された強度の電気位相の大きさはビームスラ
イサ6 から再帰反射器9 までの相対距離を決定するため
に用いられる。
【００２５】図２はビームスライサ6 をより詳細に示す
上面図である。ビームスライサ6 は関係する波長に対し
て実質上透明であるように選択された基体から構成され
る。基体の表面内に鉛筆形ビーム7 の１つを発生して偏
移する複数のサブ孔8 が形成されている。サブ孔8 の幾
何学的配置は臨界的ではないが、各鉛筆形ビーム7 の信
号対雑音比および回折特性を等しくするために均一の寸
法および形状になるようにサブ孔8 を構成することによ
って最適にされることができる。
上面図である。ビームスライサ6 は関係する波長に対し
て実質上透明であるように選択された基体から構成され
る。基体の表面内に鉛筆形ビーム7 の１つを発生して偏
移する複数のサブ孔8 が形成されている。サブ孔8 の幾
何学的配置は臨界的ではないが、各鉛筆形ビーム7 の信
号対雑音比および回折特性を等しくするために均一の寸
法および形状になるようにサブ孔8 を構成することによ
って最適にされることができる。
【００２６】本発明のこの実施例によると、ビームスラ
イサ6 の各サブ孔8 は同じ角度だけ全てのＳＰＩ波長を
偏移する方法にしたがって構成されたブレーズド透過格
子であり、その角度の数値は構造10上の再帰反射器9 の
特定された１つに入射する鉛筆形ビーム7 の所定の１つ
に対する必要性から得られる。偏移角はサブ孔A,B,Cの
矢印によって図示されているように各サブ孔8 の溝パタ
ーンに垂直である。所定のサブ孔8 に対して、回折角度
は良く知られている格子式にしたがって溝の空間周波数
と共に増加する。例えば、図２の実施例では、サブ孔C
の回折角度はサブ孔B の回折角度よりも小さく、またサ
ブ孔A の回折角度よりも小さい。
イサ6 の各サブ孔8 は同じ角度だけ全てのＳＰＩ波長を
偏移する方法にしたがって構成されたブレーズド透過格
子であり、その角度の数値は構造10上の再帰反射器9 の
特定された１つに入射する鉛筆形ビーム7 の所定の１つ
に対する必要性から得られる。偏移角はサブ孔A,B,Cの
矢印によって図示されているように各サブ孔8 の溝パタ
ーンに垂直である。所定のサブ孔8 に対して、回折角度
は良く知られている格子式にしたがって溝の空間周波数
と共に増加する。例えば、図２の実施例では、サブ孔C
の回折角度はサブ孔B の回折角度よりも小さく、またサ
ブ孔A の回折角度よりも小さい。
【００２７】ブレーズド透過格子が同じ角度ずつ多重波
長を偏移するように設計される方法を２波長の実施例を
用いて以下説明する。
長を偏移するように設計される方法を２波長の実施例を
用いて以下説明する。
【００２８】本発明の基本的な原理は高い回折オーダの
格子を用いることである。回折オーダは２つの波長に関
して異なるが、２つの波長の回折角度が等しいように選
択される。上述のように、通常のブレーズド回折格子は
一般に高い回折オーダにおいてあまり有効ではなく、つ
まり回折オーダは１よりも大きい。
格子を用いることである。回折オーダは２つの波長に関
して異なるが、２つの波長の回折角度が等しいように選
択される。上述のように、通常のブレーズド回折格子は
一般に高い回折オーダにおいてあまり有効ではなく、つ
まり回折オーダは１よりも大きい。
【００２９】垂直入射に対する格子式は次のとおりであ
る。
る。
【００３０】 ｍλ＝ｄｓｉｎθ （１） ここで、ｍ＝格子回折オーダ、λ＝波長、ｄ＝格子溝間
隔、θ＝回折角度である。
隔、θ＝回折角度である。
【００３１】同じ角度θだけ回折される２つの波長
λ1 ，λ2 に対して、２つの式が満たされることが必要
である。
λ1 ，λ2 に対して、２つの式が満たされることが必要
である。
【００３２】 ｍ1 λ1 ＝ｄｓｉｎθ （２） ｍ2 λ2 ＝ｄｓｉｎθ （３） したがって、 ｍ1 λ1 ＝ｍ2 λ2 λ1 ／λ2 ＝ｍ2 ／ｍ1 （４） 式（４）は波長（λ1 ／λ2 ）の比率が整数（ｍ2 ／ｍ
1 ）の比に等しいとき各回折角度は等しいことを示す。
例えば、λ1 ＝０．７６マイクロメータであり、λ2 ＝
０．８０マイクロメータならば、λ1 ／λ2 ＝０．７６
／０．８０＝１９／２０である。これは格子がｍ1 ＝２
０でｍ2 ＝１９であるならば、両波長は角度θだけ回折
される。例えば、θ＝１０°ならば、ｄ＝（２０）
（０．７６）／ｓｉｎ１０°＝８７．５３マイクロメー
タである。
1 ）の比に等しいとき各回折角度は等しいことを示す。
例えば、λ1 ＝０．７６マイクロメータであり、λ2 ＝
０．８０マイクロメータならば、λ1 ／λ2 ＝０．７６
／０．８０＝１９／２０である。これは格子がｍ1 ＝２
０でｍ2 ＝１９であるならば、両波長は角度θだけ回折
される。例えば、θ＝１０°ならば、ｄ＝（２０）
（０．７６）／ｓｉｎ１０°＝８７．５３マイクロメー
タである。
【００３３】式（２）または（３）から選択されたｄを
有する回折格子は同じ角度だけ両波長を回折する。しか
しながら、回折効率は格子が適切にブレーズドされるま
で低い。ビームスライサ6 はＳＰＩの２重通路形態で使
用されるので回折効率は重要である。すなわち、ビーム
スライサ6 は構造10に入ったり出たりする光を通すの
で、光の損失は２倍である。
有する回折格子は同じ角度だけ両波長を回折する。しか
しながら、回折効率は格子が適切にブレーズドされるま
で低い。ビームスライサ6 はＳＰＩの２重通路形態で使
用されるので回折効率は重要である。すなわち、ビーム
スライサ6 は構造10に入ったり出たりする光を通すの
で、光の損失は２倍である。
【００３４】図３に示されているように、ブレージング
は入射光14が通常各マイクロプリズム15によって反射さ
れる角度が回折角度θ16と整合するように三角形溝断面
形状の発生を含む。したがって、屈折は適切の回折オー
ダ（ｍ）の回折を支援し、すなわちλ1 に対してｍ1 、
λ2 に対してｍ2 である。屈折率ｎを有する透過格子基
体17に対して、溝は次の式によって与えられる角度φ18
を構成される。
は入射光14が通常各マイクロプリズム15によって反射さ
れる角度が回折角度θ16と整合するように三角形溝断面
形状の発生を含む。したがって、屈折は適切の回折オー
ダ（ｍ）の回折を支援し、すなわちλ1 に対してｍ1 、
λ2 に対してｍ2 である。屈折率ｎを有する透過格子基
体17に対して、溝は次の式によって与えられる角度φ18
を構成される。
【００３５】 φ＝ｔａｎ-1［（ｎ−ｃｏｓθ）／ｓｉｎθ］ （５） 例えば、（θ＝１０°）の場合、ｎ＝１．５ならば、φ
＝７１．３７である。ｄ＝８７．５３マイクロメータな
らば、溝の深さＳ19は２９．５１マイクロメータに等し
い。
＝７１．３７である。ｄ＝８７．５３マイクロメータな
らば、溝の深さＳ19は２９．５１マイクロメータに等し
い。
【００３６】各マイクロプリズム15による屈折は光が屈
折の角度ではなく格子によって屈折される効率に影響を
与えることを注目することは重要である。
折の角度ではなく格子によって屈折される効率に影響を
与えることを注目することは重要である。
【００３７】本発明の教えは次の式の方式を満たすこと
によって２つよりも多い波長に拡張可能である。
によって２つよりも多い波長に拡張可能である。
【００３８】 ｍ1 λ1 ＝ｄｓｉｎθ ｍ2 λ2 ＝ｄｓｉｎθ ・ ｍj λj ＝ｄｓｉｎθ （６） したがって、 ｍ1 λ1 ＝ｍ2 λ2 ＝……＝ｍj λj （７） 式（７）は許容される波長の比について付加的な制限を
要求する。ｊ＝３の場合、次の式が得られる。
要求する。ｊ＝３の場合、次の式が得られる。
【００３９】 ｍ1 λ1 ＝ｍ2 λ2 ＝ｍ3 λ3 （８） したがって、 λ1 ／λ2 ＝ｍ2 ／ｍ1 λ1 ／λ3 ＝ｍ3 ／ｍ1 （９） 例えば、λ1 ＝０．７６マイクロメータ、λ2 ＝０．８
０マイクロメータ、λ3 ＝０．８９４マイクロメータな
らば、λ1 ／λ2 ＝ｍ2 ／ｍ1 ＝１９／２０であり、λ
1 ／λ3 ＝ｍ3 ／ｍ1 ＝１７／２０である。その結果ブ
レーズド透過格子は波長λ1 ，λ2 ，λ3 に対してそれ
ぞれ２０番目、１９番目、および１７番目の回折オーダ
で動作する。
０マイクロメータ、λ3 ＝０．８９４マイクロメータな
らば、λ1 ／λ2 ＝ｍ2 ／ｍ1 ＝１９／２０であり、λ
1 ／λ3 ＝ｍ3 ／ｍ1 ＝１７／２０である。その結果ブ
レーズド透過格子は波長λ1 ，λ2 ，λ3 に対してそれ
ぞれ２０番目、１９番目、および１７番目の回折オーダ
で動作する。
【００４０】図４は本発明のブレーズド反射格子の実施
例の側面図を示す。図４において、入射光は角度θで回
折され、溝の角度φは次の式にしたがって決定される。
例の側面図を示す。図４において、入射光は角度θで回
折され、溝の角度φは次の式にしたがって決定される。
【００４１】 φ＝９０°−（θ／２） （１０） 本発明によって使用される適切な波長は紫外線から遠赤
外線までの波長を含む。基体17は例えば適切な光学ガラ
スから構成されることができる。各サブ孔8 は例えば約
５乃至１０ミリメータの直線寸法を有する。
外線までの波長を含む。基体17は例えば適切な光学ガラ
スから構成されることができる。各サブ孔8 は例えば約
５乃至１０ミリメータの直線寸法を有する。
【００４２】三角形溝プロファイルを有するブレーズド
透過格子を生成する１つの方法は三角形溝パターンをフ
ォトレジストに露光して、イオンビームエッチングによ
って露光されたパターンをガラス基体に転送する第１の
段階を含む。フォトレジストは生成されるとき露光に線
形的に比例する表面プロファイルを示すように組成され
ている。フォトレジストの露光は典型的にスペクトルの
紫外線部分において動作するランプまたはレーザによっ
て行われる。
透過格子を生成する１つの方法は三角形溝パターンをフ
ォトレジストに露光して、イオンビームエッチングによ
って露光されたパターンをガラス基体に転送する第１の
段階を含む。フォトレジストは生成されるとき露光に線
形的に比例する表面プロファイルを示すように組成され
ている。フォトレジストの露光は典型的にスペクトルの
紫外線部分において動作するランプまたはレーザによっ
て行われる。
【００４３】三角形プロファイルを生成するために適切
な露光を行うのに使用可能な多くの適当な方法がある。
露光は各溝を横切って線形的に変化し、さらに各溝に沿
って一定でなければならない。１つの方法は透過マスク
を発生することであり、そこを通ってランプは下に位置
するフォトレジストを露光する。このマスクはコンピュ
ータにより発生されることができ、線形溝プロファイル
はグレーレベルの数列によって達成される。別の方法は
フォトレジスト上の三角形孔を光還元して、フォトレジ
ストで被覆された基体を線形的に変換することである。
三角形孔は必要とされた線形プロファイルを生成し、線
形変換は１つの溝を形成する。この方法は連続して繰返
され、或いは多重溝を形成すると同時に多重三角形孔を
使用することができる。第３の方法は紫外線レーザから
集束された焦点で直接フォトレジストを走査することで
ある。レーザの強度の変調は三角形溝プロファイルに必
要な線形露光を生じるために用いられる。
な露光を行うのに使用可能な多くの適当な方法がある。
露光は各溝を横切って線形的に変化し、さらに各溝に沿
って一定でなければならない。１つの方法は透過マスク
を発生することであり、そこを通ってランプは下に位置
するフォトレジストを露光する。このマスクはコンピュ
ータにより発生されることができ、線形溝プロファイル
はグレーレベルの数列によって達成される。別の方法は
フォトレジスト上の三角形孔を光還元して、フォトレジ
ストで被覆された基体を線形的に変換することである。
三角形孔は必要とされた線形プロファイルを生成し、線
形変換は１つの溝を形成する。この方法は連続して繰返
され、或いは多重溝を形成すると同時に多重三角形孔を
使用することができる。第３の方法は紫外線レーザから
集束された焦点で直接フォトレジストを走査することで
ある。レーザの強度の変調は三角形溝プロファイルに必
要な線形露光を生じるために用いられる。
【００４４】各必要なマスクはサブ孔8 をそれぞれ限定
するように連続して整列され露光されることが好まし
い。基体は同時に各サブ孔をエッチングするよために組
立体として現象される。上述のように、イオンビームエ
ッチング法が好ましい。しかしながら、溝を基体内に形
成するために化学エッチングまたは他の適切な技術を用
いることは本発明の技術的範囲内にある。
するように連続して整列され露光されることが好まし
い。基体は同時に各サブ孔をエッチングするよために組
立体として現象される。上述のように、イオンビームエ
ッチング法が好ましい。しかしながら、溝を基体内に形
成するために化学エッチングまたは他の適切な技術を用
いることは本発明の技術的範囲内にある。
【００４５】図４のブレーズド反射格子に関して、付加
的な段階は例えば金属層を設けることによって溝の上に
反射面を形成することを含む。
的な段階は例えば金属層を設けることによって溝の上に
反射面を形成することを含む。
【００４６】以上、本発明を特に好ましい実施例に関し
て説明したが、本発明の技術的範囲から逸脱することな
く形態および細部が変更されることを当業者は理解して
ほしい。
て説明したが、本発明の技術的範囲から逸脱することな
く形態および細部が変更されることを当業者は理解して
ほしい。
【図１】本発明にしたがって構成されたサンプルポイン
ト干渉計のブロック図。
ト干渉計のブロック図。
【図２】単一鉛筆形ビームを発生し偏移する複数のサブ
孔を有するビームスライサの上面図。
孔を有するビームスライサの上面図。
【図３】ブレーズド透過格子の実施例の側面図。
【図４】ブレーズド反射格子実施例の側面図。
1 …レーザダイオード、1a…反射体、3 …サンプルビー
ム、4 …基準ビーム、5 …ビームスプリッタ、6 …ビー
ムスライサ、7 …鉛筆形ビーム、17…透過格子。
ム、4 …基準ビーム、5 …ビームスプリッタ、6 …ビー
ムスライサ、7 …鉛筆形ビーム、17…透過格子。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭56−4107（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−186718（ＪＰ，Ａ) 実開 昭59−131900（ＪＰ，Ｕ) 米国特許4022532（ＵＳ，Ａ) 特公 昭58−33534（ＪＰ，Ｂ２) ＡＰＰＬＩＥＤ ＯＰＴＩＣＳ，ＶＯ Ｌ．24〜６！ （15 ＭＡＲＣＨ 1985），Ｐ．804−807；ＹＥＯＵ−ＹＥ Ｎ ＣＨＥＮＧ ＥＴ ＡＬ．：”ＭＵ ＬＴＩＰＬＥ−ＷＡＶＥＬＥＮＧＴＨ ＰＨＡＳＥ−ＳＨＩＦＴＩＮＧ ＩＮＴ ＥＲＦＥＲＯＭＥＴＲＹ" ＡＰＰＬＩＥＤ ＯＰＴＩＣＳ，ＶＯ Ｌ．12〜９！ （ＳＥＰＴＥＭＢＥＲ 1973），Ｐ．2071−2074；Ｃ．ＰＯＬＨ ＥＭＵＳ： ”ＴＷＯ−ＷＡＶＥＬＥＮ ＧＴＨ ＩＮＴＥＲＦＥＲＯＭＥＴＲ Ｙ" (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G02B 5/18 G01B 9/00 - 9/10 G01B 11/00 - 11/30
Claims (7)
- 【請求項１】 関係する２つ以上の組成波長を有する放
射ソースビームを発生する手段と、 ソースビームを基準ビームと測定ビームに分割する手段
と、 前記測定ビームに光学的に結合され、前記測定ビームを
測定される面の反射領域にそれぞれ向けられる複数のペ
ンシルビームに細分する手段と、 各反射された領域に対する距離を決定するために、基準
ビームと、測定される面から反射して戻る各ペンシルビ
ームとを干渉計によって比較する手段とを具備し、 前記細分手段は、 基体と、 入射放射を放射ビームに偏移するブレーズド回折格子を
限定する前記基体の表面内に形成された１つ以上の領域
とを具備し、 放射ビームの関係する２つ以上の波長は次の式にしたが
うことによって予め定められた同じ角度で同時に偏移さ
れ、 λ1 ／λ2 ＝ｍ2 ／ｍ1 ここで、λ1 およびλ2 は関係する２つの波長であり、
ｍ1 はλ1 の回折オーダであり、ｍ2 はλ2 の回折オー
ダであることを特徴とする干渉計装置。 - 【請求項２】 各ブレーズド回折格子は互いに平行に間
隔を隔てられた複数の溝によって限定されたブレーズド
反射格子であり、各溝は次の式によって与えられる角度
φを有して形成され、 φ＝９０°一（θ／２） ここで、θは回折角度である請求項１記載の干渉計装
置。 - 【請求項３】 各ブレーズド回折格子は互いに平行に間
隔を隔てられた複数の溝を有するブレーズド透過格子で
あり、各溝は次の式によって与えられる角度φを形成さ
れ、 φ＝ｔａｎ-1［（ｎ−ｃｏｓθ）／ｓｉｎθ］ ここで、ｎは関係する波長に対する基体材料の屈折率で
あり、θは関係する各波長の回折角度である請求項１記
載の干渉計装置。 - 【請求項４】 前記発生手段は１つ以上の前記関係する
波長をそれぞれ出力する複数のレーザ手段から構成され
ている請求項１記載の干渉計装置。 - 【請求項５】 前記発生手段は前記ソースビームを集束
する手段を含んでいる請求項１記載の干渉計装置。 - 【請求項６】 前記各反射領域は再帰反射器を含んでい
る請求項１記載の干渉計装置。 - 【請求項７】 前記比較手段は、 前記基準ビームを受けるように配置された複数の光検出
器手段と、 前記反射されたペンシルビームを受けて前記光検出器手
段に導くようにそれぞれ配置されている複数のレンズ手
段とを含んでいる請求項１記載の干渉計装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US766681 | 1991-09-27 | ||
| US07/766,681 US5218423A (en) | 1991-09-27 | 1991-09-27 | Method and apparatus for generating a plurality of radiation beams from incident radiation in a multiple wavelength interferometer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05210006A JPH05210006A (ja) | 1993-08-20 |
| JP2779102B2 true JP2779102B2 (ja) | 1998-07-23 |
Family
ID=25077185
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4258146A Expired - Lifetime JP2779102B2 (ja) | 1991-09-27 | 1992-09-28 | 多重波長干渉計装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5218423A (ja) |
| EP (1) | EP0534795A3 (ja) |
| JP (1) | JP2779102B2 (ja) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5633735A (en) * | 1990-11-09 | 1997-05-27 | Litel Instruments | Use of fresnel zone plates for material processing |
| US5467191A (en) * | 1994-05-20 | 1995-11-14 | Hughes Aircraft Company | Sample point interferometer for measuring changes in figure of a primary mirror and primary-secondary mirror spacing |
| US5793488A (en) * | 1995-07-31 | 1998-08-11 | Tropel Corporation | Interferometer with compound optics for measuring cylindrical objects at oblique incidence |
| JPH10126002A (ja) * | 1996-10-23 | 1998-05-15 | Matsushita Electron Corp | 光伝送モジュール |
| US5920380A (en) * | 1997-12-19 | 1999-07-06 | Sandia Corporation | Apparatus and method for generating partially coherent illumination for photolithography |
| JP3426552B2 (ja) * | 2000-02-18 | 2003-07-14 | 株式会社ミツトヨ | 形状計測装置 |
| JP2004502953A (ja) | 2000-07-07 | 2004-01-29 | ローベルト ボツシユ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング | 干渉測定装置 |
| WO2002004889A1 (de) * | 2000-07-07 | 2002-01-17 | Robert Bosch Gmbh | Interferometrische, kurzkohärente formmessvorrichtung für mehrere flächen (ventilsitz) durch mehrere referenzebenen |
| GB2372097A (en) * | 2001-02-07 | 2002-08-14 | Image Automation Ltd | Multiple beam interferometer |
| US6778267B2 (en) | 2001-09-24 | 2004-08-17 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Systems and methods for forming an image of a specimen at an oblique viewing angle |
| KR20040083078A (ko) | 2002-01-18 | 2004-09-30 | 오우브이디이 키네그램 악티엔개젤샤프트 | 광학 도파관을 구비한 회절 보안 부재 |
| US7248351B2 (en) * | 2005-02-25 | 2007-07-24 | Infineon Technologies Ag | Optimizing light path uniformity in inspection systems |
| WO2008110239A1 (en) * | 2007-03-15 | 2008-09-18 | Carl Zeiss Smt Ag | Diffractive component, interferometer arrangement, method for qualifying a dual diffraction grating, method of manufacturing an optical element, and interferometric method |
| CN101368684B (zh) * | 2008-10-13 | 2010-06-23 | 友达光电股份有限公司 | 分光装置 |
| US8456644B2 (en) * | 2009-09-03 | 2013-06-04 | Zygo Corporation | Measurement of changes in surfaces of objects |
| WO2014045158A1 (en) * | 2012-09-20 | 2014-03-27 | Koninklijke Philips N.V. | Optical device, lens, lighting device, system and method |
| WO2014045142A1 (en) * | 2012-09-20 | 2014-03-27 | Koninklijke Philips N.V. | Optical device, lens, lighting device, system and method |
| DE102013212640A1 (de) * | 2013-06-28 | 2014-12-31 | Robert Bosch Gmbh | Vorrichtung zum Emittieren von elektromagnetischer Strahlung |
| WO2021016028A1 (en) * | 2019-07-19 | 2021-01-28 | Magic Leap, Inc. | Method of fabricating diffraction gratings |
| CN115201953B (zh) * | 2022-08-22 | 2023-01-20 | 之江实验室 | 一种双工作波段高衍射效率复合反射光栅 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4022532A (en) | 1975-08-13 | 1977-05-10 | The Perkin-Elmer Corporation | Sample point interferometric system for optical figure monitoring |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS564107A (en) * | 1979-06-22 | 1981-01-17 | Canon Inc | Light splitter |
| US4486096A (en) * | 1980-07-25 | 1984-12-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Device for measuring incident light |
| JPS5833534A (ja) * | 1981-08-25 | 1983-02-26 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | 高所作業車の安全装置 |
| DE3213839A1 (de) * | 1982-04-15 | 1983-10-27 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Optische wellenlaengen-multiplex- bzw. -demultiplexanordnung |
| CH659433A5 (de) * | 1982-10-04 | 1987-01-30 | Landis & Gyr Ag | Dokument mit einem beugungsoptischen sicherheitselement. |
| JPS6311822A (ja) * | 1986-07-02 | 1988-01-19 | Hitachi Ltd | 回折格子 |
| DE3632922A1 (de) * | 1986-09-27 | 1988-04-07 | Zeiss Carl Fa | Interferometer fuer geradheitsmessungen |
| GB8903725D0 (en) * | 1989-02-18 | 1989-04-05 | Cambridge Consultants | Coherent tracking sensor |
| GB9002327D0 (en) * | 1990-02-02 | 1990-04-04 | Univ Sheffield | Optical elements |
| US5080490A (en) * | 1990-05-23 | 1992-01-14 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Equal path, phase shifting, sample point interferometer for monitoring the configuration of surfaces |
-
1991
- 1991-09-27 US US07/766,681 patent/US5218423A/en not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-09-25 EP EP19920308790 patent/EP0534795A3/en not_active Ceased
- 1992-09-28 JP JP4258146A patent/JP2779102B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4022532A (en) | 1975-08-13 | 1977-05-10 | The Perkin-Elmer Corporation | Sample point interferometric system for optical figure monitoring |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| ＡＰＰＬＩＥＤ ＯＰＴＩＣＳ，ＶＯＬ．１２〜９！ （ＳＥＰＴＥＭＢＥＲ １９７３），Ｐ．２０７１−２０７４；Ｃ．ＰＯＬＨＥＭＵＳ： "ＴＷＯ−ＷＡＶＥＬＥＮＧＴＨ ＩＮＴＥＲＦＥＲＯＭＥＴＲＹ" |
| ＡＰＰＬＩＥＤ ＯＰＴＩＣＳ，ＶＯＬ．２４〜６！ （１５ ＭＡＲＣＨ １９８５），Ｐ．８０４−８０７；ＹＥＯＵ−ＹＥＮ ＣＨＥＮＧ ＥＴ ＡＬ．："ＭＵＬＴＩＰＬＥ−ＷＡＶＥＬＥＮＧＴＨ ＰＨＡＳＥ−ＳＨＩＦＴＩＮＧ ＩＮＴＥＲＦＥＲＯＭＥＴＲＹ" |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0534795A2 (en) | 1993-03-31 |
| EP0534795A3 (en) | 1993-12-15 |
| US5218423A (en) | 1993-06-08 |
| JPH05210006A (ja) | 1993-08-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2779102B2 (ja) | 多重波長干渉計装置 | |
| KR101664207B1 (ko) | 광빔의 파면을 분석하기 위한 방법, 위상 격자 및 장치 | |
| US5493393A (en) | Planar waveguide spectrograph | |
| US7433048B2 (en) | Interferometer systems for measuring displacement and exposure systems using the same | |
| US6449066B1 (en) | Polarization insensitive, high dispersion optical element | |
| JP3624783B2 (ja) | ダブルパスエタロンスペクトロメータ | |
| US5828492A (en) | Grating structure having a plurality of binary lamellar gratings | |
| US5818988A (en) | Method of forming a grating in an optical waveguide | |
| US4955718A (en) | Photoelectric measuring system with integrated optical circuit including and illuminating system | |
| US8169703B1 (en) | Monolithic arrays of diffraction gratings | |
| Sander et al. | Selffocussing phase transmission grating for an integrated optical microspectrometer | |
| JPS631031A (ja) | 倍率誤差検出装置及びこの倍率誤差検出装置を用いる結像装置 | |
| CN111551351B (zh) | 一种相邻拼接镜间piston误差检测系统 | |
| JP7377253B2 (ja) | ハイブリッド・コヒーレント及びスペクトルビーム結合のための回折光学素子 | |
| KR19990076349A (ko) | 반사형 홀로그래픽 광학 소자 특성 측정 시스템 | |
| US6909510B2 (en) | Application of the phase shifting diffraction interferometer for measuring convex mirrors and negative lenses | |
| JP2001050819A (ja) | 連続可変感度型無色光学干渉計 | |
| JPH0755940A (ja) | レーザードップラー速度計 | |
| JPH06288722A (ja) | 多座標測定装置 | |
| US20010024329A1 (en) | Beamsplitter | |
| Hutley et al. | Manufacture of blazed zone plates in germanium for use in the 10 micrometer spectral region | |
| Hutley et al. | The manufacture of blazed zone plates using a Fabry-Perot interferometer | |
| US20040145744A1 (en) | Measuring array | |
| JP2000056135A (ja) | 全反射（ｔｉｒ）ホログラフィ装置、その方法及び使用される光学アセンブリ | |
| Golub et al. | Mode selection of laser radiation by computer-generated optical elements |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090508 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090508 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100508 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110508 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110508 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120508 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120508 Year of fee payment: 14 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130508 Year of fee payment: 15 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130508 Year of fee payment: 15 |