JPS61116837A - 回折格子によるギヤツプ・位置合せ制御法 - Google Patents
回折格子によるギヤツプ・位置合せ制御法Info
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- JPS61116837A JPS61116837A JP59237532A JP23753284A JPS61116837A JP S61116837 A JPS61116837 A JP S61116837A JP 59237532 A JP59237532 A JP 59237532A JP 23753284 A JP23753284 A JP 23753284A JP S61116837 A JPS61116837 A JP S61116837A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体ＩＣ！ＬＳＩを製造するための露光装置
やバタン評価装置に利用されるギャップ・位置合せ制御
法に関するものである。
やバタン評価装置に利用されるギャップ・位置合せ制御
法に関するものである。
半導体ＩＣ＋ＬＳＩの微細化に伴い、サブミクロンパタ
ンを生産的に転写できる装置としてＸ線露光装置の開発
が進められているが、発散Ｘ線源を用いるＸ線露光装置
では、高精度位置合せとともに、マスクとウエノ１間の
ギャップを高精度に設定する技術の確立が不可欠となっ
ている。
ンを生産的に転写できる装置としてＸ線露光装置の開発
が進められているが、発散Ｘ線源を用いるＸ線露光装置
では、高精度位置合せとともに、マスクとウエノ１間の
ギャップを高精度に設定する技術の確立が不可欠となっ
ている。
位置合せを行なう方法として、例えばＪ 、 Ｖａｅ
。
。
Ｓｃ％、Ｔ＠ｃｈｎｏ１． 、Ｍｏ１．１９ ＋ Ｎｕ
４ ＋ １９８１ ｒ Ｐ２１４で紹介されている２
重回折格子法がある。
４ ＋ １９８１ ｒ Ｐ２１４で紹介されている２
重回折格子法がある。
第４図（５）に、この２重回折格子を用いて位置合せす
る装置の一例を示す。図において、レーザ光源１から発
したレーザ光は、ミラー２で方向を変えられ、真空吸着
ホルダ３によって保持されるマスク４の上に作製された
マスクマーク５に入射、それを通過した後、粗調ステー
ジ６の上の微調ステージ７の上に保持されるウエノ・８
に作製されたウェハマーク９で反射され、再度マスクマ
ーク５を通過する。
る装置の一例を示す。図において、レーザ光源１から発
したレーザ光は、ミラー２で方向を変えられ、真空吸着
ホルダ３によって保持されるマスク４の上に作製された
マスクマーク５に入射、それを通過した後、粗調ステー
ジ６の上の微調ステージ７の上に保持されるウエノ・８
に作製されたウェハマーク９で反射され、再度マスクマ
ーク５を通過する。
マスクマーク５、ウエノ）マーク９は回折格子バタンで
あり、同図中）に示すように前者は透過形で、窒化膜等
の透明薄膜１０上にＡｎやＴａ等の不透明薄膜１）によ
シ回折格子パタンを形成したもの、後者は反射形で、ウ
エノ・８の表面を段差状にエツチングすることによシ回
折格子パタンを形成したものである。
あり、同図中）に示すように前者は透過形で、窒化膜等
の透明薄膜１０上にＡｎやＴａ等の不透明薄膜１）によ
シ回折格子パタンを形成したもの、後者は反射形で、ウ
エノ・８の表面を段差状にエツチングすることによシ回
折格子パタンを形成したものである。
これらマスクマーク５およびウエノ・マーク９によシ回
折された光のうち、入射光に対して対称的な方向に回折
された＋１次回折光と一１次回折光のみを光電変換器１
２．１３で受け、各回折光強度Ｉ＋、ｌ Ｌｌを光電変
換し、その減算強度△工＝工＋１−ニー１の変化を検出
することによって位置合せを行なう。すなわち、との減
算強度Δ工は、回折格子のピッチＰを周期として同じ波
形を繰り返し、２つの回折格子がぴったり一致した時（
相対位置ずれ量ｄ；０）と、２つの回折格子の相対位置
２にかかわらず零になる。したがって、通常△■が零に
なるように微調ステークＴを移動させて位置合せを行な
っている。一方、ギャップの設定は、マスク周辺に作製
した容量形ギャップセンサ１４を用いてギャップを測定
することによシ行なっている。
折された光のうち、入射光に対して対称的な方向に回折
された＋１次回折光と一１次回折光のみを光電変換器１
２．１３で受け、各回折光強度Ｉ＋、ｌ Ｌｌを光電変
換し、その減算強度△工＝工＋１−ニー１の変化を検出
することによって位置合せを行なう。すなわち、との減
算強度Δ工は、回折格子のピッチＰを周期として同じ波
形を繰り返し、２つの回折格子がぴったり一致した時（
相対位置ずれ量ｄ；０）と、２つの回折格子の相対位置
２にかかわらず零になる。したがって、通常△■が零に
なるように微調ステークＴを移動させて位置合せを行な
っている。一方、ギャップの設定は、マスク周辺に作製
した容量形ギャップセンサ１４を用いてギャップを測定
することによシ行なっている。
ところが、この相対位置ずれ量ｄに対するΔ工の変化曲
線は、ギャップ２が微小変動することにより大きく変化
する。例えば、第５図は波長λ＝０．６３２８４ｍ、ピ
ッチＰ ＝ １．１μｍの場合について位置ずれ量ｄに
対する減算強度Δ工の変化を示したものであるが、同図
（４）に示したギャップＺ ＝ ２０．０μｍの場合に
対し、同図俤）のＺ ＝ ２０．０５μｍの場合の曲線
は山や谷を多く含み、しかも多点で零点を横切る。この
ため位置合せ制御はむずかしく、高精度を保証できない
。高精度位置合せのためには、Ｚ＝２０．０２μｍの条
件の６１曲線を用いればよいが、このためにはギャップ
をきわめて正確に設定し、しかも変動をきわめて小さく
抑えなければならない。また、マスク周辺でギャップ測
定を行なっているところから、ウェハもしくはマスクの
平面度が悪い場合には、ギャップセンサ１４によシその
位置のギャップを正確に設定してもマスク・ウニへ両マ
ーク間のギャップは必ずしも適正値に設定できない欠点
があった。
線は、ギャップ２が微小変動することにより大きく変化
する。例えば、第５図は波長λ＝０．６３２８４ｍ、ピ
ッチＰ ＝ １．１μｍの場合について位置ずれ量ｄに
対する減算強度Δ工の変化を示したものであるが、同図
（４）に示したギャップＺ ＝ ２０．０μｍの場合に
対し、同図俤）のＺ ＝ ２０．０５μｍの場合の曲線
は山や谷を多く含み、しかも多点で零点を横切る。この
ため位置合せ制御はむずかしく、高精度を保証できない
。高精度位置合せのためには、Ｚ＝２０．０２μｍの条
件の６１曲線を用いればよいが、このためにはギャップ
をきわめて正確に設定し、しかも変動をきわめて小さく
抑えなければならない。また、マスク周辺でギャップ測
定を行なっているところから、ウェハもしくはマスクの
平面度が悪い場合には、ギャップセンサ１４によシその
位置のギャップを正確に設定してもマスク・ウニへ両マ
ーク間のギャップは必ずしも適正値に設定できない欠点
があった。
このような問題点を解決するため、本発明は、位置ずれ
検出用マークの近傍にギャップ検出専用マークを設け、
かつマスク等光入射側の第１の物体に設ける位置ずれ検
出用回折格子のピッチＰに対し、ウェハ等第２の物体に
設ける回折格子のピッチを整数倍にしてギャップおよび
位置合せ制御を行なうものである。
検出用マークの近傍にギャップ検出専用マークを設け、
かつマスク等光入射側の第１の物体に設ける位置ずれ検
出用回折格子のピッチＰに対し、ウェハ等第２の物体に
設ける回折格子のピッチを整数倍にしてギャップおよび
位置合せ制御を行なうものである。
ギャップ検出専用マークを設けることによシ位置および
ギャップの検出信号が完全に分離され、しかも両マーク
は近接して配置されるため位置ずれ検出用マーク間のギ
ャップが適正値に設定され、高精度のギャップ・位置合
せ制御が行なえる。特に、位置ずれ検出用に整数倍ピッ
チの回折格子マークを用いることによシ、ギャップ変動
による位置ずれ検出信号への影響をきわめて小さくする
ことができ、制御がきわめて容易となる。
ギャップの検出信号が完全に分離され、しかも両マーク
は近接して配置されるため位置ずれ検出用マーク間のギ
ャップが適正値に設定され、高精度のギャップ・位置合
せ制御が行なえる。特に、位置ずれ検出用に整数倍ピッ
チの回折格子マークを用いることによシ、ギャップ変動
による位置ずれ検出信号への影響をきわめて小さくする
ことができ、制御がきわめて容易となる。
第１図は本発明の一実施例を示す斜視図である。
図中、マスク４、ウェハ８は第４図に示したものと同様
であるが、本実施例では、位置ずれ検出用の回折格子か
らなるマスクマーク５Ａおよびウェハマーク９人の他に
、もう１組、ギャップ検出専用のマスクマーク５Ｂおよ
びウェハマーク９Ｂが設けである。２組のマークは、相
互いに近接しているため、第１図に示したレーザ光源１
から発しミラー２で方向を変えられてマスク４に照射す
るレーザビーム２１の同一スポット内に配置することが
できる。したがってギャップ検出用に新たな検出機構系
は必要とせず、かつレーザビームは１本でよいため光学
系も簡単に構成できる。同様に２組のマークが近接して
設けられることから、位置ずれ検出点におけるギャップ
値はギャップ検出！ 点におけるギャップ値に
ほぼ等しくなる。したがって、マスク４やウェハ８の平
面度が悪い場合でも、ギャップ値を、波形が単純で振幅
の大きい最適な位置ずれ検出信号が得られる適正な値に
容易に設定することができる。なお、位置ずれ検出用マ
ークとギャップ検出用マークとの近接によって互いの回
折光２２．２３と２４．２５とが干渉するおそれがある
場合には、図示のように、両マスクマーク５Ａ、５Ｂの
回折格子を互いに直角に配置する。これによシ、位置ず
れ検出信号とギャップ検出信号とは完全に分離される。
であるが、本実施例では、位置ずれ検出用の回折格子か
らなるマスクマーク５Ａおよびウェハマーク９人の他に
、もう１組、ギャップ検出専用のマスクマーク５Ｂおよ
びウェハマーク９Ｂが設けである。２組のマークは、相
互いに近接しているため、第１図に示したレーザ光源１
から発しミラー２で方向を変えられてマスク４に照射す
るレーザビーム２１の同一スポット内に配置することが
できる。したがってギャップ検出用に新たな検出機構系
は必要とせず、かつレーザビームは１本でよいため光学
系も簡単に構成できる。同様に２組のマークが近接して
設けられることから、位置ずれ検出点におけるギャップ
値はギャップ検出！ 点におけるギャップ値に
ほぼ等しくなる。したがって、マスク４やウェハ８の平
面度が悪い場合でも、ギャップ値を、波形が単純で振幅
の大きい最適な位置ずれ検出信号が得られる適正な値に
容易に設定することができる。なお、位置ずれ検出用マ
ークとギャップ検出用マークとの近接によって互いの回
折光２２．２３と２４．２５とが干渉するおそれがある
場合には、図示のように、両マスクマーク５Ａ、５Ｂの
回折格子を互いに直角に配置する。これによシ、位置ず
れ検出信号とギャップ検出信号とは完全に分離される。
ここで、位置ずれ検出用回折格子マークは、第２図に示
すように、マスクマーク５ＡのピッチＰに対し、ウェハ
マーク９Ａのピッチを２倍にしである。このような倍ピ
ツチ化によって、特開昭５６−６１６０８に示されるよ
うに、ウェハマーク９Ａからの反射回折光は、破線で示
す角度θの回折光３１゜となシ、マスク裏面で反射回折
される角度θの回折光３３．３４と干渉しないため、ギ
ャップ変動による位置ずれ検出信号への影響はきわめて
小さくなる。第３図は、波長λ＝０．６３２８μｍのレ
ーザ光を用い、マスクマーク５ＡのピッチＰを３μｍ１
ウエハマーク９Ａのピッチを６μｍとして、ギャップ２
を１３３μｍから２１．３μｍｔで変化させた際の、＋
１次回折光強度ｒ＋ｔから一１次回折光強度Ｉ−。
すように、マスクマーク５ＡのピッチＰに対し、ウェハ
マーク９Ａのピッチを２倍にしである。このような倍ピ
ツチ化によって、特開昭５６−６１６０８に示されるよ
うに、ウェハマーク９Ａからの反射回折光は、破線で示
す角度θの回折光３１゜となシ、マスク裏面で反射回折
される角度θの回折光３３．３４と干渉しないため、ギ
ャップ変動による位置ずれ検出信号への影響はきわめて
小さくなる。第３図は、波長λ＝０．６３２８μｍのレ
ーザ光を用い、マスクマーク５ＡのピッチＰを３μｍ１
ウエハマーク９Ａのピッチを６μｍとして、ギャップ２
を１３３μｍから２１．３μｍｔで変化させた際の、＋
１次回折光強度ｒ＋ｔから一１次回折光強度Ｉ−。
を減算した位置ずれ検出信号△Ｉの変化を示すもので、
それぞれのギャップ値２をそのときのＭ＝置ずれ量ｄは
１区間１μｍのスケールで示し、ΔＩは検出器の出力と
してポル） （Ｖ）で示しである。
それぞれのギャップ値２をそのときのＭ＝置ずれ量ｄは
１区間１μｍのスケールで示し、ΔＩは検出器の出力と
してポル） （Ｖ）で示しである。
同図から明らかなように、ギャップ２に応じて波形が決
まシ、シたがってギャップ検出用マークを用いてギャッ
プ２を適当な値に設定した後、位置ずれ検出信号ΔＩが
例えば零または極大もしくは極小等となるように第１図
に示した微調ステージ７を移動させることによシ、位置
合せが行なえす る。特に、Ｍ＝に＋Ｈ（ｋは自然数）を満たすギャップ
値付近、すなわち図示の例ではＭ ＝ １．３６〜１．
５０付近では、位置ずれ検出信号△工は三角波に近い単
純な波形となシ、振幅も大きくなる。また、ギャップの
変動２μｍに対する信号波形の変化もきわめて小さく、
容易に高精度な位置合せが行なえる。
まシ、シたがってギャップ検出用マークを用いてギャッ
プ２を適当な値に設定した後、位置ずれ検出信号ΔＩが
例えば零または極大もしくは極小等となるように第１図
に示した微調ステージ７を移動させることによシ、位置
合せが行なえす る。特に、Ｍ＝に＋Ｈ（ｋは自然数）を満たすギャップ
値付近、すなわち図示の例ではＭ ＝ １．３６〜１．
５０付近では、位置ずれ検出信号△工は三角波に近い単
純な波形となシ、振幅も大きくなる。また、ギャップの
変動２μｍに対する信号波形の変化もきわめて小さく、
容易に高精度な位置合せが行なえる。
一方、ギャップ検出用のマークは、マスクマーク５Ｂが
マスクマーク５Ａと同様透過形で透明薄膜上に不透明薄
膜によυ回折格子パタンを形成したものであるのに対し
、ウェハマーク９Ｂはウェハ８上に形成した無反射薄膜
の一部を除去して形成した反射面である。
マスクマーク５Ａと同様透過形で透明薄膜上に不透明薄
膜によυ回折格子パタンを形成したものであるのに対し
、ウェハマーク９Ｂはウェハ８上に形成した無反射薄膜
の一部を除去して形成した反射面である。
したがって、このギャップ検出用マークを用い、昭和５
９年年度様学会春季大会学術講演会講演論文集（１９８
４） ｐ９３３に紹介されている方法によシ、ギャップ
を上述したＭの範囲となるギャップ値Ｚ。
９年年度様学会春季大会学術講演会講演論文集（１９８
４） ｐ９３３に紹介されている方法によシ、ギャップ
を上述したＭの範囲となるギャップ値Ｚ。
に設定した後、位置ずれ検出信号△■が零になるように
制御すれば、第３図から明らかなように、マスクとウェ
ハを相対位置ずれ量がｄ＝ｏもしくは旦となる位置に容
易に位置合せできる。この時、ギャップ検出用マスクマ
ーク５Ｂの回折格子のビておけば、ギャップ検出信号が
最大になるギャップ値に制御することによって、容易に
ギャップ値ｚｏに設定することができる。
制御すれば、第３図から明らかなように、マスクとウェ
ハを相対位置ずれ量がｄ＝ｏもしくは旦となる位置に容
易に位置合せできる。この時、ギャップ検出用マスクマ
ーク５Ｂの回折格子のビておけば、ギャップ検出信号が
最大になるギャップ値に制御することによって、容易に
ギャップ値ｚｏに設定することができる。
以上、位置ずれ検出用に、ウェハ側の回折格子ピッチを
マスク側の回折格子ピッチＰの２倍とした回折格子マー
クを用いた例について説明したが、２倍に限らず、前者
のピッチを後者のピッチＰの整数倍、例えば３倍、４倍
等とした場合にもほぼ同様の効果が得られる。
マスク側の回折格子ピッチＰの２倍とした回折格子マー
クを用いた例について説明したが、２倍に限らず、前者
のピッチを後者のピッチＰの整数倍、例えば３倍、４倍
等とした場合にもほぼ同様の効果が得られる。
また、入射光としてレーザ光（コヒーレント光）を用い
た場合についてのみ説明したが、準単色光を用いてもほ
ぼ同様の結果が得られる。
た場合についてのみ説明したが、準単色光を用いてもほ
ぼ同様の結果が得られる。
以上説明したように、本発明によれば、位置ずれ検出用
回折格子マークに近接して、ギャップ検出専用のマーク
を設けたことによシ、位置ずれ検出信号とギャップ検出
信号とが完全に分離でき、位置すれとギャップとを独立
して制御できることから制御方法が簡単となる。また、
２組のマークは近接して配置されるので、同一のレーザ
スポット内に入れることができ、シたがってレーザビー
ムは１本でよく、光学系を簡単に構成できるとともに、
第１の物体としてのマスクや第２の物体としての平面度
が悪い場合にも、両回折格子が近接しているので最良の
位置ずれ検出信号の得られるギャップ値に容易に設定で
きる利点がある。特に、位置ずれ検出用の回折格子マー
クを、マスクマークに対しウェハマーク側の回折格子ピ
ッチが整数倍となるように構成したことによシ、ウェハ
マークからの反射回折光とマスク裏面での反射回折光と
の干渉が避けられるため、ギャップ変動による位置ずれ
検出信号への影響をきわめて小さくすることができ、高
精度のギャップ・位置合せ制御を高速で行なうことがで
きる。
回折格子マークに近接して、ギャップ検出専用のマーク
を設けたことによシ、位置ずれ検出信号とギャップ検出
信号とが完全に分離でき、位置すれとギャップとを独立
して制御できることから制御方法が簡単となる。また、
２組のマークは近接して配置されるので、同一のレーザ
スポット内に入れることができ、シたがってレーザビー
ムは１本でよく、光学系を簡単に構成できるとともに、
第１の物体としてのマスクや第２の物体としての平面度
が悪い場合にも、両回折格子が近接しているので最良の
位置ずれ検出信号の得られるギャップ値に容易に設定で
きる利点がある。特に、位置ずれ検出用の回折格子マー
クを、マスクマークに対しウェハマーク側の回折格子ピ
ッチが整数倍となるように構成したことによシ、ウェハ
マークからの反射回折光とマスク裏面での反射回折光と
の干渉が避けられるため、ギャップ変動による位置ずれ
検出信号への影響をきわめて小さくすることができ、高
精度のギャップ・位置合せ制御を高速で行なうことがで
きる。
第１図は本発明の一実施例を示す斜視図、第２図は位置
ずれ検出用回折格子マークを示す詳細図、第３図はギャ
ップ変化に対する位置ずれ検出信号の変化を示す図、第
４図（４）は従来の２重回折格子を利用した位置合せ装
置を示す構成図、同図（Ｂ）は位置合せ用回折格子マー
クを示す詳細図、第５図は位置ずれ検出信号の一例を示
す図である。 １・・・・レーザ光源、４・・・・マスク（第１の物体
）、５Ａ・・・・第１の回折格子からなる位置ずれ検出
用のマスクマーク、５Ｂ・・・・第３の回折格子からな
るギャップ検出用のマスクマーク、８・・・・ウェハ（
第２の物体）、９Ａ・・・・第２の回折格子からなる位
置ずれ検出用ノウエバマーク、９Ｂ−−・・反射面から
なるギャップ検出用のウェハマーク、１２．１３・・・
・光電変換器、１０・・・・透明薄膜、１）・・・・不
透明薄膜、２１・・・嗜し−ザスボッ）、２２゜２３・
・・・位置ずれ検出用マークによる回折光、２４．２５
−―φ・ギャップ検出用マークによる回折光、３１〜３
４・・・・回折光。
ずれ検出用回折格子マークを示す詳細図、第３図はギャ
ップ変化に対する位置ずれ検出信号の変化を示す図、第
４図（４）は従来の２重回折格子を利用した位置合せ装
置を示す構成図、同図（Ｂ）は位置合せ用回折格子マー
クを示す詳細図、第５図は位置ずれ検出信号の一例を示
す図である。 １・・・・レーザ光源、４・・・・マスク（第１の物体
）、５Ａ・・・・第１の回折格子からなる位置ずれ検出
用のマスクマーク、５Ｂ・・・・第３の回折格子からな
るギャップ検出用のマスクマーク、８・・・・ウェハ（
第２の物体）、９Ａ・・・・第２の回折格子からなる位
置ずれ検出用ノウエバマーク、９Ｂ−−・・反射面から
なるギャップ検出用のウェハマーク、１２．１３・・・
・光電変換器、１０・・・・透明薄膜、１）・・・・不
透明薄膜、２１・・・嗜し−ザスボッ）、２２゜２３・
・・・位置ずれ検出用マークによる回折光、２４．２５
−―φ・ギャップ検出用マークによる回折光、３１〜３
４・・・・回折光。
Claims (2)
- （１）第１の物体に設けた第１の回折格子と、第２の物
体に設けた第２の回折格子とを一定のギャップをおいて
重ね、これら第１および第２の回折格子にコヒーレント
光もしくは準単色光を入射し、両回折格子によつて生じ
た回折光の強度の変化によつて第１の物体と第２の物体
の相対変位を検出して位置合せする方法において、第１
の回折格子のピッチＰに対して第２の回折格子のピッチ
を整数倍に設定するとともに、第１の物体に設けた位置
ずれ検出用の第１の回折格子の近傍にギャップ検出用の
第３の回折格子を設け、第２の物体には位置ずれ検出用
の第２の回折格子の近傍に上記第３の回折格子に対応し
てギャップ検出用の反射面を設け、第３の回折格子にコ
ヒーレント光もしくは準単色光を入射し、第３の回折格
子および反射面でそれぞれ回折・反射された回折光の強
度信号の変化から、第１の物体と第２の物体間のギャッ
プ制御を行なうとともに、第１および第２の回折格子に
よつて入射光に対して対称的な方向に回折された同次数
の回折光強度を減算し、当該減算強度の変化によつて第
１の物体と第２の物体間の相対位置ずれ変位を検出し位
置合せ制御することを特徴とする回折格子によるギャッ
プ・位置合せ制御法。 - （２）第１の物体と第２の物体間のギャップを、入射光
の波長をλとして（ｋ＋１／２）Ｐ＾２／λ（ｋは自然
数）付近に設定して、第１の物体と第２の物体間の位置
合せ制御を行なうことを特徴とする特許請求の範囲第１
項記載の回折格子によるギャップ・位置合せ制御法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59237532A JPS61116837A (ja) | 1984-11-13 | 1984-11-13 | 回折格子によるギヤツプ・位置合せ制御法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59237532A JPS61116837A (ja) | 1984-11-13 | 1984-11-13 | 回折格子によるギヤツプ・位置合せ制御法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61116837A true JPS61116837A (ja) | 1986-06-04 |
| JPH0582729B2 JPH0582729B2 (ja) | 1993-11-22 |
Family
ID=17016727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59237532A Granted JPS61116837A (ja) | 1984-11-13 | 1984-11-13 | 回折格子によるギヤツプ・位置合せ制御法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61116837A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3719539A1 (de) * | 1986-06-11 | 1987-12-17 | Toshiba Kawasaki Kk | Verfahren zum ausrichten eines ersten und eines zweiten objekts relativ zueinander und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
| DE3719538A1 (de) * | 1986-06-11 | 1987-12-17 | Toshiba Kawasaki Kk | Verfahren und vorrichtung zum einstellen eines spalts zwischen zwei objekten auf eine vorbestimmte groesse |
| DE4106987A1 (de) * | 1990-03-05 | 1991-09-12 | Toshiba Kawasaki Kk | Verfahren und vorrichtung zum einstellen des spaltabstands zwischen zwei objekten auf eine vorbestimmte groesse |
| JPH09508463A (ja) * | 1994-01-24 | 1997-08-26 | エスヴィージー リトグラフィー システムズ インコーポレイテッド | 格子−格子干渉型位置合わせ装置 |
-
1984
- 1984-11-13 JP JP59237532A patent/JPS61116837A/ja active Granted
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3719539A1 (de) * | 1986-06-11 | 1987-12-17 | Toshiba Kawasaki Kk | Verfahren zum ausrichten eines ersten und eines zweiten objekts relativ zueinander und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
| DE3719538A1 (de) * | 1986-06-11 | 1987-12-17 | Toshiba Kawasaki Kk | Verfahren und vorrichtung zum einstellen eines spalts zwischen zwei objekten auf eine vorbestimmte groesse |
| US4838693A (en) * | 1986-06-11 | 1989-06-13 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method and apparatus for setting a gap between first and second objects to a predetermined distance |
| US4848911A (en) * | 1986-06-11 | 1989-07-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method for aligning first and second objects, relative to each other, and apparatus for practicing this method |
| DE4106987A1 (de) * | 1990-03-05 | 1991-09-12 | Toshiba Kawasaki Kk | Verfahren und vorrichtung zum einstellen des spaltabstands zwischen zwei objekten auf eine vorbestimmte groesse |
| JPH09508463A (ja) * | 1994-01-24 | 1997-08-26 | エスヴィージー リトグラフィー システムズ インコーポレイテッド | 格子−格子干渉型位置合わせ装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0582729B2 (ja) | 1993-11-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |