JPS61108904A - 光学的干渉測定装置 - Google Patents
光学的干渉測定装置Info
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- JPS61108904A JPS61108904A JP60130939A JP13093985A JPS61108904A JP S61108904 A JPS61108904 A JP S61108904A JP 60130939 A JP60130939 A JP 60130939A JP 13093985 A JP13093985 A JP 13093985A JP S61108904 A JPS61108904 A JP S61108904A
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- Japan
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- light
- plane
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- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02015—Interferometers characterised by the beam path configuration
- G01B9/02017—Interferometers characterised by the beam path configuration with multiple interactions between the target object and light beams, e.g. beam reflections occurring from different locations
- G01B9/02021—Interferometers characterised by the beam path configuration with multiple interactions between the target object and light beams, e.g. beam reflections occurring from different locations contacting different faces of object, e.g. opposite faces
-
- G—PHYSICS
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- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
- G01B11/303—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces using photoelectric detection means
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
次の順序で本発明を説明する。
Ａ、産業上の利用分野
Ｂ］開示の概要
Ｃ０従来技術
り０発明が解決しようとする問題点
Ｅ０問題点を解決するための手段
Ｆ、実施例
ｆｌ、第１の実施例
ｆ２．第２の実施例
Ｇ０発明の効果
Ａ、産業上の利用分野
この発明は、平面状の対象物の厚さの偏差を干渉的に測
定するための装置に関するものである。
定するための装置に関するものである。
この発明の好適な適用分野は集積回路の製造と高密度磁
気ディスクである。
気ディスクである。
Ｂ。開示の概要
図面を参照すると、例えば不透明のウェーハである。平
面状の対象物６がその表面全体に亘って干渉装置（第１
図）中で厚さの誤差を測定される。
面状の対象物６がその表面全体に亘って干渉装置（第１
図）中で厚さの誤差を測定される。
第１図においては、対象物６の表面と裏面上の対称的な
対向点がそれぞれ同一の光ビーム１０により感知される
。レーザー・ビーム３は（例えば格子４である）ビーム
・スプリッタに斜めの角度で入射して基準ビーム３ａと
測定ビーム３ｂに分かれる。測定ビーム３ｂは第１の平
面鏡５ａによりサンプル６の表面に導かれ、そこから再
び平面鏡５ａへと反射され、ブレーズ（ｂｌａｚｅ）格
子７へ到達する。ブレーズ格子７は光ビームを対称的に
平面鏡５ｂへ屈曲する。こうしてサンプル６の裏面は、
サンプル６の裏面の点に入射した同一の光ビームが、そ
の点に厳密に対向するサンプル６の裏面の点にも入射す
るように同一の入射角で照射される。裏面で反射したビ
ームは、平面１５ｂでさらに反射した後、基準ビームと
同一の方向に沿ってビーム・スプリッタ４を通過し、こ
うしてスクリーン８上に干渉パターン８が形成される。
対向点がそれぞれ同一の光ビーム１０により感知される
。レーザー・ビーム３は（例えば格子４である）ビーム
・スプリッタに斜めの角度で入射して基準ビーム３ａと
測定ビーム３ｂに分かれる。測定ビーム３ｂは第１の平
面鏡５ａによりサンプル６の表面に導かれ、そこから再
び平面鏡５ａへと反射され、ブレーズ（ｂｌａｚｅ）格
子７へ到達する。ブレーズ格子７は光ビームを対称的に
平面鏡５ｂへ屈曲する。こうしてサンプル６の裏面は、
サンプル６の裏面の点に入射した同一の光ビームが、そ
の点に厳密に対向するサンプル６の裏面の点にも入射す
るように同一の入射角で照射される。裏面で反射したビ
ームは、平面１５ｂでさらに反射した後、基準ビームと
同一の方向に沿ってビーム・スプリッタ４を通過し、こ
うしてスクリーン８上に干渉パターン８が形成される。
この干渉パターン中の縞の間隔がサンプル６の局所的な
厚さをあられし、それは電子的に、またはパターン修復
法によってλ／２００の精度で厚さを読み取るように数
値化できる。本発明の第２の実施例によれば、ビームを
屈曲するためにブレーズ格子７のかわりに屈曲用の鏡が
使用される。
厚さをあられし、それは電子的に、またはパターン修復
法によってλ／２００の精度で厚さを読み取るように数
値化できる。本発明の第２の実施例によれば、ビームを
屈曲するためにブレーズ格子７のかわりに屈曲用の鏡が
使用される。
Ｃ０従来技術
今日の、μｍの範囲の精度をもつ製造技術においては、
基板の厚さを同一の許容度に制御することが要求される
。その特定の例としてはフォトリソグラフィの分野があ
り、その場合、例えばチャックなどの支持体上に、きわ
めて高い平面度をもつウェーハを厳密に平行に取り付け
なくてはならない。すなわち、ウェーハの厚さの１μｍ
程度の偏差ですら許容できない重ね合わせの誤差、つま
り歩どまりの低減につながりかねない。これと同じ問題
は、高解像度光プリンタの焦点深度が限定されているこ
とによっても生じ得る。
基板の厚さを同一の許容度に制御することが要求される
。その特定の例としてはフォトリソグラフィの分野があ
り、その場合、例えばチャックなどの支持体上に、きわ
めて高い平面度をもつウェーハを厳密に平行に取り付け
なくてはならない。すなわち、ウェーハの厚さの１μｍ
程度の偏差ですら許容できない重ね合わせの誤差、つま
り歩どまりの低減につながりかねない。これと同じ問題
は、高解像度光プリンタの焦点深度が限定されているこ
とによっても生じ得る。
基板の厚さを測定するための１つの周知の方法は１機械
的なスタイラスまたは、誘導性あるいは容量性プローブ
を用いることであるが、これらは平面上の選択された特
定の点またはラインに沿って測定あるいは走査するもの
であるため、平面全体の完全な厚さの分布を得ることが
できない。さらに、その平面をプローブにより損傷する
虞れもある。
的なスタイラスまたは、誘導性あるいは容量性プローブ
を用いることであるが、これらは平面上の選択された特
定の点またはラインに沿って測定あるいは走査するもの
であるため、平面全体の完全な厚さの分布を得ることが
できない。さらに、その平面をプローブにより損傷する
虞れもある。
反射基板は、通常の光入射による干渉装置中で厚さの偏
差を測定することができる。このために、基板は１例え
ばチャックなどの基準面に固く装着またはクランプされ
る。しかしこの方法は、傷つきやすい基板には適用でき
ない。基板がチャックにより損傷される虞れがあるから
である。
差を測定することができる。このために、基板は１例え
ばチャックなどの基準面に固く装着またはクランプされ
る。しかしこの方法は、傷つきやすい基板には適用でき
ない。基板がチャックにより損傷される虞れがあるから
である。
Ｄ１発明が解決しようとする問題点
この発明の目的は、基板に接触することなく、その全面
の厚さの分布を正確に測定できる装置を提供することに
ある。
の厚さの分布を正確に測定できる装置を提供することに
ある。
Ｅ０問題点を解決するための手段
この発明によれば、各光ビームが基準ビームと干渉する
前に基板の平面と裏面の厳密に対向する点でそれぞれ反
射されるような干渉装置が与えられる。拡散的に反射す
る基板は、十分に大きな入射角を選択することにより測
定することができる。
前に基板の平面と裏面の厳密に対向する点でそれぞれ反
射されるような干渉装置が与えられる。拡散的に反射す
る基板は、十分に大きな入射角を選択することにより測
定することができる。
もし、得られた干渉パターンを周知の電子的手段により
数値化するならばλ／２００のオーダーのきわめて高い
解像度が得られる。この干渉装置自体は比較的簡単な設
計構造であり、製造ラインに出入りするすべての基板を
迅速にスフリーリングするために容易に使用することが
できる。
数値化するならばλ／２００のオーダーのきわめて高い
解像度が得られる。この干渉装置自体は比較的簡単な設
計構造であり、製造ラインに出入りするすべての基板を
迅速にスフリーリングするために容易に使用することが
できる。
Ｆ、実施例
ｆｌ、第１の実施例
第１図は、本発明の第１図の実施例に係る光学的装置の
概要図である。第１の実施例ではブレーズ格子が使用さ
れている。レーザー１の出力ビームは結合レンズ系２で
拡大されて照準されたビーム３となり、このビーム３は
ビーム・スプリッタ４によって、基準ビームの役目を果
たす第１の部分ビーム３ａと、測定ビーム３ｂとに分離
される。
概要図である。第１の実施例ではブレーズ格子が使用さ
れている。レーザー１の出力ビームは結合レンズ系２で
拡大されて照準されたビーム３となり、このビーム３は
ビーム・スプリッタ４によって、基準ビームの役目を果
たす第１の部分ビーム３ａと、測定ビーム３ｂとに分離
される。
このビーム・スプリッタは半反射ガラス・プレートまた
は光格子でよい。測定すべき対象物６は、平面度がλ／
２０よりもよい平面鏡５ａ、５ｂの間に配置される。測
定ビーム３ｂの入射角αは、ビームが１ｌ１５ａに反射
されブレーズ格子７に到達する箇所でサンプル６の上面
（全体）をビームが照射するように選択されている。こ
の格子７のブレーズ角は、測定ビームを平面鏡５ｂ及び
対象物６の裏面に対して対称的に折曲するように選択さ
れている。次に測定ビームは鏡５ｂで再び反射されてビ
ーム・スプリッタ４を通過し、基準ビーム３ａと協働し
てスクリーン８上に干渉パターンを形成する。テレビ・
カメラ９はこのパターンを撮映し、このパターンは、例
えばディジタル化の後。
は光格子でよい。測定すべき対象物６は、平面度がλ／
２０よりもよい平面鏡５ａ、５ｂの間に配置される。測
定ビーム３ｂの入射角αは、ビームが１ｌ１５ａに反射
されブレーズ格子７に到達する箇所でサンプル６の上面
（全体）をビームが照射するように選択されている。こ
の格子７のブレーズ角は、測定ビームを平面鏡５ｂ及び
対象物６の裏面に対して対称的に折曲するように選択さ
れている。次に測定ビームは鏡５ｂで再び反射されてビ
ーム・スプリッタ４を通過し、基準ビーム３ａと協働し
てスクリーン８上に干渉パターンを形成する。テレビ・
カメラ９はこのパターンを撮映し、このパターンは、例
えばディジタル化の後。
処理され電子的に数値化される。
参照符号１ｏは対象物の上面６の点１１で反射された測
定ビーム３中の単一のビームを示している。ブレーズ格
子７によるビームの折曲により、このビームが、点１１
と厳密に対向する対象物６の裏面上の点１２を探査する
ことが保証される。
定ビーム３中の単一のビームを示している。ブレーズ格
子７によるビームの折曲により、このビームが、点１１
と厳密に対向する対象物６の裏面上の点１２を探査する
ことが保証される。
ビーム１０の、対応する基準ビーム１０ａとの光路差は
、点１１と点１２の間の距離ｄにのみ依存し、これによ
り干渉パターンがサンプルの厚さにより完全に決定され
る。
、点１１と点１２の間の距離ｄにのみ依存し、これによ
り干渉パターンがサンプルの厚さにより完全に決定され
る。
入射角α、鏡５ａ、５ｂの距離り及びブレーズ格子７の
屈曲角は互いに関連しており、そのためサンプル６の反
射特性に応じて選択しなくてはならない。例えば、粗面
の場合、鏡面反射を得るためにはａが７５°よりも大き
い値を有していなく隔Ｘは次の式で与えられる： δ＝λ／ （２Ｘ ｃｏｓα） この干渉パターンは視覚的にも評価できるし、周知の画
像処理装置によれば一層正確に数値比できる。もし現在
のハイブリッド干渉装置のように、干渉パターンのディ
ジタル演算を望むなら、平面鏡５ａ、５ｂのうち一方を
垂直方向に移動させるか、またはブレーズ格子７を水平
方向に移動させる必要がある。
屈曲角は互いに関連しており、そのためサンプル６の反
射特性に応じて選択しなくてはならない。例えば、粗面
の場合、鏡面反射を得るためにはａが７５°よりも大き
い値を有していなく隔Ｘは次の式で与えられる： δ＝λ／ （２Ｘ ｃｏｓα） この干渉パターンは視覚的にも評価できるし、周知の画
像処理装置によれば一層正確に数値比できる。もし現在
のハイブリッド干渉装置のように、干渉パターンのディ
ジタル演算を望むなら、平面鏡５ａ、５ｂのうち一方を
垂直方向に移動させるか、またはブレーズ格子７を水平
方向に移動させる必要がある。
ブレーズ格子７は、感光性プレートを、照準した２つの
ビームの干渉場に配置するようにした周知のホログラフ
方法により製造することができる。
ビームの干渉場に配置するようにした周知のホログラフ
方法により製造することができる。
この干渉場は、基準ビームとは逆方向の第２のビームが
照光のため使用され、サンプル６が高精度平行プレート
で置きかえられるときにも第１図の装置に形成される。
照光のため使用され、サンプル６が高精度平行プレート
で置きかえられるときにも第１図の装置に形成される。
そのようなホログラフ格子は入力光を９０％程度の効率
で所望の出力方向に回折する。
で所望の出力方向に回折する。
本発明の厚さ干渉測定装置はわずかに歪みまたは屈曲し
たサンプルにも適用できる。このことは。
たサンプルにも適用できる。このことは。
ビーム２０が鏡５ａ、５ｂの間でサンプルの表裏のほぼ
対向する点に入射している第２図から見てとれよう。し
かし、この装置では、サンプル表面の平行度と平面度に
ついては測定することができない。というのは、この装
置は、表裏面の対向点間の垂直距離ｄ以外には感知しな
いからである。
対向する点に入射している第２図から見てとれよう。し
かし、この装置では、サンプル表面の平行度と平面度に
ついては測定することができない。というのは、この装
置は、表裏面の対向点間の垂直距離ｄ以外には感知しな
いからである。
ｆ２．他の実施例
第３図は、ブレーズ格子７を、ヒンジ３１により揺動可
能に連結された平面状の鏡３０ａ、３０ｂをもつ折りた
たみ可能な鏡で置き換えてなる他の実施例を示す図であ
る。半頂角βをもつ折曲可能な鏡３０ａ、３０ｂの２等
分線は、サンプル６とともに干渉装置中の対称平面をな
す。入射角αと、平面鏡５ａ、５ｂ間の距離り、対称平
面内のサンプル６の位置と、折曲された鏡の半頂角βは
相互に関連し、各光ビームが厳密にサンプル表裏面の対
向点に入射するように選択する必要がある。
能に連結された平面状の鏡３０ａ、３０ｂをもつ折りた
たみ可能な鏡で置き換えてなる他の実施例を示す図であ
る。半頂角βをもつ折曲可能な鏡３０ａ、３０ｂの２等
分線は、サンプル６とともに干渉装置中の対称平面をな
す。入射角αと、平面鏡５ａ、５ｂ間の距離り、対称平
面内のサンプル６の位置と、折曲された鏡の半頂角βは
相互に関連し、各光ビームが厳密にサンプル表裏面の対
向点に入射するように選択する必要がある。
角度αはまた測定の解像度を決定するので、この実施例
はさまざまなサンプルの特性及び解像度に容易に適用で
きる。第４図は、入射角αを拡げた場合の例である。第
１の実施例で入射角αを変更するためには、異なる格子
定数をもつブレーズ格子を使用する必要がある。
はさまざまなサンプルの特性及び解像度に容易に適用で
きる。第４図は、入射角αを拡げた場合の例である。第
１の実施例で入射角αを変更するためには、異なる格子
定数をもつブレーズ格子を使用する必要がある。
第３図のビーム経路は、辺縁ビーム３２ａ、３２ｂの一
方を追跡することにより説明される。入射ビームはビー
ム・スプリッタにより基準ビーム３２ａと測定ビーム３
２ｂとに分けられる。測定ビーム３２ｂは鏡５ａで先ず
先反した後にサンプル６の上面に入射する。サンプル上
で反射したビーム３２ｃは点３４で鏡３０ａに入射し、
鏡５ａ、５ｂの対称平面との垂直方向に進んで鏡３０ｂ
で反射された後、そこからサンプルの点３６に到達する
。点３６から拡散する光は平面鏡５ｂで反射しビーム３
２ｇとして、同一方向に進行するビーム３２ａと干渉す
る。
方を追跡することにより説明される。入射ビームはビー
ム・スプリッタにより基準ビーム３２ａと測定ビーム３
２ｂとに分けられる。測定ビーム３２ｂは鏡５ａで先ず
先反した後にサンプル６の上面に入射する。サンプル上
で反射したビーム３２ｃは点３４で鏡３０ａに入射し、
鏡５ａ、５ｂの対称平面との垂直方向に進んで鏡３０ｂ
で反射された後、そこからサンプルの点３６に到達する
。点３６から拡散する光は平面鏡５ｂで反射しビーム３
２ｇとして、同一方向に進行するビーム３２ａと干渉す
る。
この干渉パターンの数値比は、周知のパターン認識シス
テムまたは電子的位相感知処理によって実行される。尚
、電子的位相感知処理の場合、平面鏡５ａ、５ｂは周期
的に変化される。
テムまたは電子的位相感知処理によって実行される。尚
、電子的位相感知処理の場合、平面鏡５ａ、５ｂは周期
的に変化される。
Ｇ１発明の効果
以上のように、この発明の装置によれば、一対の平行な
平面鏡の間に対象物を配置し、同一のビームが対象物の
表裏の対応する点にそれぞれ入射するようにビームを案
内し、このビームと基準ビームの干渉を解析することに
より対象物の厚さを測定するようにしたので、対象物に
接触することなく、Ｓ単に且つ迅速に対象物の全面の厚
さが測定できる、という効果が得られる。
平面鏡の間に対象物を配置し、同一のビームが対象物の
表裏の対応する点にそれぞれ入射するようにビームを案
内し、このビームと基準ビームの干渉を解析することに
より対象物の厚さを測定するようにしたので、対象物に
接触することなく、Ｓ単に且つ迅速に対象物の全面の厚
さが測定できる、という効果が得られる。
第１図は、本発明の、ブレーズ格子をもつ第１の実施例
の概要図、 第２図は、対象物が屈曲している場合の光路を示す図、 第３図は、折りたたみ可能な鏡を用ｂ）だ第２の実施例
の概要図、 第４図は、折りたたみ可能な鏡を拡げた場合の図である
。 １・・・・光源、４・・・・ビーム・スプリッタ、５ａ
、５ｂ・・・・平面鏡、６・・・・対象物、７・・・・
ブレーズ格子、９・・・・テレビ・カメラ、３０ａ、３
ｂ・・・・折りたたみ可能な鏡。 出願人 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ
・コーポレーション 代理人 弁理士 山 本 仁 朗（外１名） 獲１の支流例 第１ｒｉＡ 第２図 第３図 他の実施イ列
の概要図、 第２図は、対象物が屈曲している場合の光路を示す図、 第３図は、折りたたみ可能な鏡を用ｂ）だ第２の実施例
の概要図、 第４図は、折りたたみ可能な鏡を拡げた場合の図である
。 １・・・・光源、４・・・・ビーム・スプリッタ、５ａ
、５ｂ・・・・平面鏡、６・・・・対象物、７・・・・
ブレーズ格子、９・・・・テレビ・カメラ、３０ａ、３
ｂ・・・・折りたたみ可能な鏡。 出願人 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ
・コーポレーション 代理人 弁理士 山 本 仁 朗（外１名） 獲１の支流例 第１ｒｉＡ 第２図 第３図 他の実施イ列
Claims (3)
- （１）（ａ）表裏面をもつ対象物を間に配置するための
一対の平行な平面鏡と、 （ｂ）光源と、 （ｃ）上記光源からの光を基準光と、上記平面鏡の間に
入射する光とに分けるためのビーム・スプリッタと、 （ｄ）上記平面鏡から上記対象物の一方の面に入射し反
射した光を、上記対象物の他方の面の対向箇所に入射す
るように屈曲するための手段と、（ｅ）上記他方の面か
ら反射した光と上記基準光との干渉を測定するための手
段、 とを具備する光学的干渉測定装置。 - （２）上記屈曲するための手段がブレーズ格子である特
許請求の範囲第（１）項に記載の光学的干渉測定装置。 - （３）上記屈曲するための手段が折りたたみ可能な鏡で
ある特許請求の範囲第（１）項に記載の光学的測定装置
。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP84113059.4 | 1984-10-31 | ||
| EP84113059A EP0179935B1 (en) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | Interferometric thickness analyzer and measuring method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61108904A true JPS61108904A (ja) | 1986-05-27 |
| JPH043806B2 JPH043806B2 (ja) | 1992-01-24 |
Family
ID=8192252
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60130939A Granted JPS61108904A (ja) | 1984-10-31 | 1985-06-18 | 光学的干渉測定装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4653922A (ja) |
| EP (1) | EP0179935B1 (ja) |
| JP (1) | JPS61108904A (ja) |
| DE (1) | DE3471368D1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003522939A (ja) * | 2000-01-25 | 2003-07-29 | ザイゴ コーポレーション | 精密工業部品の形状および幾何学的寸法を測定するための光学系 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US4747683A (en) * | 1986-01-17 | 1988-05-31 | Eye Research Institute Of Retina Foundation | Method and device for in vivo wetting determinations |
| US5654798A (en) * | 1995-01-19 | 1997-08-05 | Tropel Corporation | Interferometric measurement of surfaces with diffractive optics at grazing incidence |
| DE19602445A1 (de) * | 1996-01-24 | 1997-07-31 | Nanopro Luftlager Produktions | Vorrichtung und Verfahren zum Vermessen von zwei einander gegenüberliegenden Oberflächen eines Körpers |
| US5719676A (en) * | 1996-04-12 | 1998-02-17 | Tropel Corporation | Diffraction management for grazing incidence interferometer |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| FR1562548A (ja) * | 1967-05-05 | 1969-04-04 | ||
| NL7404593A (en) * | 1974-04-04 | 1975-10-07 | Stichting Reactor Centrum | System with laser interferometer measuring relative positions - compares object beam with reference reflected from opposite sides of object |
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1984
- 1984-10-31 EP EP84113059A patent/EP0179935B1/en not_active Expired
- 1984-10-31 DE DE8484113059T patent/DE3471368D1/de not_active Expired
-
1985
- 1985-03-08 US US06/709,862 patent/US4653922A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-06-18 JP JP60130939A patent/JPS61108904A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003522939A (ja) * | 2000-01-25 | 2003-07-29 | ザイゴ コーポレーション | 精密工業部品の形状および幾何学的寸法を測定するための光学系 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3471368D1 (en) | 1988-06-23 |
| JPH043806B2 (ja) | 1992-01-24 |
| EP0179935A1 (en) | 1986-05-07 |
| US4653922A (en) | 1987-03-31 |
| EP0179935B1 (en) | 1988-05-18 |
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