DE2803466A1 - Optisches ebenheitsmessverfahren - Google Patents

Optisches ebenheitsmessverfahren

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DE2803466A1
DE2803466A1 DE19782803466 DE2803466A DE2803466A1 DE 2803466 A1 DE2803466 A1 DE 2803466A1 DE 19782803466 DE19782803466 DE 19782803466 DE 2803466 A DE2803466 A DE 2803466A DE 2803466 A1 DE2803466 A1 DE 2803466A1
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optical
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optical plane
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Erhard Dipl Ing Debler
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/30Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
    • G01B11/306Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces for measuring evenness

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Description

  • Optisches Ebenheitsmeßverfahren
  • Die Erfindung dient der berührungslosen Erfassung der Ebenheitsabweichungen optischer Planflächen.
  • Nach J. Flügge (Einführung in die Messung optischer Grundgrößen, Karlsruhe 1954, S. 64) kommen für die berührungslose Messung der Ebenheitsabweichungen optischer Planflächen ausschließlich Interferenzmethoden in Frage, wenn die Ebenheitsabweichungen mit hoher Genauigkeit bestimmt werden sollen.
  • Interferentielle Verfahren haben jedoch Nachteile: Sie benötigen, wie z.B. das Fizeau-Interferometer, eine Vergleichsfläche mit bekannten Ebenheitsabweichungen. Die Abweichungen dieser Vergleichsfläche sind mit einem weiteren Ebenheitsnormal zu bestimmen. Dazu eignet sich ein Quecksilberspiegel, der nur in horizontaler Lage benutzbar ist. Zur Abbildung der Interferenzstreifen sind entweder Linsen zu verwenden, deren Durchmesser ebenso groß sein muß wie der der zu messenden optischen Planfläche, oder es sind die Meßgenauigkeit beeinträchtigende Anschlußmessungen erforderlich. Nach dem Fotografieren und Entwickeln der Interferenzstreifen wird ihre Position von einem Mikroskop und einem Kreuztisch erfaßt. Die gewonnenen Meßwerte ermöglichen es, eine Topografie der optischen Planfläche zu erstellen. Dabei sind Verzeichnungen der abbildenden Optik zu berücksichtigen. Um scharfe, gut auswertbare Streifen zu gewinnen, bedarf es eines geringen Abstandes zwischen der optischen Planfläche und der Vergleichsfläche. Daher ist es notwendig, den Prüfling auszubauen und in das Interferometer einzulegen.
  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren, das die Ebenheitsabweichungen optischer Planflächen berührungslos erfat und gegenüber interferentiellen Verfahren Vorteile aufweist.
  • Das Verfahren nach der Erfindung beruht auf einem parallelen Meßstrahl, der längs einer oder mehrerer sich kreuzender Spuren über die optische Planfläche verschoben wird und dessen Richtungsänderungen vor und nach der Reflexion in Abhängigkeit von der Position in x- und y-Richtung erfaßt und nach bekannten Verfahren integriert werden. Eine gesonderte Erfassung der Richtungsänderungen des Meßstrahls vor der Reflexion an der optischen Planfläche entfällt, wenn der Meßstrahl beim Versetzen längs einer Spur relativ zur gesamten optischen Planfläche keinen Drehbewegungen unterworfen ist; sie entfällt auch, wenn der MeP,strahl über eine Hilfsfläche geleitet wird, die starr mit der optischen Planfläche verbunden ist. Diese Hilfsfläche kann Teil der optischen Planfläche selbst sein. Im Unterschied zu den Vergleichsflächen der interferentiellen Verfahren spielen ihre Ebenheitsabweichungen keine Rolle, da der Meßstrahl immer auf den gleichen Ausschnitt der llilfsfläche trifft und somit keine durch Unebenheiten verursachte Richtungsänderungen erfährt. Dieses Kennzeichen gilt - mit Ausnahme der optischen Planfläche - für alle reflektierenden und brechenden Flächen.
  • Das Umlenken des Meßstrahls um Winkel konstanter Größe erfolgt unabhängig von Drehfehlern der Linearführung mit Winkel spiegeln und Winkelprismen, z.B. Pentagonprismen, die den MeEstrahl zweimal reflektieren, sowie dispersionsarmen Prismen, die symmetrisch durchstrahlt werden.
  • Um kurze und durch Luftschlieren wenig gestörte Strahlwege zu erhalten, läßt man den Meßstrahl senkrecht auf die optische Planfläche einfallen.
  • Ein schräger Strahleinfall ist angebracht, wenn die optische Planfläche schwach reflektierend ist, wie das bei unverspiegelten und vergüteten Glasoberflächen der Fall ist. Eei Einsatz einer Flilfsfläche erlauben Polarisationsteilerschichten und x/4-Verzögerungsplatten einen senkrechten Strahleinfall. Im Gesichtsfeld des fotoelektrischen Autokollimationsfernrohres störende Doppelbilder werden durch Abdecken eliminiert.
  • Die Wirkungsweise des Verfahrens nach der Erfindung wird anhand der Figuren, die einige Ausführunqsbeispiele zeigen, erläutert.
  • Figur 1 zeigt das fotoelektrische Autokollimationsfernrohr 1, das einen parallelen Meßstrahl 3 aussendet, der von einer Blende 2 in seinem fluerschnitt eingeengt und über ein Pentagonprisma 4 auf die optische Planfläche 5 geleitet wird. Bei Verschiebungen des Pentagonprismas 4 mit Hilfe einer Linearflihrung 6 ändert sich die Richtung des reflektieren Meßstrahls 3 ausschließlich aufgrund der unterschiedlichen Steigungen der optischen Planfläche längs einer Spur.
  • Ebenheitsabweichungen der spiegelnden Flächen des Pentagonprismas wirken sich nicht aus, wenn die Verschieberichtung parallel zur optischen Hauptachse verläuft. Genausowenig wirken sich durch Führungsfehler verursachte Winkel bewegungen aus, da Winkel prismen die Eigenschaft aufweisen, daß die Strahlumlenkung gegenüber derartigen Fehlern invariant ist.
  • In Figur 2 bewirkt ein brechendes Prisma 7 die Strahlablenkung. Bei symmetrischem Strahlengang erreicht die Ablenkung ein Minimum und reagiert nicht auf durch Führungsfehler verursachte Drehungen.
  • Brechende Prismen werden vorteilhaft zur Ablenkung um kleinere Winkel benutzt - wie in Figur 3 -, um einen schrägen Einfallswinkel zu erzielen, bei dem häufig ein höherer Reflexionsgrad als bei senkrechtem Einfallswinkel vorliegt. Der reflektierte Meßstrahl wird dann z.B.
  • mit einem Winkel spiegel 8 in das fotoelektrische Autokollimationsfernrohr zurückgeleitet.
  • Zwei mit der Linearführung verbundene brechende Prismen 7 erlauben es, anstelle eines fotoelektrischen Autokollimationsfernrohres einen Kollimator 9 und ein fotoelektrisches Zielfernrohr 10 gemäB Figur 4 zu verwenden.
  • Den in den Figuren 1 bis 4 dargestellten Beispielen ist gemeinsam, dag sich das fotoelektrische Autokollimationsfernrohr 1 bzw. der Kollimator 9 in Verbindung mit dem fotoelektrischen Zielfernrohr 10 gegenüber der optischen Planfläche 5 während der Verschiebung des MeR-strahls 3 längs einer Spur nicht verdrehen dürfen, was durch Schraffur angedeutet ist. Derartige Drehungen können durch elastische Verformungen, die bei der Bewegung der Linearführung 6 z.B. durch Gewichtsverlagerung verursacht werden, auftreten. Diese Gefahr ist besonders gegeben, wenn der Meßstrahl, bevor er die optische Planfläche erreicht, mehrfach umgelenkt wird, um ein Abtasten in mehreren, zueinander gekreuzten Spuren zu erzielen. Abhilfe schaffen Anordnungen, bei denen die Anzeige des Interferometers nicht von Drehungen des fotoelektrischen Autokollimationsfernrohres abhängt, Figuren 5 bis 8.
  • Die Figuren 5 und 6 enthalten einen Hilfsspiegel 11, der fest mit der optischen Planfläche 5 verbunden ist. Ein Anordnung nach Figur 5 lenkt den Meßstrahl 3 schräg auf die optische Planfläche 5. Der senkrechte Strahleinfall nach Figur 6 wird mit Hilfe der Polarisationsteilerschichten 12, der Prismen 13 und der x/4-verzögerungsplatte 14 erzielt.
  • Die Figuren 7 und 8 zeigen Lösungen, die die optische Planfläche 5 selbst als Hilfsfläche benutzen, wiederum für schrägen und senkrechten Strahleinfall. Auch hier geschieht die Strahiführunn bei senkrechtem Einfall mit den Polarisationsteilerschichten 12, die sich in den Teilerwürfeln 15 befinden, und einer x/4-Verzögerungsplatte 14.
  • Während nach Figur 7 der Meßstrahl 3 über die volle Spurlänge der optischen Planfläche 5 verschoben werden kann, treten nach Figur 8 Überschneidungen auf. Einschränkungen hinsichtlich der erfaßbaren Spurlängen lassen sich aufheben, wenn die beiden Pentagonprismen 4 mittels zweier Linearführungen 6 unabhängig voneinander verschoben werden.
  • Die Anordnungen der Figuren 5 bis 8 führen im fotoelektrischen Autokollimationsfernrohr zu zwei Bildern. Eines ist innerhalb des Gerätes abzudecken, damit die Auswerteelektronik eindeutige Signale erhält.
  • Das Verfahren nach der Erfindung besitzt wesentliche Vorteile gegenüber interferentiellen Verfahren. Prinzipbedingt ist es leicht zu handhaben und zu automatisieren. Nicht einmal bei großen optischen Planflächen treten Schwierigkeiten auf. Die Anpassung des Verschiebeweges des Meßstrahls an den Durchmesser der optischen Planfläche ist unproblematisch. Weiterhin ist es vorteilhaft, daß die optische Planfläche eine beliebige Lage einnehmen darf. Sie braucht nicht, wie es bei der Verwendung eines Quecksilberspiegels notwendig ist, horizontal angeordnet zu werden. Somit sind optische Planflächen in ihrer Einbaulage meßbar.
  • Es kommt einer Messung im Einbauzustand zugute, daß der Abstand der den Meßstrahl verschiebenden optischen Bauteile von der Planfläche im Gegensatz zur oben genannten Vergleichsfläche des Fizeau-Interferometers groß sein darf.
  • Verqleiche mit interferometrischen Pressungen haben gezeigt, daß das Verfahren nach der Erfindung Ebenheitsabweichungen von x/50 ( *- 0,01 µm) über eine teeRstrecke von 120 mm sicher zu erfassen in der Lage ist.
  • Leerseite

Claims (8)

  1. Patentansprüche ~~.)Optisches Ebenheitsp.ePverfahren zum berührunqslosen Bestimmen der Ebenheitsabweichungen optischer Planflächen mit Hilfe eines von einem Kollimator oder fotoelektrischen Autokollimationsfernrohr ausgesandten Rleßstrahis, dadurch gekennzeichnet, dar der Rleßstrahl senkrecht oder schräg auf Ausschnitte der zu messenden optischen Planfläche fällt, daß er längs einer oder mehrerer sich kreuzender Spuren auf der optischen Planfläche verschoben wird, daß er gegenüber Bauelementen, die ihn - mit Ausnahme der zu messenden optischen Planfläche - reflektieren oder brechen, keine Versetzungen erfährt und daß seine Pvichtungsänderungen in Abhängigkeit von der Position erfaßt und integriert werden.
  2. 2. Optisches Ebenheitsmeßverfahren nach Anspruch 1, dadurch nekennzeichnet, daß der Meßstrahl während der Verschiebung längs einer Spur in immer gleicher Richtung auf die optische Planfläche geleitet und ausschliePlich parallel versetzt wird.
  3. 3. Optisches Ebenheitsmeverfahren nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine Hilfsfläche, die von einem Ausschnitt der optischen Planfläche selbst gebildet wird oder von einem Spiegel, der, während der hleRstrahl die optische Planfläche längs einer Spur abtastet, starr mit der optischen Planfläche verbunden ist.
  4. 4. Optisches Ebenheitsmeßverfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß zur Erzeugung eines parallel versetzbaren rleßstrahls das fotoelektrische Autokollimationsfernrohr oder der Kollimator und das fotoelektrische Zielfernrohr starr mit der zu messenden optischen Planfläche verbunden sind.
  5. 5. Optisches Ebenheitsmeßverfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß zur Erzeugung eines versetzbaren Meßstrahls eine Linearführung benutzt wird.
  6. 6. Optisches Ebenheitsmeßverfahren nach mindestens einem der Ansprtiche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß Winkel spiegel oder spiegelnde Prismen den Meßstrahl um einen Winkel konstanter Größe ablenken.
  7. 7. Optisches Ebenheitsmeßverfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß dispersionsarme Prismen, die symmetrisch durchstrahlt werden, den Meßstrahl um Winkel konstanter Größe ablenken.
  8. 8. Optisches Ebenheitsmeßverfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß bei Einsatz einer Hilfsfläche zur Erzielung eines senkrechten Einfalls des Fleßstrahls auf die optische Planfläche Polarisationsteilerschichten und z/4-Verzngerungsplatten verwendet werden.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0179935A1 (de) * 1984-10-31 1986-05-07 Ibm Deutschland Gmbh Interferometrischer Dickenanalysierer und Messmethode
DE3509512A1 (de) * 1985-03-16 1986-09-18 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 8000 München Vorrichtung zur interferometrischen pruefung der optischen homogenitaet von transparenten plattenfoermigen werkstuecken
CN101975562A (zh) * 2010-10-26 2011-02-16 西安昂科光电有限公司 一种测量光波阵列面或光学反射面表面平坦度的方法
CN102003950A (zh) * 2010-10-26 2011-04-06 西安昂科光电有限公司 一种测量光波阵列面或光学反射面表面平坦度的装置及其测量方法

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