JPS60180118A - 回折格子による位置合せ装置 - Google Patents
回折格子による位置合せ装置Info
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- JPS60180118A JPS60180118A JP59034451A JP3445184A JPS60180118A JP S60180118 A JPS60180118 A JP S60180118A JP 59034451 A JP59034451 A JP 59034451A JP 3445184 A JP3445184 A JP 3445184A JP S60180118 A JPS60180118 A JP S60180118A
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- diffraction grating
- light
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7049—Technique, e.g. interferometric
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は半導体ＩＣ＋ＬＳＩを製造するだめの露光装置
やバタン評価装置に利用される２物体間の相対位置と相
対ギャップを高精度に検出する位置合せ装置に関するも
のである。
やバタン評価装置に利用される２物体間の相対位置と相
対ギャップを高精度に検出する位置合せ装置に関するも
のである。
従来、半導体ＩＣ−？ＬＳＩを製造するだめのＸ線露光
装置には、マスクとウェハ間のギャップを高精度に設定
することが要求され、その方法として２重回折格子によ
る方法が開発された。
装置には、マスクとウェハ間のギャップを高精度に設定
することが要求され、その方法として２重回折格子によ
る方法が開発された。
第１図（４）、（Ｂ）に、このような２重回折格子を用
いて位置合せする装置の一例を示す。図におりて、レー
ザ光源１から発したコヒーレント光は、ミラー２で方向
を変えられ、真空吸着ホルダ３によって保持されるマス
ク４の上に作製されたマスクマーク５に入射、通過後、
移動テーブル６上に保持されるウェハＴに作製されたウ
エノ１マーク８で反射され、再度マスクマーク５を通過
する。
いて位置合せする装置の一例を示す。図におりて、レー
ザ光源１から発したコヒーレント光は、ミラー２で方向
を変えられ、真空吸着ホルダ３によって保持されるマス
ク４の上に作製されたマスクマーク５に入射、通過後、
移動テーブル６上に保持されるウェハＴに作製されたウ
エノ１マーク８で反射され、再度マスクマーク５を通過
する。
ここで、マスクマーク５．ウェハマーク８はいずれも回
折格子を構成し、第１図（ｂ）に拡大して示すように前
者は透過形で、マスク４を構成する透明基板もしくは透
明薄膜９の上に不透明薄膜１０によって回折格子パタン
を形成したもの、後者は反射形でウェハ７の上に無反射
薄膜１１により回折格子バタンを形成したものである。
折格子を構成し、第１図（ｂ）に拡大して示すように前
者は透過形で、マスク４を構成する透明基板もしくは透
明薄膜９の上に不透明薄膜１０によって回折格子パタン
を形成したもの、後者は反射形でウェハ７の上に無反射
薄膜１１により回折格子バタンを形成したものである。
これらマスクマーク５およびウェハマーク８により回折
された光は、入射光に対してθ−８刊のみ強くなり、そ
れらはｍの値によってｍ次の回折光と呼ばれている。な
お、λは光の波長、Ｐは回折格子のピッチである。
された光は、入射光に対してθ−８刊のみ強くなり、そ
れらはｍの値によってｍ次の回折光と呼ばれている。な
お、λは光の波長、Ｐは回折格子のピッチである。
そこで、これらの回折光のうち入射光に対して対称的彦
方向に回折された同次数の回折光、例えば十１次回折光
と一１次回折光のみを光電変換器１２．１３で受け、各
回折光強度Ｉ＋１ 、Ｉ−１を光電変換し、その減算強
度ΔＩ ＝ｉ＋１−Ｉ−，の変化を信号処理制御部１４
において検出することによって位置合せを行なうことが
できる。すなわち、この減算強度Δｌは、回折格子のピ
ッチＰを周期として同じ波形を繰返し、２つの回折格子
がぴったり一致したとき（位置ずれ量ｄ−０）と、２つ
の回折格子の相対位置ずれ蓋ｄがＰ／２のとき、マスク
４とウェハ１間のギャップ２にかかわらず零になる。し
たがって、通常Δ■が苓になるように移動テーブル６を
移動させて位置合わせを行なっている。
方向に回折された同次数の回折光、例えば十１次回折光
と一１次回折光のみを光電変換器１２．１３で受け、各
回折光強度Ｉ＋１ 、Ｉ−１を光電変換し、その減算強
度ΔＩ ＝ｉ＋１−Ｉ−，の変化を信号処理制御部１４
において検出することによって位置合せを行なうことが
できる。すなわち、この減算強度Δｌは、回折格子のピ
ッチＰを周期として同じ波形を繰返し、２つの回折格子
がぴったり一致したとき（位置ずれ量ｄ−０）と、２つ
の回折格子の相対位置ずれ蓋ｄがＰ／２のとき、マスク
４とウェハ１間のギャップ２にかかわらず零になる。し
たがって、通常Δ■が苓になるように移動テーブル６を
移動させて位置合わせを行なっている。
ところが、この相対位置ずれｔｄに対するΔＩの変化曲
線は、第２図に示すようにギャップ２が微小変動するこ
とによって大きく変化する。すなわち第２図は波長λ＝
０．６３２８ μｒｎ ＋ピッチＰ＝４μｍ＋入射角α
−〇０（回折格子に対して垂直入射）の場合について位
置ずれ量ｄに対する減算強度Δ■の変化を示したもので
、同図（Ａ）がギャップＺ ＝ ２０．０２μｍ ＋
同図（Ｂ）がＺ ＝ ２０．０５μｍｃＤ場合を示す。
線は、第２図に示すようにギャップ２が微小変動するこ
とによって大きく変化する。すなわち第２図は波長λ＝
０．６３２８ μｒｎ ＋ピッチＰ＝４μｍ＋入射角α
−〇０（回折格子に対して垂直入射）の場合について位
置ずれ量ｄに対する減算強度Δ■の変化を示したもので
、同図（Ａ）がギャップＺ ＝ ２０．０２μｍ ＋
同図（Ｂ）がＺ ＝ ２０．０５μｍｃＤ場合を示す。
したがって、このような２重回折格子による位置合せ法
において高精度の位置合せを行なうためには、その前提
としてギャップ２を正確に設定することが必要であり、
そのために従来は第１図（Ａ）＝３− に示すようにマスク４の上に容量形ギャップセンサ１５
ｔ−設けてギャップを測定している。
において高精度の位置合せを行なうためには、その前提
としてギャップ２を正確に設定することが必要であり、
そのために従来は第１図（Ａ）＝３− に示すようにマスク４の上に容量形ギャップセンサ１５
ｔ−設けてギャップを測定している。
しかしながらこのギャップセンサ１５は、マスク４の上
にマスクマーク５０作製工程とは別工程で作製しなけれ
ばならず、しかも数關程度の大きさをもつためにマスク
マーク５と同じ場所に作製することはできず、マスク４
０周辺に作製せざるを得ない。このためマスク４もしく
はウェハ８の平面度が悪い場合には、ギャップセンサ１
５により正確にギャップを測定し設定しても、マスクマ
ーク５とウェハマーク８との間のギャップ２は必ずしも
設定値範囲に入るとは限らないという欠点があった。
にマスクマーク５０作製工程とは別工程で作製しなけれ
ばならず、しかも数關程度の大きさをもつためにマスク
マーク５と同じ場所に作製することはできず、マスク４
０周辺に作製せざるを得ない。このためマスク４もしく
はウェハ８の平面度が悪い場合には、ギャップセンサ１
５により正確にギャップを測定し設定しても、マスクマ
ーク５とウェハマーク８との間のギャップ２は必ずしも
設定値範囲に入るとは限らないという欠点があった。
そこで、最近特願昭５８−１５５０９３号にみられる位
置合せ装置が提案され７’Ｃｏこれは第３図に示すよう
にコヒーレント光を発生させるレーザ１と、入射角を変
化させた光ビームを第１の回折格子５上に照射する光学
系と、マスク４とウェハ７ｅ保持し、それらを相対的に
動かす移動テーブル６と、前記ウェハＴに形成した第２
の回折格子８からの−４− 回折光の強度変化を検出する検出光学系と、検出信号か
ら前記移動テーブル６を制御する信号を送出する信号処
理制御部１４から構成される。
置合せ装置が提案され７’Ｃｏこれは第３図に示すよう
にコヒーレント光を発生させるレーザ１と、入射角を変
化させた光ビームを第１の回折格子５上に照射する光学
系と、マスク４とウェハ７ｅ保持し、それらを相対的に
動かす移動テーブル６と、前記ウェハＴに形成した第２
の回折格子８からの−４− 回折光の強度変化を検出する検出光学系と、検出信号か
ら前記移動テーブル６を制御する信号を送出する信号処
理制御部１４から構成される。
前記レーザ１から発した光ビームは、入射角偏光ミラー
１６により偏向され、球面ミラーＩＴによって、前記第
１の回折格子５上の同一点に入射角にかかわらず照射さ
れる。照射された光ビームは、前記第１の回折格子５を
透過し、前記移動テーブル１６上に保持されている前記
ウェハ上に形成された前記第２の回折格子８上で反射し
、再度前記第１の回折格子５を透過してプラスとマイナ
スの次の回折光となる。これらの回折光はハーフミラ−
１８で反射され、集光レンズ１９ａ 、 １１１ｂによ
ってそれぞれ光電検出器１２ 、１３ＶＣ導かれ、光電
変換波前記信号処理制御部１４によって制御信号となり
、前記移動テーブル６にフィードバックされて、前記マ
スク４とウェハ７の高精度な位置合わせおよびギャップ
設定が行なわれる。
１６により偏向され、球面ミラーＩＴによって、前記第
１の回折格子５上の同一点に入射角にかかわらず照射さ
れる。照射された光ビームは、前記第１の回折格子５を
透過し、前記移動テーブル１６上に保持されている前記
ウェハ上に形成された前記第２の回折格子８上で反射し
、再度前記第１の回折格子５を透過してプラスとマイナ
スの次の回折光となる。これらの回折光はハーフミラ−
１８で反射され、集光レンズ１９ａ 、 １１１ｂによ
ってそれぞれ光電検出器１２ 、１３ＶＣ導かれ、光電
変換波前記信号処理制御部１４によって制御信号となり
、前記移動テーブル６にフィードバックされて、前記マ
スク４とウェハ７の高精度な位置合わせおよびギャップ
設定が行なわれる。
ここで、光ビーム照射光学系は球面ミラー１Ｔの直径上
の２点に光ビームの入射角偏向ミー）−１６と第１の回
折格子５を配置することによって、照射位置を変えずに
入射角のみ変化させる方法を実現しているが、前記球面
ミラー１１と回折格子５間にはハーフミラ−１８が配置
されているので、前記球面ミラー１７を回折格子５に接
近させることができず、入射角変動幅を十分大きくする
ためには大球面レンズが必要てあった。しかし、大形で
且つ高精度の球面ミラーは製作が極めて困難であり、高
価であるという欠点があった。このため通常、球面ミラ
ーの代りにレンズが使用されるが、その場合レーザビー
ムは大きく絞り込まれるので、ビーム外周部の光束は中
心部の光束に対して傾きを持つことになる。したがって
、第１の回折格子５に対して種々の入射角の光束が集合
したビームとなり、回折光強度に大きな影響を与える欠
点があった。また、回折光は第１の回折格子５から発散
するビームとなるので、入射変動幅が大きい場合、集光
レンズ１９ａ 、 １９ｂを光学系に近接して設けるか
、入射瞳の大きいレンズを用いなければならず、且つ回
折光を光電変換器１２．１３の一点に常に入射させるた
めには、回折光の光軸に対して光学系を高精度に組み上
げる必要があった。
の２点に光ビームの入射角偏向ミー）−１６と第１の回
折格子５を配置することによって、照射位置を変えずに
入射角のみ変化させる方法を実現しているが、前記球面
ミラー１１と回折格子５間にはハーフミラ−１８が配置
されているので、前記球面ミラー１７を回折格子５に接
近させることができず、入射角変動幅を十分大きくする
ためには大球面レンズが必要てあった。しかし、大形で
且つ高精度の球面ミラーは製作が極めて困難であり、高
価であるという欠点があった。このため通常、球面ミラ
ーの代りにレンズが使用されるが、その場合レーザビー
ムは大きく絞り込まれるので、ビーム外周部の光束は中
心部の光束に対して傾きを持つことになる。したがって
、第１の回折格子５に対して種々の入射角の光束が集合
したビームとなり、回折光強度に大きな影響を与える欠
点があった。また、回折光は第１の回折格子５から発散
するビームとなるので、入射変動幅が大きい場合、集光
レンズ１９ａ 、 １９ｂを光学系に近接して設けるか
、入射瞳の大きいレンズを用いなければならず、且つ回
折光を光電変換器１２．１３の一点に常に入射させるた
めには、回折光の光軸に対して光学系を高精度に組み上
げる必要があった。
本発明は上述した点に鑑みてなされたもので、その目的
は両物体間の相対位置もしくはギャップの設定を容易か
つ正確に行なって高精度な位置合わせを行ない得るよう
にした回折格子による位置合せ装置を提供することにあ
る。
は両物体間の相対位置もしくはギャップの設定を容易か
つ正確に行なって高精度な位置合わせを行ない得るよう
にした回折格子による位置合せ装置を提供することにあ
る。
このような目的を達成するために本発明は、第１の物体
に設けられた第１の回折格子と、第２の物体に設けられ
た第２の回折格子もしくは反射面と、共焦点位置に配置
された第１および第２レンズとを備え、第ルンズの物空
間焦点に光源からのコヒーレント光もしくは準単色光を
入射し、前記物空間焦点位置に前鱈己第ルンズに入射す
るビームの入射角を変化させる偏向ミラーを配置し、前
記第２レンズの像空間焦点に前記第１回折格子を配置し
て構成したものである。以下、実施例に基づいて本発明
の詳細な説明する。
に設けられた第１の回折格子と、第２の物体に設けられ
た第２の回折格子もしくは反射面と、共焦点位置に配置
された第１および第２レンズとを備え、第ルンズの物空
間焦点に光源からのコヒーレント光もしくは準単色光を
入射し、前記物空間焦点位置に前鱈己第ルンズに入射す
るビームの入射角を変化させる偏向ミラーを配置し、前
記第２レンズの像空間焦点に前記第１回折格子を配置し
て構成したものである。以下、実施例に基づいて本発明
の詳細な説明する。
一７＝
第４図囚、（Ｂ）は本発明に係る位置合せ装置の一実施
例を示す一部破断正面図および側面図、第５図はハーフ
ミラ−９集光等の配置図、第６図は第１および第２レン
ズの詳細配置図でおる。これらの図において、第３図と
同一構成部材のものに対しては同一符号を以って示し、
その説明を省略する。３０はハーフミラ−１３１は第ル
ンズ、３２は第２レンズ、３３はロータリエンコーダ、
３４は入射角偏向用駆動モータ、３５は第５図に示すよ
うにレーザビームの往き光が十字スクリーン上に作るス
ポット点Ｃと破線で示す戻り光が作るスポット点りを合
致させることによってビームの回折格子への直入射設定
を行なう直入射設定顕微鏡、３６〜３８は全反射ミラー
、３９は１／４波長板、４０は第１の回折格子５の中央
にレーザビームを照射するように調整するＸＹ微動ステ
ージである。
例を示す一部破断正面図および側面図、第５図はハーフ
ミラ−９集光等の配置図、第６図は第１および第２レン
ズの詳細配置図でおる。これらの図において、第３図と
同一構成部材のものに対しては同一符号を以って示し、
その説明を省略する。３０はハーフミラ−１３１は第ル
ンズ、３２は第２レンズ、３３はロータリエンコーダ、
３４は入射角偏向用駆動モータ、３５は第５図に示すよ
うにレーザビームの往き光が十字スクリーン上に作るス
ポット点Ｃと破線で示す戻り光が作るスポット点りを合
致させることによってビームの回折格子への直入射設定
を行なう直入射設定顕微鏡、３６〜３８は全反射ミラー
、３９は１／４波長板、４０は第１の回折格子５の中央
にレーザビームを照射するように調整するＸＹ微動ステ
ージである。
レーザ１から発したレーザビームは、該ビームのバック
トークを防止するための１／４波長板３９を通過し、全
反射ミラー３Ｔ 、３８によって反射され、第６図に示
すように共焦点位１１ニ配置され＝８− た焦点距離ｆ １＝ｆｔ’−ｆ ２ ： ｆ ２′ が
等しい第ルンズ３１および第２レンズ３２からなる光学
系に達する。前記第ルンズ３１の物空間焦点位置Ａには
、偏向角度を検出するロータリエンコータ３３の軸に取
り付けられ、入射角偏向用駆動モータ３４によってベル
ト駆動される入射角偏向ミラー１６が配置され、前記第
２レンズ３２の像空間焦点位置Ｂには、第１の回折格子
５が配置される。レーザビームは、入射角偏向ミラー１
６により、直入射設定顕微＠！３５によって直入射設定
された角度から、任意の角度に振られ、第ルンズ３１と
第２レンズ３２間においては、光軸に対して平行ビーム
となり、偏向角度と同一の角度で偏向角度にかかわらず
回折格子５の一点に常に入射する。回折格子５．８によ
って回折されたプラス・マイナス次の回折光は、第２レ
ンズ３２によって光軸に平行なビームと彦り、第５図に
示すようにハーフミラ−１Ｂで反射され、集光レンズ１
１によってそれぞれ光電検出器１２．１３の光電面の一
点に入射する。光電変換器１２．１３によって光電変換
されたプラス・マイナス次の回折光強度検出信号は、信
号処理制御部１４によって演算処理後、移動テーブル６
の制御信号として変換・送出され、マスク４とウェハＴ
の高精度位置合せが行なわれる。
トークを防止するための１／４波長板３９を通過し、全
反射ミラー３Ｔ 、３８によって反射され、第６図に示
すように共焦点位１１ニ配置され＝８− た焦点距離ｆ １＝ｆｔ’−ｆ ２ ： ｆ ２′ が
等しい第ルンズ３１および第２レンズ３２からなる光学
系に達する。前記第ルンズ３１の物空間焦点位置Ａには
、偏向角度を検出するロータリエンコータ３３の軸に取
り付けられ、入射角偏向用駆動モータ３４によってベル
ト駆動される入射角偏向ミラー１６が配置され、前記第
２レンズ３２の像空間焦点位置Ｂには、第１の回折格子
５が配置される。レーザビームは、入射角偏向ミラー１
６により、直入射設定顕微＠！３５によって直入射設定
された角度から、任意の角度に振られ、第ルンズ３１と
第２レンズ３２間においては、光軸に対して平行ビーム
となり、偏向角度と同一の角度で偏向角度にかかわらず
回折格子５の一点に常に入射する。回折格子５．８によ
って回折されたプラス・マイナス次の回折光は、第２レ
ンズ３２によって光軸に平行なビームと彦り、第５図に
示すようにハーフミラ−１Ｂで反射され、集光レンズ１
１によってそれぞれ光電検出器１２．１３の光電面の一
点に入射する。光電変換器１２．１３によって光電変換
されたプラス・マイナス次の回折光強度検出信号は、信
号処理制御部１４によって演算処理後、移動テーブル６
の制御信号として変換・送出され、マスク４とウェハＴ
の高精度位置合せが行なわれる。
上述したように、光ビーム照射光学系は、焦点距離の等
しい２枚のレンズ３１．３２で構成されるため、第６図
に示すように回折格子５に照射されるレーザビームの拡
がり角αは、入射角偏向ミラー１６上におけるレーザ反
射時のビーム拡がり角α′、すなわちレーザ出射時のビ
ーム拡がり角と等しい。したがって、ビーム外周部の光
束と中心部の光束の回折格子５への入射角はほぼ等しく
、回折光強度への影響は無視できる。以上は焦点距離の
等しい２枚のレンズを用い九例について述べたが、レー
ザ拡がり角をさらに小さくするためには、第ルンズ３１
の焦点距離に対し、第２レンズ３２の焦点距離を長くす
ることによって、また拡がり角を大きくするためには短
かくすることによって容易に行なうことができる。
しい２枚のレンズ３１．３２で構成されるため、第６図
に示すように回折格子５に照射されるレーザビームの拡
がり角αは、入射角偏向ミラー１６上におけるレーザ反
射時のビーム拡がり角α′、すなわちレーザ出射時のビ
ーム拡がり角と等しい。したがって、ビーム外周部の光
束と中心部の光束の回折格子５への入射角はほぼ等しく
、回折光強度への影響は無視できる。以上は焦点距離の
等しい２枚のレンズを用い九例について述べたが、レー
ザ拡がり角をさらに小さくするためには、第ルンズ３１
の焦点距離に対し、第２レンズ３２の焦点距離を長くす
ることによって、また拡がり角を大きくするためには短
かくすることによって容易に行なうことができる。
また、第ルンズ３１と第２レンズ３２間では、ビームは
平行となり、この間に回折光反射用ノ１−フミラー１８
を設置できるので、第２レンズ３２を回折格子５に接近
して配置でき、したがって、入射角変動幅をきわめて大
きくとることが可能になる。さらにハーフミラ−１８は
レンズ径と同等の大きさでよく、プラス・マイナス回折
光も入射角に関係なく平行ビームとして取り出すことが
できるので、集光レンズ１１の配置や、光軸に対する設
定が簡単に行たえる利点がおる。
平行となり、この間に回折光反射用ノ１−フミラー１８
を設置できるので、第２レンズ３２を回折格子５に接近
して配置でき、したがって、入射角変動幅をきわめて大
きくとることが可能になる。さらにハーフミラ−１８は
レンズ径と同等の大きさでよく、プラス・マイナス回折
光も入射角に関係なく平行ビームとして取り出すことが
できるので、集光レンズ１１の配置や、光軸に対する設
定が簡単に行たえる利点がおる。
なお、上記実施例はコヒーレント光を用φた例について
のみ説明したが、準単色光でもほぼ同様な効果が得られ
る。
のみ説明したが、準単色光でもほぼ同様な効果が得られ
る。
以上説明したように本発明に係る回折格子による位置合
せ装置は、第１の回折格子と第２の回折格子もしくは反
射面と、第１および第２レンズとを備え、これら両レン
ズを共焦点位置に配置し、第ルンズの物空間焦点位置に
核レンズに入射するビームの入射角を変化させる偏向ミ
２−を配置１１− し、第２レンズの像空間焦点に第１の回折格子４パ（ 配置して構成したので、物体間の相対位置もしく□はキ
ャップを容易にかつ正確に調整でき、高ｎ度な位置合せ
を可能にするほか、回折格子への入射角、変動幅をきわ
めて大きくでき、且つ、２枚のレンズ間のビームが平行
となることから、回折光取り出しや集光レンズ、光電変
換器の設置がきわめて容易になる利点がある。
せ装置は、第１の回折格子と第２の回折格子もしくは反
射面と、第１および第２レンズとを備え、これら両レン
ズを共焦点位置に配置し、第ルンズの物空間焦点位置に
核レンズに入射するビームの入射角を変化させる偏向ミ
２−を配置１１− し、第２レンズの像空間焦点に第１の回折格子４パ（ 配置して構成したので、物体間の相対位置もしく□はキ
ャップを容易にかつ正確に調整でき、高ｎ度な位置合せ
を可能にするほか、回折格子への入射角、変動幅をきわ
めて大きくでき、且つ、２枚のレンズ間のビームが平行
となることから、回折光取り出しや集光レンズ、光電変
換器の設置がきわめて容易になる利点がある。
第１図（４）、（Ｂ）は２重回折格子を用いた従来の位
置合せ装置の構成図およびマスク、ウェハ上に形成した
ギャップ制御用マークの拡大図、第２図（５）。 （Ｂ）はそれぞれ相対位置ずれ量に対する＋１次と−１
次回折光の減算強度Δ■の変化の一例を示す図、第３図
は従来装置の他の例を示す構成図、第４図（Ａ） 、
（Ｂ）は本発明の一実施例を示す一部破断正面図および
側面図、第５図はハーフミラ−１集光レンズ等の配置図
、第６図は第１および第２レンズの詳細配置図である。 １・・・・レーザ、３・・−・マスクホルタ−１１２− ４・・・・マスク、５・・・＠第１の回折格子、６・―
・・移動テーブル、Ｔ・・・Φウェハ、８・・Φ・第２
の回折格子または反射面、１２．１３Φ・・・光電変換
器、１４嗜−・・信号処理制御部、１６・・拳・入射角
偏向ミラー、１８．３０拳・争・ハーフミ＞−１３１・
・修・第ルンズ、３２拳−・・第２レンズ、Ａｓφ・合
物空間焦点、Ｂ争・・・像空間焦点。 特許出願人 日本電信電話公社 式 理 人 山 川 政 樹 漸輯フ Ｓ＠ゴ
置合せ装置の構成図およびマスク、ウェハ上に形成した
ギャップ制御用マークの拡大図、第２図（５）。 （Ｂ）はそれぞれ相対位置ずれ量に対する＋１次と−１
次回折光の減算強度Δ■の変化の一例を示す図、第３図
は従来装置の他の例を示す構成図、第４図（Ａ） 、
（Ｂ）は本発明の一実施例を示す一部破断正面図および
側面図、第５図はハーフミラ−１集光レンズ等の配置図
、第６図は第１および第２レンズの詳細配置図である。 １・・・・レーザ、３・・−・マスクホルタ−１１２− ４・・・・マスク、５・・・＠第１の回折格子、６・―
・・移動テーブル、Ｔ・・・Φウェハ、８・・Φ・第２
の回折格子または反射面、１２．１３Φ・・・光電変換
器、１４嗜−・・信号処理制御部、１６・・拳・入射角
偏向ミラー、１８．３０拳・争・ハーフミ＞−１３１・
・修・第ルンズ、３２拳−・・第２レンズ、Ａｓφ・合
物空間焦点、Ｂ争・・・像空間焦点。 特許出願人 日本電信電話公社 式 理 人 山 川 政 樹 漸輯フ Ｓ＠ゴ
Claims (1)
- 第１の物体に設けた第１の回折格子と第２の物体に設け
た第２の回折格子もしくは反射面を一定のギャップで重
ね合わせ、前記第１の回折格子および前記第２の回折格
子もしくは反射面にコヒーレント光もしくは準単色光を
照射した際に生じる回折光強度の変化を検出し、該検出
信号に応じて前記第１および第２の物体を相対的に移動
させる移動テーブルに制御信号を送出し、これら両物体
の相対位置もしくはギャップを所定の値に設定する位置
合せ装置において、第ルンズと第２レンズを共焦点位置
に配置し、前記第ルンズの物空間焦点に前記コヒーレン
ト光もしくは準単色光を入射し、前記物空間焦点位置に
前記第ルンズに入射するビームの入射角を変化させる偏
向ミラーを配置し、前記第２レンズの像空間焦点に前記
第１回折格子を配置したことを特徴とする回折格子によ
る位置合せ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59034451A JPS60180118A (ja) | 1984-02-27 | 1984-02-27 | 回折格子による位置合せ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59034451A JPS60180118A (ja) | 1984-02-27 | 1984-02-27 | 回折格子による位置合せ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60180118A true JPS60180118A (ja) | 1985-09-13 |
Family
ID=12414608
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59034451A Pending JPS60180118A (ja) | 1984-02-27 | 1984-02-27 | 回折格子による位置合せ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60180118A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63202509U (ja) * | 1987-06-22 | 1988-12-27 | ||
| EP0587208A1 (en) * | 1992-09-01 | 1994-03-16 | International Business Machines Corporation | Confocal method and apparatus for focusing in projection lithography |
| CN107193291A (zh) * | 2016-03-14 | 2017-09-22 | 美的集团股份有限公司 | 智能镜子的控制方法、装置、系统和智能镜子 |
-
1984
- 1984-02-27 JP JP59034451A patent/JPS60180118A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63202509U (ja) * | 1987-06-22 | 1988-12-27 | ||
| EP0587208A1 (en) * | 1992-09-01 | 1994-03-16 | International Business Machines Corporation | Confocal method and apparatus for focusing in projection lithography |
| CN107193291A (zh) * | 2016-03-14 | 2017-09-22 | 美的集团股份有限公司 | 智能镜子的控制方法、装置、系统和智能镜子 |
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