JP2698388B2

JP2698388B2 - 位置検出装置

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Publication number: JP2698388B2
Application number: JP63226003A
Authority: JP
Inventors: 繁幸須田; 直人阿部; 優和真継
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1988-09-09
Filing date: 1988-09-09
Publication date: 1998-01-19
Anticipated expiration: 2013-01-19
Also published as: JPH0274808A

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の属する技術分野〕本発明は位置検出装置に関し、例えば半導体素子製造
用の露光装置において、マスクやレチクル（以下「マス
ク」という。）等の第１物体面上に形成されている微細
な電子回路パターンをウエハ等の第２物体面上に露光転
写する際にマスクとウエハとの相対的な位置合わせ（ア
ライメント）を行う場合に好適な位置検出装置に関する
ものである。

〔従来の技術〕

従来より半導体製造用の露光装置においては、マスク
とウエハの相対的な位置合わせは性能向上を図る為の重
要な一要素となっている。特に最近の露光装置における
位置合わせにおいては、半導体素子の高集積化の為に、
例えばサブミクロン以下の位置合わせ精度を有するもの
が要求されている。

多くの位置合わせ装置においては、マスク及びウエハ
面上に位置合わせ用の所謂アライメントパターンを設
け、それらより得られる位置情報を利用して、双方のア
ライメントを行っている。このときのアライメント方法
としては、例えば双方のアライメントパターンのずれ量
を画像処理を行うことにより検出したり、又は米国特許
第4037969号や特開昭56−157033号公報で提案されてい
るようにアライメントパターンとしてゾーンプレートを
用い該ゾーンプレートに光束を照射し、ことのきゾーン
プレートから射出した光束の所定面上における集光点位
置を検出すること等により行っている。

一般にゾーンプレートを利用したアライメント方法
は、単なるアライメントパターンを用いた方法に比べて
アライメントパターンの欠損に影響されずに比較的高精
度のアライメントが出来る特長がある。

第６図はゾーンプレートを利用した従来の位置合わせ
装置の概略図である。

同図において光源72から射出した平行光束はハーフミ
ラー74を通過後、集光レンズ76で集光点78に集光された
後、マスク68面上のマスクアライメントパターン68a及
び支持台62に載置したウエハ60面上のウエハアライメン
トパターン60aを照射する。これらのアライメントパタ
ーン68a,60aは反射型のゾーンプレートより構成され、
各々集光点78を含む光軸と直交する平面上に集光点を形
成する。このときの平面上の集光点位置のずれ量を集光
レンズ76とレンズ80により検出面82上に導光して検出し
ている。

そして検出器82からの出力信号に基づいて制御回路84
により駆動回路64を駆動させてマスク68とウエハ60の相
対的な位置決めを行っている。

第７図は第６図に示したマスクアライメントパターン
68aとウエハアライメントパターン60aからの光束の結像
関係を示した説明図である。

同図において集光点78から発散した光束はマスクアラ
イメントパターン68aよりその一部の光束が回折し、集
光点78近傍にマスク位置を示す集光点78aを形成する。
又、その他の一部の光束はマスク68を０次透過光として
透過し、波面を変えずにウエハ60面上のウエハアライメ
ントパターン60aに入射する。このとき光束はウエハア
ライメントパターン60aにより回折された後、再びマス
ク68を０次透過光として透過し、集光点78近傍に集光し
ウエハ位置をあらわす集光点78bを形成する。同図にお
いてはウエハ60により回折された光束が集光点を形成す
る際には、マスク68は単なる素通し状態としての作用を
する。

このようにして形成されたウエハアライメントパター
ン60aによる集光点78bの位置は、ウエハ60のマスク68に
対するずれ量Δσに応じて集光点78を含む光軸と直交す
る平面に沿って該ずれ量Δσに対応した量のずれ量Δ
σ′として形成される。このΔσ′をセンサ上に設けた
絶対座標系を基準として測定することによりΔσを求め
ていた。

〔発明が解決しようとする問題点〕

このような方法においては、マスク面や半導体露光装
置内のマスクホルダー面等の基準面、そして露光装置の
接地面等に対してウエハ面が傾斜しているとセンサ上に
入射する光束の位置が変化し、アライメント誤差となっ
てくる。

一般にセンサ上に絶対座標系を設け、その基準原点を
設定することは他のアライメント誤差要因、例えばウエ
ハ面のそりやたわみ等を有する傾斜，レジストの塗布ム
ラによる光束の重心位置の変動，アライメント光源の発
振波長，発振出力，光束出射角の変動，センサ特性の変
動、そしてアライメントヘツド位置の繰り返しによる変
動等により、その原点の設定を高精度に行うのが大変難
しくなるという問題点があった。

本発明は前述従来例の欠点に鑑みウエハ面の傾斜等の
影響を受けず常に高精度な位置合わせを可能にする位置
検出装置の提供を目的とする。

〔問題点を解決する為の手段〕

上記目的を達成するための本発明の位置検出装置のあ
る形態は、対向配置された第１物体と第２物体との対向
方向と直交する所定方向に沿った位置関係を検出する位
置検出装置において、前記第１物体あるいは前記第２物
体の方向に光を出射する光源手段と、前記光源手段より
出射され前記第１物体及び第２物体によって回折された
第１光束を第１受光面へ入射させ、前記第１物体と前記
第２物体との前記所定方向に沿った相対位置関係の変化
に応じて変化する前記第１光束の前記第１受光面への入
射位置を検出する第１検出手段と、前記光源手段より出
射され前記第１物体及び第２物体によって回折された第
２光束を第２受光面へ入射させ、前記第１物体と前記第
２物体との前記所定方向に沿った相対位置関係の変化に
応じて前記第１光束の入射位置と逆の方向に変化する前
記第２光束の前記第２受光面への入射位置を検出する第
２検出手段と、前記第１、第２検出手段の検出結果に基
づき前記第１物体と前記第２物体との前記所定方向に沿
った位置ずれ量を検出する手段とを有することを特徴と
する。

更に、前記第１光束の入射位置と前記第２光束の入射
位置との間隔に基づいて、前記第１物体と前記第２物体
との前記所定方向に沿った位置ずれ量を検出することを
特徴とする。

特に後述する実施例では第２信号光束のウエハ面の傾
斜に対するセンサ上での入射位置移動の作用が第１信号
光束と全く等しくなるようにし、又、アライメントヘツ
ドの位置の変動に対しても第２信号光束が第１信号光束
と全く等しい入射位置移動の作用を受けるように設定
し、これにより第２信号光束と第１信号光束のセンサ上
での相対的な位置の変動が原理的にマスクとウエハとの
位置ずれのみに依存するようにし、高精度な位置合わせ
を可能としている。

〔実施例〕

本発明を更に詳細に説明する。物体面Ａに物理光学素
子としての機能を有する第１及び第２の信号用アライメ
ントマークA1及びA2を形成し、且つ、物体面Ｂにも同様
に物理光学素子としての機能を有する第１及び第２の信
号用アライメントマークB1及びB2を形成し、前記アライ
メントマークA1に光束を入射させ、この時生じる回折光
をアライメントマークB1に入射させ、アライメントマー
クB1からの回折光のセンサ面内での光束重心を第１信号
光束の入射位置として第１検出部にて検出する。

ここで光束の重心とは光束断面内において、断面内各
点のその点からの位置ベクトルにその点の光強度を乗算
したものを断面全面で積分したときに積分値が０ベクト
ルになる点のことであるが、別な例として、光強度がピ
ークとなる点の位置を検出してもよい。同様にアライメ
ントマークA2に光束を入射させ、この時生じる回折光を
アライメントマークB2に入射させアライメントマークB2
からの回折光の入射面における光束重心を第２信号光束
の入射位置として第２検出部にて検出する。そして、第
１及び第２の検出部からの２つの情報を利用して物体Ａ
と物体Ｂの位置決めを行う。この時、第１検出部に入射
する光束の重心位置と第２検出部に入射する光束の重心
位置が物体Ａと物体Ｂの位置ずれに対して互いに逆方向
に変位する様に各アライメントマークA1,A2,B1,B2を設
定している。

以下、本発明の原理及び構成要件等を第１図を用いて
説明する。図中、１は物体Ａに相当する第１の物体、２
は物体Ｂに相当する第２の物体、5,3は各々A1,B1に相当
する第１の信号光を得る為のアライメントマークであ
り、各々1,2の上に設けてある。同様に6,4は各々A2,B2
に相当する第２の信号光を得る為のアライメントマーク
であり、同じく各々1,2の上に設けてある。各アライメ
ントマーク3,4,5,6は１次元または２次元のレンズ作用
のある物理光学素子の機能を有している。7,8は前述の
第１及び第２のアライメント信号光束を示す。11,12は
各々第１及び第２の信号光束を検出する為の第１及び第
２の検出部であり、物体２からの光学的な距離を説明の
便宜上同じ値Ｌとする。更に物体１と物体２の距離を
δ，アライメントマーク５及び６の焦点距離を各々fa₁,
fa₂とし、物体１と物体２の相対位置ずれ量をεとし、
その時の第１及び第２の信号光束重心の合致状態からの
変位量を各々S₁,S₂とする。尚、物体１に入射するアラ
イメント光束は便宜上平面波とし、符合は図中に示す通
りとする。

信号光束重心の変位量S₁及びS₂はアライメントマーク
５及び６の焦点F₁,F₂とアライメントマーク3,4の光軸中
心を結ぶ直線と、検出部11及び12の受光面との交点とし
て幾何学的に求められる。従って、物体１と物体２の相
対位置ずれに対して各信号光束重心の変位量S₁,S₂を互
いに逆方向に得る為には第１図より明らかな様にアライ
メントマーク3,4の光学的な結像倍率の符合を互いに逆
とすることで達成できる。また、定量的にはと表わせ、ずれ倍率としてβ_１＝S₁/ε，β_２＝S₂/εと
定義できる。従って、ずれ倍率を逆符合とするにはを満たせば良い。この内、実用的に適切な構成条件の１
つとしてＬ≫|fa₁| fa₁/fa₂＜０ |fa₁|＞δ |fa₂|＞δ の条件がある。即ち、アライメントマーク5,6の焦点距
離fa₁,fa₂に対して検出部までの距離Ｌを大きく、且つ
物体1,2の間隔δを小さくし、更にアライメントマーク
の一方を凸レンズ、他方を凹レンズとする構成である。

第１図の上側にはアライメントマーク５で入射光束を
集光光束とし、その集光点F₁に至る前にアライメントマ
ーク３に光束を照射し、これを更に第１の検出部11に結
像させているアライメントマーク３の焦点距離f_b1はレ
ンズの式を満たす様に定められる。同様に第１図の下側にはアラ
イメントマーク６により入射光束を入射側の点であるF₂
より発散する光束に変え、これをアライメントマーク４
を介して第２の検出部12に結像させるアライメントマー
ク４の焦点距離f_b2はを満たす様に定められる。以上の構成条件でアライメン
トマーク3,アライメントマーク５の集光像に対する結像
倍率は図より明らかに正の倍率であり、物体２の移動ε
と検出部11の光点変位量S₁の方向は逆となり、先に定義
したずれ倍率β_１は負となる。同様にアライメントマー
ク６の点像（虚像）に対するアライメントマーク４の結
像倍率は負であり、物体２の移動εと検出部12上の光点
変位量S₂の方向は同方向で、ずれ倍率β_２は正となる。
従って、物体１と物体２の相対ずれεに対してアライメ
ントマーク5,3の系と6,4の系の信号光束ずれS₁,S₂は互
いに逆方向となる。

次に、いくつかの具体的な実施例の説明を図面に基づ
いて行う。

第２図は本発明の第１実施例の要部概略図である。第
１図と同様の部材は同じ符合で表している。

図中、１は第１物体で、例えばマスクである。２は第
２物体で、例えばマスク１と位置合わせされるウエハで
ある。各アライメントマーク3,4と5,6は、例えば１次元
あるいは２次元のフレネルゾールプレート等のグレーテ
イングレンズより成り、それぞれマスク１面上とウエハ
２面上のスクライブライン10,9上に設けられている。７
は第１光束、８は第２光束であり、これらの光束（信号
光束）7,8は不図示のアライメントヘツド内の光源から
出射し、所定のビーム径にコリメートされている。

本実施例において、光源の種類としては半導体レーザ
ー,H_e−N_eレーザー,A_rレーザー等のコヒーレント光束を
放射する光源や、発光ダイオード等の非コヒーレント光
束を放射する光源等である。11,12は各々第１検出部と
第２検出部としてのセンサ（光電変換素子）であり、光
束７及び８を受光する、例えば１次元CCD等より成って
いる。

本実施例では光束７及び８は各々マスク１面上のアラ
イメントマーク5,6に所定の角度で入射した後、透過回
折し、更にウエハ２面上のアライメントマーク3,4で反
射回折し、センサ11,12面上に入射している。そしてセ
ンサ11,12で該センサ面上に入射したアライメント光束
重心位置を検出し、該センサ11,12からの出力信号を利
用してマスク１とウエハ２について位置ずれ検出を行っ
ている。

次にアライメント3,4,5,6について説明する。

アライメントマーク3,4,5,6は各々異った値の焦点距
離を有するフレネルゾーンプレート（又はグレーテイン
グレンズ）より成っている。これらのマークの寸法は各
々スクライブライン９及び10の方向に50〜300μｍ、ス
クライブライン幅方向（ｙ方向）に20〜100μｍが実用
的に適当なサイズである。

本実施例においては光束７と８は、いずれもマスク１
に対して入射角約17.5゜で、マスク１面への射影成分が
スクライブライン方向（ｘ方向）に直交するように入射
している。

これらの所定角度でマスク１に入射したアライメント
光束７及び８は各々グレーテイングレンズ5,6のレンズ
作用を受けて収束、又は発散光となり、マスク１からそ
の主光線がマスク１の法線に対して所定角度になるよう
に出射している。

そして、アライメントマーク５及び６を透過回折した
光束７と８は各々ウエハ面２の鉛直下方184.7228μm,鉛
直上方188.4545μｍの点に集光点，発散原点をもつ。こ
のときのアライメントマーク５と６の焦点距離は各々21
4.7228−158.4545μｍである。又、マスク１とウエハ２
との間隔は30μｍである。第１信号光束はアライメント
マーク５で透過回折し、ウエハ２面上のアライメントマ
ーク３で凹レンズ作用を受け、第１検出部としてのセン
サ11面上の一点に集光している。このとき、センサ11面
上のへは光束がこの光束の入射位置の変動量がアライメ
ントマーク5,3のｘ方向における位置ずれ量、即ち軸ず
れ量に対応し、かつその量が拡大された状態となって入
射する。この結果、入射光束の重心位置の変動がセンサ
11で検出される。

本実施例ではマスク１とウエハ２の位置ずれが０のと
き、即ちマスク１上のアライメントマーク５とウエハ２
上のアライメントマーク３とが共軸系をなしたとき、ア
ライメント光束の主光線のウエハ２からの出射角が130
度、又、このときの出射光のウエハ２面上への射影成分
がスクライブライン幅方向（ｙ方向）と直交した所定位
置、例えばウエハ２面から18.657mmの高さに位置してい
るセンサ11面上に集光するように設定している。

又、第２信号光束はアライメントマーク６で透過回折
し、ウエハ２面上のアライメントマーク４で結像点での
スポツト位置を第１信号光束と異なる方向に移動せし
め、且つ出射角70度でこれも第１光束と異なりウエハ２
面への射影成分がスクライブライン幅方向と直交するよ
うに出射し、第２検出部としてのセンサ12面上の一点に
集光している。

以上のアライメントマークのレンズパラメータにより
物体１と物体２の相対位置ずれに対する検出部上の２つ
の信号光束重心の変位量が100倍で、且つ互いに逆方向
に設定できる。即ち、ずれ倍率β_１＝−100,β_２＝＋10
0となる。センサ11,12上に得られた光束位置にｘ方向の
移動量が、アライメントのずれ量を与える。アライメン
トのずれが０の場合の２つの光束のスポツト11a,12aの
ｘ方向の間隔Ｄをあらかじめ求めておき、それに対する
２つのスポツト11a,12aの間隔の値がＤからのずれから
ｘ方向のアライメントずれが求まる。

本発明の如く２つの信号光束を互いに逆方向に変位さ
せる構成に設定した際の効果として、物体１と物体２の
間隔δの設定精度を緩和しても、位置ずれ量を算出する
際に必要な各ずれ倍率β_１及びβ_２が２つの光路で互い
に補償関係となる点が挙げられる。即ち、前述のレンズ
パラメータに於いて、物体１と物体２の間隔δを30μｍ
から33μｍに広げた場合を例に挙げると、β_１は−100
から−101.684に、β_２は＋100から＋98.464へと変化す
る。従って、位置ずれ量を求める時に用いる総合倍率｜
β₁|＋｜β₂|は200から200.148と変化したこととなり、
割合として0.0741％の倍率変化に低減できる。これは、
１つ１つの信号が各々1.68％と1.53％の変化を生じてい
ることに対しては約1/20に抑えられていることとなり、
これは間隔設定が困難な系への応用時に於いて、直接的
には検出レンズを拡大する、あるいは検出精度を向上さ
せる効果となる。

また別の結果として、物体2,3が傾斜することに起因
する誤差を原理的に補償する点がある。

本実施例において、ウエハ面２が第２図のxz面内で1m
rad傾斜したとすると、センサ11上では第１の信号光束
７は約37.3μｍ重心移動を起こす。一方、第２信号光束
８も信号光束７との間でyz面と平行な対称面を有し、且
つ光路長の等しい光路を通るようにし、センサ12上では
信号光７と全く等しい重心移動を起こすようにしてい
る。これによりセンサ系では各々センサからの実効的重
心位置の信号の差を出力するように信号処理をすると、
ウエハ面yz面内で傾斜してもセンサ系からの出力信号は
変わらない。

一方、ウエハがyz面内で傾斜すると、２つの信号光束
7,8ともにセンサの長手方向と直交する幅方向に重心移
動を起こすが、これはセンサ上で検出する、位置ずれに
伴う光束の重心移動の方向と直交する方向なので、２光
束でなくても実効的なアライメント誤差にはならない。

更に、アライメント用光源、及び投光用レンズ系及び
センサなどを内蔵するアライメントヘツドが、マスク−
ウエハ系に対して位置の変動を起こした場合は１対１に
変化する。例えば、ヘツドをマスクに対して５μm y方
向に移動したとすると、信号光はセンサ11上で５μｍの
実効的重心移動を起こし、これに対してもセンサ12上で
全く等しく５μｍの重心移動を起こす。

従って、最終的なセンサ系からの出力、即ち、第１の
信号光の重心位置出力と第２の信号光の重心位置出力の
差信号は何ら変動しない。

又、ｚ軸方向の位置の変動は２光束なくても本質的な
アライメント誤差にはならないことがわかる。

第３図（Ａ）は実施例１をプロキシミテイ型半導体製
造装置に適用した際の装置周辺部分の構成図を示すもの
であり、第２図に示さなかったものとして光源13、コリ
メータレンズ（またはビーム径変換レンズ14）、投射光
束折り曲げミラー15,ピツクアツプ筐体16,ウエハステー
ジ17,位置ずれ信号処理部18,ウエハステージ駆動制御部
19であり、Ｅは露光光束幅を示す。この実施例において
もマスク１とウエハ２の相対位置ずれ量検出は第１の実
施例で説明したのと同様にして行われる。

尚、本実施例において位置合わせを行う手順として
は、例えば次の方法を採ることができる。

第１の方法としては２つの物体間の位置ずれ量Δσに
対するセンサ11,12の検出面上での光束重心ずれの信号
を得、信号処理部18で重心ずれ信号から双方の物体間と
の位置ずれ量Δσを求め、そのときの位置ずれ量Δσに
相当する量だけステージ駆動制御部19でウエハステージ
17を移動させる。

第２の方法としては検出器11,12からの信号から位置
ずれ量Δσを打ち消す方向を信号処理部18で求め、その
方向にステージ駆動制御部19でウエハステージ17を移動
させて位置ずれ量Δσが許容範囲内になるまで繰り返し
て行う。

以上の位置合わせ手順のフローチヤートを、それぞれ
第３図（Ｂ），（Ｃ）に示す。

図よりわかる様に光源13は露光光束の外側より光を入
射し、アライメントマーク3,4から露光光束の外側に出
射する回折光を露光光束外に設けられたセンサ11,12で
受光して位置検出を行っている。

この様な構成でピツクアツプ筐体16は露光中退避動作
を必要としない系も具現化できる。

実施例１ではずれ倍率を逆符号をする為、信号光路７
の系ではアライメントマークを凸凹レンズ系、８の系で
は凹凸レンズ系とした。この他、第４図に実施例２とし
て示す様に８の系を凸凸系としても良い。これは物体１
と物体２の間隔δが比較的大きな系に応用する際に適す
る。

実施例１では合致状態に於いて物体１上のアライメン
トマーク５及び６の中心を通る法線と信号光束７及び８
の入，出射光線が同一面内で、出射角が７゜及び13゜と
異なる値とすることで２信号光束を分離している。即
ち、合致状態のアライメントマーク３及び４からの出射
する信号光束の方向余弦を（γ_x,γ_y,γ_ｚ）とする時、
信号光束７が（0,sin7゜,cos7゜）、８が（0,−sin13
゜,cos13゜）と共にγ_ｘ＝０としている。（当然のこと
ながら非合致状態ではγ_ｘの値のみ変化する。）これ
は、受光系の瞳をアライメント方向Ｘに設定することが
困難でその直交方向Ｚに設定しやすい条件に於いて有利
な選択である。この他、合致状態に於ける前述の方向余
弦を７を（γ_x,γ_y,γ_ｚ）、８を（−γ_x,γ_y,γ_ｚ）と
する設定も可能である。即ち、実施例３として第５図に
示す様にアライメント方向Ｘに異なる出射角となる２信
号光束を得ることも可能である。これは、実施例１と逆
にアライメント方向Ｘに受光系の瞳を設定し易く、その
直交方向Ｚに設定しにくい条件に適す。また、一般に不
要光は入射光と物体の方線を含む面内に多い為、これか
ら回避する効果も得られる。

当然、実施例１と実施例３を組み合わせ２信号光束7,
8の出射方向余弦がすべて異なる条件であっても良い。
また、アライメントマーク５及び６を実施例１及び３で
はスクライブライン上アライメント方向Ｘに並べて設け
たが、これはＹ方向に並べても一般性を失わない。

本発明によれば、前述の光学的性質を有するアライメ
ントマーク２系統を各々第1,第２物体面上に設け、互い
のずれ倍率を逆符号とし各々のマークを介した光束を利
用して、例えば第１物体としてのマスクと第２物体とし
てのウエハの位置合わせを行う際、次のような効果が得
られる。

（イ）ウエハ面が傾斜するか、或はレジストの塗布むら
や、露光プロセス中に生じるそりなどのローカルな傾き
等によってアライメント光の重心位置が変動しても２つ
のアライメント信号光の相対的な重心位置検知を行うこ
とにより、ウエハ面の傾斜に左右されずに正確に位置ず
れを検出することができる。

（ロ）アライメントヘツドの位置がマスクに対して相対
的に変動した為に、アライメント信号光のセンサ上の重
心位置が変動しても２つのアライメント信号光の相対的
な重心位置検知を行うことにより、アライメントヘツド
の位置ずれに左右されずに正確にマスク−ウエハ間の位
置ずれを検出することができる。

（ハ）更にマスクとウエハ間のギヤツプが変動して、信
号光のアライメントセンサ上のアライメント検知方向の
重心位置が変動しても２つのアライメント信号光の相対
的な重心位置検知を行うことにより、ギヤツプ変動に左
右されずに正確に位置ずれを検出することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の原理及び構成要件を説明する為の原理
図、第２図は本発明の第１実施例の位置検出装置の構成図、第３図（Ａ）は第２図の位置検出装置を用いた半導体製
造装置の構成図、第３図（Ｂ），（Ｃ）は該装置における位置合わせ方法
を示すフローチヤート、第４図は本発明の第２実施例の光学系配置を示す図、第５図は本発明の第３実施例の位置検出装置の構成図、第６図，第７図は従来例の構成及び原理図である。図中、 3,4,5,6……アライメントマーク 11,12……センサ 13……光源 18……位置ずれ信号処理部である。

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】対向配置された第１物体と第２物体との対
向方向と直交する所定方向に沿った位置関係を検出する
位置検出装置において、前記第１物体あるいは前記第２物体の方向に光を出射す
る光源手段と、前記光源手段より出射され前記第１物体及び第２物体に
よって回折された第１光束を第１受光面へ入射させ、前
記第１物体と前記第２物体との前記所定方向に沿った相
対位置関係の変化に応じて変化する前記第１光束の前記
第１受光面への入射位置を検出する第１検出手段と、前記光源手段より出射され前記第１物体及び第２物体に
よって回折された第２光束を第２受光面へ入射させ、前
記第１物体と前記第２物体との前記所定方向に沿った相
対位置関係の変化に応じて前記第１光束の入射位置と逆
の方向に変化する前記第２光束の前記第２受光面への入
射位置を検出する第２検出手段と、前記第１、第２検出手段の検出結果に基づき前記第１物
体と前記第２物体との前記所定方向に沿った位置ずれ量
を検出する手段とを有することを特徴とする位置検出装置。
【請求項２】前記第１光束の入射位置と前記第２光束の
入射位置との間隔に基づいて、前記第１物体と前記第２
物体との前記所定方向に沿った位置ずれ量を検出するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の位置検出装
置。