JPH0274808A - 位置検出装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分野〕 本発明は位置検出装置に関し、例えば半導体素子製造用
の露光装置において、マスクやレチクル（以下「マスク
」という。）等の第１物体面上に形成されている微細な
電子回路パターンをウェハ等の第２物体面上に露光転写
する際にマスクとウェハとの相対的な位置合わせ（アラ
イメント）を行う場合に好適な位置検出装置に関するも
のである。

〔従来の技術〕

従来より半導体製造用の露光装置においては、マスクと
ウェハの相対的な位置合わせは性能向上を図る為の重要
な一要素となっている。特に最近の露光装置における位
置合わせにおいては、半導体素子の高集積化の為に、例
えばサブミクロン以下の位置合わせ精度を有するものが
要求されている。

多くの位置合わせ装置においては、マスク及びウェハ面
上に位置合わせ用の所謂アライメントパターンを設け、
それらより得られる位置情報を利用して、双方のアライ
メントを行っている。このときのアライメント方法とし
ては、例えば双方のアライメントパターンのずれ量を画
像処理を行うことにより検出したり、又は米国特許第４
０３７９６９号や特開昭５６−１５７０３３号公報で提
案されているようにアライメントパターンとしてゾーン
プレートを用い該ゾーンプレートに光束を照射し、こと
のきゾーンプレートから射出した光束の所定面上におけ
る集光点位置を検出すること等により行っている。

一般にゾーンプレートを利用したアライメント方法は、
単なるアライメントパターンを用いた方法に比べてアラ
イメントパターンの欠損に影響されずに比較的高精度の
アライメントが出来る特長がある。

第６図はゾーンプレートを利用した従来の位置合わせ装
置の概略図である。

同図において光源７２から射出した平行光束はノ１−フ
ミラー７４を通過後、集光レンズ７６で集光点７８に集
光された後、マスク６８面上のマスクアライメントパタ
ーン６８ａ及び支持台６２に載置したウェハ６０面上の
ウェハアライメントパターン６０ａを照射する。これら
のアライメントパターン６８ａ、　　６０ａは反射型の
ゾーンプレートより構成され、各々集光点７８を含む光
軸と直交する平面上に集光点を形成する。このときの平
面上の集光点位置のずれ量を集光レンズ７６とレンズ８
０により検出面８２上に導光して検出している。

そして検出器８２からの出力信号に基づいて制御回路８
４により駆動回路６４を駆動させてマスク６８とウェハ
６０の相対的な位置決めを行っている。

第７図は第６図に示したマスクアライメントパターン６
８ａとウェハアライメントパターン６０ａからの光束の
結像関係を示した説明図である。

同図において集光点７８から発散した光束はマスクアラ
イメントパターン６８ａよりその一部の光束が回折し、
集光点７８近傍にマスク位置を示す集光点７８ａを形成
する。又、その他の一部の光束はマスク６８を０次透過
光として透過し、波面を変えずにウェハ６０面上のウェ
ハアライメントパターン６０ａに入射する。このとき光
束はウェハアライメントパターン６０ａにより回折され
た後、再びマスク６８を０次透過光として透過し、集光
点７８近傍に集光しウェハ位置をあられす集光点７８ｂ
を形成する。

同図においてはウェハ６０により回折された光束が集光
点を形成する際には、マスク６８は単なる素通し状態と
しての作用をする。

このようにして形成されたウェハアライメントパターン
６０ａによる集光点７８ｂの位置は、ウェハ６０のマス
ク６８に対するずれ量Δσに応じて集光点７８を含む光
軸と直交する平面に沿って該ずれ量Δσに対応した量の
ずれ１Δσ′　として形成される。このΔσ′　をセン
サ上に設けた絶対座標系を基準として測定することによ
りΔσを求めていた。

〔発明が解決しようとする問題点〕

このような方法においては、マスク面や半導体露光装置
内のマスクホルダー面等の基準面、そして露光装置の接
地面等に対してウェハ面が傾斜しているとセンサ上に入
射する光束の位置が変化し、アライメント誤差となって
くる。

一般にセンサ上に絶対座標系を設け、その基準原点を設
定することは他のアライメント誤差要因、例えばウェハ
面のそりやたわみ等を有する傾斜。

レジストの塗布ムラによる光束の重心位置の変動。

アライメント光源の発振波長２発振出力、−光束出射角
の変動、センサ特性の変動、そしてアライメントヘッド
位置の繰り返しによる変動等により、その原点の設定を
高精度に行うのが大変難しくなるという問題点があった
。

本発明は前述従来例の欠点に鑑みウェハ面の傾斜等の影
響を受けず常に高精度な位置合わせを可能にする位置検
出装置の提供を目的とする。

〔問題点を解決する為の手段〕

本発明はマスク等の第１物体とウェハ等の第２物体の位
置合わせを行う際のずれ量検出の際の誤差要因を取り除
く手段として、第１信号光束としての第１光束に加え、
第２信号光束としての第２光束を新たに形成し、これら
を利用することにより、高精度な位置合わせを可能とし
ている。

特に後述する実施例では第２信号光束のウェハ面の傾斜
に対するセンサ上での入射位置移動の作用が第１信号光
束と全（等しくなるようにし、又、アライメントヘッド
の位置の変動に対しても第２信号光束が第１信号光束と
全く等しい入射位置移動の作用を受けるように設定し、
これにより第２信号光束と第１信号光束のセンサ上での
相対的な位置の変動が原理的にマスクとウェハとの位置
ずれのみに依存するようにし、高精度な位置合わせを可
能としている。

〔実施例〕

本発明を更に詳細に説明する。物体面Ａに物理光学素子
としての機能を有する第１及び第２の信号用アライメン
トマークＡＩ及びＡ２を形成し、且つ、物体面Ｂにも同
様に物理光学素子としての機能を有する第１及び第２の
信号用アライメントマークＢ１及びＢ２を形成し、前記
アライメントマークＡｔに光束を入射させ、この時生じ
る回折光をアライメントマークＢ１に入射させ、アライ
メントマークＢｌからの回折光のセンサ面内での光束重
心を第１信号光束の入射位置として第１検出部にて検出
する。

ここで光束の重心とは光束断面内において、断面円各点
のその点からの位置ベクトルにその点の光強度を乗算し
たものを断面全面で積分したときに積分値がＯベクトル
になる点のことであるが、別な例として、光強度がピー
クとなる点の位置を検出してもよい。同様にアライメン
トマークＡ２に光束を入射させ、この時生じる回折光を
アライメントマークＢ２に入射させアライメントマーク
Ｂ２からの回折光の入射面における光束重心を第２信号
光束の入射位置として第２検出部にて検出する。そして
、第１及び第２の検出部からの２つの情報を利用して物
体Ａと物体Ｂの位置決めを行う。この時、第１検出部に
入射する光束の重心位置と第２検出部に入射する光束の
重心位置が物体Ａと物体Ｂの位置ずれに対して互いに逆
方向に変位する様に各アライメントマークＡＩ、Ａ２．
Ｂｌ、Ｂ２を設定している。

以下、本発明の原理及び構成要件等を第１図を用いて説
明する。図中、１は物体Ａに相当する第１の物体、２は
物体Ｂに相当する第２の物体、５．３は各々Ａｔ、Ｂｌ
に相当する第１の信号光を得る為のアライメントマーク
であり、各々１，２の上に設けである。同様に６．４は
各々Ａ２．Ｂ２に相当する第２の信号光を得る為のアラ
イメントマークであり、同じく各々１，２の上に設けで
ある。各アライメントマーク３．４．５．６は１次元ま
たは２次元のレンズ作用のある物理光学素子の機能を有
している。

７．８は前述の第１及び第２のアライメント信号光束を
示す。１１．１２は各々第１及び第２の信号光束を検出
する為の第１及び第２の検出部であり、物体２からの光
学的な距離を説明の便宜上同じ値りとする。更に物体１
と物体２の距離をδ、アライメントマーク５及び６の焦
点距離を各々ｒｉｌｌ　ｒ、□とし、物体ｌと物体２の
相対位置ずれ量をεとし、その時の第１及び第２の信号
光束重心の合致状態からの変位量を各々Ｓ、、Ｓ２とす
る。尚、物体ｌに入射するアライメント光束は便宜上平
面波とし、符合は図中に示す通りとする。

信号光束重心の変位量Ｓ、及びＢ２はアライメントマー
ク５及び６の焦点Ｆ１＋　Ｆ２とアライメントマーク３
，４の光軸中心を結ぶ直線と、検出部１１及び１２の受
光面との交点として幾何学的に求められる。従って、物
体１と物体２の相対位置ずれに対して各信号光束重心の
変位量Ｓ、、Ｓ２を互いに逆方向に得る為には第１１図
より明らかな様にアライメントマーク３，４の光学的な
結像倍率の符合を互いに逆とすることで達成できる。ま
た、定量的にはと表わせ、ずれ倍率としてβ、＝Ｓ、／
ε、β２＝Ｓ２／εと定義できる。従って、ずれ倍率を
逆符合とするには を満たせば良い。この内、実用的に適切な構成条件の１
つとして Ｌ＞ｌｆ、、１ ｔｈ　Ｈ／　ｆｌＬ□く０ ｆａｓｌ＞δ Ｉｒａ□１〉δ の条件がある。即ち、アライメントマーク５，６の焦点
距離ｆａ！＊ｆａ□に対して検出部までの距離りを大き
く、且つ物体１，２の間隔δを小さくし、更にアライメ
ントマークの一方を凸レンズ、他方を凹レンズとする構
成である。

第１図の上側にはアライメントマーク５で入射光束を集
光光束とし、その集光点Ｆ、に至る前にアライメントマ
ーク３に光束を照射し、これを更に第１の検出部１１に
結像させているアライメントマーク３の焦点距離ｆｂｌ
はレンズの式 を満たす様に定められる。同様に第１図の下側にはアラ
イメントマーク６により入射光束を入射側の点であるＦ
２より発散する光束に変え、これをアライメントマーク
４を介して第２の検出部１２に結像させるアライメント
マーク４の焦点距離ｆｂ□はを満たす様に定められる。

以上の構成条件でアライメントマーク３．アライメント
マーク５の集光像に対する結像倍率は図より明らかに正
の倍率であり、物体２の移動εと検出部１１の光点変位
量Ｓ１の方向は逆となり、先に定義したずれ倍率β１は
負となる。同様にアライメントマーク６の点像（虚像）
に対するアライメントマーク４の結像倍率は負であり、
物体２の移動εと検出部１２上の光点変位量Ｓ２の方向
は同方向で、ずれ倍率β２は正となる。

従つて、物体１と物体２の相対ずれεに対してアライメ
ントマーク５．３の系と６，４の系の信号光束ずれＳ、
、Ｓ２は互いに逆方向となる。

次に、いくつかの具体的な実施例の説明を図面に基づい
て行う。

第２図は本発明の第１実施例の要部概略図である。

第１図と同様の部材は同じ符合で表している。

図中、ｌは第１物体で、例えばマスクである。２は第２
物体で、例えばマスク１と位置合わせされるウェハであ
る。各アライメントマーク３．４と５゜６は、例えば１
次元あるいは２次元のフレネルゾールプレート等のグレ
ーティングレンズより成り、それぞれマスク１面上とウ
ェハ２面上のスクライブライン１０，９上に設けられて
いる。７は第１光束、８は第２光束であり、これらの光
束（信号光束）７゜８は不図示のアライメントヘッド内
の光源から出射し、所定のビーム径にコリメートされて
いる。

本実施例において、光源の種類としては半導体レーザー
　Ｈｅ　　Ｎｅレーザー、Ａｒレーザー等のコヒーレン
ト光束を放射する光源や、発光グイオード等の非コヒー
レント光束を放射する光源等である。１１．　１２は各
々第１検出部と第２検出部としてのセンサ（光電変換素
子）であり、光束７及び８を受光する、例えば１次元Ｃ
ＯＤ等より成っている。

本実施例では光束７及び８は各々マスク１面上のアライ
メントマーク５，６に所定の角度で入射した後、透過回
折し、更にウェハ２面上のアライメントマーク３，４で
反射回折し、センサ１１．　１２面上に入射している。

そしてセンサ１１，１２で該センサ面上に入射したアラ
イメント光束重心位置を検出し、該センサ１１，１２か
らの出力信号を利用してマスクｌとウェハ２について位
置ずれ検出を行っている。

次にアライメントマーク３．４．５．６について説明す
る。

アライメントマーク３．　４．５．６は各々異った値の
焦点距離を有するフレネルゾーンプレート（又はグレー
ティングレンズ）より成っている。これらのマークの寸
法は各々スクライブライン９及び１０の方向に５０〜３
００μｍ、スクライブライン幅方向（Ｘ方向）に２０〜
１００μｍが実用的に適当なサイズである。

本実施例においては光束７と８は、いずれもマスク１に
対して入射角約１７．５°で、マスク１面への射影成分
がスクライブライン方向（Ｘ方向）に直交するように入
射している。

これらの所定角度でマスク１に入射したアライメント光
束７及び８は各々グレーティングレンズ５゜６のレンズ
作用を受けて収束、又は発散光となり、マスク１からそ
の主光線がマスクｌの法線に対して所定角度になるよう
に出射している。

そして、アライメントマーク５及び６を透過回折した光
束７と８は各々ウェハ面２の鉛直下方１８４゜７２２８
μｍ、鉛直上方１８８．４５４５μｍの点に集光点９発
散原点をもつ。このときのアライメントマーク５と６の
焦点距離は各々２１４．７２２８−１５８．４５４５μ
ｍである。又、マスクｌとウェハ２との間隔は３０μｍ
である。第１信号光束はアライメントマーク５で透過回
折し、ウェハ２面上のアライメントマーク３で凹レンズ
作用を受け、第１検出部としてのセンサ１１面上の一点
に集光している。このとき、センサ１１面上のへは光束
がこの光束の入射位置の変動量がアライメントマーク５
，３のＸ方向における位置ずれ量、即ち軸ずれ量に対応
し、かつその量が拡大された状態となって入射する。こ
の結果、入射光束の重心位置の変動がセンサ１１で検出
される。

本実施例ではマスクｌとウェハ２の位置ずれが０のとき
、即ちマスク１上のアライメントマーク５とウェハ２上
のアライメントマーク３とが共軸系をなしたとき、アラ
イメント光束の主光線のウェハ２からの出射角が１３０
度、又、このときの出射光のウェハ２面上への射影成分
がスクライブライン幅方向（Ｘ方向）と直交した所定位
置、例えばウェハ２面から１８．６５７ｍｍの高さに位
置しているセンサ１１面上に集光するように設定してい
る。

又、第２信号光束はアライメントマーク６で透過回折し
、ウェハ２面上のアライメントマーク４で結像点でのス
ポット位置を第１信号光束と異なる方向に移動せしめ、
且つ出射角７０度でこれも第１光束と異なりウェハ２面
への射影成分がスクライブライン幅方向と直交するよう
に出射し、第２検出部としてのセンサ１２面上の一点に
集光している。

以上のアライメントマークのレンズパラメータにより物
体ｌと物体２の相対位置ずれに対する検出部上の２つの
信号光束重心の変位量が１００倍で、且つ互いに逆方向
に設定できる。即ち、ずれ倍率β、＝−１００，β２＝
＋ｌＯＯとなる。センサ１１゜１２上に得られた光束位
置にＸ方向の移動量が、アライメントのずれ量を与える
。アライメントのずれがＯの場合の２つの光束のスポッ
トｌｌａ、　　１２ａのＸ方向の間隔りをあらかじめ求
めておき、それに対する２つのスポットｌｌａ、１２ａ
の間隔の値がＤからのずれからＸ方向のアライメントず
れが求まる。

本発明の如（２つの信号光束を互いに逆方向に変位させ
る構成に設定した際の効果として、物体ｌと物体２の間
隔δの設定精度を緩和しても、位置ずれ量を算出する際
に必要な各ずれ倍率β１及びβ２が２つの光路で互いに
補償関係となる点が挙げられる。即ち、前述のレンズパ
ラメータに於いて、物体１と物体２の間隔δを３０μｍ
から３３μｍに広げた場合を例に挙げると、β、は−１
００から−１０１，６８４に、β２は＋１００から＋９
８．４６４へと変化する。従って、位置ずれ量を求める
時に用いる総合倍率１β１１＋１β２１は２００から２
００．１４８と変化したこととなり、割合として０．０
７４１％の倍率変化に低減できる。これは、１つ１つの
信号が各々１．６８％と１．５３％の変化を生じている
ことに対しては約１／２０に抑えられていることとなり
、これは間隔設定が困難な系への応用時に於いて、直接
的には検出レンズを拡大する、あるいは検出精度を向上
させる効果となる。

また別の効果として、物体２，３が傾斜することに起因
する誤差を原理的に補償する点がある。

本実施例において、ウェハ面２が第２図のｘｚ面内で１
ｍｒａｄ傾斜したとすると、センサ１１上では第１の信
号光束７は約３７．３μｍ重心移動を起こす。

一方、第２信号光束８も信号光束７との間でｙｚ面と平
行な対称面を有し、且つ光路長の等しい光路を通るよう
にし、センサ１２上では信号光７と全（等しい重心移動
を起こすようにしている。これによりセンサ系では各々
センサからの実効的重心位置の信号の差を出力するよう
に信号処理をすると、ウェハ面がｙｚ面内で傾斜しても
センサ系からの出力信号は変わらない。

一方、ウェハがｙｚ面内で傾斜すると、２つの信号光束
７，８ともにセンサの長手方向と直交する幅方向に重心
移動を起こすが、これはセンサ上で検出する、位置ずれ
に伴う光束の重心移動の方向と直交する方向なので、２
光束でなくても実効的なアライメント誤差にはならない
。

更に、アライメント用光源、及び投光用レンズ系及びセ
ンサなどを内蔵するアライメントヘッドが、マスク−ウ
ェハ系に対して位置の変動を起こした場合はｌ対ｌに変
化する。例えば、ヘッドをマスクに対して５μｍｙ方向
に移動したとすると、信号光はセンサ１１上で５μｍの
実効的重心移動を起こし、これに対してもセンサ１２上
で全く等しく５μｍの重心移動を起こす。

従って、最終的なセンサ系からの出力、即ち、第■の信
号光の重心位置出力と第２の信号光の重心位置出力の差
信号は何ら変動しない。

又、２軸方向の位置の変動は２光束な（でも本質的なア
ライメント誤差にはならないことがわかる。

第３図（Ａ）は実施例１をプロキシミテイ型半導体製造
装置に適用した際の装置周辺部分の構成図を示すもので
あり、第２図に示さなかったものとして光源１３コリメ
ータレンズ（またはビーム径変換レンズ）１４投射光束
折り曲げミラー１５．ピックアップ筐体１６．ウェハス
テージ１７２位置ずれ信号処理部１Ｂ、ウェハステージ
駆動制御部１９であり、Ｅは露光光束幅を示す。この実
施例においてもマスクｌとウェハ２の相対位置ずれ量検
出は第１の実施例で説明したのと同様にして行われる。

尚、本実施例において位置合わせを行う手順としては、
例えば次の方法を採ることができる。

第１の方法としては２つの物体間の位置ずれ量Δσに対
するセンサ１１．　１２の検出面上での光束重心ずれの
信号を得、信号処理部１８で重心ずれ信号から双方の物
体間との位置ずれ量Δσを求め、そのときの位置ずれ量
Δσに相当する量だけステージ駆動制御部１９でウェハ
ステージ１７を移動させる。

第２の方法としては検出器１１．　１２からの信号から
位置ずれ量Δσを打ち消す方向を信号処理部１８で求め
、その方向にステージ駆動制御部１９でウェハステージ
１７を移動させて位置ずれ量Δσが許容範囲内になるま
で繰り返して行う。

以上の位置合わせ手順のフローチャートを、それぞれ第
３図（Ｂ）、（Ｃ）に示す。

図よりわかる様に光源１３は露光光束の外側より光を入
射し、アライメントマーク３，４から露光光束の外側に
出射する回折光を露光光束外に設けられたセンサ１１，
１２で受光して位置検出を行っている。

この様な構成でピックアップ筐体１６は露光中退避動作
を必要としない系も具現化できる。

実施例１ではずれ倍率を逆符号とする為、信号光路７の
系ではアライメントマークを凸凹レンズ系、８の系では
凹凸レンズ系とした。この他、第４図に実施例２として
示す様に８の系を５凸系としても良い。これは物体１と
物体２の間隔δが比較的大きな系に応用する際に適する
。

実施例１では合致状態に於いて物体１上のアライメント
マーク５及び６の中心を通る法線と信号光束７及び８の
人、出射光線が同一面内で、出射角が７°及び１３°　
と異なる値とすることで２信号光束を分離している。即
ち、合致状態のアライメントマーク３及び４からの出射
する信号光束の方向余弦を（γ８．γ７．γ２）とする
時、信号光束７が（０、−ｓｉｎ　７°、ｃｏｓ７°）
、８が（０、−ｓｉｎ　１３゜ｃｏｓ　１３°）と共に
７８＝０としている。（当然のことながら非合致状態で
はγ工の値のみ変化する。）これは、受光系の瞳をアラ
イメント方向Ｘに設定することが困難でその直交方向Ｚ
に設定しやすい条件に於いて有利な選択である。この他
、合致状態に於ける前述の方向余弦を７を（γ８．γ７
．γ、）、８を（−７８，γ７．γ□）とする設定も可
能である。即ち、実施例３として第５図に示す様にアラ
イメント方向Ｘに異なる出射角となる２信号光束を得る
ことも可能である。これは、実施例１と逆にアライメン
ト方向Ｘに受光系の瞳を設定し易く、その直交方向Ｚに
設定しにくい条件に適す。また、般に不要光は入射光と
物体の方線を含む面内に多い為、これから回避する効果
も得られる。

当然、実施例１と実施例３を組み合わ°せ２信号光束７
，８の出射方向余弦がすべて異なる条件であっても良い
。また、アライメントマーク５及び６を実施例１及び３
ではスクライブライン上アライメント方向Ｘに並べて設
けたが、これはＹ方向に並べても一般性を失わない。

本発明によれば、前述の光学的性質を有するアライメン
トマーク２系統を各々第１．第２物体面上に設け、互い
のずれ倍率を逆符号とし各々のマークを介した光束を利
用して、例えば第１物体としてのマスクと第２物体とし
てのウェハの位置合わせを行う際、次のような効果が得
られる。

（イ）ウェハ面が傾斜するか、或はレジストの塗布むら
や、露光プロセス中に生じるそりなどのローカルな傾き
等によってアライメント光の重心位置が変動しても２つ
のアライメント信号光の相対的な重心位置検知を行うこ
とにより、ウェハ面の傾斜に左右されずに正確に位置ず
れを検出することができる。

（ロ）アライメントヘッドの位置がマスクに対して相対
的に変動した為に、アライメント信号光のセンサ上の重
心位置が変動しても２つのアライメント信号光の相対的
な重心位置検知を行うことにより、アライメントヘッド
の位置ずれに左右されずに正確にマスク−ウェハ間の位
置ずれを検出することができる。

（ハ）更にマスクとウェハ間のギャップが変動して、信
号光のアライメントセンサ上のアライメント検知方向の
重心位置が変動しても２つのアライメント信号光の相対
的な重心位置検知を行うことにより、ギャップ変動に左
右されずに正確に位置ずれを検出することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の原理及び構成要件を説明する為の原理
図、 第２図は本発明の第１実施例の位置検出装置の構成図、 第３図（Ａ）は第２図の位置検出装置を用いた半導体製
造装置の構成図、 第３図（Ｂ）、　　（Ｃ）は該装置における位置合わせ
方法を示すフローチャート、 第４図は本発明の第２実施例の光学系配置を示す図、 第５図は本発明の第３実施例の位置検出装置の構成図、 第６図、第７図は従来例の構成及び原理図である。 図中、 ３．４，５．６　・・・・・・・・・・・・・・・アラ
イメントマーク１１．１２　・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・センサ１３・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・光源１８・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・位置ずれ信
号処理部である。 懲５霞

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 第一物体と第二物体との所定方向に沿った位置関係を検
   出する装置で、 第一物体あるいは第二物体の方向に光を出射する光源手
   段と、 第一受光面を有し、前記光源手段より出射され第一物体
   および第二物体によって偏向されて前記第一受光面へ入
   射してかつ第一物体と第二物体との前記所定方向に沿っ
   た相対位置関係の変化に応じて前記入射位置がある方向
   に変化する第一光束の前記第一受光面への入射位置を検
   出する第一検出手段と、 第二受光面を有し、前記光源手段より出射され第一物体
   および第二物体によって偏向されて前記第二受光面へ入
   射してかつ第一物体と第二物体との前記所定方向に沿っ
   た相対位置関係の変化に応じて前記入射位置が前記第一
   光束と逆の方向に変化する第二光束の前記第二受光面へ
   の入射位置を検出する第二検出手段と、 前記第一検出手段と第二検出手段の検出結果に基づき第
   一物体と第二物体との所定方向に沿った位置関係を検出
   する手段とを有し、該検出により第一物体と第二物体と
   の傾き変動の影響を受けない位置関係検出が成されるこ
   とを特徴とする位置検出装置。