JPS5938521B2 - 微小変位測定および位置合わせ装置 - Google Patents
微小変位測定および位置合わせ装置Info
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- JPS5938521B2 JPS5938521B2 JP13766079A JP13766079A JPS5938521B2 JP S5938521 B2 JPS5938521 B2 JP S5938521B2 JP 13766079 A JP13766079 A JP 13766079A JP 13766079 A JP13766079 A JP 13766079A JP S5938521 B2 JPS5938521 B2 JP S5938521B2
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- Japan
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- light
- diffraction grating
- displacement measurement
- diffracted light
- positioning device
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、回折格子を用いて微小な変位の測定および精
密な位置合わせを行なう装置に関するものである。
密な位置合わせを行なう装置に関するものである。
従来、微小変位の測定および精密な位置合わせを行なう
装置として、第１図に示すように２つの回折格子の回折
光を用いるものがある。
装置として、第１図に示すように２つの回折格子の回折
光を用いるものがある。
第１図において、１は透過型の回折格子、２は反射型の
回折格子、３は入射光、４、５は所望の回折光、６、Ｔ
は回折格子１の裏面からの回折光である。回折格子１、
２を対向させて入射光３をあてると、第１図のように＋
１次と−１次の回折光４、５が生じる。この回折光強度
は、回折格子１と２との相対的な変位によつて変化する
。例えば、回折光強度の最小値検出による位置合わせ、
もしくは＋１次と−１次の回折光強度の差による位置合
わせが行なわれている。しかしながら、この種の装置で
は、位置合わせに必要な回折光４、５以外に、透過型回
折格子１の裏面から回折される回折光６、７が生じる。
しかも、この回折光６、Ｔが所望の回折光４、５と同一
方向に生じ重なるため、回折光４と６および回折光５と
□は相互に干渉を起こし、所望の回折光強度が変動し、
精度が劣化するという欠点をもつていた。本発明の目的
は、これらの欠点を打破するために透過型回折格子の裏
面からの回折光による劣化要因を除去した微小変位測定
および位置合わせ装置を提供することにある。
回折格子、３は入射光、４、５は所望の回折光、６、Ｔ
は回折格子１の裏面からの回折光である。回折格子１、
２を対向させて入射光３をあてると、第１図のように＋
１次と−１次の回折光４、５が生じる。この回折光強度
は、回折格子１と２との相対的な変位によつて変化する
。例えば、回折光強度の最小値検出による位置合わせ、
もしくは＋１次と−１次の回折光強度の差による位置合
わせが行なわれている。しかしながら、この種の装置で
は、位置合わせに必要な回折光４、５以外に、透過型回
折格子１の裏面から回折される回折光６、７が生じる。
しかも、この回折光６、Ｔが所望の回折光４、５と同一
方向に生じ重なるため、回折光４と６および回折光５と
□は相互に干渉を起こし、所望の回折光強度が変動し、
精度が劣化するという欠点をもつていた。本発明の目的
は、これらの欠点を打破するために透過型回折格子の裏
面からの回折光による劣化要因を除去した微小変位測定
および位置合わせ装置を提供することにある。
以下に図面を参照して本発明を詳細に説明する。
第２図Ａ，Ｂは本発明装置の二実施例における回折格子
部を示したものである。第２図Ａ，Ｂにおいて、８は透
過型回折格子、９は反射型回折格子、３は入射光、１０
，１１は所望の回折光、１２，１３は透過型回折格子の
裏面からの回折光である。透過型回折格子８の格子ピツ
チは反射型回折格子のピツチの篤に定める。このような
構成によれば、透過型回折格子８と反射型回折格子９と
によつて回折される所望の回折光１０および１１と透過
型回折格子８の裏面からの反射回折光１２および１３と
は空間的に分離される。すなわち、所望の回折光１０お
よび１１の光強度を検出する時に、透過型回折格子８の
裏面からの反射回折光１２および１３によつて干渉を生
じることがなく、光強度を安定して検出できる。第３図
は、第２図Ａ，Ｂに示した本発明装置における２枚の回
折格子８と９との相対的な位置ずれｄ（μｍ）に対する
１次の回折光強度の変化の様子を示した測定例である。
部を示したものである。第２図Ａ，Ｂにおいて、８は透
過型回折格子、９は反射型回折格子、３は入射光、１０
，１１は所望の回折光、１２，１３は透過型回折格子の
裏面からの回折光である。透過型回折格子８の格子ピツ
チは反射型回折格子のピツチの篤に定める。このような
構成によれば、透過型回折格子８と反射型回折格子９と
によつて回折される所望の回折光１０および１１と透過
型回折格子８の裏面からの反射回折光１２および１３と
は空間的に分離される。すなわち、所望の回折光１０お
よび１１の光強度を検出する時に、透過型回折格子８の
裏面からの反射回折光１２および１３によつて干渉を生
じることがなく、光強度を安定して検出できる。第３図
は、第２図Ａ，Ｂに示した本発明装置における２枚の回
折格子８と９との相対的な位置ずれｄ（μｍ）に対する
１次の回折光強度の変化の様子を示した測定例である。
この測定例では、回折格子として吸収型バイナリ一回折
格子を使用しており、透過型回折格子８の格子周期は１
０μｍ１開口比は０．５であり、反射型回折格子９の格
子周期は２０μｍ開口比は０．５である。すなわち、こ
れは第２図Ｂに示したような格子周期と開口比を有する
回折格子を用いた場合である。第３図かられかるように
、この場合は安定した最小値を有しており、この最小値
に位置合わせすることによつて、２枚の回折格子の相対
的な位置を精密に合わせることができる。なお、最小値
の検出方法としては、光強度の検出による以外に次のよ
うな方法がある。
格子を使用しており、透過型回折格子８の格子周期は１
０μｍ１開口比は０．５であり、反射型回折格子９の格
子周期は２０μｍ開口比は０．５である。すなわち、こ
れは第２図Ｂに示したような格子周期と開口比を有する
回折格子を用いた場合である。第３図かられかるように
、この場合は安定した最小値を有しており、この最小値
に位置合わせすることによつて、２枚の回折格子の相対
的な位置を精密に合わせることができる。なお、最小値
の検出方法としては、光強度の検出による以外に次のよ
うな方法がある。
反射型回折格子を一定周波数で微小変位だけ振動させて
おき、この周波数の２倍の振動成分を有するところを検
出することによつて、位置合わせができる。同様に入射
光３の波長（周波数）を一定周期の可変波長とすること
によつて、可変波長の周期の％の周期の光強度が検出さ
れた点を平衡点として位置合わせすることができる。実
際の位置合わせ装置においては、精密な位置合わせをす
る前に、予じめ粗い位置合わせを行なつて最小値の近傍
に位置合わせした後、精密な位置合わせを行なう。また
、第３図のような特性の直線領域の中心に初期位置を設
定しておけば、微小変位の測定ができる。この直線領域
は、回折格子の周期によつて変えられるから、目的に応
じて所望の周期の回折格子を採用すればよい。第４図は
、本発明の回折格子部における位置合わせの検出装置の
他の例を示す。
おき、この周波数の２倍の振動成分を有するところを検
出することによつて、位置合わせができる。同様に入射
光３の波長（周波数）を一定周期の可変波長とすること
によつて、可変波長の周期の％の周期の光強度が検出さ
れた点を平衡点として位置合わせすることができる。実
際の位置合わせ装置においては、精密な位置合わせをす
る前に、予じめ粗い位置合わせを行なつて最小値の近傍
に位置合わせした後、精密な位置合わせを行なう。また
、第３図のような特性の直線領域の中心に初期位置を設
定しておけば、微小変位の測定ができる。この直線領域
は、回折格子の周期によつて変えられるから、目的に応
じて所望の周期の回折格子を採用すればよい。第４図は
、本発明の回折格子部における位置合わせの検出装置の
他の例を示す。
第４図において１４，１４′，１４７はミラー、１５は
プリズム状のミラー、１６はレンズ、１７はアパーチヤ
、１８は光電変換器、１９は位相推移器である。このよ
うな配置で、入射光３をミラー１４を介して回折格子８
，９に照射すると、＋１次と−１次の回折光１０および
１１が回折される。これらの各回折光１０，１１をミラ
ー１４′，１４ｔ１，プリズムミラー１５、レンズ１６
およびアパーチヤ１７を介して重ね合わせ、２つの回折
光を干渉させた光強度変化をアパーチヤ１７の後段の光
電変換器１８で電気信号に変換する。回折格子８と９と
が共通の対称軸をもつような位置に、２つの回折格子の
相対的変位が生じた時に、＋１次と−１次の回折光の光
強度および光電変換面に達する２つの回折光の光路長（
位相差）が等しくなる。この時、＋１次と−１次の回折
光との間の光路長が（ｎ＋寺）λ（ｎ：整数、λ：入射
光３の波長）になるようにバビネ・ソレイユ板などの位
相推移器１９で調整しておけば、２つの回折光１０と１
１の干渉はお互いに打消しあつて零になる。このように
して２つの回折格子８，９の各々の対称軸が一致した位
置で光強度が零になり位置合わせができる。また、十１
次と−１次の回折光強度を別々に測定して、この光強度
の差を検出することによつて差が零になるところで位置
合わせを行なうことができることは云うまでもない。第
５図は、本発明の回折格子部における位置合わせの検出
装置の更に他の例を示す。
プリズム状のミラー、１６はレンズ、１７はアパーチヤ
、１８は光電変換器、１９は位相推移器である。このよ
うな配置で、入射光３をミラー１４を介して回折格子８
，９に照射すると、＋１次と−１次の回折光１０および
１１が回折される。これらの各回折光１０，１１をミラ
ー１４′，１４ｔ１，プリズムミラー１５、レンズ１６
およびアパーチヤ１７を介して重ね合わせ、２つの回折
光を干渉させた光強度変化をアパーチヤ１７の後段の光
電変換器１８で電気信号に変換する。回折格子８と９と
が共通の対称軸をもつような位置に、２つの回折格子の
相対的変位が生じた時に、＋１次と−１次の回折光の光
強度および光電変換面に達する２つの回折光の光路長（
位相差）が等しくなる。この時、＋１次と−１次の回折
光との間の光路長が（ｎ＋寺）λ（ｎ：整数、λ：入射
光３の波長）になるようにバビネ・ソレイユ板などの位
相推移器１９で調整しておけば、２つの回折光１０と１
１の干渉はお互いに打消しあつて零になる。このように
して２つの回折格子８，９の各々の対称軸が一致した位
置で光強度が零になり位置合わせができる。また、十１
次と−１次の回折光強度を別々に測定して、この光強度
の差を検出することによつて差が零になるところで位置
合わせを行なうことができることは云うまでもない。第
５図は、本発明の回折格子部における位置合わせの検出
装置の更に他の例を示す。
ここで２０は入射光、２０−１，２０−２は、入射光２
０をプリズムミラー１５で分割した後にミラー１４′，
１４ｆに入射させて、回折格子８，９の＋１次と−１次
の回折光が同一方向に生じるようにそれぞれ入射角を定
められた２つの入射光、２１は入射光２０−１と２０−
２に対して回折格子８，９でそれぞれ回折される＋１次
と−１次の回折光が重なつた回折光であり、この回折光
２１をミラー１４からレンズ１６、更にアパーチヤ１７
を介して光電変換器１８に入射させる。このような配置
においても、第４図の配置の場合と全く同様に、回折格
子８と９との各々の対称軸が一致する時に回折光２１と
して干渉する＋１次と−１次の回折光の光強度および位
相差が等しくなるから、片側の光路にバビネ・ソレイユ
板などの位相推移器１９を挿入して、光路長差が（ｎ＋
寺）λ（ｎ：整数、λ：入射光の波長）になるようにし
ておけば、回折格子の対称軸が一致したところで位置合
わせができる。さらに光路２０−１と２０−２を交互に
チヨツプして、＋１次と−１次の回折光強度を各々測定
して、これらの差をとつても同様に位置合わせができる
。
０をプリズムミラー１５で分割した後にミラー１４′，
１４ｆに入射させて、回折格子８，９の＋１次と−１次
の回折光が同一方向に生じるようにそれぞれ入射角を定
められた２つの入射光、２１は入射光２０−１と２０−
２に対して回折格子８，９でそれぞれ回折される＋１次
と−１次の回折光が重なつた回折光であり、この回折光
２１をミラー１４からレンズ１６、更にアパーチヤ１７
を介して光電変換器１８に入射させる。このような配置
においても、第４図の配置の場合と全く同様に、回折格
子８と９との各々の対称軸が一致する時に回折光２１と
して干渉する＋１次と−１次の回折光の光強度および位
相差が等しくなるから、片側の光路にバビネ・ソレイユ
板などの位相推移器１９を挿入して、光路長差が（ｎ＋
寺）λ（ｎ：整数、λ：入射光の波長）になるようにし
ておけば、回折格子の対称軸が一致したところで位置合
わせができる。さらに光路２０−１と２０−２を交互に
チヨツプして、＋１次と−１次の回折光強度を各々測定
して、これらの差をとつても同様に位置合わせができる
。
＋１次と−１次の回折光強度を各々測定する方法として
は、入射光２０−１と２０−２の偏光面を相互に直交す
るようにしておき、回折光２１の光路中に偏光プリズム
を挿入して、＋１次と−１次の回折光を空間的に分離し
て各々測定しても同様に位置合わせができる。また、第
５図において、入射光２０−１と２０−２とを周波数が
わずかに違うように光変調しておけば、通常のヘテロダ
イン検波（ヘテロダインビード検出）により、回折格子
８および９の対称軸が一致した位置で位置合わせができ
る。以上の説明においては、透過型回折格子８の格子周
期を反射型回折格子９の格子周期の％に定めたが、一般
に、透過型回折格子の格子周期を反射型回折格子の格子
周期のＶｎ（ｎ：整数）に定めれば、透過型回折格子か
らの反射回折光は本来所望の回折方向に生ぜず、精密な
位置合わせを行なうことができる。
は、入射光２０−１と２０−２の偏光面を相互に直交す
るようにしておき、回折光２１の光路中に偏光プリズム
を挿入して、＋１次と−１次の回折光を空間的に分離し
て各々測定しても同様に位置合わせができる。また、第
５図において、入射光２０−１と２０−２とを周波数が
わずかに違うように光変調しておけば、通常のヘテロダ
イン検波（ヘテロダインビード検出）により、回折格子
８および９の対称軸が一致した位置で位置合わせができ
る。以上の説明においては、透過型回折格子８の格子周
期を反射型回折格子９の格子周期の％に定めたが、一般
に、透過型回折格子の格子周期を反射型回折格子の格子
周期のＶｎ（ｎ：整数）に定めれば、透過型回折格子か
らの反射回折光は本来所望の回折方向に生ぜず、精密な
位置合わせを行なうことができる。
本発明において、透過型回折格子の裏面からの回折光を
除去する他の例としては、第１図の透過型回折格子１の
回折格子側の面に反射防止膜を配置することが考えられ
る。
除去する他の例としては、第１図の透過型回折格子１の
回折格子側の面に反射防止膜を配置することが考えられ
る。
この場合には格子周期の等しい回折格子１および２を使
用でき、上述した種々の形態の位置合わせ検出装置を用
いることができる。第６図は本発明による１対の回折格
子を用いた位置合わせ装置の一例として、半導体技術に
おけるマスクパターンの基板への一括露光転写装置の構
成の概略を示す。
用でき、上述した種々の形態の位置合わせ検出装置を用
いることができる。第６図は本発明による１対の回折格
子を用いた位置合わせ装置の一例として、半導体技術に
おけるマスクパターンの基板への一括露光転写装置の構
成の概略を示す。
ここで、２２はＸ，Ｙ，θ（回転）制御用ステージ、２
３は基板（ウエハ一）、）２４はマスクパターン、２５
は透過型回折格子、２６は反射型回折格子である。
３は基板（ウエハ一）、）２４はマスクパターン、２５
は透過型回折格子、２６は反射型回折格子である。
このような構成の一括露光転写装置では、マスクパター
ンを変えて、同一場所に重なるように露光するため、マ
スクパターンと基板との間の精密な位置合わせが重要な
基本技術として要求される。第６図示の装置では、格子
方向が直交する透過型回折格子２５および反射型回折格
子２６をそれぞれマスタパターン２４および基板２３の
対向面上において一定の距離だけ離れた２個所以上の位
置に設置し、これら回折格子２５，２６による回折光の
強度を測定しながら、Ｘ，Ｙ，θ制御用ステージによつ
て基板２３を移動させて、所定の回折光強度が得られる
位置に位置合わせを行なう。なお、本発明における回折
格子としては、吸収型回折格子、位相型回折格子のいず
れを用いてもよく、さらにバイナリ一回折格子に限定さ
れることなく、正弦波状回折格子、フレーズ回折格子な
ど種々の組み合わせが可能である。
ンを変えて、同一場所に重なるように露光するため、マ
スクパターンと基板との間の精密な位置合わせが重要な
基本技術として要求される。第６図示の装置では、格子
方向が直交する透過型回折格子２５および反射型回折格
子２６をそれぞれマスタパターン２４および基板２３の
対向面上において一定の距離だけ離れた２個所以上の位
置に設置し、これら回折格子２５，２６による回折光の
強度を測定しながら、Ｘ，Ｙ，θ制御用ステージによつ
て基板２３を移動させて、所定の回折光強度が得られる
位置に位置合わせを行なう。なお、本発明における回折
格子としては、吸収型回折格子、位相型回折格子のいず
れを用いてもよく、さらにバイナリ一回折格子に限定さ
れることなく、正弦波状回折格子、フレーズ回折格子な
ど種々の組み合わせが可能である。
以上説明したように、本発明によれば、透過型回折格子
と反射型回折格子を用いる位置合わせ装置において、透
過型回折格子の裏面から生じる不要な反射回折光の影響
を除去することができ、それにより精密な位置合わせを
一層安定して行なうことができ、マスクパターンとウエ
ハ一との高精度な自動位置合わせ装置などの位置合わせ
装置として極めて有効である。
と反射型回折格子を用いる位置合わせ装置において、透
過型回折格子の裏面から生じる不要な反射回折光の影響
を除去することができ、それにより精密な位置合わせを
一層安定して行なうことができ、マスクパターンとウエ
ハ一との高精度な自動位置合わせ装置などの位置合わせ
装置として極めて有効である。
また、本発明は、位置合わせのみならず、ある物体の微
小変位を測定する装置、座標位置検出および制御装置と
しても有効に適用することができる。
小変位を測定する装置、座標位置検出および制御装置と
しても有効に適用することができる。
第１図は従来の微小変位の測定および精密位置合わせ装
置の回折格子部を示す線図、第２図Ａ，Ｂは本発明装置
における回折格子部の二例を示す線図、第３図は第２図
Ｂに示した回折格子部についての位置ずれ一回折光強度
の特性図、第４図は本発明装置における回折格子部の他
の位置合わせ検出装置の例を示す線図、第５図は本発明
装置における回折格子部の更に他の位置合わせ検出装置
の例を示す線図、第６図は本発明による位置合わせ装置
の一実施例の概略構成を示す構成図である。 １・・・・・・透過型回折格子、２・・・・・・反射型
回折格子、３・・・・・・入射光、４，５・・・・・・
所望の回折光、６，７・・・・・・透過型回折格子の裏
面からの回折光、８・・・・・・透過型回折格子、９・
・・・・・反射型回折格子、１０，１１・・・・・・所
望の回折光、１２，１３・・・・・・透過型回折格子の
裏面からの回折光、１４，１４，１４ｔ・・・・・・ミ
ラー、１５・・・・・・プリズム状ミラー、１６・・・
・・・レンズ、１７・・・・・・アパーチヤ、１８・・
・・・・光電変換器、１９・・・・・・位相推移器、２
０，２卜１，２０−２・・・・・・入射光、２１・・・
・・・回折光、２２・・・・・・Ｘ，Ｙ，θ制御用ステ
ージ、２３・・・・・・基板、２４・・・・・・マスク
パターン、２５・・・・・・透過型回折格子、２６・・
・・・・反射型回折格子。
置の回折格子部を示す線図、第２図Ａ，Ｂは本発明装置
における回折格子部の二例を示す線図、第３図は第２図
Ｂに示した回折格子部についての位置ずれ一回折光強度
の特性図、第４図は本発明装置における回折格子部の他
の位置合わせ検出装置の例を示す線図、第５図は本発明
装置における回折格子部の更に他の位置合わせ検出装置
の例を示す線図、第６図は本発明による位置合わせ装置
の一実施例の概略構成を示す構成図である。 １・・・・・・透過型回折格子、２・・・・・・反射型
回折格子、３・・・・・・入射光、４，５・・・・・・
所望の回折光、６，７・・・・・・透過型回折格子の裏
面からの回折光、８・・・・・・透過型回折格子、９・
・・・・・反射型回折格子、１０，１１・・・・・・所
望の回折光、１２，１３・・・・・・透過型回折格子の
裏面からの回折光、１４，１４，１４ｔ・・・・・・ミ
ラー、１５・・・・・・プリズム状ミラー、１６・・・
・・・レンズ、１７・・・・・・アパーチヤ、１８・・
・・・・光電変換器、１９・・・・・・位相推移器、２
０，２卜１，２０−２・・・・・・入射光、２１・・・
・・・回折光、２２・・・・・・Ｘ，Ｙ，θ制御用ステ
ージ、２３・・・・・・基板、２４・・・・・・マスク
パターン、２５・・・・・・透過型回折格子、２６・・
・・・・反射型回折格子。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ １対の回折格子を所定間隙を隔てて対向させて相互
に平行に移動するように配置し、前記１対の回折格子か
ら合成されて取り出される第１次の回折光の光強度変化
を検出するようにした微小変位測定および位置合わせ装
置において、前記１対の回折格子は光を透過させる透過
型回折格子と光を反射させる反射型回折格子とからなり
、前記透過型回折格子を、入射光に対して直接反射され
てくる回折成分が、少なくとも所定の回折方向において
消失するように構成したことを特徴とする微小変位測定
および位置合わせ装置。 ２ 特許請求の範囲第１項記載の微小変位測定および位
置合わせ装置において、＋１次の回折光と−１次の回折
光との差を検出する装置と、前記＋１次および−１次の
両回折光が光学的に重ね合わされるように前記両回折光
の光路長を調整する手段とを有することを特徴とする微
小変位測定および位置合わせ装置。 ３ 特許請求の範囲第２項記載の微小変位測定および位
置合わせ装置において、前記＋１次の回折光および−１
次の回折光を互いにわずかにずれた周波数で光変調し、
前記両回折光を光学的に合成して光ヘテロダインビート
をとることによつて平衡点を見出すようにしたことを特
徴とする微小変位測定および位置合わせ装置。 ４ 特許請求の範囲第２項記載の微小変位測定および位
置合わせ装置において、前記１対の回折格子を照明する
光の波長を一定周波数で変化させ、波長の変化の周波数
の２倍の周波数で光強度が変化する点を平衡点とするよ
うにしたことを特徴とする微小変位測定および位置合わ
せ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13766079A JPS5938521B2 (ja) | 1979-10-26 | 1979-10-26 | 微小変位測定および位置合わせ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13766079A JPS5938521B2 (ja) | 1979-10-26 | 1979-10-26 | 微小変位測定および位置合わせ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5661608A JPS5661608A (en) | 1981-05-27 |
| JPS5938521B2 true JPS5938521B2 (ja) | 1984-09-18 |
Family
ID=15203829
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13766079A Expired JPS5938521B2 (ja) | 1979-10-26 | 1979-10-26 | 微小変位測定および位置合わせ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5938521B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57207805A (en) * | 1981-06-17 | 1982-12-20 | Hitachi Ltd | Displacement measuring device |
| US4656347A (en) * | 1984-01-30 | 1987-04-07 | Nippon Telegraph & Telephone Public Corporation | Diffraction grating position adjuster using a grating and a reflector |
| GB8413955D0 (en) * | 1984-05-31 | 1984-07-04 | Pa Consulting Services | Displacement measuring apparatus |
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-
1979
- 1979-10-26 JP JP13766079A patent/JPS5938521B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5661608A (en) | 1981-05-27 |
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